CN102768450B - Kbbf族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件及制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件及制法，其由：具有二光滑表面的KBBF族晶体；分别蒸镀于KBBF族晶体二光滑表面上的过渡层；及分别光胶于被激活后的二过渡层上的棱镜组成；或由：具有二光滑表面的KBBF族晶体；一对分别具有一光滑表面的棱镜；分别蒸镀于KBBF族晶体二光滑表面上的第一过渡层；分别蒸镀于该对棱镜光滑表面上的第二过渡层；第一过渡层分别与第二过渡层光胶键合成一体组成；优点是KBBF族晶体与棱镜耦合之间耦合是通过过渡层光胶，属于同种材质光胶，属于强化光胶，胶合区无空洞，胶合强度得以大大提高；且工艺简单、成本低，可用于激光光学元器件，提高器件性能和抗光损伤阈值。

Description

KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件及制备方法
技术领域
本发明涉及光学耦合器件及制备方法，特别涉及一种KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件及制备方法。
背景技术
光学系统经常需要将两个或多个光学元件结合到一起，一般有如下三种方法，光学胶粘接、直接光胶和键合。光学胶粘接是用光学胶粘接两个镜面抛光的表面，这种技术简单易行，可以粘接非同种光学材料，但缺点是任何中间粘结物会给表面带来瑕渍，影响元件的质量；再者很难找到和光学元件折射率完全一致的光学胶，特别在两个光学元件为非同种光学材料是尤为如此，光线经由元件和胶体界面时不可避免地要发生菲涅耳反射，损失光通量；最后，光学胶结合力不够牢固，特别是在激光系统中应用时容易受热，导致光学胶软化、变形甚至开裂，在较强激光功率作用下，光学胶易产生光损伤，影响使用。
第二个方法是将两个元件直接光胶，这是通过超光滑表面粘结光学元件的一项技术，称为“光胶”，而其实并没有用到任何实际的胶。其原理是两个足够光滑的表面可以相距很近，其分子会紧紧相邻，相互之间的距离很小，由于电磁作用而相互吸引。表面越是光滑，分子间的距离越小，这种吸引力就越大，这种分子相互吸引的合力甚至比第一种方法光学胶的粘结力还要大。光胶对同类光学材料的结合非常适用，但是若两个光学元件属于非同种光学材料，由于热膨胀系数的不同，在受热时会产生不一致的膨胀，导致两个元件分离，这在高功率激光系统中尤为常见。故光胶一般只能用于小功率激光系统，例如目前通用的激光晶体(Nd:YVO4)和非线性倍频晶体KTP通过光胶形式制成的532nm绿光激光器晶体组件，在500mW的LD泵浦下能产生70mW以上的绿光。
第三种是高温键合，适用于同类光学材料的结合，其方法是在普通光胶的基础上进行高温热处理，让两个光学元件靠近界面处发生原子的高温扩散，增强结合力。这种方法一般只能用于同类光学材料之间，例如在掺杂YAG晶体激光棒两端光胶不掺杂的YAG晶体，经过高温处理完成键合，达到改善激光棒热性能的目的。
KBBF族晶体是目前唯一可通过直接倍频方法实现深紫外谐波光输出的非线性光学材料。为解决层状结构的KBBF族晶体难以按倍频相位匹配方向切割的难题，一种非线性光学晶体光接触棱镜耦合技术(PCT)及其装置已经发明(ZL 01115313.X；US 6,859,305B2；日本专利4074124)，解决了使该种晶体实现了高效、高光束质量和宽调谐等实用化、精密化深紫外倍频功能。
目前光学加工领域内，KBBF族晶体棱镜耦合器件中，KBBF族晶体和氟化钙晶体棱镜或石英玻璃棱镜通过普通光胶耦合，由于是非同种材料，结合力不够强，而且界面两边材料的热膨胀系数等热性能不一样，在受热时会产生不一致的膨胀，导致两个光学元件分离或界面损坏。特别是在高功率激光系统中，激光功率大，持续时间长，界面处不易散热，温度过高，常常在界面处先造成损坏，轻者影响激光光束质量，重者导致两个界面脱离，期间作废。另外对于KBBF族晶体和KBBF族晶体之间也往往采用光胶结合增加通光长度。由于KBBF族晶体组成复杂，原子种类较多，因而具有复杂的热性能，我们称之为可光胶性不强。在高功率激光系统中，同样会在界面处先造成损坏，严重的可导致两个界面脱离。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有KBBF族晶体棱镜耦合器件中KBBF族晶体和光学晶体或光学玻璃光胶时结合力不够的问题，而提供一种KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件及制备方法。器件中的KBBF族晶体与棱镜耦合之间耦合是通过过渡层光胶，属于同种材质光胶，属于强化光胶，胶合区无空洞，胶合强度得以大大提高；且工艺简单、成本低，可用于激光光学元器件，提高器件性能和抗光损伤阈值。
本发明提供的技术方案如下：
本发明提供的一种KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其由：
具有二光滑表面的KBBF族晶体；
分别蒸镀于所述KBBF族晶体的该二光滑表面上的过渡层；及
分别光胶于被激活后的所述二过渡层上的棱镜组成；
所述过渡层厚度为200nm-1000nm，其材质与棱镜材质相同；
所述KBBF族晶体的二光滑表面为晶体的结晶学c面；
所述KBBF族晶体的光滑表面的表面粗糙度Ra小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
所述的KBBF族晶体为一块KBBF族晶体或为由多块KBBF族晶体通过过镀层薄膜光胶组合而成的多KBBF族晶体组合体；所述过镀层薄膜为不同于所述KBBF族晶体材质的膜层。
上述KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其步骤如下：
1)首先，将一块KBBF族晶体的二欲光胶表面和二棱镜的欲光胶表面进行超光滑精密光学抛光，使欲光胶表面达到表面粗糙度Ra均小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
之后，在KBBF族晶体的经超光滑精密光学抛光的二欲光胶表面上分别蒸镀一过渡层；该过渡层厚度为200nm-1000nm，其材质与棱镜材质相同；所述过镀层薄膜为氟化钙膜层或二氧化硅膜层。
2)将蒸镀于KBBF族晶体上的二过渡层激活；
3)将蒸镀于所述KBBF族晶体上的过渡层与所述棱镜欲光胶表面进行光胶，并进行高温热处理，以达到KBBF族晶体和棱镜之间的深度键合，得到KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件；
所述的高温热处理为在50℃～600℃下处理1～120小时，热处理气氛为大气气氛，惰性气气氛，还原气气氛或氧化气气氛。
所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。
所述的棱镜为光学晶体棱镜或光学玻璃棱镜。所述的光学晶体棱镜为CaF2棱镜；所述的光学玻璃棱镜为石英玻璃棱镜。所述过镀层为氟化钙膜层或二氧化硅膜层。所述的蒸镀方法为化学气相沉积、物理气相沉积或溅射沉积方法。所述激活方法为等离子激活或机械抛光激活。
本发明提供的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，还可由：
具有二光滑表面的KBBF族晶体；
一对分别具有一光滑表面的棱镜；
分别蒸镀于所述KBBF族晶体的二光滑表面上的第一过渡层；
分别蒸镀于该对棱镜光滑表面上的第二过渡层；
所述KBBF族晶体的二光滑表面上的第一过渡层分别与所述二棱镜上的第二过渡层光胶键合成一体组成；
所述第一过渡层和第二过渡层厚度为200nm-1000nm，其材质为不同于KBBF族晶体材质及棱镜材质的同种第三种光学物质。所述同种第三种光学物质为二氧化硅SiO2。
所述KBBF族晶体的二光滑表面为晶体c面；
所述KBBF族晶体和棱镜的光滑表面的表面粗糙度Ra小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
所述的KBBF族晶体为一块KBBF族晶体或为由多块KBBF族晶体通过过镀层薄膜光胶组合而成的多KBBF族晶体组合体；所述过镀层薄膜材质为不同于所述KBBF族晶体材质的光学物质。
所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。
所述的棱镜为光学晶体棱镜或光学玻璃棱镜。所述的光学晶体棱镜为CaF2棱镜；所述的光学玻璃棱镜为石英玻璃棱镜。所述过镀层为氟化钙膜层或二氧化硅膜层。
上述KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其步骤如下：
1)首先，将一块KBBF族晶体的二欲光胶表面和二块棱镜的欲光胶表面进行超光滑精密光学抛光，使欲光胶表面达到表面粗糙度Ra均小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
之后，在所述KBBF族晶体的经超光滑精密光学抛光的二欲光胶表面上分别蒸镀一层第一过渡层；在所述二块棱镜的欲光胶表面上分别蒸镀一层第二过渡层；
所述第一过渡层和第二过渡层厚度为200nm-1000nm材质，其材质为不同于KBBF族晶体材质及棱镜材质的同种第三种物质；所述同种第三种物质为二氧化硅。
3)激活第一过渡层和第二过渡层；
4)将蒸镀于所述KBBF族晶体上的一第一过渡层与所述一块棱镜欲光胶表面上的第二过渡层进行光胶；将蒸镀于所述KBBF族晶体上的另一第一过渡层与所述另一块棱镜欲光胶表面上的第二过渡层进行光胶，再进行高温热处理，以达到KBBF族晶体和棱镜之间的深度键合，得到KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件；
所述的高温热处理为在50℃～600℃下处理1～120小时，热处理气氛为大气气氛，惰性气气氛，还原气气氛或氧化气气氛。
所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。所述的棱镜为光学晶体棱镜或光学玻璃棱镜。所述的光学晶体棱镜为CaF2棱镜；所述的光学玻璃棱镜为石英玻璃棱镜。所述的蒸镀方法为化学气相沉积、物理气相沉积或溅射沉积方法。所述激活方法为等离子激活或机械抛光激活。所述同种第三种物质为二氧化硅。
本发明将于KBBF族晶体与棱镜通过过渡层光胶进行耦合，这种过渡层光胶属于两个同种材质的光学元件的光胶，具有较强的可光胶性，故此时的光胶结合力较两KBBF族晶体直接光胶为强。
以上光胶与通常的光胶工艺类似，必须保持高度的清洁，并按照一定的步骤进行：彻底清洁两个欲光胶的表面，包括清除残余抛光粉，在显微镜照明器的照明下用干净的毛巾或鹿皮揩去两个欲光胶的表面所有的纤维丝，或者用静电式万能毛刷清除可能带电荷的零件吸附的纤维丝；在表面上用哈气检验要达到的干净程度，呈灰色表面则表明已经清洁；将揩干净的两个欲光胶的表面在单色光下再检验一次，然后将两个表面轻轻接触，就会自动光胶上，如果观察不到条纹或条纹过多，说明光学表面上有纤维丝或尘埃，应用静电刷再刷一下重新光胶。如果光胶是理想的，所有扩展后的条纹应呈灰色。整个工艺流程最好有一间清洁的工作室，配以超净工作台。
光胶后视情况需要，进行高温热处理进一步强化KBBF族晶体与棱镜通过过渡层之间的结合力。本发明的方法和通常的同种材料的键合类似，将光胶后的结合体，放入烘箱或高温炉中进行热处理，然后缓慢降温即可实现键合；炉膛气氛可以是大气气氛，惰性气气氛，还原气气氛或氧化气气氛。
本发明的提供的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件及制备方法，所采用的过渡层光胶可以称作名副其实“深度光胶”，其优点是对于KBBF族晶体和其它光学晶体或光学玻璃，或KBBF族晶体和KBBF族晶体，实现强化光胶，胶合区无空洞，胶合强度比普通光胶大大提高；而且工艺简单、成本低，可用于激光光学元器件，降低热效应，提高器件性能和抗光损伤阈值。
附图说明
图1至图3分别为一种KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的结构示意图；
图4为二块KBBF族晶体通过过渡层光胶而成的二块KBBF族晶体组合体。
具体实施方式
实施例1：制备一KBBF-氟化钙(CaF2)晶体棱镜耦合器件：
KBBF-氟化钙(CaF2)晶体棱镜耦合器件结构和图1所示；其制备步骤：
首先，将一块KBBF晶体的二欲光胶表面和二块CaF2棱镜的欲光胶表面进行超光滑精密光学抛光，使欲光胶表面达到表面粗糙度Ra均小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
在KBBF晶体的二欲光胶表面上各镀制一层CaF2薄膜；此器件用于177.3nm相干光输出，CaF2薄膜膜层厚度在200nm-250nm范围均可；CaF2薄膜是用电子束蒸发的方式蒸镀，并辅以离子束辅助；镀制完毕的KBBF晶体上的两个CaF2薄膜经过机械抛光后将镀层激活，然后将两个CaF2薄膜分别与氟化钙晶体(成分为CaF2)棱镜光胶；光胶后的KBBF-氟化钙(CaF2)晶体棱镜耦合器件两端用夹具施以一定大小的力夹紧，然后放置烘箱中加热，高温热处理温度为50℃，热处理时间为120小时，热处理气氛为大气气氛；经一段时候加热后，本实施例的KBBF-氟化钙(CaF2)晶体棱镜耦合器件通过深度光胶完成。
实施例2：制备一KBBF-石英(SiO2)棱镜耦合器件的制备
该实施例的KBBF-石英(SiO2)棱镜耦合器件结构如图2所示；其制备与实施例1基本相同，所不同的是镀制的过渡层为SiO2薄膜；此器件用于193nm相干光输出，膜层厚度范围：300nm-320nm。两SiO2薄膜是用电子束蒸发的方式蒸镀，并辅以离子束辅助；镀制完毕后KBBF晶体上的两个SiO2薄膜经过机械抛光后将镀层激活，然后与石英玻璃(成分为SiO2)棱镜光胶；光胶后的组合晶体器件两端用夹具施以一定大小的力夹紧，然后放置烘箱中加热，高温热处理温度为100℃，热处理时间为80小时，热处理气氛为氩气(Ar)气氛。经一段时候加热后，本实施例的KBBF-石英(SiO2)棱镜耦合器件通过深度光胶完成。
实施例3：制备一KBBF-氟化钙(CaF2)/石英(SiO2)棱镜耦合器件
本实施例的KBBF-氟化钙(CaF2)/石英(SiO2)棱镜耦合器件的结构如图3所示，其制备与实施例1不同的是：KBBF一表面镀制的过渡层为CaF2薄膜，另一表面镀制的过渡层为SiO2薄膜；此器件用于177.3nm相干光输出，CaF2薄膜厚度为：500-550nm；SiO2薄膜：600-700nm。CaF2薄膜和SiO2薄膜均是用电子束蒸发的方式蒸镀，并辅以离子束辅助；镀制完毕的KBBF晶体上的CaF2薄膜和SiO2薄膜经过等离子体激活，然后CaF2薄膜与氟化钙(CaF2)晶体棱镜光，SiO2薄膜与石英玻璃(成分为SiO2)棱镜光胶，光胶后的组合晶体器件两端用夹具施以一定大小的力夹紧，然后放置电阻炉中加热，温度为300℃，热处理时间为50小时。热处理为氧化气氛，其组成为含氧气(O2)40％、含氮气(N2)60％的混合气。经加热后，KBBF-氟化钙(CaF2)/石英(SiO2)棱镜耦合器件通过深度光胶完成。
实施例4：RBBF-氟化钙(CaF2)棱镜耦合器件的深度光胶
RBBF棱镜耦合器件的结构和图1类似。在RBBF晶体的前后表面各镀制一定厚度的CaF2薄膜；此器件用于175nm～2230nm的可调谐相干光输出，膜层厚度范围：700-760nm。CaF2薄膜是用电子束蒸发的方式蒸镀，并辅以离子束辅助；镀制完毕的KBBF晶体上的两CaF2薄膜经过抛光后被激活，然后分别与氟化钙(成分为CaF2)棱镜光胶；光胶后的组合晶体器件两端用夹具施以一定大小的力夹紧，然后放置电阻炉中加热，温度为400℃，热处理时间为30小时。热处理气氛为还原气氛，其组成为含氢气(H2)6％、含氮气(N2)94％的混合气。经加热后，本实施例的RBBF-氟化钙(CaF2)棱镜耦合器件通过光胶完成。
实施例5：CBBF-氟化钙(CaF2)棱镜耦合器件的深度光胶
CBBF棱镜耦合器件的结构和图1类似。在CBBF晶体的前后表面各镀制一定厚度的CaF2薄膜；此器件用于266纳米相干光输出，膜层厚度范围：800-850nm CaF2薄膜是用电子束蒸发的方式蒸镀，并辅以离子束辅助；镀制完毕的CBBF晶体上的两个CaF2膜层经过等离子体激活，然后分别与氟化钙(成分为CaF2)晶体棱镜光胶；光胶后的组合晶体器件两端用夹具施以一定大小的力夹紧，放置电阻炉中加热，温度为500℃，热处理时间为15小时。热处理气氛为大气气氛。经加热后，本实施例的CBBF-氟化钙(CaF2)棱镜耦合器件通过光胶完成。
实施例6：KBBF晶体-KBBF晶体的深度光胶
两个厚度分别为2mm的KBBF晶体，结构如图4所示。在两KBBF晶体的欲光胶表面分别镀制一层SiO2薄膜；此器件匹配不同角度的棱镜可以用于177.3nm～600nm相干光输出，膜层厚度范围：950-1000nm；所述SiO2薄膜是用电子束蒸发的方式蒸镀，并辅以离子束辅助；镀制完毕的KBBF晶体上的二SiO2薄膜经过机械抛光后激活，然后进行光胶并放置电阻炉中加热，温度为600℃，热处理时间为1小时。热处理气氛为大气气氛。经加热后，得到本实施例的一块厚度为4mm的KBBF晶体，同理可以通过此方法将多块KBBF晶体进行光胶组合。
本发明对于KBBF族晶体KBBF族晶体与棱镜通过过渡层光胶进行耦合，过渡层光胶属于两个同种材质的光学元件的光胶，具有较强的可光胶性，故此时的光胶结合力较两KBBF族晶体直接光胶为强。

Claims (13)

1.一种KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其由：
具有二光滑表面的KBBF族晶体；
分别蒸镀于所述KBBF族晶体的该二光滑表面上的过渡层；及
分别光胶于被激活后的所述二过渡层上的棱镜组成；
所述过渡层厚度为200nm－1000nm，其材质与棱镜材质相同；
所述KBBF族晶体的二光滑表面为晶体的结晶学c面；
所述KBBF族晶体的光滑表面的表面粗糙度Ra小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
所述的KBBF族晶体为一块KBBF族晶体或为由多块KBBF族晶体通过过镀层薄膜光胶组合而成的多KBBF族晶体组合体；所述过镀层薄膜为不同于所述KBBF族晶体材质的膜层；所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。
2.一种KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其由：
具有二光滑表面的KBBF族晶体；
一对分别具有一光滑表面的棱镜；
分别蒸镀于所述KBBF族晶体的二光滑表面上的第一过渡层；
分别蒸镀于该对棱镜光滑表面上的第二过渡层；
所述KBBF族晶体的二光滑表面上的第一过渡层分别与所述二棱镜上的第二过渡层光胶键合成一体组成；
所述第一过渡层和第二过渡层厚度为200nm－1000nm，其材质为不同于KBBF族晶体材质及棱镜材质的同种第三种光学物质；
所述KBBF族晶体的二光滑表面为晶体c面；
所述KBBF族晶体和棱镜的光滑表面的表面粗糙度Ra小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
所述的KBBF族晶体为一块KBBF族晶体或为由多块KBBF族晶体通过过镀层薄膜光胶组合而成的多KBBF族晶体组合体；所述过镀层薄膜材质为不同于所述KBBF族晶体材质的光学物质；所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。
3.按权利要求1所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其特征在于，所述过镀层为氟化钙膜层或二氧化硅膜层。
4.按权利要求1或2所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其特征在于，所述的棱镜为光学晶体棱镜或光学玻璃棱镜。
5.按权利要求2所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其特征在于，所述同种第三种光学物质为二氧化硅SiO2。
6.按权利要求4所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件，其特征在于，所述的光学晶体棱镜为CaF2棱镜；所述的光学玻璃棱镜为石英玻璃棱镜。
7.一种权利要求1所述KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其步骤如下：
1)首先，将一块KBBF族晶体的二欲光胶表面和二棱镜的欲光胶表面进行超光滑精密光学抛光，使欲光胶表面达到表面粗糙度Ra均小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
之后，在KBBF族晶体的经超光滑精密光学抛光的二欲光胶表面上分别蒸镀一过渡层；该过渡层厚度为200nm－1000nm，其材质与棱镜材质相同；
2)将蒸镀于KBBF族晶体上的二过渡层激活；
3)将蒸镀于所述KBBF族晶体上的过渡层与所述棱镜欲光胶表面进行光胶，并进行高温热处理，以达到KBBF族晶体和棱镜之间的深度键合，得到KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件；
所述的高温热处理为在50℃～600℃下处理1～120小时，热处理气氛为大气气氛，惰性气气氛，还原气气氛或氧化气气氛；
所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。
8.一种权利要求2所述KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其步骤如下：
1)首先，将一块KBBF族晶体的二欲光胶表面和二块棱镜的欲光胶表面进行超光滑精密光学抛光，使欲光胶表面达到表面粗糙度Ra均小于0.5纳米，面型精度小于1/8光圈；
之后，在所述KBBF族晶体的经超光滑精密光学抛光的二欲光胶表面上分别蒸镀一层第一过渡层；在所述二块棱镜的欲光胶表面上分别蒸镀一层第二过渡层；
所述第一过渡层和第二过渡层厚度为200nm－1000nm材质，其材质为不同于KBBF族晶体材质及棱镜材质的同种第三种物质；
2)激活第一过渡层和第二过渡层；
3)将蒸镀于所述KBBF族晶体上的一第一过渡层与所述一块棱镜欲光胶表面上的第二过渡层进行光胶；将蒸镀于所述KBBF族晶体上的另一第一过渡层与所述另一块棱镜欲光胶表面上的第二过渡层进行光胶，再进行高温热处理，以达到KBBF族晶体和棱镜之间的深度键合，得到KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件；
所述的高温热处理为在50℃～600℃下处理1～120小时，热处理气氛为大气气氛，惰性气气氛，还原气气氛或氧化气气氛；
所述KBBF族晶体为氟硼铍酸钾晶体、氟硼铍酸铷晶体或氟硼铍酸铯晶体。
9.按权利要求7或8所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其特征在于，所述的棱镜为光学晶体棱镜或光学玻璃棱镜。
10.按权利要求7或8所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其特征在于，所述的蒸镀方法为化学气相沉积、物理气相沉积或溅射沉积方法。
11.按权利要求7或8所述的KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其特征在于，所述激活方法为等离子激活或机械抛光激活。
12.按权利要求8所述KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其特征在于，所述同种第三种物质为二氧化硅。
13.按权利要求9所述KBBF族晶体与棱镜耦合的光学耦合器件的制备方法，其特征在于，所述的光学晶体棱镜为CaF2棱镜；所述的光学玻璃棱镜为石英玻璃棱镜。
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