CN102808157A - 溅射靶材维护用管道系统 - Google Patents

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罗明新
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CSMC Technologies Corp
Wuxi CSMC Semiconductor Co Ltd
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Abstract

本发明提供了一种溅射靶材维护用管道系统,包括供水设备、供气设备、回水设备、若干阀装置及若干起连接作用的管道,所述管道包括接自供水设备的供水管、接自供气设备的吹气管、接入回水设备的回水管及接自靶材的排水管,所述供气设备通过吹气管连入靶材内,所述靶材通过所述回水管和排水管两路接入所述回水设备,所述排水管的末端设有一接入所述回水设备的尾管。相较于现有技术,本发明利用排水管末端的尾管接入回水设备,有效地避免了纯水被作为废水处理而形成的浪费,也省去了人工操作处理盛水、降低污染。

Description

溅射靶材维护用管道系统
技术领域
本发明属于集成电路制成领域,涉及一种用于维护溅射靶材的管道系统。
背景技术
在半导体器件制备过程中,尤其是集成电路生产中,几乎每道工序都要涉及到化学清洗问题,化学清洗时指用化学方法清除吸附在半导体、金属材料以及生产用具表面上的各种有害杂质或油污的工艺,具体方法如利用各种化学试剂清洗掉被清洗物体表面上的杂质,然后用大量高纯的热水、冷水进行冲洗,从而得到洁净的物体表面。
溅射靶材作为高附加值的电子材料,已被广泛应用于集成电路工艺中,现有技术中在对所述靶材进行维护时,通常都需要配备相应的管道系统,用于接入或排出清洗液(如纯水),例如,在对溅射机台上的靶材进行维护时,需要接入吹水管道系统和冷却水供应系统,所述吹水管道是PVC材料制成并暴露于机台的末尾,每次靶材维护时需要用一盛水的容器将靶材内的纯水排出,请参图1所示,该盛水的容器将排出的纯水作为废水由人工操作倒入废水槽内,但由于所述吹水管为PVC管,排水不干净,时常会有纯水漏到洁净的地板上,造成洁净度污染。
鉴于上述问题,有必要提供一种溅射靶材维护用管道系统来解决上述问题。
发明内容
本发明所解决的技术问题在于提供一种溅射靶材维护用管道系统,其可有效避免纯水的浪费、并降低对机台工作环境的污染。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:一种溅射靶材维护用管道系统,包括供水设备、供气设备、回水设备、若干阀装置及若干起连接作用的管道,所述管道包括接自供水设备的供水管、接自供气设备的吹气管、接入回水设备的回水管及接自靶材的排水管,所述供气设备通过吹气管连入靶材内,所述靶材通过所述回水管和排水管两路接入所述回水设备,所述排水管的末端设有一接入所述回水设备的尾管。
作为本技术方案的进一步改进,所述尾管为不锈钢材质。
作为本技术方案的进一步改进,该溅射靶材维护用管道系统包括冷却水系统和吹水系统,该冷却水系统和吹水系统单独运行。
作为本技术方案的进一步改进,所述回水管和所述排水管相连并通过一第一三通阀进行切换,所述供水管和吹气管相连且在连接处设有一第二三通阀,该第二三通阀用于在供气和供水之间相互切换。
作为本技术方案的进一步改进,所述吹水系统包括供气设备、第二三通阀、第一三通阀、排水管及设于排水管上的手动阀,该吹水系统运作时供气设备内的压缩气体进入所述靶材内使靶材内的水流入排水管并通过所述不锈钢尾管最后流入回水设备内。
作为本技术方案的进一步改进,所述冷却水系统包括所述供水设备、第二三通阀、第一三通阀、回水管、设于回水管上的回水压力表、及回水设备。
相较于现有技术,本发明所述的溅射靶材维护用管道系统利用排水管末端的尾管接入回水设备,有效地避免了纯水被作为废水处理而形成的浪费,也省去了人工操作处理盛水、降低污染。
附图说明
图1为现有技术中溅射靶材维护用管道系统的架构图。
图2为本发明所述溅射靶材维护用管道系统的架构图。
具体实施方式
请参图1所示,本发明提供一种溅射靶材维护用管道系统,其包括冷却水系统和吹水系统,所述冷却水系统和所述吹水系统单独运行对溅射机台上的靶材进行维护。所述溅射靶材维护用管道系统包括供水设备、供气设备、回水设备、若干阀装置(如手动阀A、B及三通阀A、B)、回水压力表及若干起连接作用的管道1、2、3、4、5、6。
所述冷却水系统包括供水设备、三通阀B(即第二三通阀)、三通阀A(即第一三通阀)、回水压力表、回水设备及管道1、3、4、5,当冷却水系统开始运作时,首先,需调节三通阀A,使得管道4和管道5导通,由此可将靶材内回水导通至回水设备内,其次,再将三通阀B调节使管道1和管道3连通,使供水设备内的纯水通入靶材内,此时,所述冷却水系统即开始运作,所述供水设备内的纯水依次流经管道1、管道3、管道4、管道5,最后流入回水设备内,如此,完成对靶材的清洗。所述管道1充当灌入冷却水的供水管,所述管道5充当用于回流靶材内纯水的回水管。
所述吹水系统包括供气设备、三通阀B(即第二三通阀)、三通阀A(即第一三通阀)、手动阀A、回水设备、管道2、3、4、6及尾管7。当吹水系统开始运作时,首先,需调节三通阀B,使得管道2和管道3导通,此时先不打开手动阀B,由此为供气设备的气体吹入靶材内提供了路径;其次,再将管道4上的手动开关和管道6上的手动阀A打开,导通管道4和管道6,为靶材内回水吹入回水设备提供了路径;最后,将管道2上的手动阀B打开,此时,供气设备内的压缩气体将通过管道2和管道3通入靶材内,如此可使靶材内残留的水被吹入管道4和管道6内,并最后通过尾管7流回入回水设备内,由此,完成对靶材的维护。所述管道2充当向靶材内通入气体的吹气管,所述管道6和尾管7充当用于排出靶材内残留纯水的排水管,所述尾管7设于该排水管的末端。
所述尾管7为不锈钢材质,其直接接入回水设备,有效地避免了纯水被作为废水处理而形成的浪费,也省去了人工操作处理盛水、减少了维护工作的时间,另外,所述尾管7不暴露于机台末尾也使得不会有纯水滴漏至机台下的地板上而造成污染。本发明所述的溅射靶材维护用管道系统将吹水系统和靶材的冷却水系统灵活的结合在一起,简化了操作,避免了浪费和污染。
以上所述,仅是本发明的最佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围情况下,利用上述揭示的方法内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰,均属于权利要求书保护的范围。

Claims (6)

1.一种溅射靶材维护用管道系统,包括供水设备、供气设备、回水设备、若干阀装置及若干起连接作用的管道,所述管道包括接自供水设备的供水管、接自供气设备的吹气管、接入回水设备的回水管及接自靶材的排水管,其特征在于:所述供气设备通过吹气管连入靶材内,所述靶材通过所述回水管和排水管两路接入所述回水设备,所述排水管的末端设有一接入所述回水设备的尾管。
2.如权利要求1所述的溅射靶材维护用管道系统,其特征在于:所述尾管为不锈钢材质。
3.如权利要求2所述的溅射靶材维护用管道系统,其特征在于:该溅射靶材维护用管道系统包括冷却水系统和吹水系统,该冷却水系统和吹水系统单独运行。
4.如权利要求3所述的溅射靶材维护用管道系统,其特征在于:所述回水管和所述排水管相连并通过一第一三通阀进行切换,所述供水管和吹气管相连且在连接处设有一第二三通阀,该第二三通阀用于在供气和供水之间相互切换。
5.如权利要求4所述的溅射靶材维护用管道系统,其特征在于:所述吹水系统包括供气设备、第二三通阀、第一三通阀、排水管及设于排水管上的手动阀,该吹水系统运作时供气设备内的压缩气体进入所述靶材内使靶材内的水流入排水管并通过所述不锈钢尾管最后流入回水设备内。
6.如权利要求5所述的溅射靶材维护用管道系统,其特征在于:所述冷却水系统包括所述供水设备、第二三通阀、第一三通阀、回水管、设于回水管上的回水压力表、及回水设备。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09198724A (ja) * 1996-01-17 1997-07-31 Toray Ind Inc 光記録媒体の製造方法および製造装置
CN2829974Y (zh) * 2005-10-31 2006-10-25 普慧企业股份有限公司 水气可回收的气雾冷却装置
CN101070590A (zh) * 2006-02-22 2007-11-14 应用材料有限责任与两合公司 具有冷却靶的溅射
JP2009127090A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Sharp Corp スパッタリング装置
CN201459233U (zh) * 2009-07-27 2010-05-12 昆山新莱洁净应用材料股份有限公司 一种溅射靶材的冷却装置
CN201530858U (zh) * 2009-10-29 2010-07-21 吉林庆达新能源电力股份有限公司 一种磁控溅射设备的阴极冷却装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09198724A (ja) * 1996-01-17 1997-07-31 Toray Ind Inc 光記録媒体の製造方法および製造装置
CN2829974Y (zh) * 2005-10-31 2006-10-25 普慧企业股份有限公司 水气可回收的气雾冷却装置
CN101070590A (zh) * 2006-02-22 2007-11-14 应用材料有限责任与两合公司 具有冷却靶的溅射
JP2009127090A (ja) * 2007-11-22 2009-06-11 Sharp Corp スパッタリング装置
CN201459233U (zh) * 2009-07-27 2010-05-12 昆山新莱洁净应用材料股份有限公司 一种溅射靶材的冷却装置
CN201530858U (zh) * 2009-10-29 2010-07-21 吉林庆达新能源电力股份有限公司 一种磁控溅射设备的阴极冷却装置

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