CN103728763A - 液晶面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种液晶面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上设置有第一光间隙物，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧上设置有衬垫，所述衬垫与所述第一光间隙物相对应，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧上还设置有TFT，所述TFT设置有垂直相交的多条扫描线和多条数据线；所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上还设置有第二光间隙物和第三光间隙物，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应。本发明还公开了一种液晶面板的制作方法，有效避免扫描线边缘区域出现漏光的现象，提高了大尺寸液晶面板的显示效果。

Description

液晶面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及液晶面板及其制作方法。
背景技术
显示器在人们日常生活中已经无法或缺，显示器的类型包括CRT（CathodeRay Tube，阴极射线管）、LED（Light Emitting Diode，发光二极管）、TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）、PDP（Plasma Display Panel，等离子）等，目前市面上显示器绝大多数为TFT-LCD类型。
TFT-LCD显示器主要是由对立设置的彩膜基板和阵列基板组成，阵列基板经过阵列工艺在基板上形成电路矩阵（扫描线、数据线等）等，彩膜基板经过彩色滤光片工艺在基板上形成黑色矩阵及红绿蓝相间的彩膜，然后通过对组工艺将阵列基板和彩膜基板对组贴合，并在两片基板间滴上液晶，涂上封框胶然后对盒，再经过后续模组工序就形成了成品（例如，TFT-LCD电视、显示器等）。
然而，随着TFT-LCD显示器尺寸越来越大(一般在32寸以上)，在阵列基板和彩膜基板对组的过程中，处于对组上方的基板容易发生弯曲形变，使得阵列基板和彩膜基板的对位发生偏移，造成遮挡扫描线边缘区域的黑色矩阵的位置也发生偏移，不再遮挡扫描线边缘区域，导致扫描线边缘区域出现漏光的现象，严重影响了TFT-LCD显示器的显示效果。
上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
发明内容
本发明的主要目的为提供液晶面板及其制作方法，旨在实现有效避免扫描线边缘区域出现漏光的现象，提高了大尺寸液晶面板的显示效果。。
为了实现上述目的，本发明提出一种液晶面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上设置有第一光间隙物，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧上设置有衬垫，所述衬垫与所述第一光间隙物相对应，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧上还设置有TFT，所述TFT设置有垂直相交的多条扫描线和多条数据线，所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上还设置有第二光间隙物和第三光间隙物，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应。
优选地，所述第三间隙物远离所述第一基板的一端与所述第二基板具有间隙。
优选地，所述第三间隙物靠近所述TFT的一侧与所述TFT具有间隙。
优选地，所述第一间隙物的厚度小于所述第二间隙物的厚度，所述第二间隙物的厚度与所述第三间隙物的厚度相同。
优选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述TFT包括位于阵列基板朝向彩膜基板一侧的栅绝缘层、有源层、钝化层，所述衬垫包括所述形成的栅绝缘层、有源层或钝化层材料中的单层或多层。
优选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述彩膜基板朝所述阵列基板的一侧设置有黑色矩阵、设置于黑色矩阵之间的色阻及覆盖所述色阻和所述黑色矩阵的公用电极，所述第一间隙物、所述第二间隙物及所述第三间隙物设置在所述公用电极上。
优选地，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述多条扫描线和所述多条数据线围成多个像素单元，每个所述像素单元还包括与TFT的漏极相连的像素电极。
本发明进一步提出一种液晶面板的制作方法，该方法包括步骤：
提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物、第二光间隙物及第三间隙物；
提供第二基板，在所述第二基板上依次形成TFT的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层，同时，在对应第一光间隙物处形成衬垫，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应；
在钝化层内形成接触孔，在钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过接触孔和漏极金属层电连接；
在第一基板和第二基板之间灌注液晶层，并贴合所述第一基板、第二基板以形成液晶面板。
优选地，所述提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物、第二光间隙物及第三间隙物的步骤包括：
提供第一基板，在所述第一基板上沉积并蚀刻出黑色矩阵，在所述黑色矩阵之间的所述第一基板上形成色阻；
形成覆盖所述色阻和所述黑色矩阵的公用电极；
在所述公用电极上形成第一间隙物、第二间隙物和第三间隙物。
优选地，所述第一间隙物、第二间隙物和所述第三间隙物同步形成，所述第一间隙物的厚度小于所述第二间隙物的厚度，所述第二间隙物的厚度与所述第三间隙物的厚度相同。
相对现有技术，本发明在TFT沿扫描线方向的两侧，设置有第二间隙物和第三间隙物，在所述第二间隙物和所述第三间隙物之间形成一个凹槽，将TFT卡持在这个凹槽内，不容易发生偏移，进而避免由于液晶面板尺寸较大，第二基板和第一基板的对位发生偏移，而造成扫描线边缘区域出现漏光的现象，提高液晶面板的显示效果。
附图说明
图1为本发明液晶面板的较佳实施例的结构示意图；
图2为本发明液晶面板的制作方法的较佳实施例的流程示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明提供一种液晶面板，参照图1，在一实施例中，该液晶面板包括相对设置的第一基板10和第二基板20，所述第一基板10朝向所述第二基板20的一侧上设置有第一光间隙物（图中未示出），所述第二基板20朝向所述第一基板10的一侧上设置有衬垫（图中未示出），所述衬垫与所述第一光间隙物相对应，所述第二基板20朝向所述第一基板10的一侧上还设置有TFT201，所述TFT201设置有垂直相交的多条扫描线和多条数据线（图中未示出），所述第一基板10朝向所述第二基板20的一侧上还设置有第二光间隙物101和第三光间隙物102，所述第二光间隙物101与所述TFT201沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三光间隙物102与所述TFT201沿所述扫描线方向的另一侧相对应。
在本实施例中，所述第一基板10为彩膜基板10，所述第二基板20为阵列基板20，所述液晶面板还包括设置在所述彩膜基板10和所述阵列基板20之间的液晶层；在所述彩膜基板10上设置有黑色矩阵103、设置于黑色矩阵103之间的色阻104、覆盖于色阻104和黑色矩阵103上的公用电极105，所述第一间隙物、所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102形成于所述公用电极105上。
所述阵列基板20上形成有多条扫描线和多条数据线，所述扫描线和所述数据线垂直相交，在所述多条扫描线和所述多条数据线相交位置处形成有TFT201，所述多条扫描线和所述多条数据线围成多个像素单元（图中未示出），每个所述像素单元还包括与TFT201漏极202相连的像素电极208。在本实施例中，所述TFT201为底栅结构，所述TFT201包括依次位于阵列基板20上的栅极203（扫描线）、栅绝缘层204、有源层205、源极206、漏极203及钝化层207；所述漏极202与所述像素电极208相连的位置设置一接触孔209，用于将所述钝化层207打断，以使所述像素电极208能与所述漏极202连接。所述阵列基板20上还形成有位于栅绝缘层204上的衬垫，所述衬垫的位置与位于所述彩膜基板10上的第一光间隙物相对应，且所述衬垫与所述第一光间隙物相接触。所述衬垫与位于所述彩膜基板10上的所述第一光间隙物相配合，用于支持液晶面板在不受外力下的第一盒厚。
所述液晶面板包括显示区域和非显示区域（图中未示出），所述黑色矩阵103用于遮挡所述非显示区域，例如，将所述TFT201遮挡；所述色阻104与所述阵列基板20上的像素单元一一对应，所述色阻104包括红色阻、绿色阻及蓝色阻（图中未一一示出），与相应的像素单元相互配合形成所要显示的颜色；所述公用电极105和所述像素电极208均为透明电极，所述液晶层，即位于所述公用电极105和所述像素电极208之间。在液晶显示面板显示过程中，所述公用电极105上加载有公共电压、各个像素单元的像素电极208上加载有相应的像素电压，所述公用电极105和所述像素电极208相配合控制位于所述公用电极105和所述像素电极208之间的液晶分子的偏转，以形成所要显示的颜色。
为了提高所述公用电极105和所述像素电极208的导电性，所述像素电极208和所述公用电极105的材料为氧化铟锡(ITO)，在本发明其他实施例中，所述像素电极208和所述公用电极105的材料也还可以是其他导电材料。
所述第二光间隙物101与所述TFT201沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三光间隙物102与所述TFT201沿所述扫描线方向的另一侧相对应。即，所述第一光间隙物和所述第二光间隙物101与TFT201沿所述扫描线方向的两侧分别相对应，且所述TFT201处在所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102之间；位于所述彩膜基板10上所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102相对彩膜基板10凸出，且具有一定的厚度，因此，所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102构成一个凹槽，所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102将所述TFT201卡持在所述凹槽内。所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102远离所述彩膜基板10的一端与所述阵列基板20具有间隙，当液晶面板受到外力按压发生变形，或者，由于液晶面板自身尺寸过大导致基板变形时，所述第二光间隙物101及/或所述第三光间隙物102分别与所述阵列基板20相配合，用于支撑液晶面板的第二盒厚。
在本实施例在TFT201沿扫描线方向的两侧，设置有第二光间隙物101和第三光间隙物102，在所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102之间形成一个凹槽，将TFT201卡持在这个凹槽内，不容易发生偏移，进而避免由于液晶面板尺寸较大，阵列基板20和彩膜基板10的对位发生偏移而造成扫描线边缘区域出现漏光的现象，提高液晶面板的显示效果。
进一步地，为了节约工艺，加快液晶面板的制作过程，所述第二光间隙物101和所述第三光间隙物102同步形成，且所述第二光间隙物101与所述第三光间隙物102的厚度相同，即，所述第二光间隙物101远离所述彩膜基板10的一端到所述阵列基板20的距离，等于所述第三光间隙物102远离所述彩膜基板10的一端到所述阵列基板20的距离，但本发明不仅限于此。为了更加节约工艺，加快液晶面板的制作过程，所述第一间隙物、第二光间隙物101和所述第三光间隙物102同步形成。所述第一间隙物的厚度小于所述第二光间隙物101的厚度，但本发明不仅限于此。
进一步地，为了节约工艺，所述衬垫包括所述形成的栅绝缘层204、有源层205或钝化层207材料中的单层或多层。即，所述衬垫与所述形成的栅绝缘层204、有源层205或钝化层207材料中的单层或多层同步形成。
如图2所示，为本发明液晶面板的制作方法第一实施例的流程示意图。所述液晶面板的制作方法包括如下步骤：
步骤S11，提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物、第二光间隙物及第三间隙物；
步骤S12，提供第二基板，在所述第二基板上依次形成TFT的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层，同时，在对应第一光间隙物处形成衬垫，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应；
步骤S13，在钝化层内形成接触孔，在钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过接触孔和漏极金属层电连接。
步骤S14，在第一基板和第二基板之间灌注液晶层，并贴合所述第一基板、第二基板以形成液晶面板。
在本实施例中，提供第一基板，在所述第一基板上沉积并蚀刻出黑色矩阵，在所述黑色矩阵之间的所述第一基板上形成色阻，所述色阻包括但不限于红色阻、绿色阻和蓝色阻；形成覆盖所述色阻和所述黑色矩阵的公用电极，在所述公用电极上形成第一间隙物、第二间隙物和第三间隙物；提供第二基板，在所述第二基板上依次形成TFT的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层，同时，在对应第一光间隙物处形成衬垫，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应；在钝化层内形成接触孔，在钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过接触孔和漏极金属层电连接。在第一基板和第二基板按上述步骤制作完成后，在第一基板和第二基板之间灌注液晶层，并贴合所述第一基板、所述第二基板以形成液晶面板。
在所述第二基板上形成有多条扫描线和多条数据线，所述扫描线和所述数据线垂直相交，在所述多条扫描线和所述多条数据线相交位置处形成有TFT，所述多条扫描线和所述多条数据线围成多个像素单元，每个所述像素单元还包括与TFT漏极相连的像素电极。在本实施例中，所述TFT为底栅结构，所述TFT包括依次位于第二基板上的栅极、栅绝缘层、有源层、源极、漏极、钝化层；所述漏极与所述像素电极相连的位置设置一接触孔，用于将所述钝化层打断，以使所述像素电极能与所述漏极连接。所述第二基板上还形成有位于栅绝缘层上的衬垫，所述衬垫的位置与位于所述第一基板上的第一光间隙物相对应，且所述衬垫与所述第一光间隙物相接触。所述衬垫与位于所述第一基板上的所述第一光间隙物相配合，用于支持液晶面板在不受外力下的第一盒厚。
所述液晶面板包括显示区域和非显示区域，所述黑色矩阵用于遮挡所述非显示区域，例如，将所述TFT遮挡；所述色阻与所述第二基板上的像素单元一一对应，所述色阻包括红色阻、绿色阻及蓝色阻，与相应的像素单元相互配合形成所要显示的颜色；所述公共电极和所述像素电极均为透明电极，所述液晶层，即位于所述公用电极和所述像素电极之间。在液晶显示面板显示过程中，所述公共电极上加载有公共电压、各个像素单元的像素电极上加载有相应的像素电压，所述公共电极和所述像素电极相配合控制位于所述公共电极和所述像素电极之间的液晶分子的偏转，以形成所要显示的颜色。
为了提高所述公用电极和所述像素电极的导电性，所述像素电极和所述公共电极的材料为氧化铟锡(ITO)，在本发明其他实施例中，所述像素电极和所述公共电极的材料也还可以是其他导电材料。
所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应。即，所述第一光间隙物和所述第二光间隙物与TFT沿所述扫描线方向的两侧分别相对应，且所述TFT处在所述第二光间隙物和所述第三光间隙物之间；位于所述第一基板上所述第二间隙物和所述第三间隙物相对第一基板凸出，且具有一定的厚度，因此，所述第二间隙物和所述第三间隙物构成一个凹槽，所述第二间隙物和所述第三间隙物将所述TFT卡持在所述凹槽内。所述第二间隙物和所述第三间隙物远离所述第一基板的一端与所述第二基板具有间隙，当液晶面板受到外力按压发生变形，或者，由于液晶面板自身尺寸过大导致基板变形时，所述第二间隙物及/或所述第三间隙物分别与所述第二基板相配合，用于支撑液晶面板的第二盒厚。
在本实施例在TFT沿扫描线方向的两侧，设置有第二间隙物和第三间隙物，在所述第二间隙物和所述第三间隙物之间形成一个凹槽，将TFT卡持在这个凹槽内，不容易发生偏移，进而避免由于液晶面板尺寸较大，第二基板和第一基板的对位发生偏移而造成扫描线边缘区域出现漏光的现象，提高液晶面板的显示效果。
进一步地，为了节约工艺，加快液晶面板的制作过程，所述第二间隙物和所述第三间隙物同步形成，且所述第二间隙物与所述第三间隙物的厚度相同，即，所述第二间隙物远离所述第一基板的一端到所述第二基板的距离，等于所述第三间隙物远离所述第一基板的一端到所述第二基板的距离，但本发明不仅限于此。为了更加节约工艺，加快液晶面板的制作过程，所述第一间隙物、第二间隙物和所述第三间隙物同步形成。所述第一间隙物的厚度小于所述第二间隙物的厚度，但本发明不仅限于此。
进一步地，为了节约工艺，所述衬垫包括所述形成的栅绝缘层、有源层或钝化层材料中的单层或多层。即，所述衬垫与所述形成的栅绝缘层、有源层或钝化层材料中的单层或多层同步形成。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种液晶面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上设置有第一光间隙物，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧上设置有衬垫，所述衬垫与所述第一光间隙物相对应，所述第二基板朝向所述第一基板的一侧上还设置有TFT，所述TFT设置有垂直相交的多条扫描线和多条数据线，其特征在于，所述第一基板朝向所述第二基板的一侧上还设置有第二光间隙物和第三光间隙物，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应。
2.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述第三间隙物远离所述第一基板的一端与所述第二基板具有间隙。
3.根据权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述第三间隙物靠近所述TFT的一侧与所述TFT具有间隙。
4.根据权利要求1至3任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述第一间隙物的厚度小于所述第二间隙物的厚度，所述第二间隙物的厚度与所述第三间隙物的厚度相同。
5.根据权利要求1至3任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述TFT包括位于阵列基板朝向彩膜基板一侧的栅绝缘层、有源层、钝化层，所述衬垫包括所述形成的栅绝缘层、有源层或钝化层材料中的单层或多层。
6.根据权利要求1至3任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述彩膜基板朝所述阵列基板的一侧设置有黑色矩阵、设置于黑色矩阵之间的色阻及覆盖所述色阻和所述黑色矩阵的公用电极，所述第一间隙物、所述第二间隙物及所述第三间隙物设置在所述公用电极上。
7.根据权利要求1至3任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板，所述多条扫描线和所述多条数据线围成多个像素单元，每个所述像素单元还包括与TFT的漏极相连的像素电极。
8.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物、第二光间隙物及第三间隙物；
提供第二基板，在所述第二基板上依次形成TFT的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层、钝化层，同时，在对应第一光间隙物处形成衬垫，所述第二光间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的一侧相对应，所述第三间隙物与所述TFT沿所述扫描线方向的另一侧相对应；
在钝化层内形成接触孔，在钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过接触孔和漏极金属层电连接；
在第一基板和第二基板之间灌注液晶层，并贴合所述第一基板、第二基板以形成液晶面板。
9.根据权利要求8所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述提供第一基板，在所述第一基板上形成第一光间隙物、第二光间隙物及第三间隙物的步骤包括：
提供第一基板，在所述第一基板上沉积并蚀刻出黑色矩阵，在所述黑色矩阵之间的所述第一基板上形成色阻；
形成覆盖所述色阻和所述黑色矩阵的公用电极；
在所述公用电极上形成第一间隙物、第二间隙物和第三间隙物。
10.根据权利要求8或9所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述第一间隙物、第二间隙物和所述第三间隙物同步形成，所述第一间隙物的厚度小于所述第二间隙物的厚度，所述第二间隙物的厚度与所述第三间隙物的厚度相同。
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