CN102955179A - 具有光学薄膜的管体的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明是一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其提供一中心体，并将一光学薄膜层设于中心体的外壁面，再将一外管体设于光学薄膜层的外壁面，其利用由内向外逐步加工程序，以及多种材料的不同物理特性，如膨胀、熔化、附着与脱离等，使其抗拉强度、抗折强度与抗压强度之间的问题得到解决，而最终可将光学薄膜层设于外管层的内壁面，外管层内部空间因激发而产生紫外光时，该紫外光则直接照射至光学薄膜层，可直接经由光学薄膜层反射，以降低紫外光重复反射时所导致管壁吸收的损耗率。

Description

具有光学薄膜的管体的制造方法

技术领域

本发明涉及一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其提供一种由内而外逐步加工的程序，并且利用多种材料的不同膨胀、附着、熔化与脱离等物理特性，而将光学薄膜层设于外管层的内壁面的制造方法。

背景技术

物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition，PVD)，是镀制多层光学薄膜中最常使用的方法，若欲以物理气相沉积法将多层光学薄膜设于玻璃管，则该多层光学薄膜仅能形成于玻璃管的外壁面。

若将上述在外壁面设有多层光学薄膜的玻璃管应用于外部光源，如可见光与红外光，除了玻璃管的内管壁有些微的重复反射外，其余影响不大。

但是对荧光灯(Fluorescent Lamp)而言，其是应用内部光源，光源由灯管中的汞蒸气与无汞蒸气，如氩气、氙气、氦气、氪气或氖气的混合气体，或是各种无汞蒸气的混合气体，经由电场或磁场激发后所产生的紫外光源，其主要波长为184.9nm与253.7nm附近，无汞蒸气经激发后，产生波长主要为147nm与173nm的紫外光源，这些紫外光源须穿过玻璃管的管壁方能抵达位于外壁面的多层光学薄膜，若玻璃管是采用普通玻璃，汞蒸气紫外光源的穿透耗损率则高达90至95％，波长为147nm与173nm的无汞蒸气紫外光源，若穿过玻璃管的管壁时，紫外光源几乎耗损殆尽。

倘若，将玻璃管另行使用石英，虽波长约为253.7nm的紫外光源可以通过石英，但波长为184.9nm的紫外光源大部分会被耗损，假设使用品质最佳的石英管，则波长约为184.9nm的紫外光源可通过80至90％，但石英的价格非常昂贵，对于商品化极为不利。

如上所述，设于外壁面的多层光学薄膜与使用石英具有以下缺点：

一、石英成本较高，在大量生产时较为不利。

二、石英膨胀系数太低，其导致在封装金属导线时易漏气，造成产品具有较短的使用寿命。

三、若应用于需要重复反射紫外光源的发光效果，则发光效果较差，因紫外光源每次都要穿过使用石英的管壁，方能抵达多层光学薄膜，在紫外光源由玻璃管的内部至多层光学薄膜时，至少10％的紫外光源被吸收(Absorbed)，倘若，为重复反射紫外光源，而每次反射都须经过管壁两次，重复反射就导致更多的吸收，而使总耗损更大。

综合上述，石英具有成本较高、膨胀系数低与吸收低波长的紫外光源的缺点，以及多层光学薄膜的设置位置，其导致重复反射的总耗损更大，故多层光学薄膜的设置位置与玻璃管的材质仍有改善的空间。

发明内容

有鉴于上述的缺点，本发明的目的在于提供一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其通过一种逐层叠设的技术，并利用各材质之间的厚度、熔点与膨胀系数的差异性，而使光学薄膜层位于外管体的内壁面，从而使光学薄膜层得以直接重复反射紫外光源所产生的紫外光，并能改善现有技术所造成的紫外光的损耗、成本昂贵与产品寿命短的缺点。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：

一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于，其步骤包含：

设置光学薄膜层：提供一中心体，并将一光学薄膜层设于该中心体的外壁面，该光学薄膜层以物理气相沉积法设于该中心体的外壁面；以及

设置外管层：将一外管层设于该光学薄膜层的外壁面，并移除该中心体。

在该设置光学薄膜层的步骤与该设置外管层的步骤之间，或在该提供中心体的步骤与该设置光学薄膜层的步骤之间，其进一步具有一设置定形层的步骤，其将一定形层设于该光学薄膜层的外壁面，或是将一定形层设于该中心体的外壁面。

该光学薄膜层具有宽入射角度，该宽入射角度为至少介于0度至90度之间的宽入射角度，以反射至少一特定波长的紫外光，并至少让含有部分或是全部的可见光通过该外管层，该紫外光的主要波长为184.9nm、253.7nm、147nm或173nm，该可见光的波长为380至780nm或400至800nm，该光学薄膜层是一多层结构。

该光学薄膜层的材质为氧化镁、氧化铝、氟化镁、二氧化锆、二氧化铪或二氧化硅或上述六者之间的任意组合。

该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可由两个半圆形先组合为一圆形，以进行至该设置光学镀膜的步骤，或是再进行该设置定形层的步骤，再将该中心体分开成为两个部分，各部份是半圆形的直径平面，以在该设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置半圆形的中心体，或是再进行该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

在该设置外管层的步骤中，在移除该中心体时，该中心体能为抽离，或者该中心体能为熔化；

该外管层的材质可以为玻璃、石英、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可由两个半圆形先组合为一圆形，以进行至该设置光学镀膜的步骤，或是再进行该设置定形层的步骤，再将该中心体分开成为两个部分，各部份是半圆形的直径平面，以在该设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置半圆形的中心体，或是再进行该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

该定形层的材质为透明的材质或介电质材质，该透明的材质能够为玻璃、耐热玻璃或陶瓷；

在该设置外管层的步骤中，在移除该中心体时，该中心体能为抽离，或者该中心体能为熔化；

该外管层的材质能够为玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度，或是该定形层与该光学薄膜层的总抗拉强度或总抗折强度大于或等于该中心体的抗压强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

该中心体的多边形能够为圆形、半圆形、椭圆形、长椭圆形、梯形、三角形、四边形、五边形、六边形、七边形、八边形或矩形，该中心体的低熔点材质是锡、铋、铯、镓、铟、钾、锂、锰、钠、铅、铷、锑、硒、锶、碲、铊或锌的其中一者或前述的材质中至少任二者组合的合金。

该定形层的材质为介电质材质，该介电质材质能够为氧化铝、氧化镁、氟化镁、氧化锆、氮化铝或是二氧化硅。

该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层是184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：

一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于，其步骤包含有：

设置脱膜层：提供一中心体，并将一脱膜层设于该中心体的外壁面；

设置光学薄膜层：将一光学薄膜层设于该脱膜层的外壁面，该光学薄膜层是以一物理气相沉积法设于该脱膜层的外壁面；以及

设置外管层：将一外管层设于该光学薄膜层的外壁面，并移除该中心体与该脱膜层。

在该设置光学薄膜层的步骤与该设置外管层的步骤之间，或是在该设置脱膜层的步骤与该设置光学薄膜层的步骤之间，其进一步具有一设置定形层步骤，其是将一定形层设于该光学薄膜层的外壁面，或是将一定形层设于该脱膜层的外壁面。

该光学薄膜层具有宽入射角度，该宽入射角度为至少介于含有0度至90度之间的宽入射角度，以反射至少一特定波长的紫外光，并至少让含有部分或是全部的可见光通过该外管层，该紫外光的平均反射幅度(Average ReflectionMagnitude)为80％以上或是为95％以上或是为99.5％以上，该紫外光的主要波长为184.9nm、253.7nm、147nm或173nm，该可见光的波长为380至780nm或400至800nm，该光学薄膜层是一多层结构；

该光学薄膜层的材质为氧化镁、氧化铝、氟化镁、二氧化锆、二氧化铪或是二氧化硅的组合。

该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可两个半圆形中心体先分开，进行半圆形体全部外壁面脱膜层的设置，然后合为一个圆形的中心体再进行设置光学薄膜层的步骤，之后也可再设置定形层的步骤，再将中心体分开成为两个部分，以在该设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置半圆形其直径平面的中心体，之后也可再加入该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤，设置半圆形直径平面的原因，是为可进行只设置平面的荧光层，其发光效果较佳；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

该脱膜层的断面可为该中心体断面的管体形状或是多边形管体形状，该脱膜层是低熔点材质，该低熔点材质能够为塑胶、可剥离油墨层、可溶解油墨层、硅胶或乳胶类化合物、或低熔点金属的其中一者；

在该设置外管层的步骤中，在移除该脱膜层与该中心体时，该脱膜层能为熔化，以及该中心体能为抽离，或者该脱膜层与该中心体能为熔化；

该外管层的材质能够为玻璃、石英、玻璃与、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置脱膜层的步骤中，该中心体具有一光学级平坦化的外壁面，或者该脱膜层具有一光学级平坦化的外壁面；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度，或是该中心体与该脱膜层的总抗压强度，小于或等于该光学薄膜层的总抗拉强度或总抗折强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可两个半圆形中心体先分开，进行半圆形体全部外壁面脱膜层的设置，然后合为一个圆形的中心体再进行设置光学薄膜层的步骤，之后也可再设置定形层的步骤，再将中心体分开成为两个部分，各部份为半圆形且直径平面，以在该设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置半圆形的中心体，之后也可再加入该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

该脱膜层的断面可为该中心体断面的管体形状或是多边形管体形状，该脱膜层是低熔点材质，该低熔点材质能够为塑胶、可剥离油墨层、可溶解油墨层、硅胶或乳胶类化合物、或低熔点金属的其中一者；

该定形层的材质为透明的材质或介电质材质，该透明的材质能够为玻璃、耐热玻璃、陶瓷；

在该设置外管层的步骤中，在移除该脱膜层与该中心体时，该脱膜层能为熔化，以及该中心体能为抽离，或者该脱膜层与该中心体能为熔化；

该外管层的材质能够为玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置脱膜层的步骤中，该中心体具有一光学级平坦化的外壁面，或者该脱膜层具有一光学级平坦化的外壁面；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度，或是该中心体与该脱膜层的总抗压强度，小于或等于该光学薄膜层与该定形层的总抗拉强度或总抗折强度，或是该定形层与该光学薄膜层的总抗拉强度或总抗折强度，大于或等于该中心体的抗压强度，或是大于或等于该中心体与该脱膜层的总抗压强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

该中心体的多边形能够为圆形、半圆形、椭圆形、长椭圆形、梯形、三角形、四边形、五边形、六边形、七边形、八边形或矩形，该中心体的低熔点材质是锡、铋、铯、镓、铟、钾、锂、锰、钠、铅、铷、锑、硒、锶、碲、铊或锌的其中一者或前述的材质中至少任二者组合的合金；若该脱膜层的材质为低熔点金属，该低熔点金属是锡、铋、铯、镓、铟、钾、锂、锰、钠、铅、铷、锑、硒、锶、碲、铊或锌其中一者或前述的材质中至少任二者的组合的合金。

该定形层的材质为介电质材质，该介电质材质能够为氧化铝、氧化镁、氟化镁、氧化锆、氮化铝或是二氧化硅。

该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层是184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成。

综合上述的本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法，其具有下述的优点：

一、利用由内向外逐步加工程序，而将光学薄膜层设于外管层的内壁面处，若设于外管层内部空间的紫外光源因激发而产生紫外光时，该紫外光则直接照射至光学薄膜层，并可直经经由光学薄膜层反射，以降低重复反射所导致管壁吸收的损耗率。

二、利用多种材质之间的熔点温度与厚度，各材料各自具有其抗张强度、抗折强度、膨胀系数与抗压强度，凭借抗张强度、膨胀系数与抗压强度的差异性，以克服熔化的脱膜层或脱膜层与中心体，其体积会突然变大造成位于外层的光学薄膜层、定形层或外管体破裂的问题。

三、使用的多种膨胀系数趋近的材料，故能克服材料之间的膨胀系数的不同，进而以避免封着金属线时的漏气问题，并能延长产品寿命。

四、使用多种材料以因应实际的需求，故能对商品化有其实用性，况且多种材料的选择性可降低制造成本，而使其有利于大量生产。

五、本发明的构思是将外管层以及定形层的厚度与折射率必须要纳入为光学薄膜设计的条件，以免光学薄膜层的功能及效果受到影响，这是构想本设计的基本出发点。

附图说明

图1是本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的第一实施例的流程图；

图2是本发明的具有光学薄膜的管体的第一实施例的剖面示意图；

图3是本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的第二实施例的流程图；

图4是本发明的具有光学薄膜的管体的第二实施例的剖面示意图；

图5是本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的第三实施例的流程图；

图6是本发明的具有光学薄膜的管体的第三实施例的剖面示意图。

附图标记说明：10～13-步骤；20-中心体；21-脱膜层；22-光学薄膜层；23-定形层；24-外管层；30～32-步骤；40-中心体；41-光学薄膜层；42-定形层；43-外管层；50～51-步骤；60-中心体；61-光学薄膜层；62-外管层。

具体实施方式

以下凭借特定的具体实施例说明本发明的具体实施方式，所属技术领域中普通技术人员可由本说明书所揭示的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。

请配合图1及图2所示，其为本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的第一实施例的管体剖面于各步骤中的示意图，本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的步骤包含有：

设置脱膜层的步骤10：提供一中心体20，将一脱膜层21设于中心体20的外壁面；

中心体20是长条体、柱体或管体，中心体20的断面可为多边形，该多边形能够为圆形、半圆形、椭圆形、长椭圆形、梯形、三角形、四边形、五边形、六边形、七边形、八边形或矩形等，半圆形也可由两个半圆形先组合为一圆形，若中心体20无上述的设置脱膜层的步骤10，则上述两个半圆形中心体20可先进行下述光学薄膜层的步骤11，之后也可再加入下述设置定形层的步骤12，再将中心体20分开成为两个部分，该部份是一半圆形的直径平面，故以提供二半圆形其直径平面的中心体20于设置光学薄膜层的步骤11以及其后的步骤；

倘若，具有上述设置脱膜层的步骤10，则上述两个半圆形中心体20可先分开的进行半圆形体全部外壁面脱膜层21的设置，然后合为一个圆形的中心体再进行下述的设置光学薄膜层的步骤11，之后也可再设置定形层的步骤12，再将中心体20分开成为两个部分，以进行光学薄膜层的步骤11，而将光学薄膜层22设置半圆形其直径平面的中心体20，以及之后也可再加入下述设置定形层的步骤12，然后，以进行设置下述设置外管层的步骤13；

中心体20的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混复合物或塑胶，塑胶可为聚对苯二甲酸乙二酯PET(Polyethylene terephthalate)、聚乙烯PE(Polyethylene)、高密度聚乙烯HDPE(High-density polyethylene)、中密度聚乙烯MDPE(Mediumdensity polyethylene)、低密度聚乙烯LDPE(Low-density polyethylene)、聚氯乙烯PVC(Polyvinyl chloride)、聚丙烯PP(Polypropylene)、聚苯乙烯PS(Polystyrene)、聚甲基丙烯酸甲酯Acrylic(Polymethyl methacrylate)、ABS树脂(Acrylonitrilebutadiene styrene)、玻璃纤维(Fiberglass)、尼龙(Nylon)、聚碳酸酯PC(Polycarbonate)或聚乳酸PLA(Polylactic acid)等；

或者中心体20的材质是低熔点材质如锡(Tin)、铋(Bi)、铯(Cs)、镓(Ga)、铟(In)、钾(K)、锂(Li)、锰(Mg)、钠(Na)、铅(Pb)、铷(Rb)、锑(Sb)、硒(Se)、锶(Sr)、碲(Te)、铊(Tl)或锌(Zn)其中一者或前述的材质中至少任二者组合的合金；

该中心体20若是使用塑胶材料以塑胶射出成型的方式，同时具有光学级平坦化的外壁面且容易溶化，此时，脱膜层21是无需设置，而设置脱膜层的步骤10也可省略；

中心体20设置的目的，是供脱膜层21与随后所述的各层结构叠设于其外壁面，所以中心体20的强度要足以在整个制造过程中承担多层结构，而不至于产生弯曲变形。

脱膜层21的断面可为如上述中心体20断面的各种管体形状或是多边形管体形状，脱膜层21是低熔点材质，该低熔点材质可以为金属锡(Tin)、铋(Bi)、铯(Cs)、镓(Ga)、铟(In)、钾(K)、锂(Li)、锰(Mg)、钠(Na)、铅(Pb)、铷(Rb)、锑(Sb)、硒(Se)、锶(Sr)、碲(Te)、铊(Tl)或锌(Zn)其中一者或前述的材质中至少任二者的组合的合金，或是前述各类塑胶材料或前述的塑胶材料的复合物，或是使用容易剥落的可剥离油墨层(Peelable MaskInk)、或是容易溶解的可溶解油墨层(Soluble Mask Ink)或离型脱膜的硅胶、乳胶类化合物等；

其中，金属镓Ga(Gallium)具有如同水凝固为冰时固体体积变大的特性，换句话说当镓由固体溶化为液体时其体积会变小，因此不会将光学薄膜层胀破，但其溶点比较低，为29.8℃，因此加工过程应在低温为之，加工过后再升温即可溶化镓中心体，而镓中心体宜以容易溶解的可溶解油墨层(Soluble Mask Ink)涂布于其外壁，以利脱离此附着力很强的镓液体，溶化的镓原料可以回收再使用，合乎环保要求。

脱膜层21可进一步施行光学级平坦化的抛光作业，以使脱膜层21的外壁面平整化，脱膜层21若是使用塑胶材料，也可以塑胶射出成型的方式包敷在中心体20的外壁上，同时具有光学级平坦化的外壁面，以利于在其上面进行光学镀膜。

脱模层21使中心体20与光学薄膜层22之间产生距离，而使中心体20与光学薄膜层22之间可相互分离，若中心体20为可熔化的材质，其熔点比较低可事先浇灌成型，则脱膜层21可无需设置，或是脱膜层21如前述以容易溶解的可溶解油墨层涂布于其外壁以利脱膜。该中心体20或是脱膜层21能进一步施行抛光作业，以使其外壁面平整化最佳为达到光学级的外壁面，以利于在其上面进行光学镀膜，于随后的实施例中会再加以说明。

设置光学薄膜层的步骤11：将一光学薄膜层22以沉积法镀制于脱膜层21的外壁面，该沉积法是物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition，PVD)，该光学薄膜层22可为宽入射角AOI(Wide Angle Of Incidence)反射(Reflection)紫外光，该宽入射角为至少0度至30度以上，最高甚至于到达90度((0°～30°)～90°)的宽入射角度来反射紫外光，最佳为全角度(0°～90°)含0°以及90°反射紫外光，其反射至少一特定波长的紫外光，并至少让含有部分或是全部的可见光通过，紫外光的主要波长为约为147nm、173nm、184.9nm或253.7nm，可见光的波长为380nm至780nm或400nm至800nm。

光学薄膜层22是介电质(Dielectric Materials)多层薄膜结构，以汞(Mercury)Hg蒸气全角度(0°～90°)反射为例，含0°以上至90°反射紫外光，反射至少一特定波长的紫外光，如184.9nm(±2.5nm)0°～90°反射或253.7nm(±2.5nm)0°～90°反射，并至少让含有部分或是全部的可见光通过，其中上述184.9nm的膜可以氧化镁(Magnesium Oxide)MgO或是氧化铝Al2O3(Aluminum Oxide)与氟化镁(Magnesium Fluoride)MgF2或是二氧化硅(Silicon Dioxide)SiO2交替镀制而成。至于253.7nm的膜，则可以二氧化锆(Zirconium Dioxide)ZrO2或是二氧化铪(Hafnium Dioxide)HfO2与氟化镁MgF2或是二氧化硅(Silicon Dioxide)SiO2交替镀制而成，或是使用上述镀膜材料的组合镀制，当然也可只用两种镀膜材料来一次完成184.9nm或253.7nm两个膜。其中所使用的镀膜材料如氧化镁、氧化铝、氟化镁、二氧化锆、二氧化铪或二氧化硅的纯净度需要高达99％以上或是镀膜材料的消光系数k小于0.1(1×10^-1)，较佳的纯净度可高达99.99％以上或是镀膜材料的消光系数k小于0.01(1×10^-2)，最佳的纯净度高达99.999％以上或是镀膜材料的消光系数k小于0.001(1×10^-3)。镀膜材料也可以使用其它材料，不限于以上所列。

在此的镀膜方式是以管体自转并且移动进行公转而将镀膜材料镀在管体或柱体的外壁，前述的管体或柱体，即为中心体，所述外壁可为中心体的外壁面或脱膜层的外壁面。

镀膜材料的纯净度，其中以99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)，较佳纯净度99.99％以上或是镀膜材料的消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.01(1×10^-2)，或是纯净度高达99.999％以上或是镀膜材料的消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.001(1×10^-3)的金属靶材镁Mg、铪Hf金属或是锆Zr金属，以反应溅镀(Metallic Target ReactiveSputtering Coating)的方式较佳，反应溅镀是以惰性气体(Inert Gas)，通常是使用氩气Ar(Argon)，在真空以及高电压的磁场环境下，将金属靶材的原子一个个撞击到基板或是管体或柱体的外壁，溅镀时为室温以及使用射频磁控(RFMagnetron)，并且使用较佳纯净度(99.999％以上)的反应气体(Reactive Gas)，该气体将溅出至管壁外的金属镁Mg等予以氧化或氟化而成为介电质膜层，如氧气反应成氧化镁MgO、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙XeF2(Xenon Difluoride)反应成氟化镁MgF2或Xe气体，再加上配合锆金属靶材或是铪金属靶材溅镀后，被氧气反应成二氧化锆或是二氧化铪，或是氧气将硅靶材反应成二氧化硅，如此重复不同的交替堆叠，最后而成为高低折射率介电质交替堆叠而成的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体(Chamber)内完成。

设置定形层的步骤12：其是将一透明的定形层23设于光学薄膜23的外壁面，当然也可以设在内壁面也就是中心体20或是脱膜层21的外壁面，不过使用的镀膜材料的消光系数k在184.9nm或253.7nm时必须符合前述的条件，如氧化镁、氧化铝、二氧化锆、氟化镁或二氧化硅等，在此仅以设于光学薄膜23的外壁面为例说明，其他的例乃熟悉此技艺者所可轻易推的就不再赘述。

定形层23的材质为透明的材质如玻璃、耐热玻璃、陶瓷或其他介电质(Dielectric Materials)材质，如氧化物、氮化物、氟化物等种类非常的多，都可以使用并不在限制之内，但是因为透明的定形层23需要具有一定的厚度所以使用量会比较多，价格便宜并且其膨胀系数也要与外管层24相近就成为考虑的重点，其中膨胀系数如氧化铝约为8×10-6/℃、氧化锆10×10-6/℃、氮化铝4.4×10-6/℃或是二氧化硅0.5×10-6/℃等，可搭配利用其厚度、强度与价格的考虑，分别适用于不同膨胀系数如5×10-6/℃、9×10-6/℃的硬质玻璃或是软质玻璃。

在此附带说明一般关于玻璃管管壁的厚度，T8荧光灯或称T8日光灯其玻璃灯管管壁的厚度约为0.7mm，换成以纳米单位计算约为700,000nm，比较一般多层光学薄膜的厚度约为500nm～2,000nm之间，2,000nm∶700,000nm是2∶700的比例，相对的光学薄膜的厚度是很薄弱的，若是没有一个基板或是管壁的支撑，是很容易破裂的。定形层23的厚度，视其膨胀系数与机械强度，是否大于中心体20与脱膜层21所使用材质的膨胀系数与机械强度而定。如果搭配得宜膨胀系数相差在5％以内，则定形层23的厚度可以在200nm～500nm之间，并且可以在设置光学薄膜层的步骤时为之。

设置外管层的步骤13：将一外管层24设于定形层23的外壁面，外管层24的材质可以为玻璃、石英、透明陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，外管层24可以低温镀膜的方式或是高温镀膜的方式为之但是成本比较高，较为可行的方法是用高温高压喷溅已经溶化的外管材料的液体，均匀的喷涂在管体的外壁，或是在已经溶化的外管材料的高温玻璃液体中用浸沾(Dipping)的方式为之，以形成厚度均匀并且薄管壁的外管层24，设置外管层的步骤与脱膜的步骤可以分开进行或是同时进行；

如上的各步骤所述，脱膜层21所使用的材质的熔点低于外管层24所使用的材质的熔点，若将外管层24设于定形层23的外壁面，脱膜层21受到脱膜时高温的影响而熔化，进而可将中心体20由已成多层结构的光学薄膜层22、定形层23与外管层24的组合中抽离，而使该多层结构形成一中空体；

中心体20与脱膜层21所使用的材质的熔点都低于外管层24所使用的材质的熔点，故受到高温的影响，二者都熔化，中心体20与脱膜层22都抽离，而使该多层结构形成一中空管体，这种中心体20与脱膜层22都熔化的做法在于需要调整如上述膨胀系数配合时的应用，举例而言，一个很安定的脱膜层22但是其膨胀系数比较高，但是配合上另一个低膨胀系数的中心体20之后就完美了，不过如果这个中心体20的熔点不高就会一起熔化，这样子对于在生产过程中也免除了取出中心体20的麻烦，这种做法也适用于其他的实施例，就不再赘述。另外，在此特别说明的是上述的材质在熔化过程中，不应产生化学变化，例如高温氧化时产生碳化物或是硫化物的附着物等，这将不易去除并会造成污染。

请再配合图1所示，其是使用上述的具有光学薄膜的管体制造方法所得产品，该具有光学薄膜的管体包含有一光学薄膜层22、一定形层23与一外管层24。

定形层23设于光学薄膜层22的外壁面，光学薄膜层22是一多层结构，外管层24设于定形层22的外壁面。

定形层23的设置是避免光学薄膜层22于前述的脱膜层21熔化与中心体20抽离，或者脱膜层21与中心体20熔化时，因为在高温脱膜时由固体软化时会经过应变点其体积的突然变化，一般情形是体积突然变大，因而对脆弱的光学薄膜层22胀裂或拉扯，对光学薄膜层22的功能就产生相当程度不良的影响，故定形层23能维持光学薄膜层22的形状，以避免光学薄膜层22发生变形或损坏，但定形层23并非绝对必要设置的构件，若光学薄膜层22的厚度具有一定机械结构力的抗拉强度以及抗折强度，或是中心体20断面的厚度与中心体20膨胀系数的乘积所形成的抗压强度，小于或等于光学薄膜层22的厚度与光学薄膜层22膨胀系数的乘积，或是中心体20断面的厚度与中心体20膨胀系数的乘积，加上脱膜层21的厚度与脱膜层21膨胀系数的乘积所形成的总合膨胀系数，小于或等于光学薄膜层22的厚度与膨胀系数的乘积，则定形层23可于制造方法中省略。

同样道理，在高温脱膜时若上述的条件不能满足则定形层23需要考虑安装，尤其是在中心体20由固态转变为液态的应变点温度附近时，其中定形层23断面厚度的抗拉强度或抗折强度，应该大于等于中心体20断面的厚度与中心体20膨胀系数的乘积所形成的抗压强度，或是定形层23断面的厚度的抗拉强度或抗折强度，应该大于或等于中心体20断面的厚度与中心体20膨胀系数的乘积所形成的抗压强度，以及脱膜层断面21的厚度与脱膜层21断面膨胀系数的乘积的总合膨胀系数所形成的抗压强度。

请配合考图3及图4所示，其为本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的第二实施例，其步骤包含有：

设置光学薄膜层的步骤30：将光学薄膜层41设于中心体40的外壁面。

设置定形层的步骤31：其是将定形层42设于光学薄膜层41的外壁面。

设置外管层的步骤32：将一外管层43设于定形层42的外壁面，如本发明的制造方法的第一实施例所述，中心体40遇高温时会产生有熔化的情况，或者可将中心体40抽离，而使光学薄膜层41、定形层42与外管层43的多层组合构成一中空体。

请配合参考图5及图6所示，其为本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法的第三实施例，其步骤包含有：

设置光学薄膜层的步骤50：将光学薄膜层61设于中心体60的外壁面。

设置外管层的步骤51：将一外管层62设于光学薄膜层61的外壁面，中心体60遇高温时会产生熔化的情况，或者可将中心体60抽离，而使光学薄膜层61与外管层62的多层组合构成一中空体。

综合上述的本发明的具有光学薄膜的管体的制造方法及其制品，其利用由内向外逐步加工程序，而将光学薄膜层设于外管层的内壁面，若设于外管层中的紫外光源因激发而产生紫外光时，该紫外光则直接照射至光学薄膜层，并可直经经由光学薄膜层反射，以降低重复反射所导致的损耗率，灯管的发光效率得以提高，对于节省能源以及降低碳排放提供了供献。

再者，本发明所提供的制造方法，其使具有光学薄膜的管体于制造上更为便利，而且能使用多种材料以因应实际的需求，故能对商品化有其实用性，况且多种材料的选择性可降低制造成本，而使其有利于大量生产。

再一，本发明是应用多种材料，故能克服材料之间的膨胀系数的不同，进而以避免封着金属线时的漏气问题，并能延长产品寿命。

再二，可见光层可针对多种需求，而改变可见光层与光学薄膜层的设置区域的配置，可见光层可经紫外光激发为红、绿、蓝或白光，或者经蓝光激发为红、绿或黄光。

再三，本发明是利用多种材质之间的熔点温度与厚度，而造成本发明的多层结构之间的差异性，以使中心体或中心体与脱膜层得以抽离或熔化，而达到脱膜的效果。

再四，多种材料的选择，其是利用各材料之间具有相近的膨胀系数，以便于于加工程序中不因温度的变化而导致破裂。

再五，各材料之间因厚度的不同，而使其各自具有其抗张强度与抗压强度，凭借抗张强度与抗压强度的差异性，以克服熔化的脱膜层或脱膜层与中心体，其体积会突然变大造成位于外层的光学薄膜层、定形层或外管体破裂的问题。

以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。

Claims (16)

1.一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于，其步骤包含：

设置光学薄膜层：提供一中心体，并将一光学薄膜层设于该中心体的外壁面，该光学薄膜层以物理气相沉积法设于该中心体的外壁面；以及

设置外管层：将一外管层设于该光学薄膜层的外壁面，并移除该中心体。

2.根据权利要求1所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：在该设置光学薄膜层的步骤与该设置外管层的步骤之间，或在该提供中心体的步骤与该设置光学薄膜层的步骤之间，其进一步具有一设置定形层的步骤，其将一定形层设于该光学薄膜层的外壁面，或是将一定形层设于该中心体的外壁面。

3.根据权利要求1所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该光学薄膜层具有宽入射角度，该宽入射角度为至少介于0度至90度之间的宽入射角度，以反射至少一特定波长的紫外光，并至少让含有部分或是全部的可见光通过该外管层，该紫外光的主要波长为184.9nm、253.7nm、147nm或173nm，该可见光的波长为380至780nm或400至800nm，该光学薄膜层是一多层结构。

4.根据权利要求3所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该光学薄膜层的材质为氧化镁、氧化铝、氟化镁、二氧化锆、二氧化铪或二氧化硅或上述六者之间的任意组合。

5.根据权利要求1所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可由两个半圆形先组合为一圆形，以进行至该设置光学镀膜的步骤，或是再加入进行该设置定形层的步骤，再将该中心体分开成为两个部分，各部份半圆形的直径平面，以在设置光学薄膜层的步骤，将该光学薄膜层设置于半圆形中心体的外壁面，或是再加入进行该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

在该设置外管层的步骤中，在移除该中心体时，该中心体能为抽离，或者该中心体能为熔化；

该外管层的材质可以为玻璃、石英、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该紫外光的平均反射幅度为80％以上或是为95％以上或是为99.5％以上；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层是184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

6.根据权利要求2所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可由两个半圆形先组合为一圆形，以进行至该设置光学镀膜的步骤，或是再加入进行该设置定形层的步骤，再将该中心体分开成为两个部分，各部份是半圆形的直径平面，以在设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置于半圆形中心体的外壁面，或是再加入进行该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

该定形层的材质为透明的材质或介电质材质，该透明的材质能够为玻璃、耐热玻璃或陶瓷；

在该设置外管层的步骤中，在移除该中心体时，该中心体能为抽离，或者该中心体能为熔化；

该外管层的材质能够为玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度，或是该定形层与该光学薄膜层的总抗拉强度或总抗折强度大于或等于该中心体的抗压强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该紫外光的平均反射幅度为80％以上或是为95％以上或是为99.5％以上；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层是184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该外管层以及该定形层的厚度与折射率必须要纳入为该光学薄膜设计的条件；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

7.根据权利要求5或6所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该中心体的多边形能够为圆形、半圆形、椭圆形、长椭圆形、梯形、三角形、四边形、五边形、六边形、七边形、八边形或矩形，该中心体的低熔点材质是锡、铋、铯、镓、铟、钾、锂、锰、钠、铅、铷、锑、硒、锶、碲、铊或锌的其中一者或前述的材质中至少任二者组合的合金。

8.根据权利要求6所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该定形层的材质为介电质材质，该介电质材质能够为氧化铝、氧化镁、氟化镁、二氧化锆、氮化铝或是二氧化硅。

9.一种具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于，其步骤包含有：

设置脱膜层：提供一中心体，并将一脱膜层设于该中心体的外壁面；

设置光学薄膜层：将一光学薄膜层设于该脱膜层的外壁面，该光学薄膜层是以一物理气相沉积法设于该脱膜层的外壁面；以及

设置外管层：将一外管层设于该光学薄膜层的外壁面，并移除该中心体与该脱膜层。

10.根据权利要求9所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：在该设置光学薄膜层的步骤与该设置外管层的步骤之间，或是在该设置脱膜层的步骤与该设置光学薄膜层的步骤之间，其进一步具有一设置定形层步骤，其是将一定形层设于该光学薄膜层的外壁面，或是将一定形层设于该脱膜层的外壁面。

11.根据权利要求9所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该光学薄膜层具有宽入射角度，该宽入射角度为至少介于0度至90度之间的宽入射角度，以反射至少一特定波长的紫外光，并至少让含有部分或是全部的可见光通过该外管层，该紫外光的主要波长为184.9nm、253.7nm、147nm或173nm，该可见光的波长为380至780nm或400至800nm，该光学薄膜层是一多层结构；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该紫外光的平均反射幅度为80％以上或是为95％以上或是为99.5％以上；

12.根据权利要求11所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该光学薄膜层的材质为氧化镁、氧化铝、氟化镁、二氧化锆、二氧化铪或是二氧化硅的组合。

13.根据权利要求9所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可两个半圆形中心体先分开，进行半圆形体全部外壁面脱膜层的设置，然后合为一个圆形的中心体再进行设置光学薄膜层的步骤，之后也可再设置定形层的步骤，再将中心体分开成为两个部分，以在该设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置半圆形其直径平面的中心体，之后也可再加入该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

该脱膜层的断面可为该中心体断面的管体形状或是多边形管体形状，该脱膜层是低熔点材质，该低熔点材质能够为塑胶、可剥离油墨层、可溶解油墨层、硅胶或乳胶类化合物、或低熔点金属的其中一者；

在该设置外管层的步骤中，在移除该脱膜层与该中心体时，该脱膜层能为熔化，以及该中心体能为抽离，或者该脱膜层与该中心体能为熔化；

该外管层的材质能够为玻璃、石英、玻璃与、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置脱膜层的步骤中，该中心体具有一光学级平坦化的外壁面，或者该脱膜层具有一光学级平坦化的外壁面；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度，或是该中心体与该脱膜层的总抗压强度，小于或等于该光学薄膜层的总抗拉强度或总抗折强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该紫外光的平均反射幅度为80％以上或是为95％以上或是为99.5％以上；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层是184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

14.根据权利要求10所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该中心体是长条体、柱体或管体，该中心体的断面可为多边形，若该中心体为半圆形也可两个半圆形中心体先分开，进行半圆形体全部外壁面脱膜层的设置，然后合为一个圆形的中心体再进行设置光学薄膜层的步骤，之后也可再设置定形层的步骤，再将中心体分开成为两个部分，各部份为半圆形且直径平面，以在该设置光学薄膜层的步骤中，将该光学薄膜层设置半圆形的中心体，之后也可再加入该设置定形层的步骤，以及该设置外管层的步骤；

该中心体的材质是耐热玻璃、金属、石英、合金、陶瓷、耐热玻璃与封着合金的混合物、耐热塑胶或耐热塑胶的硬化混合物或低熔点材质；

该脱膜层的断面可为该中心体断面的管体形状或是多边形管体形状，该脱膜层是低熔点材质，该低熔点材质能够为塑胶、可剥离油墨层、可溶解油墨层、硅胶或乳胶类化合物、或低熔点金属的其中一者；

该定形层的材质为透明的材质或介电质材质，该透明的材质能够为玻璃、耐热玻璃、陶瓷；

在该设置外管层的步骤中，在移除该脱膜层与该中心体时，该脱膜层能为熔化，以及该中心体能为抽离，或者该脱膜层与该中心体能为熔化；

该外管层的材质能够为玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃与陶瓷的复合物，该外管层是透明；

在该设置脱膜层的步骤中，该中心体具有一光学级平坦化的外壁面，或者该脱膜层具有一光学级平坦化的外壁面；

在该设置光学薄膜层的步骤，该中心体的抗压强度小于或等于该光学薄膜层的抗拉强度或抗折强度，或是该中心体与该脱膜层的总抗压强度，小于或等于该光学薄膜层与该定形层的总抗拉强度或总抗折强度，或是该定形层与该光学薄膜层的总抗拉强度或总抗折强度，大于或等于该中心体的抗压强度，或是大于或等于该中心体与该脱膜层的总抗压强度；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该镀膜方式是以该中心体自转以及公转的方式进行；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层的镀膜方式是以金属靶材反应气体溅镀的方式进行；

镀膜材料的纯净度为99％以上或是其消光系数k在184.9nm或253.7nm时小于0.1(1×10^-1)；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该光学薄膜层是184.9nm以及253.7nm的双反射波段的光学多层薄膜层，上述过程可以在同一反应溅镀腔体内完成；

在该设置光学薄膜层的步骤中，该外管层以及该定形层的厚度与折射率必须要纳入为该光学薄膜设计的条件；

该金属靶材反应气体是氧气、氟气或是氟氙化合物的二氟化氙气体。

15.根据权利要求13或14所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该中心体的多边形能够为圆形、半圆形、椭圆形、长椭圆形、梯形、三角形、四边形、五边形、六边形、七边形、八边形或矩形，该中心体的低熔点材质是锡、铋、铯、镓、铟、钾、锂、锰、钠、铅、铷、锑、硒、锶、碲、铊或锌的其中一者或前述的材质中至少任二者组合的合金；若该脱膜层的材质为低熔点金属，该低熔点金属是锡、铋、铯、镓、铟、钾、锂、锰、钠、铅、铷、锑、硒、锶、碲、铊或锌其中一者或前述的材质中至少任二者的组合的合金。

16.根据权利要求14所述的具有光学薄膜的管体的制造方法，其特征在于：该定形层的材质为介电质材质，该介电质材质能够为氧化铝、氧化镁、氟化镁、二氧化锆、氮化铝或是二氧化硅。

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