CN103021763A - 一种制备场发射阴极材料的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种制备场发射阴极材料的方法,该场发射阴极材料为碳纳米管,其包括如下步骤:(a)对玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;(b)然后在(a)步骤中处理过的玻璃基板上溅射一层金属钙、镁、锶、钡的氟化物薄膜;(c)然后在(b)步骤中得到的薄膜上接着溅射铁、钴、镍及其合金薄膜作为催化剂;(d)然后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为450-600℃。
Description
技术领域
本发明涉及一种制备场发射阴极材料的方法。
背景技术
随着显示技术的发展和进步,场发射显示技术受到了广泛关注,尤其是场发射阴极材料的研制成为热点,而碳纳米管是一种重要的场发射阴极材料,但是目前制备碳纳米管作为场发射阴极材料的方法工艺复杂,制备成本较高,不适宜于工业生产。
因此,寻找一种制备工艺简单、成本低廉的碳纳米管成为亟需解决的问题。
发明内容
本发明提供一种制备场发射阴极材料的方法,该场发射阴极材料为碳纳米管,其包括如下步骤:
(a)、对玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;
(b)、然后在(a)步骤中处理过的玻璃基板上溅射一层金属钙、镁、锶、钡的氟化物薄膜;
(c)、然后在(b)步骤中得到的薄膜上接着溅射铁、钴、镍及其合金薄膜作为催化剂;
(d)、然后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为450-600℃。
有益效果
本发明制备的碳纳米管材料经过光谱分析,显示纳米结构有序,而且该方法工艺要求简单,制造成本低。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
实施例1
该基板为普通玻璃,对该玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;然后在处理过的玻璃基板上溅射一层氟化钙薄膜,厚度为50纳米;然后在得到的薄膜上接着溅射铁薄膜作为催化剂,厚度为10纳米;最后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为450℃。得到质量优良的碳纳米管。
实施例2
该基板为普通玻璃,对该玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;然后在处理过的玻璃基板上溅射一层氟化镁薄膜,厚度为100纳米;然后在得到的薄膜上接着溅射钴薄膜作为催化剂,厚度为20纳米;最后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为500℃。得到质量优良的碳纳米管。
实施例3
该基板为普通玻璃,对该玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;然后在处理过的玻璃基板上溅射一层氟化锶薄膜,厚度为200纳米;然后在得到的薄膜上接着溅射镍薄膜作为催化剂,厚度为30纳米;最后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为550℃。得到质量优良的碳纳米管。
实施例4
该基板为普通玻璃,对该玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;然后在处理过的玻璃基板上溅射一层氟化钡薄膜,厚度为500纳米;然后在得到的薄膜上接着溅射铁薄膜作为催化剂,厚度为50纳米;最后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为500℃。得到质量优良的碳纳米管。
Claims (3)
1.一种制备场发射阴极材料的方法,该场发射阴极材料为碳纳米管,其包括如下步骤:
(a)、对玻璃基板使用去离子水进行清洗、烘干处理;
(b)、然后在(a)步骤中处理过的玻璃基板上溅射一层金属钙、镁、锶、钡的氟化物薄膜;
(c)、然后在(b)步骤中得到的薄膜上接着溅射铁、钴、镍及其合金薄膜作为催化剂;
(d)、然后在催化剂薄膜上常规技术生长碳纳米管,生长温度为450-600℃。
2.如权利要求1所述的方法,其中,氟化物薄膜厚度为50-500nm。
3.如权利要求1所述的方法,其中,催化剂薄膜厚度为10-50nm。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2012
- 2012-12-27 CN CN2012105807268A patent/CN103021763A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
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