CN102815089A - 用于从墨转移辊擦除墨历史的方法、设备和系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于从墨转移辊擦除墨历史的方法、设备和系统。一种数字胶印上墨系统包括容纳墨且将墨沉积到上墨部件上的墨室。墨被转移到墨转移部件，然后被转移到图像转移部件。墨去除部件从墨去除部件去除残余或过剩墨。清洁部件清洁墨去除部件。

Description

用于从墨转移辊擦除墨历史的方法、设备和系统

发明领域

本公开涉及用于向数字胶印版上墨的方法和系统。具体而言，本公开涉及用于例如从具有网纹辊和橡胶转移辊的上墨系统向数字胶印版上墨的无重像上墨系统。

背景技术

上墨系统被设计为向胶印版转移墨。上墨系统可以是有键或无键类型。上墨系统可以是常规胶印型打印系统或数字胶印版打印系统。

相关技术的上墨系统可能遭受重像问题。在上墨系统中，转移墨可以沉积在层中。该层可能具有变化厚度的区域。重像可能源于其中图像原先被转移的特定区域中较薄的墨层。墨层中较薄的墨的区域典型地导致图像打印中相应较亮的区域。

在相关技术系统中，且尤其在例如常规胶印系统中，重像问题可以通过使用墨棒辊（inker roll）解决，每个墨棒辊具有大约相同的直径。这种布置导致重复图像总是处于辊上的相同位置，且避免重像的效果。

发明内容

然而对于数字胶印，需要具有减小的重像的无键墨棒。提供在减小、最小化和/或防止重像方面有效的上墨系统。具体而言，方法、设备和系统的实施例帮助擦除墨历史，例如从墨转移部件去除残余墨以防止重像。

例如，方法的实施例包括使用尿烷涂覆部件和陶瓷部件中的至少一个从墨转移部件去除残余墨。上墨系统可以包括诸如网纹辊的上墨部件，其配置成将墨运送到墨转移部件。墨转移部件可以配置成将墨运送到成像部件。成像部件可以是胶印版。

在墨转移部件接触成像部件以从墨转移部件向成像部件转移墨时，保留在墨转移部件上的墨可以被去除以减小重像或擦除墨历史。在方法、设备和系统的实施例中，可以使用包含亲油表面的墨去除部件来去除墨。例如，方法、设备和系统的实施例可以包括具有亲油陶瓷表面的墨去除部件。墨转移部件例如可以包含橡胶表面。

在方法、设备和系统的备选实施例中，墨去除部件可以包含亲油尿烷表面。具有亲油陶瓷表面的清洁部件可以用于从墨去除部件的尿烷表面去除墨。例如，清洁部件的陶瓷表面可以比墨去除部件的尿烷表面较不亲油。刮墨刀可以用于从清洁部件的表面去除墨。

根据本发明的方法，其中亲油表面包含尿烷.

根据本发明的方法，其中亲油表面包含陶瓷。

根据本发明的方法，还包含使用清洁部件从墨去除部件去除残余墨。

根据本发明的方法，清洁部件具有包含陶瓷的亲油表面。

根据本发明的方法，还包含使用刮墨刀从清洁部件去除残余墨。

根据本发明的数字胶印上墨系统，墨去除部件具有包含橡胶的表面。

一种数字胶印上墨系统，包含：用于沉积墨的墨室；用于接收沉积的墨的上墨部件；用于从上墨部件接收墨且将墨转移到成像部件的墨转移部件；以及用于从墨转移部件去除残余墨的墨去除部件。

根据本发明的数字胶印上墨系统，该墨去除部件具有包含尿烷和陶瓷其中之一的亲油表面。

根据本发明的数字胶印上墨系统，还包含用于从墨去除部件去除残余墨的清洁部件。

根据本发明的数字胶印上墨系统，该清洁部件包括包含陶瓷的表面。

此处描述示例性实施例。然而，预见到，结合了此处描述的设备和系统的特征的任意系统被示例性实施例的范围和精神所涵盖。

附图说明

图1示出数字胶印架构；

图2示出根据一个示例性实施例的上墨系统；

图3示出根据另一示例性实施例的上墨系统；

图4示出示意网纹辊和橡胶转移辊墨瞬态测试的结果的图表。

具体实施方式

将对附图做出参考以帮助理解用于从墨转移部件向数字胶印版上墨且擦除墨转移部件的墨历史的方法、设备和系统。在附图中，贯穿附图，相似的参考数字用于指示相似或相同的元件。附图示意了用于从墨转移部件直接向成像部件上墨的所示方法、设备和系统的各个实施例以及与实施例相关的数据。

实施例的方法、设备和系统优选地是无键的且帮助从墨转移部件到数字胶印版的无重像上墨，且从转移部件擦除墨历史。图1示出可以包括在实施例的系统中的数字胶印架构。具体地，图1示出一同形成介质转移压合部（nip）的中心成像滚筒和纸张路径架构。图1示出在中心成像滚筒附近发生的数字胶印的步骤。 例如，在润版液施加步骤100中，可以通过润湿系统向中心成像滚筒的表面施加润版液的均匀施加。在数字蒸镀步骤200中，施加于中心成像滚筒的表面的润版液层的特定部分可以通过数字蒸镀系统蒸镀。例如，润版液层的部分例如可以通过使用德州仪器DLP投影仪芯片的激光构图蒸镀。

在上墨步骤300中，墨可以从上墨部件转移到中心成像滚筒的表面。转移的墨粘合到蒸镀了润版液的中心成像滚筒的表面的部分。在部分固化步骤400中，转移的墨可以通过照射部分地固化，例如UV固化。在图像转移步骤500中，转移的墨可以在介质转移压合部被转移到诸如纸张的介质。

在步骤600，中心成像滚筒的表面可以通过清洁系统清洁。例如，轨迹清洁辊可以用于清洁中心成像滚筒的表面。

如图1的上墨步骤300所示，墨可以从上墨系统的上墨部件和墨转移部件转移到中心成像滚筒。 上墨部件例如可以是具有用于容纳将要转移到成像部件的墨的阱或单元的网纹辊。阱可以被机械或激光雕刻，且可以配置成容纳大量墨。实施例的上墨系统包括用于从一个或更多单元去除过剩墨的系统。例如，墨可以通过墨室沉积到上墨部件上，使得墨填充且溢出上墨部件的一个或更多阱。根据实施例的方法，一个或更多阱可以齐平以例如通过使用刮墨刀去除墨溢出而从上墨部件的表面去除过剩墨。

例如，墨室可以与刮墨刀或类似的合适结构相关联。刮墨刀可以配置成从上墨部件的表面刮去沉积在上墨部件的单元中的过剩墨。室刀可以与墨室相关。室刀和刮墨刀可以配置成在室中容纳墨。例如，室刀、上墨部件及以及刮墨刀可以组合地配置成在墨室内容纳墨。墨容纳还可以通过诸如侧封的密封而促进。

可以是网纹辊的上墨部件例如可以配置成关于中心纵轴可旋转地平移。当上墨部件处于第一位置时，墨可以通过墨室沉积到上墨部件的一个或更多单元。上墨部件可以旋转到第二位置，在该位置，沉积的墨被转移到墨转移部件，该墨转移部件可以具有包含橡胶的表面。墨然后可以被转移到成像部件或数字胶印转移版。成像部件可以是诸如图1示意性示出的中心成像滚筒，且在上墨步骤300中墨可以从上墨系统转移到成像部件。

方法、设备和系统的实施例包括从墨转移部件去除墨以防止重像且适应无重像上墨系统。例如，方法的实施例包括使用尿烷涂覆部件和陶瓷部件其中至少一个从墨转移部件去除墨。

在墨转移部件接触成像部件以从墨转移部件向成像部件转移墨之后，保留在墨转移部件上的墨可以被去除。当橡胶墨转移部件例如用作墨链的部分时，重像可能源于墨厚度瞬态的存在。在方法、设备和系统的实施例中，可以使用包含亲油表面的墨去除部件去除墨。例如，方法、设备和系统的实施例可以包括具有亲油陶瓷表面的墨去除部件。墨转移部件例如可以包含橡胶表面。刮墨刀或等价机构可以用于从清洁部件的陶瓷表面去除墨。

在方法、设备和系统的备选实施例中，墨去除部件可以包含亲油尿烷表面。具有亲油陶瓷表面的清洁部件可以用于从墨去除部件的尿烷表面去除墨。清洁部件的陶瓷表面可以比墨去除部件的尿烷表面较不亲油。刮墨刀可以用于从清洁部件的表面去除墨。

在沉积的墨从上墨部件到成像部件或数字胶印转移版的转移期间，来自上墨部件的表面的润版液可以转移到上墨部件。在实施例中，上墨部件可以旋转到第三位置，在该位置，润版液可以从上墨部件的表面去除。

润版液去除系统可以配置成去除润版液。例如，润版液去除系统可以包括配置成去除润版液的刮墨刀。在备选实施例中，润版液去除系统可以包括气刀，该气刀配置成从上墨部件的表面蒸发润版液。在另一备选实施例中，润版液去除系统可以包括至少润版液刮墨刀和气刀的组合，用于去除从成像部件转移到上墨部件的润版液。

图2示出根据一个实施例的示例性上墨系统。具体而言，图2示出上墨数字胶印系统200。数字胶印系统200包括具有上墨部件205的上墨系统201。墨室215可以与上墨部件205相邻定位。墨室215可以配置成将墨沉积到上墨部件205的一个或更多阱中。

例如，上墨部件205可以包括具有配置成保持由墨室215沉积的墨的一个或更多阱或单元的表面。单元可以构造成具有三螺旋形状、四通道形状或以其它方式构造用于优选地允许较平滑的固体和较好的墨流动性以及用于例如约400,000cps的高粘度墨的转移。这种高粘度墨是用于数字胶印应用的典型选择。单元可以被机械雕刻或激光雕刻。

墨室215可以与室刀213和刮墨刀218相关联。室刀213可以配置成在墨室215内容纳墨210。墨容纳可能随着刮墨刀218和室刀213的组合而增强。诸如侧封的密封可以用于增强墨容纳。

图2示出配置且布置成在墨室215中容纳墨的室刀213和刮墨刀218。上墨部件205也可以定位为有利于如图2所示墨室215内墨的容纳。墨210可以通过墨室215沉积在上墨部件205的一个或更多单元中。沉积的墨可以转移到成像部件220的表面。

根据一个实施例，图2的上墨系统201包括与上墨部件205相邻定位的墨转移部件225。在图2中示出的上墨系统201中，墨可以沉积在上墨部件205的表面上。在一个实施例中，墨210可以沉积在由上墨部件205的表面限定或在其上形成的一个或更多单元中。

如所示，上墨部件205可以是可旋转辊，其可以旋转以运送沉积的墨，以用于转移到墨转移部件225。例如，墨部件205可以是网纹辊。具体而言，上墨部件205可以从第一位置旋转到第二位置，在该第一位置，来自墨室215的墨210可以沉积在上墨部件205上，在该第二位置，墨可以被转移到墨转移部件225。

墨转移部件225可以与成像部件220相邻定位。如所示，墨转移部件225可以是可旋转辊，其可以从第一位置旋转到第二位置，在该第一位置，墨可以从上墨部件205转移到墨转移部件225上，在该第二位置，转移的墨可以被转移到成像部件220。

在墨从墨转移部件225转移到成像部件220之后，墨转移部件225可以在墨转移部件225的一部分上容纳残余墨，从该部分，墨被转移到成像部件220。在墨转移部件225的该部分再次定位为接收从上墨部件205转移的墨之前去除残余墨是有利的。

包括墨去除部件的墨去除系统可以用于从墨转移部件225去除残余或剩余墨。例如，图2示出在操作上与墨转移部件225相邻定位和布置的墨去除部件230。墨去除部件230可以是可旋转辊，且可以配置成在与墨转移部件225旋转的方向相反的方向上滚动。当墨去除部件230接触墨转移部件225时，残余墨可以从墨转移部件225转移到墨去除部件230。在残余墨被转移到墨去除部件230之后，墨可以从墨去除部件去除。例如，刮墨刀242可以定位为从墨去除部件230的表面去除转移的残余墨。

墨去除部件230的表面可以是亲油的。例如，在一个实施例中，墨去除部件230的表面可以包含陶瓷或陶瓷涂层。陶瓷涂层提供接触墨转移部件225的表面的亲油表面。

在墨转移过程中，位于成像部件220的表面上的润版液可以转移到墨转移部件225。转移到墨转移部件225的润版液可以通过润版液去除系统去除。例如，如图2所示，上墨部件225可以从墨转移位置旋转到润版液去除位置。润版液去除系统可以包括气刀246。气刀246可以定位且配置成从墨转移部件225的表面去除润版液。

图3示出根据一个实施例的示例性上墨系统。具体而言，图3示出上墨数字胶印系统300。数字胶印系统300包括具有上墨部件305的上墨系统301，该上墨部件305上沉积有墨310。墨室315可以与上墨部件305相邻定位。墨室315可以配置成沉积容纳，且将墨310沉积到上墨部件305的一个或更多阱中。

例如，上墨部件305可以包括具有配置成保持由墨室315沉积的墨310的一个或更多阱或单元的表面。单元可以构造成具有三螺旋形状、四通道形状或以其它方式构造用于允许较平滑的固体和较好的墨流动性以及用于例如约400,000cps的高粘度墨的转移。这种高粘度墨是用于数字胶印应用的典型选择。单元可以被机械或激光雕刻。

墨室315可以与室刀313和刮墨刀318相关联。室刀313可以配置成在墨室315内容纳墨310。墨310的容纳可以随着刮墨刀318和室刀313的组合而增强。容纳可以通过使用诸如侧封之类的密封而增强。图3示出配置且布置成在墨室315中容纳墨310的室刀313和刮墨刀318。上墨部件305也可以配置且定位为有利于如图3所示墨室315内的墨310的容纳。墨可以通过墨室315沉积在上墨部件305的一个或更多单元中。沉积的墨可以转移到成像部件320的表面。

根据一个实施例，图3的上墨系统301包括与上墨部件305相邻定位的墨转移部件325。在图3中示出的上墨系统301中，墨可以沉积在上墨部件305的表面上。例如，墨310可以沉积在由上墨部件305的表面限定或在其上形成的一个或更多单元中。

上墨部件305可以是可旋转辊，其可以旋转以运送沉积的墨，以用于转移到墨转移部件325。具体而言，上墨部件305可以从第一位置旋转到第二位置，在该第一位置，来自墨室315的墨可以沉积在上墨部件305上，在该第二位置，墨可以被转移到墨转移部件325。

墨转移部件325可以与成像部件320相邻定位。如所示，墨转移部件325可以是可旋转辊，其可以从第一位置旋转到第二位置，在该第一位置，墨可以从上墨部件305转移到墨转移部件325，在该第二位置，转移的墨可以被转移到成像部件320。墨转移部件325可以包括包含橡胶或类似材料的表面。

在墨从墨转移部件325转移到成像部件320之后，墨转移部件325可以在墨转移部件325的一部分上容纳残余墨，从该部分，墨被转移到成像部件320。在墨转移部件224的该部分再次定位为接收从上墨部件305转移的墨之前去除残余墨是有利的。

在一个实施例中，如图3所示，包括墨去除部件和清洁部件的墨去除系统可以用于从墨转移部件325去除残余墨。例如，图3示出在操作上与清洁部件335相邻定位和布置的墨去除部件330。墨去除部件335可以在操作上与墨转移部件325相邻定位和布置。

清洁部件330和墨去除部件335可以是可旋转辊。它们例如可以配置成在与直接相邻的辊旋转的方向相反的方向上旋转。当墨去除部件335接触墨转移部件325时，残余墨可以从墨转移部件325转移到墨去除部件335。在残余墨被转移到墨去除部件335之后，墨可以从墨去除部件335去除。

清洁部件330可以定位为接触墨去除部件335且从墨去除部件335去除墨。清洁部件330的表面可以是亲油的。例如，在如图3所示的实施例中，清洁部件330的表面可以包含陶瓷。墨去除部件335的表面可以包含尿烷。墨去除部件35的尿烷表面可以比清洁部件330的陶瓷表面更加亲油。

在通过清洁部件330从墨去除部件335去除墨之后，墨可以从清洁部件330去除。例如，刮墨刀342可以定位为从墨去除部件330的表面去除转移的残余墨。

在墨转移过程中，位于成像部件320的表面上的润版液可以转移到墨转移部件325。转移到墨转移部件325的润版液可以通过润版液去除系统去除。在一个实施例中，墨转移部件325可以从墨转移位置旋转到第二位置，在该墨转移位置，墨可以从墨转移部件325转移到成像部件320，在该第二位置，定位有润版液去除系统。如图3所示， 润版液去除系统可以包括气刀346。气刀346可以定位且配置成从墨转移部件325的表面去除润版液。

实施例的上墨部件可以是网纹辊。上墨系统中使用的墨可以是高粘度墨。例如，墨可以具有约400,000cps的粘度。为了有利于该粘度和类似粘度的墨，网纹辊可以配置成包括限定具有高粘度墨容放图案的单元的表面。

上墨部件的表面可以包括或限定具有三螺旋结构的单元图案。备选地，构造为具有四通道布置的单元图案可以由上墨部件的表面限定。这种单元或墨阱类型允许较平滑的固体和较好的墨流度以及用于高粘度墨的改善的转移。因此，这种单元图案结构尤其可以适用于数字胶印工艺中典型使用的墨。在实施例中，上墨部件可以是具有机械雕刻或激光雕刻的单元的网纹辊。

瞬态测试示出存在在墨转移中发生的墨厚度瞬态。测试示出墨厚度瞬态需要墨转移辊的约3到4次旋转以达到稳定状态的墨厚度。

例如，图4示出示意网纹辊和橡胶转移辊墨瞬态测试的结果的图表。实际上，如图5所示，瞬态可能需要墨转移辊的多达3到4次旋转以达到稳定状态的墨厚度。当例如橡胶墨转移部件用作墨链的部分时，重像可能源于墨厚度瞬态的存在。

通过在从上墨系统向例如数字胶印版或表面的成像部件转移墨之后清洗墨转移部件，除了不希望的效应的其他减小，根据实施例的系统还实现了减小的重像。而且，根据实施例的系统可以包括使用例如具有刮墨刀和气刀其中至少一个的润版液去除系统从上墨部件的表面去除润版液。

Claims (10)

1.一种数字胶印上墨方法，包含：

在上墨部件的表面上沉积墨；

将沉积的墨转移到墨转移部件的表面；

将墨从墨转移部件的表面转移到成像部件的表面；以及

从墨转移部件去除残余墨。

2.根据权利要求1所述的方法，还包含：

从墨转移部件去除润版液。

3.根据权利要求1所述的方法，去除残余墨包含使得墨转移部件与墨去除部件接触。

4.根据权利要求2所述的方法，去除润版液包含向墨转移部件的表面应用气刀。

5.根据权利要求3所述的方法，其中墨去除部件包含亲油表面。

6.一种数字胶印上墨系统，包含：

墨室；

上墨部件，该上墨部件具有从墨室接收墨的墨阱；

墨转移部件；以及

墨去除部件。

7.根据权利要求6所述的数字胶印上墨系统，还包含：

清洁部件。

8.根据权利要求6所述的数字胶印上墨系统，该墨转移部件具有包含橡胶的表面。

9.根据权利要求6所述的数字胶印上墨系统，该墨去除部件具有包含尿烷的表面。

10.根据权利要求7所述的数字胶印上墨系统，该墨去除部件具有包含尿烷的表面，且该清洁部件具有包含陶瓷的表面。

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