CN202185420U - 一种硅片盒清洁装置 - Google Patents

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沈彪
李向清
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Abstract

本实用新型公开了一种硅片盒清洁装置,该清洁装置包括:清洗槽、进液管路、排液管路、液体供给装置以及排液泵,液体供给装置与进液管路连接,排液泵与排液管路连接,清洗槽包括一腔体,进液管路与腔体连通形成进液通道,排液管路与腔体连通形成排液通道。该硅片盒清洁装置在进行硅片盒清洁工作时,可将硅片盒置于清洗槽内,并利用液体供给装置向硅片盒的底部喷射液体,以减少微小颗粒与硅片盒底部的粘附力,接着利用排液泵将漂浮在腔体内的微小颗粒从排液通道排走,从而减小了颗粒对硅片损坏的可能性,提高了硅片的成品率,并保证太阳能硅片加工装置的正常运作。

Description

一种硅片盒清洁装置
技术领域
本实用新型涉及硅片加工设备,具体涉及一种硅片盒清洁装置。 
背景技术
在太阳能硅电池制造领域,硅片在制造过程中需要极其严格的洁净度条件。硅片加工工厂均拥有大型风扇和循环风扇用以保持一种无尘环境和满足空调负载计算的需要;并在无尘室的不同位置安装了空液粒子监测系统,以监测任何可能的大量粒子的出现;此外,为了满足洁净度条件要求还采用一种非常严格的着装规定。然而,这些做法仍然难以满足硅片制造所要求的洁净度条件,并且成本高昂。因此,业界推出一种技术,用以提供太阳能硅电池硅片制造所需的洁净条件,并降低传统硅片厂的建设和运营费用,这种名为“标准机械界面Cstandardmechanical interface,SMIF)”的技术以“隔离技术”概念为中心,该隔离技术旨在通过将硅片封闭在一个超洁净的环境中,同时放宽对这个封闭环境以外的洁净度要求来防止产品被污染。所述SMIF系统通常包括:用来存储和运输硅片的硅片盒(Pod)、用来打开硅片盒的装载端口、以及通过工艺系统实现装载端口整合的超洁净封闭式小型环境。操作员手动的将所述硅片盒送至装载端口;所述装载端口自动打开硅片盒,并将其置于小型环境中;然后,内建于小型环境中的一硅片处理装置就会移动每个硅片,使其与太阳能硅电池的硅片加工装置接触。一旦工艺步骤完成,硅片就被放回硅片盒,操作员人工再将其送往下一个步骤。 
然而,在实际生产中发现,由于所述硅片盒的底部大部分是用塑料制成,在硅片盒搬运或使用的过程中,硅片盒的底部因与接触面接触而被磨损,极易产生微小的颗粒。一旦因拿取硅片而打开硅片盒时, 这些颗粒将会随着液流漂浮到硅片上,造成硅片表面严重的颗粒化,这不仅会造成处理过程中的硅片的损坏,还会造成处理后的硅片的损坏。许多硅片因为硅片盒携带的颗粒而报废,导致了原材料的浪费和生产成本的提高,这些微小的颗粒有时还会导致太阳能硅电池加工装置的损坏,给工艺生产带来巨大的损失。因此,提供一种可有效清洁硅片盒的基座的硅片盒清洁装置,是十分必要的。 
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种硅片盒清洁装置,以解决现有技术中,硅片盒携带的颗粒造成硅片表面颗粒化,进而导致片片报废,甚至导致太阳能硅片加工装置不能正常运作等问题。 
为实现上述目的,本实用新型的技术方案是设计一种硅片盒清洁装置,其特征在于,所述清洁装置包括:清洗槽、进液管路、排液管路、液体供给装置以及排液泵,所述液体供给装置与所述进液管路连接,所述排液泵与所述排液管路连接,所述清洗槽包括一腔体,所述进液管路与所述腔体连通形成进液通道,所述排液管路与所述腔体连通形成排液通道。 
作为优选的技术方案是,还包括设置于所述腔体内的隔板,所述隔板将所述腔体分为第一腔体和第二腔体,所述隔板上设置有吸尘孔,所述第一腔体和第二腔体通过所述吸尘孔连通。 
进一步优选的技术方案是,所述隔板的材质是聚偏氟乙烯。 
作为优选的技术方案还有,还包括三向阀,所述三向阀包括第一阀口、第二阀口和第三阀口,所述第一阀口与所述进液管路连接,所述第二阀口与所述排液管路连接,所述第三阀口与所述清洗槽连接。 
进一步优选的技术方案是,所述第三阀口通过一总管路与所述清洗槽连接。 
进一步优选的技术方案是,还包括框架,所述清洗槽设置于所述 框架内,所述框架的顶部具有开口。 
进一步优选的技术方案是,所述进液管路穿过所述框架与所述第一阀口连接,所述排液管路穿过框架与所述第二阀口连接。 
进一步优选的技术方案是,所述液体供给装置为清洗液供给装置。 
本实用新型的优点和有益效果在于:所述硅片盒清洁装置的进液管路与清洗槽的腔体连通形成进液通道,所述硅片盒清洁装置的排液管路与清洗槽的腔体连通形成排液通道,在进行硅片盒清洁工作时,可将硅片盒置于所述清洗槽内,并利用液体供给装置向所述硅片盒的底部喷射液体,以减少微小颗粒与硅片盒底部的粘附力,接着利用排液泵将漂浮在腔体内的微小颗粒从所述排液通道排走,从而减小了颗粒对硅片损坏的可能性,提高了硅片的成品率,并保证太阳能硅片加工装置的正常运作。 
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的硅片盒清洁装置的示意图; 
图2为图1中隔板的俯视图; 
图3为图2中隔板的截面示意图。 
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。 
本实用新型的核心思想在于,提供一种硅片盒清洁装置,所述硅片盒清洁装置的进液管路与清洗槽的腔体连通形成进液通道,所述硅片盒清洁装置的排液管路与清洗槽的腔体连通形成排液通道,在进行硅片盒清洁工作时,可将硅片盒置于所述清洗槽内,并利用液体供给装置向所述硅片盒的底部喷射液体,以减少微小颗粒与硅片盒底部的粘附力,接着利用排液泵将漂浮在腔体内的微小颗粒从所述排液通道 排走,从而减小了颗粒对硅片损坏的可能性,提高了硅片的成品率,并保证太阳能硅片加工装置的正常运作。 
如图1所示,为本实用新型实施例提供的硅片盒清洁装置的示意图,该硅片盒清洁装置100包括:清洗槽110、进液管路120、排液管路130、液体供给装置140以及排液泵150,所述液体供给装置140与所述进液管路120连接,所述排液泵150与所述排液管路130连接,所述清洗槽110包括一腔体111,所述进液管路120与所述腔体111连通形成进液通道,所述排液管路120与所述腔体111连通形成排液通道。所述液体供给装置140可向硅片盒200的底部喷射液体,以减少微小颗粒与硅片盒200底部的粘附力,所述排液泵150可将漂浮在腔体内的微小颗粒从所述排液通道排走,以有效清洁硅片盒200。 
如图2所示,其为图1中隔板的俯视图。如图1和图2所示,所述硅片盒清洁装置100还可包括设置于所述腔体111内的隔板160,所述隔板160将所述腔体111分为第一腔体和第二腔体,所述隔板160上设置有吸尘孔161,所述第一腔体和第二腔体通过所述吸尘孔161连通。所述隔板160可使液流更加均匀的喷射到硅片盒的底部,有利于提高清洁效率。 
如图3,其为图2中隔板的截面示意图,并结合图1和图2,所述隔板160的吸尘孔161与水平面的夹角α为10~80℃。由于所述吸尘孔161与水平面具有一定的夹角,可增大液体与硅片盒200的摩擦力,减小微小颗粒与硅片盒200底部的粘附力,可更加有效的清洁硅片盒200的底部。 
较佳的,所述隔板160的材质是聚偏氟乙烯(PVDF),由于聚偏氟乙烯材料不易产生颗粒,因此可确保所述隔板160不会污染所述腔体111。当然,所述隔板160也可由其它不易产生颗粒的材质(如金属)制成。 
可选的,所述硅片盒清洁装置100还包括三向阀170,所述三向阀 170包括第一阀口、第二阀口和第三阀,所述第一阀口与所述进液管路120连接,所述第二阀口与所述排液管路130连接,所述第三阀口与所述清洗槽110连接。当需要清洁硅片盒200时,利用液体供给装置140向所述硅片盒200的底部喷射液体,使所述进液管路120与所述腔体111连通形成进液通道,喷射预定时间后,可利用排液泵150抽真空,使所述排液管路130与所述腔体111连通形成排液通道,将漂浮在腔体111内的微小颗粒从所述排液通道排走。 
在本实用新型的一个具体实施例中,所述三向阀170的第三阀口通过一总管路180与所述清洗槽110连接,例如,所述总管路180可与所述清洗槽110的底部连接,从而使所述总管路180与清洗槽110的腔体111连通。 
优选的,所述硅片盒清洁装置100还包括框架190,所述清洗槽120设置于所述框架190内,所述框架190具有与硅片盒200相匹配的开口,所述硅片盒200可恰好经所述开口放置于所述清洗槽120上,所述框架190可固定所述硅片盒200,避免所述硅片盒200晃动。 
其中,所述进液管路120穿过所述框架190与所述三向阀170的第一阀口连接,所述排液管路130穿过所述框架190与所述三向阀170的第二阀口连接。 
在所述硅片盒清洁装置100中,所述液体供给装置140为清洗液供给装置,以便向所述硅片盒200的底部喷射清洗液,所述清洗液中的颗粒度可满足工艺生产要求,且成本较低。当然,本实用新型并不限于此,所述液体供给装置140也可以是清洗液体供给装置,例如,所述液体供给装置140可以是酸液供给装置。 
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。 

Claims (8)

1.一种硅片盒清洁装置,其特征在于,所述清洁装置包括:清洗槽、进液管路、排液管路、液体供给装置以及排液泵,所述液体供给装置与所述进液管路连接,所述排液泵与所述排液管路连接,所述清洗槽包括一腔体,所述进液管路与所述腔体连通形成进液通道,所述排液管路与所述腔体连通形成排液通道。
2.如权利要求1所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,还包括设置于所述腔体内的隔板,所述隔板将所述腔体分为第一腔体和第二腔体,所述隔板上设置有吸尘孔,所述第一腔体和第二腔体通过所述吸尘孔连通。
3.如权利要求2所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,所述隔板的材质是聚偏氟乙烯。
4.如权利要求1所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,还包括三向阀,所述三向阀包括第一阀口、第二阀口和第三阀口,所述第一阀口与所述进液管路连接,所述第二阀口与所述排液管路连接,所述第三阀口与所述清洗槽连接。
5.如权利要求4所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,所述第三阀口通过一总管路与所述清洗槽连接。
6.如权利要求4所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,还包括框架,所述清洗槽设置于所述框架内,所述框架的顶部具有开口。
7.如权利要求6所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,所述进液管路穿过所述框架与所述第一阀口连接,所述排液管路穿过框架与所述第二阀口连接。
8.如权利要求1至7中任意一项所述的硅片盒清洁装置,其特征在于,所述液体供给装置为清洗液供给装置。 
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN107457144A (zh) * 2017-09-28 2017-12-12 中车兰州机车有限公司 浸泡装置
CN112275696A (zh) * 2020-09-16 2021-01-29 华中科技大学 一种去除硅片表面吸附纳米级颗粒物的装置及方法
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN107457144A (zh) * 2017-09-28 2017-12-12 中车兰州机车有限公司 浸泡装置
CN112275696A (zh) * 2020-09-16 2021-01-29 华中科技大学 一种去除硅片表面吸附纳米级颗粒物的装置及方法
CN112275696B (zh) * 2020-09-16 2022-02-15 华中科技大学 一种去除硅片表面吸附纳米级颗粒物的装置及方法
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