CN102790183A - 一种柔性有机发光二极管及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于光电子器件领域,其公开了一种柔性有机发光二极管及其制备方法,该柔性有机发光二极管为层状结构,其结构依次为:衬底/阳极层/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极层;其特征在于,在所述衬底与阳极层之间,还制备有一层缓冲层;所述阳极层为多层复合结构。本发明提供的柔性有机发光二极管通过插入缓冲层,加强了阳极与衬底之间的结合力,使得制作的柔性有机发光二极管,挠曲性能好,发光性能稳定,发光效率高。
Description
技术领域
本发明涉及光电子器件领域,尤其涉及一种柔性有机发光二极管。本发明还涉及该柔性有机发光二极管的制备方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emission Diode),以下简称OLED,具有亮度高、材料选择范围宽、驱动电压低、全固化主动发光等特性,同时拥有高清晰、广视角,以及响应速度快等优势,符合信息时代移动通信和信息显示的发展趋势,以及绿色照明技术的要求,是目前国内外众多研究者的关注重点。
在现有技术的OLED器件中,使用玻璃衬底制作的OLED器件不具备弯曲的特点,而且玻璃易碎,对发光器件的应用造成了影响。采用柔性材料作为衬底的OLED器件,比玻璃衬底的OLED具有更轻薄、更耐冲击的优点。并且柔性OLED的制备可以采用卷对卷方式生产,从而大幅地降低制造成本。目前柔性显示衬底主要有超薄玻璃,聚合物薄膜、金属薄片等。
通常采用聚合物薄膜作为衬底制作的阳极,是在其表面通过溅射工艺覆盖一层透明导电薄膜如ITO,IZO等材料,然而这些导电薄膜在柔性OLED的应用上也存在诸多难以克服的问题。例如在制备ITO薄膜的过程中,各种元素如铟(In),(Sn)的掺杂比例组成不易控制,导致ITO薄膜的形貌,载流子和传输性能难以控制,从而导致发光器件的性能不稳定。其次,在柔性衬底上制备ITO等导电薄膜时,由于聚合物薄膜的耐热性能不佳,制备导电薄膜通常采用低温溅射技术,所制备的导电薄膜表面电阻高,薄膜与衬底的结合力不强,使得柔性OLED在反复弯曲的过程中容易发生导电薄膜从衬底脱落的情况,影响OLED发光装置的发光稳定性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种挠曲性能好、发光性能稳定,且发光效率高的柔性有机发光二极管。
本发明的技术方案:
一种柔性有机发光二极管,该柔性有机发光二极管为层状结构,该层状结构依次为:衬底/阳极层/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极层;其中,在所述衬底与阳极层之间,还制备有一层缓冲层;所述阳极为多层复合结构,该多层复合结构为:A/Sm/B的多层复合结构,其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5。
本发明提供的柔性有机发光二极管,其采用的衬底材料为聚合物薄膜,如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),聚醚砜(PES),聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN),透明聚酰亚胺(PI)环烯烃共聚物(COC),聚碳酸酯(PC),聚乙烯(PE)等材料,所选材料在可见光的透过率>80%,厚度可选自0.1-0.5mm之间。
位于衬底上的缓冲层是采用UV胶制作而成,缓冲层的厚度可以为0.5-10μm。
本发明提供的柔性有机发光二极管,阳极的多层复合结构全部采用蒸镀工艺制备。具体地,A层,即ZnS或ZnSe层的厚度选自40-80nm,Sm层的厚度选择18-25nm,B层,即WO3或V2O5层的厚度选自3-10nm。该多层复合结构,利用了热镜中的增透原理,因此制备的阳极层在可见光透过率高,同时表面电阻较低。
本发明提供的柔性有机发光二极管,空穴注入层的材料为酞菁铜(CuPc)或4,4′,4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基-氨基)-三苯基胺(m-MTDATA),该空穴注入层的厚度为30-40nm;
所述空穴传输层的材料为N,N’-二(3-甲基苯基)-N,N’-二苯基-4,4’-联苯二胺(TPD)、1,3,5-三苯基苯(TDAPB)或N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺(NPB)中的任一种;该空穴传输层的厚度为30-80nm;
所述发光层的材料为4,4′-二(9-咔唑)联苯(CBP)掺杂三(2-苯基吡啶)合铱(Ir(ppy)3),即Ir(ppy)3:CBP;该发光层的厚度为15-40nm;
所述电子传输层的材料为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉(Bphen)、8-羟基喹啉铝(Alq3)、2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基)苯基-1,3,4-噁二唑(PBD)、1,2,4-三唑衍生物(如TAZ等)或1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi);该电子传输层的厚度为20-60nm;
所述电子注入层的材料优选为氟化锂(LiF)或氟化铯(CsF);该电子注入层的厚度为0.5-2nm;
所述阴极层的材料优选为Al、Ag或Mg-Ag合金层,该阴极层厚度为100-200nm。
本发明还提供一种上述柔性有机发光二极管的制作方法,其包括以下步骤:
1、将聚合物薄膜衬底放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干,备用;其中,聚合物薄膜包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),聚醚砜(PES),聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN),透明聚酰亚胺(PI)环烯烃共聚物(COC),聚碳酸酯(PC)或聚乙烯(PE)等材料;
2、将清洗干净的聚合物薄膜置入匀胶机上,将UV胶旋涂在聚合物薄膜表面,然后采用UV灯或紫外灯进行固化,形成一层缓冲层;其中,匀胶机的转速在1000-5000转/分,匀胶时间30-120秒;
3、利用真空镀膜的方法,依次在缓冲层表面蒸镀多层复合结构的阳极层,其中,该多层复合结构依次为:A/Sm/B的多层复合结构,其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5;
4、利用真空蒸镀的方法在阳极层上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层;最后制得柔性有机发光二极管。
本发明采用真空镀膜技术,制备的A/Sm/B(其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5)多层复合结构作为阳极层,其制作过程简单,对衬底的破坏小,且该阳极层透光性能好,表面电阻低;同时,通过插入缓冲层,加强了阳极与衬底之间的结合力,使得制作的柔性有机发光二极管,挠曲性能好,发光性能稳定,发光效率高。
附图说明
图1为本发明柔性有机发光二极管的结构示意图;其中,
101衬底、102缓冲层、103阳极、104空穴注入层、105空穴传输层、106发光层、107电子传输层、108电子注入层、109阴极;
图2为本发明柔性有机发光二极管的制备工艺流程图;
图3为实施例2制作的ZnS/Sm/V2O5阳极层和对比例1以ITO为阳极层的透过率曲线;
图4为实施例2和对比例1制作的发光装置的电流-电压曲线。
具体实施方式
本发明提供的一种柔性有机发光二极管,如图1所示,该柔性有机发光二极管为层状结构,该层状结构依次为:衬底101/缓冲层102/阳极层103/空穴注入层104/空穴传输层105/发光层106/电子传输层107/电子注入层108/阴极层109;其中,阳极层为多层复合结构,该多层复合结构为:A103a/Sm 103b/B 103c;其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5。
本发明提供的有机发光二极管器件,其采用的衬底材料为聚合物薄膜,如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),聚醚砜(PES),聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN),透明聚酰亚胺(PI)环烯烃共聚物(COC),聚碳酸酯(PC),聚乙烯(PE)等材料,所选材料在可见光的透过率>80%,厚度可选自0.1-0.5mm之间。
位于衬底上的缓冲层是采用UV胶制作而成,缓冲层的厚度可以为0.5-10μm。
本发明提供的柔性有机发光二极管,阳极的多层复合结构全部采用蒸镀工艺制备。具体地,A层,即ZnS或ZnSe层的厚度选自40-80nm,Sm层的厚度选择18-25nm,B层,即WO3或V2O5层的厚度选自3-10nm。该多层复合结构,利用了热镜中的增透原理,因此制备的阳极层在可见光透过率高,同时表面电阻较低。
本发明提供的柔性有机发光二极管,其各功能层,如:
空穴注入层的材料为酞菁铜(CuPc)、4,4′,4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基-氨基)-三苯基胺(m-MTDATA),该空穴注入层的厚度为30-40nm;
所述空穴传输层的材料为N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺(NPB)、N,N’-二(3-甲基苯基)-N,N’-二苯基-4,4’-联苯二胺(TPD)、1,3,5-三苯基苯(TDAPB),该空穴传输层的厚度为30-80nm;
所述发光层的材料为4,4′-二(9-咔唑)联苯(CBP)掺杂三(2-苯基吡啶)合铱(Ir(ppy)3),即Ir(ppy)3:CBP;该发光层的厚度为15-40nm;
所述电子传输层的材料为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉(Bphen)、8-羟基喹啉铝(Alq3)、2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基)苯基-1,3,4-噁二唑(PBD)、1,2,4-三唑衍生物(如TAZ等)或1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi),该电子传输层的厚度为20-60nm;
所述电子注入层的材料优选为氟化锂(LiF)或氟化铯(CsF);该电子注入层的厚度为0.5-2nm;
所述阴极层的材料优选为Al、Ag或Mg-Ag合金层,该阴极层厚度为100-200nm。
本发明还提供一种上述柔性有机发光二极管的制作方法,如图2所示,其包括以下步骤:
S1、将衬底(即聚合物薄膜)放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干,备用;其中,聚合物薄膜包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),聚醚砜(PES),聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN),透明聚酰亚胺(PI)环烯烃共聚物(COC),聚碳酸酯(PC)或聚乙烯(PE)等材料;
S2、将清洗干净的聚合物薄膜置入匀胶机上,将UV胶旋涂在聚合物薄膜表面,然后采用UV灯或紫外灯进行固化,形成一层缓冲层;其中,匀胶机的转速在1000-5000转/分,匀胶时间30-120秒;
S3、利用真空镀膜的方法,依次在缓冲层表面蒸镀多层复合结构的阳极层,其中,该多层复合结构依次为:A/Sm/B的多层复合结构,其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5;
S4、利用真空蒸镀的方法在阳极层上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层;最后制得柔性有机发光二极管。
本发明采用真空镀膜技术,制备的A/Sm/B(其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5)多层复合结构作为阳极层,其制作过程简单,对衬底的破坏小,且该阳极层透光性能好,表面电阻低;同时,通过插入缓冲层,加强了阳极与衬底之间的结合力,使得制作的柔性有机发光二极管,挠曲性能好,发光性能稳定,发光效率高。
下面结合附图,对本发明的较佳实施例作进一步详细说明。
实施例1
一种柔性有机发光二极管,为层状结构,该层状结构的依次为:PET/UV胶/ZnS/Sm/WO3/m-MTDATA/NPB/Ir(ppy)3:CBP/TPBi/LiF/Mg-Ag。
该柔性有机发光二极管的制备工艺如下:
首先,将厚度为0.1mm的PEN薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干;
接着,将PEN薄膜放置在匀胶机上,启动匀胶机,且该匀胶机的转速在1000转/分,在PEN薄膜表面旋涂一层厚度为0.5μm UV胶作为平整层,匀胶时间120秒后,采用UV灯固化,形成缓冲层;
随后,在真空度为5×10-4Pa的镀膜系统中,在缓冲层表面依次蒸镀厚度为40nm的ZnS层,厚度为18nm的Sm层,厚度为10nm的WO3层,形成阳极层;
最后,依次在WO3层上面蒸镀空穴注入层、空穴传输、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层,且厚度依次为35nm、30nm、40nm、20nm、0.5nm以及150nm。
实施例2
一种柔性有机发光二极管,为层状结构,该层状结构的依次为:PET/UV胶/ZnS/Sm/V2O5/CuPc/TPD/Ir(ppy)3:CBP/Bphen/CsF/Ag。
该柔性有机发光二极管的制备工艺如下:
首先,将厚度为0.175mm的PET薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干;
其次,将PET薄膜放置在匀胶机上,启动匀胶机,且该匀胶机的转速在5000转/分,在PEN薄膜表面旋涂一层厚度为5μm UV胶作为平整层,匀胶时间30秒后,采用UV灯固化,形成缓冲层;
随后,在真空度为5×10-4Pa的镀膜系统中,在缓冲层表面依次蒸镀厚度为45nm的ZnS层,厚度为20nm的Sm层,厚度为5nm的V2O5层,形成阳极层;
最后,依次在V2O5层上面蒸镀空穴注入层(CuPc)、空穴传输(TPD)、发光层(Ir(ppy)3:CBP)、电子传输层(Bphen)、电子注入层(CsF)和阴极层(Ag),且厚度依次为30nm、80nm、15nm、60nm、1nm以及100nm。
实施例3
一种柔性有机发光二极管,为层状结构,该层状结构的依次为:PES/UV胶/ZnSe/Sm/WO3/m-MTDATA/TDAPB/Ir(ppy)3:CBP/Alq3/LiF/Al。
该柔性有机发光二极管的制备工艺如下:
首先,将厚度为0.2mm的PES薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干;
接着,将PES薄膜放置在匀胶机上,启动匀胶机,且该匀胶机的转速在4000转/分,在PEN薄膜表面旋涂一层厚度为1μm UV胶作为平整层,匀胶时间70秒后,采用UV灯固化,形成缓冲层;
随后,在真空度为5×10-4Pa的镀膜系统中,在缓冲层表面依次蒸镀厚度为80nm ZnSe层,厚度为25nm的Sm层,厚度为3nm的WO3层,形成阳极层;
最后,依次在WO3层上面蒸镀空穴注入层(m-MTDATA)、空穴传输(TDAPB)、发光层(Ir(ppy)3:CBP)、电子传输层(Alq3)、电子注入层(LiF)和阴极层(Al),且厚度依次为40nm、60nm、40nm、40nm、2nm以及200nm。
实施例4
一种柔性有机发光二极管,为层状结构,该层状结构的依次为:COC/UV胶/ZnS/Sm/WO3/m-MTDATA/NPB/Ir(ppy)3:CBP/PBD/LiF/Mg-Ag。
该柔性有机发光二极管的制备工艺如下:
首先,将厚度为0.5mm的COC薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干;
接着,将COC薄膜放置在匀胶机上,启动匀胶机,且该匀胶机的转速在3000转/分,在PEN薄膜表面旋涂一层厚度为10μm UV胶作为平整层,匀胶时间80秒后,采用UV灯固化,形成缓冲层;
随后,在真空度为5×10-4Pa的镀膜系统中,在其表面依次蒸镀厚度为60nm ZnS层,厚度为25nm的Sm层,厚度为6nm的WO3层,形成阳极层;
最后,依次在WO3层上面蒸镀空穴注入层(m-MTDATA)、空穴传输(NPB)、发光层(Ir(ppy)3:CBP)、电子传输层(PBD)、电子注入层(LiF)和阴极层(Al),且厚度依次为38nm、70nm、25nm、50nm、1.5nm以及120nm。
实施例5
一种柔性有机发光二极管,为层状结构,该层状结构的依次为:PC/UV胶/ZnS/Sm/WO3/m-MTDATA/NPB/Ir(ppy)3:CBP/TAZ/LiF/Mg-Ag。
该柔性有机发光二极管的制备工艺如下:
首先,将厚度为0.4mm的PC薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干;
接着,将PC薄膜放置在匀胶机上,启动匀胶机,且该匀胶机的转速在2000转/分,在PEN薄膜表面旋涂一层厚度为7μm UV胶作为平整层,匀胶时间50秒后,采用UV灯固化,形成缓冲层;
随后,在真空度为5×10-4Pa的镀膜系统中,在缓冲层表面依次蒸镀厚度为70nm ZnS层,厚度为20nm的Sm层,厚度为8nm的WO3层;
最后,依次在WO3层上面蒸镀空穴注入层(m-MTDATA)、空穴传输(NPB)、发光层(Ir(ppy)3:CBP)、电子传输层(TAZ)、电子注入层(LiF)和阴极层(Al),且厚度依次为30nm、50mm、25nm、30nm、1.5nm以及180nm。
实施例6
一种柔性有机发光二极管,为层状结构,该层状结构的依次为:PE/UV胶/ZnSe/Sm/V2O5/m-MTDATA/NPB/Ir(ppy)3:CBP/TPBi/LiF/Mg-Ag。
该柔性有机发光二极管的制备工艺如下:
首先,将厚度为0.3mm的PE薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干;
接着,将PE薄膜放置在匀胶机上,启动匀胶机,且该匀胶机的转速在4000转/分,在PEN薄膜表面旋涂一层厚度为3μm UV胶作为平整层,匀胶时间100秒后,采用UV灯固化,形成缓冲层;
随后,在真空度为5×10-4pa的镀膜系统中,在缓冲层表面依次蒸镀厚度为45nm ZnSe层,厚度为22nm的Sm层,厚度为4nm的V2O5层;
最后,依次在WO3层上面蒸镀空穴注入层(m-MTDATA)、空穴传输(NPB)、发光层(Ir(ppy)3:CBP)、电子传输层(TAZ)、电子注入层(LiF)和阴极层(Al),且厚度依次为30nm、50nm、25nm、30nm、1.5nm以及180nm。
对比例1
一种有机发光二极管器件,为层状结构,该层状结构的依次为:PET/ITO/m-MTDATA/NPB/Ir(ppy)3:CBP/TPBi/LiF/Mg-Ag;其中,该器件中没有缓冲层,且阳极层为ITO(氧化铟锡)导电层,其他各功能层与实施例2一样。
该有机发光二极管器件的制备工艺如下:
将厚度为0.175mm的PET薄膜放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗,用去离子水清洗干净后依次用异丙醇,丙酮在超声波中处理,然后在用氮气吹干。采用磁控溅射系统,PET薄膜表面溅射制备一层厚度为120nm的ITO(氧化铟锡)导电薄膜,然后在真空度为5×10-4Pa的镀膜系统中,在其表面依次蒸镀穴注入层(m-MTDATA),空穴传输(NPB),发光层(Ir(ppy)3:CBP),电子传输层(TPBi),电子注入层(LiF)和阴极层(Mg-Ag)。
对比例2
一种有机发光二极管器件,为层状结构,该层状结构的依次为:PET/Ag/m-MTDATA/NPB/Ir(ppy)3:CBP/TPBi/LiF/Mg-Ag;其中,该器件中没有缓冲层,且阳极层为Ag层,其他各功能层与实施例2一样。
将厚度为0.175mm的PET薄膜按上述方法清洁后,在PET薄膜表面蒸镀制备一层厚度为20nm的Ag层,然后同实施例2,在其表面依次蒸镀穴注入层,空穴传输层,发光层,电子传输层,电子注入层和阴极。
表1
阳极层 | 阳极层厚度(nm) | 透过率 | 方块电阻Ω/□ | |
实施例1 | ZnS/Sm/WO3 | 40/18/10 | 83.5% | 8 |
实施例2 | ZnS/Sm/V2O5 | 45/20/5 | 85.8% | 8 |
实施例3 | ZnSe/Sm/V2O5 | 80/30/3 | 79.6% | 5 |
对比例1 | ITO | 120 | 84.2% | 56 |
对比例2 | Ag | 20 | 65.7% | 16 |
注:表1中,透过率为阳极层对可见光的透过率,方块电阻为阳极层的方块电阻。
由表1可知,本发明实施例1,2,3制作的阳极具有很好透过率,透过率均优于单一的Ag阳极。其中实施例2制作的ZnS/Sm/V2O5阳极在可见光的透过率达到了85.8%,高于对比例1制作的ITO阳极的透过率。
由图3可知,实施例2中制作的ZnS/Sm/V2O5阳极与衬底有很好的结合力,在经过反复弯折后,发光性能比较稳定,而ITO阳极在反复弯曲后容易从衬底脱落,导致发光性能下降。
由图4可知,实施例2中制作的ZnS/Sm/V2O5阳极具有良好的空穴注入性能,所制作的器件的载流子注入性能与以ITO作为阳极制作的器件相似,因此可以得到较好的电致发光效果。
应当理解的是,上述针对本发明较佳实施例的表述较为详细,并不能因此而认为是对本发明专利保护范围的限制,本发明的专利保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种柔性有机发光二极管,该二极管为层状结构,该层状结构依次为:衬底/阳极层/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极层;其特征在于,在所述衬底与阳极层之间,还制备有一层缓冲层;所述阳极层为多层复合结构,该多层复合结构依次为:A/Sm/B的多层复合结构,其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3或V2O5。
2.根据权利要求1所述的柔性有机发光二极管,其特征在于,所述衬底材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚萘二甲酸乙二醇酯、透明聚酰亚胺环烯烃共聚物、聚碳酸酯或聚乙烯中的任一种。
3.根据权利要求1所述的柔性有机发光二极管,其特征在于,所述阴极层的材料为Al、Ag或Mg-Ag合金层。
4.根据权利要求1所述的柔性有机发光二极管,其特征在于,所述缓冲层为UV胶。
5.根据权利要求1所述的柔性有机发光二极管,其特征在于,所述空穴注入层的材料为酞菁铜或4,4′,4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基-氨基)-三苯基胺;
所述空穴传输层的材料为N,N’-二(3-甲基苯基)-N,N’-二苯基-4,4’-联苯二胺(TPD)、1,3,5-三苯基苯或N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺中的任一种;
所述发光层的材料为4,4′-二(9-咔唑)联苯掺杂三(2-苯基吡啶)合铱;
所述电子传输层的材料为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉、8-羟基喹啉铝、2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基)苯基-1,3,4-噁二唑、1,2,4-三唑衍生物或1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中的任一种;
所述电子注入层的材料为LiF或CsF。
6.一种柔性有机发光二极管的制备方法,包括如下步骤:
首先,清洗、干燥衬底;
其次,在衬底的表面制备一层缓冲层;
接着,在所述缓冲层表面蒸镀多层复合结构的阳极层,其中,该多层复合结构依次为:A/Sm/B的多层复合结构,其中,A为ZnS或ZnSe,B为WO3,或V2O5;
最后,在所述阳极层上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极层;完后,制得所述柔性有机发光二极管。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述衬底的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚萘二甲酸乙二醇酯、透明聚酰亚胺环烯烃共聚物、聚碳酸酯或聚乙烯中的任一种。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述阴极层的材料为Al、Ag或Mg-Ag合金层。
9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述缓冲层为UV胶。
10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述空穴注入层的材料为酞菁铜或4,4′,4″-三(N-3-甲基苯基-N-苯基-氨基)-三苯基胺;
所述空穴传输层的材料为、N,N’-二(3-甲基苯基)-N,N’-二苯基-4,4’-联苯二胺、1,3,5-三苯基苯或N,N′-二苯基-N,N′-二(1-萘基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺中的任一种;
所述发光层的材料为4,4′-二(9-咔唑)联苯掺杂三(2-苯基吡啶)合铱;
所述电子传输层的材料为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉、8-羟基喹啉铝、2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基)苯基-1,3,4-噁二唑、1,2,4-三唑衍生物或1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯中的任一种;
所述电子注入层的材料为LiF或CsF。
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