CN102806517A - 板状体的研磨装置及板状体的研磨方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种板状体的研磨装置及板状体的研磨方法，该研磨装置具备：背垫，构成为吸附保持板状体的主表面中的第一面；研磨垫，构成为被按压于所述板状体的所述主表面中的第二面并研磨该第二面，辅助板配置于所述板状体的周围或周围的局部，该辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起。

Description

板状体的研磨装置及板状体的研磨方法

技术领域

本发明涉及板状体的研磨装置及板状体的研磨方法。

背景技术

目前，用于液晶显示器等的FPD（FLAT PANEL DISPLAY）用的玻璃基板，通过利用被称为浮法的玻璃制法将熔融玻璃成形成板状，并将该板状玻璃使用例如专利文献1等公开的连续式研磨装置进行研磨而制造的。根据该制造方法，通过研磨除去玻璃基板表面的微小的凹凸或起伏，能够制造成满足液晶显示器用玻璃基板所要求的平面度的厚约0.1～1.1mm的薄板。另外，在连续式研磨装置中，通常利用进行自转、公转或自转公转的研磨垫，来研磨玻璃基板的研磨对象面。

图9表示现有连续式研磨装置之一例。在图9所示的连续式研磨装置101中，在粘接于工作台102的吸附片103上吸附保持与玻璃基板G的研磨对象面相对的面，通过在水平搬运方向X上搬运工作台102的搬运装置而连续搬运玻璃基板G。在此，吸附片是由具有自吸附性的多孔树脂质的发泡片构成的衬背片（BACKING SHEET），下面，称为背垫。

玻璃基板G通过搬运装置被连续地搬运，同时，通过设置于其搬运路的上方的多个研磨机104的研磨垫105依次研磨玻璃基板G的研磨对象面。研磨垫105通过未图示的移动机构及自转机构、公转机构、或自转公转机构，对玻璃基板G施加压力，同时，一边自转、公转、或自转公转，一边研磨玻璃基板G的研磨对象面。

另外，图9表示相对于玻璃基板G研磨垫105向上方分离的状态，即研磨垫105产生的研磨压力处于无负载状态。

专利文献1：日本国特开2007-190657号公报

但是，图9所示的现有研磨装置101在实际研磨时，如图10所示，经由研磨垫105对背垫103上的玻璃基板G施加研磨压力P，因此，产生如下现象：玻璃基板G沉入背垫103，玻璃基板G的周边的背垫103A相对于玻璃基板G的研磨对象面相对隆起。

这时，如图11所示，存在如下问题：在研磨装置101进行连续研磨的情况下，研磨玻璃基板G的研磨对象面时，玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的背垫103A相对隆起，背垫103A和研磨垫105接触，从而背垫103及研磨垫105破损。该问题具有玻璃基板G的厚度越薄越多发的趋势。

另外，还存在如下问题：在玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G的间隔宽的情况下，研磨垫105在研磨完一张玻璃基板G后，不能顺利转移到随后要研磨的玻璃基板G上。

即，研磨中的研磨垫105的研磨面105A的高度对应于玻璃基板G的下沉，容易比下一玻璃基板G的研磨对象面的高度低。因此，以研磨垫105的研磨面105A的高度低的状态，将随后要研磨的玻璃基板G向研磨垫105搬运，因此，研磨垫105的端部与随后要研磨的玻璃基板G接触，该玻璃基板G及研磨垫105中至少一方可能破损。

另外，在一张一张地研磨玻璃基板的单片式研磨装置的情况下，玻璃基板的周围的背垫也隆起，同样与研磨垫接触，背垫及研磨垫可能破损。

另外，存在研磨时来自研磨垫的压力在玻璃基板G的研磨对象面的端部偏重的趋势，该压力偏重引起研磨偏差，其结果，玻璃基板的研磨对象面的平面度可能恶化。研磨垫为了研磨玻璃基板的整个研磨对象面，从玻璃基板的研磨对象面的一端外伸。但是，研磨垫从玻璃基板的研磨对象面的一端外伸时，对玻璃基板的研磨对象面的端部施加的研磨压力比对玻璃基板的研磨对象面的中央部施加的研磨压力大，其结果产生研磨压力的偏重。

发明内容

本发明是鉴于这样的问题而创立的，其目的在于，提供一种板状体的研磨装置及板状体的研磨方法，能够防止研磨时隆起的背垫与研磨垫接触而导致破损，缓和施加于板状体的研磨垫的压力偏重，并且在连续研磨中，防止研磨垫向下一研磨对象的转移不良。

为了实现所述目的，本发明提供一种板状体的研磨装置，具备：背垫，构成为吸附保持板状体的主表面中的第一面；研磨垫，构成为被按压于所述板状体的所述主表面中的第二面并研磨该第二面，辅助板配置于所述板状体周围或周围的局部，所述辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起。

由此，能够防止研磨时由于研磨垫对板状体的按压力而隆起的板状体周围的背垫与研磨垫接触而破损。

另外，作为本发明的板状体的研磨装置的一实施方式，优选的是，具备：所述背垫，构成为吸附保持多张所述板状体各自的所述第一面；多个所述研磨垫，以与吸附保持的所述板状体连续搬运的搬运路相对的方式设置，构成为被按压于所述板状体的所述第二面并依次研磨该第二面，所述辅助板配置于所述板状体周围或周围的局部，所述辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体周围的所述背垫的隆起，并防止所述研磨垫在所述板状体间的转移不良。

由此，在所谓的连续式研磨的情况下，即使连续搬运的板状体的间隔大，也能够防止研磨垫的转移不良。

另外，作为本发明的板状体的研磨装置的一实施方式，优选的是，具备：所述背垫，构成为吸附保持一张或两张以上所述板状体的所述第一面；一个研磨垫，以与被吸附保持的所述板状体的所述第二面相对的方式设置，构成为被按压于所述板状体的所述第二面并研磨该第二面，所述辅助板配置于所述板状体周围或周围的局部，所述辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止对所述板状体施加的研磨压力的偏重。

由此，在所谓的单片式研磨的情况下，能够通过抑制研磨压力的压力偏重来防止研磨偏差。

另外，作为本发明的板状体的研磨装置的一实施方式，优选的是，所述辅助板在与所述研磨垫相对的面上具备修整部件。

由此，能够一边研磨一边进行研磨垫的修整。

作为本发明的板状体的研磨装置的一实施方式，优选的是，所述辅助板的材质为超高分子量聚乙烯、不锈钢、氟树脂或玻璃环氧树脂。

由此，能够减少辅助板的磨损。

另外，同样，为实现所述目的，本发明提供一种板状体的研磨方法，其中，通过背垫吸附保持板状体的主表面中的第一面，在吸附保持于所述背垫的所述板状体的周围或周围的局部配置辅助板，在一边通过研磨垫按压着吸附保持于所述背垫的所述板状体的所述主表面中的第二面一边研磨该第二面时，防止所述板状体的周围的所述背垫的由所述研磨垫的按压力引起的隆起。

由此，能够防止研磨时由于研磨垫对板状体的按压力而隆起的板状体周围的背垫与研磨垫接触而导致破损。

另外，作为本发明的板状体的研磨方法的一实施方式，优选的是，通过所述背垫吸附保持多张所述板状体各自的所述第一面，在吸附保持的所述板状体连续搬运的搬运路上设置多个所述研磨垫，将所述研磨垫按压于多张所述板状体各自的所述第二面，并依次研磨所述第二面，该情况下，在连续搬运的所述板状体间的周围或周围的局部配置所述辅助板，防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止所述研磨垫在所述板状体间的转移不良。

由此，在所谓的连续式研磨的情况下，即使连续搬运的板状体的间隔大，也能够防止研磨垫的转移不良。

另外，作为本发明的板状体的研磨方法的一实施方式，优选的是，通过所述背垫吸附保持一张或两张以上所述板状体的所述第一面，以与被吸附保持的所述板状体的所述第二面相对的方式设置一个所述研磨垫，将该研磨垫按压于所述板状体的所述第二面，并研磨该第二面，该情况下，在所述板状体的周围或周围的局部配置所述辅助板，防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止对所述板状体施加的研磨压力的偏重。

由此，在所谓的单片式研磨的情况下，能够通过抑制研磨压力的压力偏重来防止研磨偏差。

另外，作为本发明的板状体的研磨方法的一实施方式，优选的是所述辅助板在与所述研磨垫相对的面上具备修整部件。

由此，能够一边研磨，一边进行研磨垫的修整。

另外，作为本发明的板状体的研磨方法的一实施方式，优选的是，所述辅助板的材质为超高分子量聚乙烯、不锈钢、氟树脂或玻璃环氧树脂。

由此，能够减少辅助板的磨损。

发明效果

如上所说明，根据本发明，能够防止研磨时由于研磨垫对板状体的按压力而隆起的板状体周围的背垫与研磨垫接触而导致破损。

附图说明

图1是表示作为本发明的板状体的研磨装置的一实施方式的玻璃基板的研磨装置的立体图；

图2是图1所示的研磨装置的概略俯视图；

图3是玻璃基板的搬运路的立体图；

图4是玻璃基板的搬运路的俯视图；

图5是表示辅助板的配置例的俯视图；

图6是表示作为本发明的板状体的研磨装置的其它实施方式的单片式研磨装置的整体立体图；

图7是表示背垫上的玻璃基板和辅助板的配置的俯视图；

图8（A）～8（C）是表示在玻璃基板的周围配置辅助板的其他例子的俯视图；

图9是表示现有的连续式研磨装置的一例的剖面图；

图10是表示现有的研磨装置在研磨时对玻璃基板施加研磨压力的形态的放大剖面图；

图11是表示现有研磨装置在研磨中玻璃基板周围的背垫隆起的问题的剖面图。

标号说明

10…研磨装置；12…研磨垫；14…工作台；16…背垫；18…研磨头；20…旋转轴；22…间隙；24…辅助板；30…单片式研磨装置；32…研磨平台；34…研磨垫；36…铰链；38…头；40…背垫；40A、44…辅助板

具体实施方式

下面，参照附图详细说明本发明的板状体的研磨装置及板状体的研磨方法。

图1是表示作为本发明的板状体的研磨装置的一实施方式的玻璃基板的研磨装置的立体图。

如图1所示，该研磨装置10是一种连续式研磨装置，其通过一边在工作台14上连续搬运例如尺寸为宽度（W1）1950mm×长度（L1）2250mm以上，厚度为0.1mm～1.1mm的液晶显示器用玻璃基板G，一边利用沿着其搬运路配置的多个圆形研磨垫12、12…连续研磨玻璃基板G的研磨对象面，由此研磨除去玻璃基板G的研磨对象面的微小的凹凸或起伏，制造成满足液晶显示器用玻璃基板所要求的平面度的薄板。

另外，研磨垫12以与玻璃基板G的研磨对象面相对的方式安装于研磨头18的下表面，在研磨头18的上表面固定有旋转轴20。

由于研磨垫12进行公转，因此，一边沿着弯曲的路径遍及多张玻璃基板G进行运动，一边研磨玻璃基板G的研磨对象面。即，研磨垫12的路径和玻璃基板G的路径不重合。

但是，本发明的研磨装置也可以是不公转的研磨垫12。即，研磨垫12以遍及多张玻璃基板G并沿着与玻璃基板G的搬运方向X平行的直线路径的方式，相对于上述玻璃基板G相对通过。即，研磨垫12的路径和玻璃基板G的路径重合。

研磨垫12对玻璃基板G的研磨压力从旋转轴20经由研磨头18，或经由设置于研磨头18的未图示的空气弹簧传递到研磨垫12，由此，从研磨头18传递到玻璃基板G。

另外，在玻璃基板G的研磨中，向研磨垫12和玻璃基板G之间供给浆料。另外，研磨结束后的玻璃基板G由未图示的清洗装置清洗。

另外，玻璃基板G的厚度优选0.1mm～0.7mm，特别优选0.1mm～0.4mm。这是因为越是这样极薄的玻璃基板G，背垫与研磨垫摩擦而损伤的现有问题越容易多发。

图2表示图1所示的研磨装置10的概略俯视图。图2表示涉及研磨垫12的形状、配置位置及动作的内容。

如图2所示，研磨垫12以比玻璃基板G的宽度W1小的直径D构成，通过研磨机的自转及公转机构以规定的旋转中心为中心旋转（自转），并且，一边以规定的公转中心为中心公转，一边研磨玻璃基板G的研磨对象面。

另外，在图2中，实线所示的圆表示各研磨垫12的目前的姿势，双点划线所示的多个圆表示玻璃基板G与研磨垫12接触的部分的边缘部。由这些圆可知，研磨垫12以规定的公转中心为中心公转。

另外，研磨垫12如下配置：以玻璃基板G的移动中心线C为基准成对配置，并且，呈在移动方向上错开位置的交错状（ZIGZAGALIGNMENT）配置，研磨垫12越过移动中心线C，研磨玻璃基板G的研磨对象面。

图3表示玻璃基板G的搬运路的立体图，图4表示玻璃基板G的搬运路的俯视图。

如图3所示，对于研磨对象的玻璃基板G，在粘接于工作台14的上表面的聚氨酯树脂制的背垫16上吸附保持玻璃基板G的研磨对象面（主表面中的第二面）的相反侧的面（主表面中的第一面）。另外，工作台14由未图示的搬运装置在图1或图2中箭头X所示的水平方向上连续搬运。

而且，在工作台14的搬运中，通过以与搬运路相对的方式设置的多台研磨机的各个研磨垫12，将玻璃基板G的研磨对象面研磨成液晶显示器用玻璃基板所要求的平面度。在图1中，在玻璃基板G的上方设置有研磨垫12，但是，并不限于此，也可以颠倒玻璃基板G和研磨垫12的位置关系。

根据这样构成的连续式研磨装置10，将直径D比玻璃基板G的宽度W1小的小型研磨垫12排列多个，将这些研磨垫12以玻璃基板G的移动中心线C为基准左右成对配置，研磨垫12越过移动中心线C，研磨玻璃基板G的研磨对象面，由此能够研磨玻璃基板G的研磨对象面的整面。

这时，如图3或图4所示，在玻璃基板G和与其相邻的玻璃基板G之间的间隙22配置有矩形的辅助板24。

该辅助板24为了防止在研磨时隔着研磨垫12对玻璃基板G施加的研磨压力引起的背垫16的隆起，而通过背垫16吸附保持于玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的间隙22的背垫16上。

辅助板24的宽度W2（与玻璃基板G的宽度W1平行的方向）优选40mm～70mm。若宽度W2为40mm以上，则辅助板24和背垫16的接触面积过窄，辅助板24难以从背垫16剥离。若宽度W2为70mm以下，则能够增多能够配置于工作台14上的玻璃基板G的张数，生产效率不会降低。

辅助板24和玻璃基板G之间的间隔S优选9mm～10mm。若S为9mm以上，则即使玻璃基板G或辅助板24的配置位置在研磨中偏离，玻璃基板G和辅助板24也难以接触，玻璃基板G不会破损。若S为10mm以下，则玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G的间隙22不会过大，能够防止研磨垫的转移不良。

另外，辅助板24的厚度优选与玻璃基板G的厚度的差为－0.1mm～0mm。若辅助板24的厚度和玻璃基板G的厚度的差为－0.1mm～0mm，则能够防止研磨垫的转移不良，还能够防止下述的研磨压力的偏重。另外，构成辅助板24的部件数不限于一个，也可以是两个以上。换言之，在增加玻璃基板G的厚度的情况下，不仅可以更换成厚度厚的辅助板24，也可以将厚度薄的辅助板24直接层叠到已经配置的辅助板24上，或经由粘接剂或吸附剂层叠。

另外，辅助板24的材质优选超高分子量聚乙烯（UPE）、不锈钢（SUS）、聚四氟乙烯（特氟龙（注册商标））等氟树脂、或玻璃环氧树脂等耐磨损性高的材质。若辅助板24的D硬度比研磨垫12的D硬度高，则即使研磨垫12与辅助板24接触，辅助板24也难以磨损。

这样，通过在玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的间隙22的背垫16上配置辅助板24，即使研磨时背垫16隆起，也能够通过在其上配置的辅助板24防止背垫16与研磨垫12接触而导致破损。另外，在图1所示的连续研磨的情况下，研磨垫12不接触玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的间隙22的背垫16，或不与玻璃基板G的边缘抵接，从而能够顺利地转移到作为下一研磨对象的玻璃基板G上。

另外，在玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的间隙22配置的辅助板24的长度L2（与玻璃基板G的长度L1平行的方向）如图3或图4所示，不限于与玻璃基板G的长度L1相同的长度。例如也可以如图5所示，在间隙22的宽度方向（与搬运方向X垂直的方向）上配置数处比玻璃基板G的长度L1短的辅助板24、24。

另外，辅助板的配置场所不限于玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的间隙22的背垫16，也可以以包围玻璃基板G的周围的方式配置。在玻璃基板G的周围配置辅助板的情况下，可以在玻璃基板G的周围配置一个框状的辅助板，或也可以在玻璃基板G的周围配置多个矩形的辅助板。若在玻璃基板G的周围配置辅助板，则不仅能够防止玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G之间的背垫16的破损，还能够防止玻璃基板G的宽度方向的背垫16的破损。

这时，也可以在背垫16容易隆起的部位、背垫16和研磨垫12容易接触的部位，例如图5所示的玻璃基板G的角部周围的局部配置矩形的辅助板24。另外，也可以在玻璃基板G的角部的周围的局部配置L字形的辅助板24。

图6是表示作为本发明的板状体的研磨装置的其它实施方式的单片式研磨装置的整体立体图。

图6所示的单片式研磨装置30是将一张玻璃基板G研磨加工成满足液晶显示器用玻璃基板所要求的平面度的薄板的装置。

就该单片式研磨装置30而言，在圆柱形的研磨平台32上，以研磨平台32的中心为中心旋转自如地配置有圆形的研磨垫34，研磨垫34通过设置于研磨平台32的未图示的电动机沿图中箭头A方向旋转。研磨垫34构成为比玻璃基板G的尺寸大。

另外，在研磨平台32上，圆盘状的头38构成为经由铰链36相对于研磨垫34起伏自如，并且，通过未图示的摆动驱动部沿图中箭头B方向摆动。

在头38的下表面固定有背垫40。另外，在背垫40的中央部吸附保持矩形的玻璃基板G。而且，在玻璃基板G的周围的背垫40上配置有辅助板40A。

在单片式研磨装置30中，吸附保持于背垫40的玻璃基板G的张数为一张，但是玻璃基板G的张数不限于一张，也可以是两张以上。

图7用俯视图表示背垫40上的玻璃基板G和辅助板40A的配置。如图7所示，辅助板40A以包围玻璃基板G的周围的方式沿玻璃基板G的四边配置。在此，与前面的例子相同，辅助板40A的宽度优选40mm～70mm，辅助板40A和玻璃基板G之间的宽度优选9mm～10mm。另外，辅助板40A的厚度优选与玻璃基板G的厚度的差为－0.1mm～0mm。

如上所述，若辅助板40A的宽度为40mm以上，则辅助板40A和背垫40的接触面积过窄，辅助板40A难以从背垫40剥离。另外，若辅助板40A的宽度为70mm以下，则能够增多能够配置于背垫40上的玻璃基板G的张数，生产效率不会降低。

另外，若辅助板40A和玻璃基板G之间的间隔为9mm以上，则即使玻璃基板G或辅助板40A的配置位置在研磨中偏离，玻璃基板G和辅助板40A也难以接触，玻璃基板G不会破损。另外，若辅助板40A和玻璃基板G之间的间隔为10mm以下，则即使在研磨两张以上的玻璃基板G的情况下，玻璃基板G和与该玻璃基板G相邻的玻璃基板G的间隙也不会过大，能够防止研磨垫34的转移不良。

另外，若辅助板40A的厚度和玻璃基板G的厚度的差为－0.1mm～0mm，则能够防止研磨垫34的转移不良，同时防止研磨压力的偏重。另外，构成辅助板40A的部件数不限于一个，也可以是两个以上。换言之，在增加玻璃基板G的厚度的情况下，不仅可以更换成厚度厚的辅助板40A，也可以将厚度薄的辅助板40A直接层叠到已经配置的辅助板40A上，或经由粘着剂或吸附剂层叠。

另外，辅助板40A使用超高分子量聚乙烯（UPE）、聚四氟乙烯（特氟龙（注册商标））等氟树脂、或不锈钢（SUS）等耐磨损性高的材料。另外，辅助板40A的D硬度（以2004年制定的ISO 7619为准）优选比研磨垫34的D硬度高。若辅助板40A的D硬度比研磨垫34的D硬度高，则即使研磨垫34与辅助板40A接触，辅助板40A也难以磨损。

根据这样构成的单片式研磨装置30，玻璃基板G如图6那样吸附保持于背垫40时，使头38倒伏，而将玻璃基板G的研磨对象面按压抵接于研磨垫34的表面。而且，使研磨垫34沿图中箭头A方向旋转（自转），并且使头38沿图中箭头B方向摆动，开始玻璃基板G的研磨。

在该研磨中，在玻璃基板G周围配置有辅助板40A，因此，能够防止玻璃基板G周边的背垫40的相对隆起，并且防止背垫40与研磨垫34接触而破损。

而且，在玻璃基板G的周围配置的辅助板40A由于防止研磨时的背垫40的隆起，因此，能够缓和研磨中对玻璃基板G施加的研磨垫34的压力偏重。

另外，在玻璃基板G的周围配置辅助板的方法不限于像这样如图7所示的情况。图8表示在玻璃基板G的周围配置辅助板的其它例子。

例如也可以如图8（A）所示，将比玻璃基板G的一边的长度L1短的辅助板44相对于玻璃基板G的四边配置于各边的中央部，而不以覆盖整个周围的方式配置。

另外，也可以如图8（B）所示，辅助板44不是在玻璃基板G的各边分别配置一张，而是对玻璃基板G的一边将辅助板44分割成多个进行配置。

或者，也可以如图8（C）所示，只对相对的二边配置辅助板44。

如上述说明，根据本实施方式，由于在作为研磨对象的玻璃基板间的间隙、或玻璃基板的周围配置辅助板，所以，能够防止研磨时隆起的背垫与研磨垫接触而导致破损，并且能够在连续研磨中防止研磨垫向下一研磨对象的转移不良。另外，能够缓和研磨时对玻璃基板施加的研磨垫的压力偏重。

通过用辅助板支承从玻璃基板的研磨对象面的一端外伸的研磨垫，对玻璃基板的研磨对象面的端部施加的研磨压力与对玻璃基板的研磨对象面的中央部施加的研磨压力相等，能够防止研磨压力的偏重。另外，防止研磨压力偏重的效果不仅在单片式研磨中发挥，还在连续式研磨等使研磨垫从玻璃基板的研磨对象面的一端外伸的研磨方式中发挥。

上面，详细说明了本发明的板状体的研磨装置及板状体的研磨方法，但本发明不限于以上例子，在不脱离本发明的宗旨的范围内，可以进行各种改良或变形。

例如，也可以在辅助板的与研磨垫相对的面具备修整部件。在玻璃基板的研磨装置中，在研磨规定张数的玻璃基板的情况下，研磨垫堵塞，其结果导致研磨率的降低，同时使研磨的均匀性变差。因此，需要进行如下整形（修整）：使金刚石等磨粒附着而成的修整器与研磨垫抵接来磨去研磨垫的表面，恢复研磨浆料的保持性，维持研磨能力。因此，正在修整时，不能将玻璃基板投入到研磨装置，玻璃基板的生产效率降低。

通过在辅助板的与研磨垫相对的面具备修整部件，能够同时进行玻璃基板的研磨和研磨垫的修整，玻璃基板的生产效率不会降低。另外，作为修整部件，除了金刚石等磨粒附着而成的修整器（金刚石砂轮）以外，还可以举出尼龙研磨刷。

本申请是基于2011年6月2日申请的日本专利申请2011-124457而提出的，其内容在这里作为参考而被引入。

Claims (10)

1.一种板状体的研磨装置，具备：

背垫，构成为吸附保持板状体的主表面中的第一面；

研磨垫，构成为被按压于所述板状体的所述主表面中的第二面并研磨该第二面，

辅助板配置于所述板状体的周围或周围的局部，所述辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起。

2.如权利要求1所述的板状体的研磨装置，具备：

所述背垫，构成为吸附保持多张所述板状体各自的所述第一面；

多个所述研磨垫，以与吸附保持的所述板状体连续搬运的搬运路相对的方式设置，构成为被按压于所述板状体的所述第二面并依次研磨该第二面，

所述辅助板配置于所述板状体的周围或周围的局部，所述辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止所述研磨垫在所述板状体间的转移不良。

3.如权利要求1所述的板状体的研磨装置，具备：

所述背垫，构成为吸附保持一张或两张以上所述板状体的所述第一面；

一个研磨垫，以与被吸附保持的所述板状体的所述第二面相对的方式设置，构成为被按压于所述板状体的所述第二面并研磨该第二面，

所述辅助板配置于所述板状体的周围或周围的局部，所述辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止对所述板状体施加的研磨压力的偏重。

4.如权利要求1～3中任一项所述的板状体的研磨装置，其中，

所述辅助板在与所述研磨垫相对的面上具备修整部件。

5.如权利要求1～4中任一项所述的板状体的研磨装置，其中，

所述辅助板的材质为超高分子量聚乙烯、不锈钢、氟树脂或玻璃环氧树脂。

6.一种板状体的研磨方法，其中，

通过背垫吸附保持板状体的主表面中的第一面，

在吸附保持于所述背垫的所述板状体的周围或周围的局部配置辅助板，

在一边通过研磨垫按压着吸附保持于所述背垫的所述板状体的所述主表面中的第二面一边研磨该第二面时，防止所述板状体的周围的所述背垫的由所述研磨垫的按压力引起的隆起。

7.如权利要求6所述的板状体的研磨方法，其中，

通过所述背垫吸附保持多张所述板状体各自的所述第一面，在吸附保持的所述板状体连续搬运的搬运路上设置多个所述研磨垫，将所述研磨垫按压于多张所述板状体各自的所述第二面，并依次研磨所述第二面，该情况下，

在连续搬运的所述板状体间的周围或周围的局部配置所述辅助板，

防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止所述研磨垫在所述板状体间的转移不良。

8.如权利要求6所述的板状体的研磨方法，其中，

通过所述背垫吸附保持一张或两张以上所述板状体的所述第一面，以与被吸附保持的所述板状体的所述第二面相对的方式设置一个所述研磨垫，将该研磨垫按压于所述板状体的所述第二面，并研磨该第二面，该情况下，

在所述板状体的周围或周围的局部配置所述辅助板，防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起，并防止对所述板状体施加的研磨压力的偏重。

9.如权利要求6～8中任一项中所述的板状体的研磨方法，其中，

所述辅助板在与所述研磨垫相对的面上具备修整部件。

10.如权利要求6～9中任一项中所述的板状体的研磨方法，其中，

所述辅助板的材质为超高分子量聚乙烯、不锈钢、氟树脂或玻璃环氧树脂。

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