CN102725239A - 光学部件的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明为光学部件的制造方法，其具备：镜面加工工序(S2)，其中，对玻璃制的被加工体的表面进行镜面加工；加热工序(S4)，其中，对镜面加工后的所述被加工体进行加热；制膜工序(S5)，其中，在由该加热工序(S4)进行了加热后的被加工体的表面上进行光学薄膜的制膜；在加热工序(S4)中，被加工体的温度为被加工体的玻璃化转变温度Tg(K)的0.75倍以上以及1倍以下。

Description

光学部件的制造方法
技术领域
本发明涉及光学部件的制造方法。本发明涉及例如用作以显微镜、照相机、内窥镜为代表的各种光学机器的元件的滤光器或棱镜、透镜等光学部件中的在玻璃材料的表面上进行了例如氧化物、氟化物、金属等薄膜的制膜的光学部件的制造方法。
本发明基于2010年1月28日在日本申请的日本特愿2010-017363号主张优先权，将其内容引入此处。
背景技术
以往，例如滤光器或棱镜、透镜等玻璃制光学部件是通过对形状与光学部件近似的玻璃进行磨削·研磨的方法、或使用进行了加热的模具来进行成型的方法等来制造得到的。
另外，在这些光学部件中，大多数情况下在镜面加工后的光学镜面上进行了用于控制镜面的反射特性和透过特性的光学薄膜的制膜。这种光学薄膜是通过在光学镜面上制作单层或多层的数nm至数百nm的金属氧化物、氟化物薄膜、金属膜等而构成的。为了得到分光反射率特性或分光透过率特性等所期望的光学特性，根据光学薄膜模拟法来决定光学薄膜的膜构成。基于光学薄膜模拟法的膜设计是通过对用作光学部件的基材的玻璃的折射率进行设定，然后以膜折射率、膜厚、层数作为参数来进行的。另外还进行了下述研究：通过在制膜工序中，对制膜条件进行调整，从而调整膜应力，防止膜剥离。
但是，在实际的制造工序中，光学部件有时会产生膜的剥离、或分光反射率特性和分光透过率特性与设计不符的膜缺陷。
作为这些缺陷的原因，据认为是由于某种原因而在镜面加工后的光学部件的表面上形成了加工变质层。
作为去除这种形成于光学镜面上的加工变质层的现有技术，在专利文献1中记载了下述光学元件的制造方法：一种光学元件的制造方法，其包含：第1阶段，其中，对由CaF2单晶构成的基板进行加工；第2阶段，其中，将污染物质从该第1阶段加工后的所述基板的表面上去除；第3阶段，其中，将第2阶段加工后的所述基板的所述表面的变质层去除。
在专利文献1所述的方法中，利用水或水系清洗液对加工后的CaF2基板表面的加工变质层进行蚀刻由此来去除加工变质层。
此处，对于专利文献1中的加工变质层来说，如专利文献1所述的那样“因利用研磨加工的加工有时也会在表面附近的微小区域中形成加工变质层。该加工变质层是对于紫外线等短波长的光具有吸收的层”，并且其是利用水或含有表面活性剂的水系清洗液进行蚀刻而能够去除的层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2002-82211号公报
发明内容
发明要解决的问题
但是，在如上所述的以往的光学部件的制造方法中存在如下的问题。
专利文献1所述的技术是对CaF2(氟化钙)的单晶基板有效的技术，但用作光学部件的被加工体的光学玻璃为了实现多样的光学特性(例如折射率、阿贝值)而由金属氧化物、氟化物等多种元素构成，即使将专利文献1的制造方法应用于这种光学玻璃中，也无法去除变质层。
发明人进行了各种各样的调查，结果发现光学玻璃的膜缺陷等的原因如下：经由加工工序或加工后的清洗工序后，与基材玻璃原本的性质相比，表面部的光学性质(折射率、散乱特性)或破坏强度发生了变化。
即，因表面部的光学性质发生变化，在具有光学薄膜模拟时所设定的折射率的基材玻璃上生成了具有与基材玻璃不同的折射率的层，因此与膜设计产生了偏差。因此认为，分光反射率特性和分光透过率特性在标准之外，产生了不良品。另外，因在表面部生成了破坏强度下降的变质层，从而变质层会由于在制作光学薄膜后的清洁工序中或组装工序中所施加的外力而发生破坏，成为膜剥离这样的缺陷的诱因。
在光学玻璃中，与氟化钙等相比，二氧化硅等玻璃网眼形成成分难以溶出到水或水系清洗液中，与此相对，被称作玻璃修饰成分的Na-O、K-O-、-O-Ba-O-这样的成分容易溶出到水或水系清洗液中。因此，每个构成玻璃的元素在溶出性方面存在偏差。因此，在与水或水系清洗液接触的玻璃表面上容易产生组成倾斜等偏析，光学玻璃的表面的组成因该偏析而发生变化，从而原本光学玻璃所具有的光学特性、物理特性发生变化。
特别是近年来，在为了实现透镜的小型化和高性能化而开发的光学玻璃中，为了使其具备低分散性或异常分散性、高折射率、低熔点等性质，化学耐久性差的光学玻璃有所增加。在这种光学玻璃存在下述问题：如上所述，特别是在与水或水系清洗液接触的时候，在所接触的玻璃表面上容易产生组成的偏析，表面的光学特性发生变化、或光学玻璃容易剥离。
本发明是鉴于如上所述的问题而完成的，其目的为提供一种光学部件的制造方法，所述光学部件的制造方法能够抑制光学部件的光学薄膜的剥离或光学玻璃的光学特性缺陷的发生，并且可以提高光学部件的生产性，所述光学部件是通过在玻璃表面上制作光学薄膜而形成的。
用于解决问题的手段
为了解决上述课题，本发明采用了以下方法。
即，本发明为光学部件的制造方法，其具备：镜面加工工序，其中，对玻璃制的被加工体的表面进行镜面加工；加热工序，其中，对镜面加工后的所述被加工体进行加热；制膜工序，其中，在由该加热工序进行了加热后的所述被加工体的表面上进行光学薄膜的制膜；
在所述加热工序中，所述被加工体的温度为所述被加工体的玻璃化转变温度Tg(K)的0.75倍以上以及1倍以下。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，在所述加热工序中，可以按照所述被加工体的温度比所述制膜工序中的所述被加工体的温度高的方式来进行加热。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，在所述镜面加工工序和所述加热工序之间，可以具备利用水系清洗液来清洗所述被检体的清洗工序。
此处，水系清洗液是指例如在水中溶解有表面活性剂等的清洗液等含有水的清洗液、或仅由水构成的清洗液。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，可以在真空中进行所述加热工序中的所述被加工体的加热。
需要说明的是，本发明的真空为例如10-6Pa以上且5×102Pa以下。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，可以在惰性气体中进行所述加热工序中的所述被加工体的加热。
另外，对于在本发明的光学部件的制造方法中所含有的在惰性气体中进行的加热工序，所述惰性气体可以为氦。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，所述加热工序可以在与进行所述制膜工序的制膜室另行设置的加热室中进行。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，所述被加工体可以是至少含有氟的光学玻璃。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，所述被加工体可以是至少含有磷的光学玻璃。
另外，对于本发明的光学部件的制造方法，所述被加工体可以是至少含有铋的光学玻璃。
发明效果
根据本发明的光学部件的制造方法，即使在镜面加工后的玻璃制的被加工体的表面上附着水分而形成了变质层，也能够通过加工工序而将变质层修复，因此能够抑制光学部件的光学薄膜的剥离的发生或光学玻璃的光学特性缺陷的发生，并且能够提高光学部件的生产性，所述光学部件是通过在玻璃表面上制作光学薄膜而形成的。
附图说明
图1是表示由本发明的第1实施方式的光学部件的制造方法而制造得到的光学部件的一个示例的沿光轴方向的截面图。
图2是表示本发明的第1实施方式的光学部件的制造方法的工序的流程图。
图3是本发明的第1实施方式的光学部件的制造方法的被加工体制作工序、镜面加工工序、清洗工序和加热工序的模拟性的工序说明图。
图4是表示本发明的第1实施方式的变形例和本发明的第2实施方式的光学部件的制造方法的工序的流程图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式所涉及的光学部件的制造方法进行说明。
[第1实施方式]
对本发明的第1实施方式的光学部件的制造方法进行说明。
图1是表示由本发明的第1实施方式的光学部件的制造方法而制造得到的光学部件的一个示例的沿光轴方向的截面图。图2是表示本发明的第1个实施方式的光学部件的制造方法的工序流程的流程图。图3(a)、(b)、(c)、(d)各自为本发明的第1实施方式的光学部件的制造方法的被加工体制作工序、镜面加工工序、清洗工序和加热工序的模拟性的工序说明图。
本实施方式的光学部件的制造方法是通过在玻璃表面上制作光学薄膜而形成的光学部件的制造方法。
对于光学部件的种类没有特别限制，只要是玻璃制且在表面上制作有光学薄膜的的光学部件即可。可以举出例如玻璃平面基板、透镜、光学滤光器、反射镜、棱镜等。这些光学元件均利用镜面加工而高精度地形成有使光透过或反射的光学面，并且在光学面的表面上制作有单层或多层的光学薄膜。
作为光学面的面形状，可以采用例如平面、球面、非球面、自由曲面等所期望的形状。另外，作为形成透镜的光学面的方法，可以采用磨削·研磨加工。
另外，作为光学薄膜的种类，可以举出表面保护膜、防反射膜、反射膜、波长过滤膜、偏光分离膜等具有各种各样的功能的光学薄膜。
以下，作为光学部件的一个示例，对制造如图1所示的透镜1时的示例进行说明。
透镜1是在透镜本体1c的表面上分别具有凸球面的球面形状的透镜面1a、1b作为光学面的双凸透镜。在透镜面1a、1b上的透镜有效面上分别进行了用于使设计波长的光良好地透过、抑制表面反射的光学薄膜2a、2b的制膜。
在本实施方式的光学部件的制造方法中，如图2所示，依次进行被加工体制作工序S1、镜面加工工序S2、清洗工序S3、加热工序S4、制膜工序S5，由此来制造透镜1。
如图3(a)所示，被加工体制作工序S1是制作被加工体10的工序，所示被加工体10具有在光轴方向上比透镜1的透镜本体1c稍厚的形状。
即，被加工体10具备具有与透镜面1a、1b大致相同的曲率半径的凸球面10a、10b，凸球面10a、10b之间的中心轴上的面间距离比透镜1的透镜面1a、1b的光轴上的面间距离稍大。
为了制作被加工体10，首先由玻璃母材切出比透镜1稍厚的圆板，通过对该圆板的圆周面进行磨削等，从而首先形成透镜侧面。
接着，以该透镜侧面为基准，分别形成在其中心轴上具有球心位置的凸球面10a、10b。凸球面10a、10b按照下述方式进行加工：例如依次进行切削、粗磨削、精磨削等，阶段性地提高面精度，直至达到能够进行良好的研磨加工的面精度为止，并最终加工成残留有适宜的研磨余量的面间距离。
这些加工结束后，对得到的被加工体进行适当地清洗。
至此，被加工体制作工序S1结束。
作为被加工体10的玻璃母材的材质，根据透镜1所需要的光学特性(折射率、阿贝值)来选择适当的光学玻璃的玻璃材。
近年来，为了实现透镜的小型化和高性能化等性能的提高，有时需要使用为了使透镜具有低分散性、异常分散性、高折射率、低熔点等性质而开发的各种各样的玻璃材。但是，在这种玻璃材中，存在着因元素构成而对于水或含有水的水系清洗液的化学耐久性差的玻璃材。
本实施方式的光学部件的制造方法是对于使用这种对于水或含有水的水系清洗液的化学耐久性差的材质、例如磷酸盐玻璃、氟磷酸盐玻璃和含有铋的玻璃等的玻璃材的情况也合适的方法。
对于磷酸盐玻璃、氟磷酸盐玻璃和含有铋的玻璃来说，其显示玻璃的强度的努氏硬度小，并且显示玻璃的化学耐久性的耐水性和耐酸性、耐洗剂性差。这起因于玻璃中所含有的磷酸或氟化物、铋等的性质。
作为这种玻璃材的示例，可以举出例如FCD1、FCD10(以上为HOYA制)；S-FPL51、53(以上为Ohara制)；K-CaFK95、K-PFK80、K-PFK85(以上为住田光学玻璃制)等氟磷酸盐玻璃；K-PSFn1、K-PSFn2、K-PSFn3、K-PSFn4、K-PSFn5(以上为住田光学玻璃制)；L-BBH1(Ohara制)等含有Bi的玻璃，等等。
接着，进行镜面加工工序S2。
如图3(b)所示，本工序是对被加工体10的表面进行镜面加工从而形成透镜面1a、1b的光学镜面的工序。在本实施方式中，采用研磨加工作为镜面加工。
在本工序中，使被加工体10保持于未图示的研磨装置上，例如，使用与透镜面1a对应的研磨皿，一边供给适当的研磨剂一边对凸球面10a进行研磨，由此形成透镜面1a。接着，使被加工体10反转并保持于研磨装置上，使用与透镜面1b对应的研磨皿，一边供给适宜的研磨剂一边对凸球面10b进行研磨，由此形成透镜面1b。
研磨剂可以采用将由微颗粒研磨粒构成的研磨材、例如氧化锆、氧化铯等分散于水系的研磨液中而得到的研磨剂。
通过该镜面加工工序S2，由被加工体10而形成了具备透镜面1a、1b的透镜本体1c。
至此，镜面加工工序S2结束。
结束了研磨的透镜本体1c在接着进行清洗工序S3之前，从研磨装置上卸下来，进行表面的擦拭处理。因此，在从研磨皿等研磨工具分开的瞬间到表面的擦拭处理结束的期间，由研磨加工而形成的镜面与研磨液所含有的水接触。
另外，为了进行清洗工序S3，在保管于研磨装置的外部、或者移动至清洗槽的期间，透镜本体1c会与大气气氛中的水分接触。
接着，进行清洗工序S3。
本工序为下述工序：在进行镜面加工工序S2后，根据需要，使透镜本体1c通过去油槽、乳化性清洗液槽等从而进行清洗后，如图3(c)所示，利用水或在水中添加有表面活性剂等的水系清洗液6对透镜本体1c进行清洗。
在本实施方式的清洗工序S3中，在使用水系清洗液6的清洗时，在设置有超声波振子7的清洗槽5的内部装满水系清洗液6，将透镜本体1c浸渍于水系清洗液6，在一定时间内进行超声波清洗。
该工序优选变化水系清洗液6的种类来进行多阶段清洗，最终的清洗的水系清洗液6优选使用纯水。各清洗阶段的清洗时间可以相同也可以不同。
优选的是，例如将透镜本体1c浸渍于装满了作为水系清洗液6的含表面活性剂的中性或弱碱性的水系清洗液的1槽以上的清洗槽5中进行超声波清洗，然后将透镜本体1c取出，将透镜本体1c浸渍于1槽以上的清洗槽5中，该清洗槽5为装满了作为水系清洗液6的纯水的纯水冲洗槽，由此进行超声波清洗。
作为含有表面活性剂的中性的水系清洗剂6，可以采用例如含有0.5%的非离子性活性剂的水系清洗剂(pH7.5)等，所述非离子性活性剂含有聚氧乙烯链。
对于从最后的清洗槽5中取出的透镜本体1c迅速地进行去水处理、干燥处理等由此将表面的水分去除。
至此，清洗工序S3结束。
接着，进行加热工序S4。
如图3(d)所示，本工序是对透镜本体1c(镜面加工后的被加工体)进行加热的工序，所述透镜本体1c中由镜面加工工序S2而形成了透镜面1a、1b。
另外，本实施方式的加热工序S4为下述工序：通过在镜面加工工序S2中进行利用含水的研磨液的研磨加工和在镜面加工工序S2之后进行清洗工序S3，从而在使镜面加工工序S2中所形成的光学镜面与水或水分接触后，对透镜本体1c进行加热。
首先，使透镜本体1c保持于耐热性的透镜夹具8上，例如在由电炉等构成的加热装置9内，将透镜本体1c设置于支撑透镜夹具8的加热台9a上。
加热装置9可以使用后述的在制膜装置中进行制膜的制膜室内的加热机构，也可以为其它装置。在本实施方式中，以其它装置的情况的示例进行说明。
用于本实施方式的加热装置9具备加热台9a、加热槽9c(加热室)和用于对加热槽9c的内部进行加热的加热部9b，所述加热槽9c用于以密闭状态收纳加热台9a和加热台9a上的透镜夹具8。
另外，在加热槽9c中，为了调整加热槽9c内的气氛，设置有：吸气口9d，其用于吸入加热槽9c内的气氛；惰性气体供给口9e，其用于向加热槽9c内导入惰性气体G；大气导入口9f，其用于向加热槽9c内导入大气。吸气口9d、惰性气体供给口9e和大气导入口9f各自设置有开关阀。
另外，在吸气口9d上连接有由吸气口9d进行吸气的真空泵11，惰性气体供给口9e上连接有供给惰性气体G的惰性气体供给部12。
作为惰性气体G，可以采用例如氮、氦、氩等惰性气体。
接着，将吸气口9d、惰性气体供给口9e和大气导入口9f的任一个口开放，根据需要使真空泵11、惰性气体供给部12工作，从而将加热槽9c内的气氛调整为真空、惰性气体G气氛、大气气氛中的任一种。
并且，利用加热部9b对加热槽9c的内部进行加热，由此将透镜本体1c从常温加热至处理温度T(K)。并且，在一定的保持时间t内保持在处理温度T(K)，然后使透镜本体1c的温度降温至冷却温度Tc(Tc＜T)。
此处，处理温度T(K)为玻璃材的玻璃化转变温度Tg(K)的0.75以上以及1倍以下，并且按照比后述的制膜工序S5中的透镜本体1c的温度高的温度的方式来进行设定。
另外，冷却温度Tc为后述的制膜工序S5中的制膜温度Ts以下，并且设定成移动手段或移动治具等的使用所能够承受的温度，所述移动手段或移动治具用于使透镜本体1c在制膜装置上移动。
至此，加热工序S4结束。
结束了加热工序S4的透镜本体1c通过适宜的搬运途径而被搬运至制膜装置中。此时，对于制膜装置来说，按照使透镜本体1c的表面不受污染的方式来保护透镜本体1c由此进行搬运，同时按照透镜本体1c不与湿度高的大气接触的方式搬运透镜本体1c。为了达成上述条件，例如通过将搬运途径内设定为清洁且进行了除湿的气氛、或者将其收纳于密闭性优异的搬运箱等中，由此来进行搬运。
如本实施方式，若加热装置9与制膜装置为不同装置，则具有下述优点：能够对加热气氛、加热温度和加热时间等进行设定时不受制膜装置的构成的制约，增大了工序设定的自由度。
例如，在一般的制膜装置中，制膜中通过将多个透镜安装于制膜圆拱形室(製膜ドーム)中，一边使其旋转一边进行制膜。此时，为了减少制膜圆拱形室内的膜厚分布，在制膜装置内设置有使制膜圆拱形室旋转的可动部。这种可动部例如为能够承受在200℃～300℃这样的制膜时的温度区域的装置设计，但有时所具有的耐久性并未达到对于玻璃母材的玻璃化转变温度Tg附近的温度区域这样的更高的温度的耐久性。
这种情况下，下述方法是有效的：如本实施方式，对于透镜本体1c，利用与制膜装置另行设置的加热装置9进行加热工序S4，然后将透镜本体1c移动至制膜装置内，由此来进行制膜。
另外，为了减少从加热装置9至制膜装置的移动量，优选按照加热装置9邻接于制膜装置的方式来进行配置。
进一步，即使在将加热装置9与制膜装置一体设置的情况下，也优选在制膜装置内设置加热室，同时设置搬运机构，所述加热室邻接于进行制膜的制膜室、并能够自由地设定与制膜室内不同的气氛、与制膜室不同的加热温度和加热时间，所述搬运机构通过来自外部的操作将结束了加热工序S4的透镜本体1c从加热室搬运至制膜室。如此，在进行加热工序S4时不需要占有制膜室，能够自由地设定加热室的气氛、加热温度和加热时间，并且，更加容易防止从加热室搬运至制膜室的搬运阶段中的制膜前的光学镜面的污染或水分的附着。
接着，进行制膜工序S5。本工序为对透镜面1a、1b进行光学薄膜2a、2b的制膜的工序，所述透镜面1a、1b为在加热工序S4中进行了加热后的透镜本体1c的表面。
作为制膜装置虽然未特别进行图示，但根据光学薄膜2a、2b的膜构成等，可以采用公知的制膜装置、例如真空蒸镀装置等。
首先，按照使想要进行制膜的透镜面1a、1b的任一个面、例如透镜面1a的面朝下的方式，将搬运至制膜装置内的透镜本体1c设置于制膜装置的制膜室内。将作为膜材料的氧化物或氟化物装入加热用的器皿中，并按照所述器皿与透镜本体1c相距数十厘米左右的方式将所述器皿放置于透镜本体1c的下方。
接着，对制膜室内进行抽真空。抽真空结束后，加热膜材料使其熔解。作为熔解的方法，可以适宜地采用下述方法：对加热用的器皿进行加热的方法、或利用电子束或离子溅射对膜材料进行直接加热的方法等。
对于受到加热而熔解的膜材料来说，膜材料的分子气化，飞散至透镜面1a的表面。该分子堆积于透镜面1a的表面上从而形成层，由此形成了光学薄膜2a。此时，通过内藏于制膜装置的加热机构，预先在制膜装置中对透镜本体1c进行加热以使透镜面1a达到制膜温度Ts。由此，对于透镜面1a的表面，能够降低飞散来的分子的能量损失，因此能够使光学薄膜2a与透镜面1a的表面的密合性良好。
制膜温度Ts根据膜材料的加热温度来适宜设定。
若形成了光学薄膜2a，则将透镜本体1c反转，通过与上述同样的方法在透镜面1b上形成光学薄膜2b。
制膜结束后，将制膜装置开放，将完成的透镜1搬运至制膜装置的外部。
如此，通过本实施方式的光学部件的制造方法，能够制造如图1所示的透镜1。
接着，对本实施方式的光学部件的制造方法中的作用进行说明。
在通过在玻璃表面上制作光学薄膜而得到的光学部件的制造工序中，光学部件的光学表面的密合强度、分光反射率特性或分光透过率特性有时会与设计的计划不符，会发生光学薄膜的剥离或光学薄膜的光学特性的缺陷等膜缺陷。
对于这些膜缺陷的原因，发明人进行了各种各样的调查，结果发现膜缺陷的原因如下：经由加工工序或加工后的清洗工序，表面部的光学性质(折射率、散射特性)或破坏强度与基材玻璃原本的性质相比产生了变化。
在光学玻璃中，二氧化硅等玻璃网眼形成成分难以溶出到水系清洗液中，与此相对，被称作玻璃修饰成分的Na-O、K-O-、-O-Ba-O-这样的成分容易溶出到水或水系清洗液中。因此，每个构成玻璃的元素在溶出性方面存在偏差。因此，在与水或水系清洗液接触的玻璃表面容易产生组成倾斜等偏析，光学玻璃的表面因该偏析而发生变化，从而光学玻璃原本所具有的光学、物理的特性发生变化。
如本实施方式的镜面加工工序S2那样，若利用含有水的研磨液进行研磨加工，则在光学镜面形成后到将水擦拭掉为止，持续着光学镜面与水接触的状态。另外，为了去除附着于光学镜面的研磨材等，需要进行清洗工序S3。因此，形成的光学镜面与水接触是不可避免的。在这些工序中，接触方式和接触时间不同，并且光学镜面的变质的程度因含有水的溶液的pH、表面活性剂等溶液中的共存成分、液浸渍中的超声波的有无等而不同，但无论哪一种与水的接触均是光学部件表面的变质的原因。
因此，本发明人对于能否将由与水的接触而形成的变质层修复而进行了研究，结果发现通过在水与变质层接触后，进行如上所述的加热工序S4，可以将变质层修复，从而完成了本发明。
对于由与水的接触而形成的变质层的性质和通过加热工序S4而能够修复变质层的作用，本发明人对各种各样的分析结果进行了考察，结果进行了如下推测。
在与水接触的玻璃表面部，根据玻璃的成分，在水中的水合氢离子(H3O+)和Na(钠)、K(钾)等碱金属的离子或Ca(钙)、Mg(镁)、Ba(钡)等碱土类金属的离子之间产生了离子交换反应。
由此，溶出到水中的金属离子在玻璃表面偏析。另外，玻璃表面的水为碱性，会进一步使玻璃骨架的切断、玻璃成分的偏析进行。
如此，因与水的接触，玻璃骨架被切断、或玻璃成分被抽出，从而构成了变质层，变质成比原本的玻璃表面更加稀疏的结构。
对于这种变质层来说，与水的接触时间越长，玻璃成分的溶出越会进一步进行，因此变质层的厚度变得更深。即，随着玻璃骨架的切断或玻璃成分的抽出进一步进行，生成埃～纳米级的微细的孔(微孔)，由此变质层形成为多孔层。对于这种多孔层来说，折射率的下降或强度的下降明显，特别容易产生光学薄膜的光学特性的缺陷或光学薄膜的剥落这样的膜缺陷。
另外，在变质层中，通过这样改变表面的微细结构而具有与玻璃原本的折射率不同的折射率。
在本实施方式的加热工序S4中，将这种变质层加热至接近于玻璃母材的玻璃化转变温度Tg的温度。因此，据推测因施加于变质层的热能，产生了玻璃骨架的再结合、或使因玻璃成分的抽出而变得稀疏的结构的部位致密化，由此能够改善变质层。
通过这种方法，变质层的微细的孔收缩，从而表面被修复为接近于变质层形成前的微细结构的状态，因此折射率和强度均能够被改善为接近于变质层形成前的状态。
对于本实施方式的加热工序S4来说，在具有透镜本体1c与水的接触时间特别长的清洗工序S3(因为使用了水或含有水的水系清洗液)的情况下，若在清洗工序S3之后进行加热工序S4，则能够对已深深形成的变质层进行修复，因此特别具有效果。
需要说明的是，加热处理并不一定要进行至变质层的微细的孔完全消失，只要进行至没有光学薄膜的剥落或不会对薄膜的光学特性产生缺陷影响的状态即可。
另外，越是对水、酸或碱的耐性低的玻璃越是容易产生这种变质层，变质层的厚度也越厚。因此，在使用含有氟、磷、Bi(铋)中的至少一种的光学玻璃的情况下，本发明是特别有效的。
加热工序S4中的处理温度T(K)的特别合适的范围为玻璃化转变温度Tg(K)的0.75倍以及1倍以下。
若处理温度T(K)比玻璃化转变温度Tg(K)的0.75倍低，则供给于变质层的热能不充分，无法使变质层的多孔层的微孔充分收缩。因此，无法充分改善透镜面1a、1b的表面的强度和折射率，容易产生制膜后的膜剥落或分光反射率缺陷等，使透镜1的成品率恶化。
另外，在处理温度T(K)超过玻璃化转变温度Tg(K)的1倍的情况下，光学部件表面部的形状有时会发生变化，因此会成为面精度下降的原因。
另外，在本实施方式中，加热工序S4中的处理温度T设定为比制膜工序S5中的制膜温度Ts高的温度。
由此，即使在加热工序S4中变质层的致密化不完全且残留有变质层，所残留的变质层在高温状态下为并未进行致密化的层，因此通过在制膜工序S5中的低温的制膜温度Ts的加热而进行致密化的可能性小。
相反，若制膜温度Ts为比处理温度T高的温度，则在制膜工序S5中，因制膜温度Ts为比处理温度T高的温度，所以在加热工序S4的处理温度T中没有被修复并残留下来的变质层受到比处理温度T更大的热能。其结果为，作为多孔层的变质层在制膜时致密化，多孔层的微孔收缩。因此，光学镜面的微细结构的变形与制膜平行地进行，所以光学薄膜2a、2b的膜的强度变弱，在光学薄膜上容易产生裂纹或剥离这样的缺陷情况。
另外，加热工序S4中的加热装置9内的气氛可以根据变质层的修复程度等的需要适当选择。
例如，若使加热装置9内的气氛为大气气氛，由此来进行加热工序S4，则在变质层的多孔层的微孔收缩时，收缩从变细为瓶颈状的部分进行。其结果为有时会导致孔在变质层的厚度方向的中间部关闭，残留有封入了大气的孔。因此，微细结构的修复有时无法从该结构的状态进行。
这种情况下，如果使加热装置9内为真空来进行加热工序S4，则可以预先将微孔中的大气去除，因此不会发生变质层的微细结构内封入气体，能够充分地进行变质层的收缩。其结果，可以提高变质层的修复程度。即，与在大气气氛中进行加热的情况相比，微孔收缩地较小，因此可以得到具有更接近于基材的玻璃的折射率和强度的变质层的微细结构。
另外，在真空气氛中进行加热工序S4也可以防止加热装置9内的金属部件、或透镜夹具8等所使用的金属部件的氧化变质。
另外，若使加热装置9内的气氛为惰性气体G气氛来进行加热工序S4，则与真空中的加热同样地能够防止加热装置9内的金属部件、或透镜夹具8等所使用的金属部件的氧化变质。
进一步，使用氦作为惰性气体G的情况下，可以将微孔中所存在的大气分子(氧或氮)置换为分子尺寸较小的氦。因此，即使在微孔的颈收缩的状态下，由于分子的尺寸小，所以大气分子能够溜出来，难以产生气体的封入。因此，可以得到具有更接近于基材的玻璃的折射率和强度的变质层的微细结构。
接着，基于实验例1～4，对本实施方式的光学部件的制造方法的具体的作用进行说明。
各实验例中的制造条件归纳示于下述表1中。
表1
[实验例1]
在实验例1中，由折射率为1.43875、阿贝值为94.9的氟磷酸盐玻璃(Tg=699(K)(=426(℃)))制作曲率半径为30mm、直径为45mm、中心壁厚为35mm的双凸透镜的被加工体(被加工体制作工序S1)，作为玻璃材，所述氟磷酸盐玻璃含有氟和磷。
接着，在镜面加工工序S2中，使用含有氧化锆系的ZOX-N(注册商标)作为研磨材的水系的研磨液，对该被加工体进行研磨，从而形成光学镜面，然后将表面的水分擦拭掉。
接着，在清洗工序S3中，使用多槽式的超声波清洗机对研磨后的被加工体进行清洗。多槽式清洗槽具备6槽去油槽、乳化性清洗液槽和清洗槽5，清洗槽5进一步具备3槽水系清洗槽和冲洗槽。清洗工序S3中，使被加工体通过去油槽后，通过乳化性清洗液槽，然后通过作为清洗槽5的3槽水系清洗槽和冲洗槽。
在水系清洗槽中，使用含有0.5%的非离子性活性剂的水系清洗剂(pH7.5)作为水系清洗液6，所述非离子性活性剂包含聚氧乙烯链。另外，在冲洗槽中使用了纯水。
另外，在各清洗槽5中，利用超声波振子7，以40kHz的超声波频率对每一个槽进行60秒的超声波清洗。
接着，在加热工序S4中，对清洗处理后的被加工体进行干燥后，将被加工体放入作为加热装置9的电炉中，在大气气氛中进行加热处理。
在本实验例中，为了调查处理温度的差异，使处理温度T(K)为349K、419K、489K、524K、559K、629K、699K、769K、839K，保持时间t均设定为1小时。各处理温度为玻璃材的玻璃化转变温度Tg=699(K)的0.5倍、0.6倍、0.7倍、0.75倍、0.8倍、0.9倍、1倍、1.1倍、1.2倍。
另外，为了比较，还进行了没有实施加热的实验。
接着，在制膜工序S5中，将加热处理后的被加工体从电炉中取出，并且为了制膜而安装于透镜夹具8上，配置于真空蒸镀式的制膜装置内。并且，在开始制膜装置内的抽真空后，进行被加工体的加热，30分钟后到达至预定的真空度和作为制膜温度Ts的513K(240℃)，然后开始制膜。在制膜工序S5中，制造7层防反射膜后，使进行了制膜的被加工体开放在大气中，结束制膜工序S5。
在本实验例中，通过如上所述的方法，在每个处理温度(包括未进行加热)，制造160个双凸透镜。
接着，对于所制造的各透镜评价反射特性和光学薄膜的密合性以及面精度。
反射率是使用透镜反射率测定机USPM-RU(商品名；奥利巴斯(株)制)来进行测定的，反射特性通过是否落入在标准数值内来判断是否合格。
光学薄膜的密合性是通过带测试来进行的，通过是否落入在剥离的标准中来判断是否合格。
面精度是通过激光干涉计来进行测定的，通过是否落入在标准内来判断是否合格。
对于每一个评价项目，求出合格品的个数相对于制造数的比率，将其作为各评价项目中的合格率。本实验例的评价结果示于表2。
表2
Figure BDA00001931214900171
此处，对于表中的记号来说，在反射特性、密合性和面精度中表示合格率的比例，◎表示98%以上、○表示95%以上且小于98%、△表示70%以上～小于95%、×表示小于70%。另外，综合评价中，将3个评价项目的合格率均为95%以上的情况以○进行表示，将3个评价项目的任一个的合格率小于95%的情况以×进行表示。另外，各记号之下所记载的数值表示“合格数/总个数”。
这些标记在后述的表3～7中也是同样的。
如表2所示，T/Tg为0.75以上以及1以下的情况下，各评价项目的合格率为95%以上，是良好的。另一方面，T/Tg为小于0.75的低温的条件(也包含未进行加热)下，反射特性和密合性是合格率恶化的原因；T/Tg比1大的高温的条件下，面精度是合格率恶化的原因。
在T/Tg小于0.75的低温的条件(也包含未进行加热)下，作为反射特性和密合性方面合格率恶化的理由，其原因可以举出加热处理时的热能不足，变质层并未充分收缩。
另外，在T/Tg比1大的高温的条件下，面精度方面合格率恶化是因处理温度T超过玻璃化转变温度Tg引起的变形而导致镜面加工后的光学部件表面的形状走样。
另外，在本实验例中，T/Tg为0.75以上以及1以下的温度区域均是比制膜温度Ts高的温度区域。
[实验例2]
在实验例2中，如表1所示，在下述方面与实验例1不同，将实验例1的双凸透镜的形状替换为双凹透镜；将加热工序S4的气氛从大气气氛替换为真空。
作为双凹透镜，使用曲率半径为150mm、外径为40mm、内径为30mm、中心壁厚为15mm的形状。
本实验例的评价结果示于表3。
表3
Figure BDA00001931214900191
如表3所示，综合评价的结果与实验例1同样，但与实验例1相比，在T/Tg为0.8～1.2的范围中反射特性的合格率、以及在T/Tg为0.9～1.2的范围中密合性的合格率分别得到了提高，分别为98%以上的良好的合格率。
据认为，这是因为通过使加热工序S4的气氛为真空，与大气气氛的情况相比，多孔层的微孔进一步收缩，变质层的强度和折射率进一步改善为优质的状态。
[实验例3]
在实验例3中，如表1所示，在下述方面与实验例1不同：将实验例1的双凸透镜的形状替换为平行平板；将加热工序S4的气氛从大气气氛替换为氮气气氛。
作为平行平板的形状，采用了直径为30mm、板厚为5mm的圆板形状。
本实验例的评价结果示于表4。
表4
Figure BDA00001931214900211
如表4所示，综合评价的结果与实验例1同样，并且与实验例2同样，与实验例1相比，在T/Tg为0.9～1.2的范围中反射特性的合格率得到了提高，分别为98%以上的良好的合格率。然而，密合性的合格率的结果与实验例1相同，相对于实验例2，其结果稍差。
即，因加热工序的气氛的不同，而成为实验例1(大气气氛)和实验例2(真空)之间的结果。
[实验例4］
在实验例4中，如表1所示，在下述方面与实验例2不同：将实验例2的氮气气氛替换为氦气氛。
本实验例的评价结果示于表5。
表5
Figure BDA00001931214900231
如表5所示，综合评价的结果与实验例1同样，但在T/Tg为0.9～1.2的范围中反射特性和密合性的合格率与实验例1相比分别得到了提高，分别为98%以上的良好的成品率。这是与实验例2的结果几乎同等的结果。
据认为，这是因为，在加热工序S4的气氛为氦气氛的条件下，氦的分子量小，因此氦原子不会干扰多层孔的微孔的收缩，微孔按照与真空中大致相同程度的比例而较小地收缩。
[实验例5]
在实验例5中，如表1所示，在下述方面与实验例1不同：将实验例1的氟磷酸盐玻璃替换成折射率为2.10205和阿贝值为16.6的铋系玻璃(Tg=623(K)(=350(℃)))；进一步使清洗槽5为将2槽水系清洗槽(pH8.3)和基于纯水的2层冲洗槽连通的构成。另外，制膜温度Ts为473K(200℃)，制造6层防反射膜。
本实验例的评价结果示于表6。
表6
Figure BDA00001931214900251
如表6所示可知，实验例5的综合评价的结果与实验例1相同甚至更好，本发明对于被加工体的玻璃母材至少含有铋的玻璃是有效的。
如以上说明的那样，根据本实施方式的光学部件的制造方法，即使水分附着于进行了镜面加工的玻璃制的被加工体的表面上而形成了变质层，也能够通过加热工序将变质层修复。因此，能够抑制通过在玻璃表面上制造光学薄膜而形成的光学部件的光学薄膜的剥离和光学薄膜的光学特性缺陷的发生。因此，能够提高光学部件的合格率，提高光学部件的生产性。
[变形例]
接着，对本实施方式的变形例进行说明。
图4是表示本发明的第1实施方式的变形例的光学部件的制造方法的工序的流程图。
相对于上述第1实施方式的镜面加工工序为使用分散有研磨材的研磨剂来进行研磨的方法，本变形例的光学部件的制造方法中，通过使用了固定研磨粒的研磨加工来进行镜面加工。
即，在本变形例中，如图4所示，通过依次进行被加工体制作工序S10、镜面加工工序S11、加热工序S12、制膜工序S13来制造透镜1。以下，主要对与上述第1实施方式不同的方面进行说明。
被加工体制作工序S10是与上述第1实施方式的被加工体制作工序S1同样的工序。
接着所进行的鏡面加工工程S11中，将与上述第1实施方式同样的被加工体10(参照图3(a))保持于未图示的研磨装置上，例如使用固定磨粒研磨石，一边供给纯水作为加工液一边对凸球面10a进行研磨，由此形成透镜面1a，所述固定磨粒研磨石的形状与透镜面1a对应，并在表面设置有固定研磨粒。作为固定研磨粒，可以采用例如金刚石研磨粒。
接着，将被加工体反转并保持于研磨装置上，使用与透镜面1b对应的同样的固定磨粒研磨石，同样地对凸球面10b进行研磨，由此形成透镜面1b。
如此，由被加工体10而形成了具备透镜面1a、1b的透镜本体1c。至此，镜面加工工序S11结束。
镜面加工工序S11是使用固定研磨粒来进行的，研磨后的玻璃颗粒由在研磨中供给至表面的纯水而被冲洗掉。研磨加工结束后，利用毛巾等将表面的水分等擦拭掉后，进行透镜清洁。
在本变形例中，在镜面加工工序S11后，省略了通过浸渍于清洗槽5而进行的清洗工序S3。由此，与上述第1实施方式相比，能够缩短透镜本体1c与水的接触时间，减少变质层的深度。但是，在镜面加工工序S11中与水接触，因此未必不会产生变质层。
接着所进行的加热工序S12和制膜工序S13是分别与上述第1加热工序S4和制膜工序S5同样的工序。
通过进行这些工序，能够制造与上述第1实施方式同样的透镜1。
接着，基于实验例6，对本变形例的光学部件的制造方法的具体的作用进行说明。实验例6中的制造条件示于上述表1。
[实验例6]
在实验例6中，由作折射率为1.60311和阿贝值为60.7的Si-Ba系玻璃(Tg=936(K)(=663(℃)))为玻璃材制作成凹凸透镜的被加工体(被加工体制作工序S10)，其具有凸面的曲率半径为150mm、凹面的曲率半径为100mm、直径为30mm、中心壁厚为8mm的形状。
接着，在镜面加工工序S11中，使用纯水作为加工液并通过含有金刚石作为研磨粒的固体磨粒研磨石，对该被加工体进行研磨加工，从而形成光学镜面后，将表面的水分擦拭掉。
然后，在不进行清洗工序的情况下进行加热工序12。
在加热工序S12中，将形成有光学镜面的被加工体放入作为加热装置9的电炉中，在真空中进行加热处理。
在本实验例中，为了调查由处理温度而产生的差异，使处理温度T(K)为468K、562K、655K、702K、749K、842K、936K、1030K、1123K，保持时间t均设定为1小时。各处理温度为玻璃材的玻璃化转变温度Tg=936(K)的0.5倍、0.6倍、0.7倍、0.75倍、0.8倍、0.9倍、1倍、1.1倍、1.2倍。
另外，为了比较，还进行了没有实施加热的实验。
即，相对于上述实验例1，本实验例的被加工体的玻璃材质、形状、镜面加工工序是不同的。另外，在未进行清洗工序这点上也是不同的。
接着，将加热处理后的被加工体从电炉中取出，采用与上述实验例1同样的方法，进行制膜(制膜工序S13)，在制膜后进行各透镜的评价。
本实验例的评价结果示于表7。
表7
Figure BDA00001931214900281
如表7所示，综合评价的结果与实验例1同样，但在T/Tg为0.9～1.2的范围中反射特性和密合性的合格率与实验例1相比得到了提高，各自为98%以上的良好的成品率。另外，在未进行加热和T/Tg=0.5的情况下，反射特性的合格率为比实验例1好的结果。
根据本实验例，未进行清洗工序，因此认为变质层仅在镜面加工工序S11中产生。
根据本实验例可知，通过进行基于加热工序的加热处理，即使在未进行清洗工序的情况下也能够提高光学部件的合格率。
若对本实验例的加热处理不充分的状态的合格率进行观察，可知即使在镜面加工工序中与水接触也会生成对反射特性和密合性产生影响的变质层。
因此，推测在实验例1～4中，因镜面加工工序中的与水的接触而形成了变质层，而若在清洗工序中与水接触则该变质层的变质程度增加。
即，根据实验例1～6可知，通过进行本发明的加热工序，无论是在镜面加工工序所产生的变质层还是在清洗工序中产生的变质层均得到改善，能够提高光学部件的合格率。
对本变形例的镜面加工工序S11进行考察，则作为使反射特性和密合性恶化的原因，可以举出因成分溶出到作为加工液的纯水中而形成了变质层，这与上述第1实施方式的镜面加工工序S2是相同的，但在本实验例中还可以举出因进一步在镜面加工工序S11中使用了纯水，从而在基于研磨石的加工中所产生的光学部件表面中的微细的裂缝扩展。
被加工体的表面因被加工体制作工序S10和镜面加工工序S11的去除加工时的巨大的应力而产生了微细的裂纹。若该裂纹因与水的接触而被蚀刻从而扩展，则在研磨后的表面上会残留有微细的裂纹，在该裂纹附近的光学薄膜的密合性变差。因此，容易产生膜剥落。
本发明的加热处理还具有去除或修复该扩展的裂纹的效果，因此认为能够使反射特性与密合性一同得到改善。
[第2实施方式]
接着，对本发明的第2实施方式的光学部件的制造方法进行说明。
图4中，示出了表示本发明的第1实施方式的变形例的光学部件的制造方法的工序的流程图，但本发明的第2实施方式的光学部件的制造方法的工序也使用图4来进行说明。
上述第1实施方式的镜面加工工序是使用分散有研磨材的研磨剂来进行研磨的方法，与此相对，本实施方式的光学部件的制造方法是利用模压成型(玻璃铸模加工)将模具面形状转印至被加工体，由此来进行镜面加工的方法。伴随于此，省略了清洗工序。
因此，本实施方式中，作为工序顺序与上述第1实施方式的变形例相同，如图4所示，通过依次进行被加工体制作工序S20、镜面加工工序S21、加热工序S22、制膜工序S23来制造透镜1。以下，主要对与上述第1实施方式不同的方面进行说明。
如图3(a)所示，被加工体制作工序S20是制作具有近似于透镜1的透镜本体1c的形状的被加工体13的工序。
需要说明的是，在本实施方式中，利用模压成型来进行镜面加工，因此对于被加工体13的形状没有限定，只要是利用模压成型而能够形成透镜本体1c的形状即可。例如可以为球状或平板状等形状。
作为被加工体13的制作方法，可以举出下述方法：通过预先对玻璃母材进行研磨加工等从而加工成球状、平板状、透镜本体1c的透镜近似形状等，制作被加工体13作为所谓的玻璃预成型体的方法；制作被加工体13作为由热成型得到的玻璃坯料的方法。
接着所进行的镜面加工工序S21是通过对被加工体13进行模压成型而形成透镜面1a、1b的形状和光学镜面的工序。
即，虽未特别图示，将被加工体13配置于模具内，使用适当的成型装置，一边将模具加热至玻璃母材的玻璃化转变温度Tg以上一边进行加压，对模具内的被加工体13加压使其变形，从而将模具面的面形状转印至被加工体13。模具面的形状被转印至被加工体13的表面上后，慢慢将模具冷却，从成型装置中取出进行了模压成型的透镜本体1c。由此，镜面加工工序S21结束。
在本工序中，将被加工体13加热至玻璃化转变温度Tg以上然后进行加压，因此即使在镜面加工前，被加工体13因与水接触而形成变质层，该变质层也能够被去除。
接着所进行的加热工序S22、制膜工序S23是分别与上述第1加热工序S4、制膜工序S5同样的工序。
通过进行这些工序，能够制造与上述第1实施方式同样的透镜1。
根据本实施方式，在镜面加工时，即使在之前形成了变质层也能够将其去除，并且在镜面加工时未使用水或水分，因此不会再次形成变质层。然而，在从成型装置中取出后到搬运至制膜装置的期间、或在到进行制膜工序S23为止的保管中，有可能因与周围气氛中的水分接触等而在光学镜面上产生变质层。
根据本实施方式，进行加热工序S22后进行制膜工序S23，因此即使在镜面加工工序S21和加热工序S22之间，在光学镜面上产生变质层，也能够将变质层修复。因此，与所述第1实施方式同样，能够提高光学部件的合格率，提高光学部件的生产性。
需要说明的是，在上述第1实施方式的说明中，以在制膜装置的制膜室的外部进行加热工序，然后将加热处理后的被加工体搬入制膜室内的情况作为示例进行了说明，但在不会对制膜装置的构成部件产生缺陷影响的情况下，也可以在制膜装置的制膜室内进行加热处理。此时，可以在不移动加热后的被加工体的情况下进行制膜工序，因此能够更可靠地防止光学镜面的污染或变质层的发生。
另外，在上述说明中，以形成被加工体的所有的光学镜面后，进行加热工序的情况作为示例进行了说明，但在如每形成一个光学镜面进行一次清洗工序的情况下，也可以在清洗工序后分别进行加热工序。此时，能够暂时将率先形成的光学镜面的变质层修复，因此通过经由2次的清洗工序，可以减轻率先形成的光学镜面的变质层的恶化。
另外，对于在上述的各实施方式、变形例中所说明的所有的构成要素来说，可以在本发明的技术思想的范围内适当对组合进行替换或消除由此来实施本发明。
工业实用性
根据本发明的光学部件的制造方法，能够抑制在玻璃表面上制造光学薄膜而形成的光学部件的光学薄膜的剥离或光学薄膜的光学特性缺陷的发生，能够提高光学部件的生产性。
符号说明
1透镜(光学部件)
1a、1b透镜面(光学镜面)
1c透镜本体(镜面加工后的被加工体)
2a、2b光学薄膜
5清洗槽
6水系清洗液
7超声波振子
8透镜夹具
9加热装置
9c加热槽(加热室)
9e惰性气体供给口
9f大气导入口
10、13被加工体
G惰性气体
S1、S10、S20被加工体制作工序
S2、S11、S21镜面加工工序
S3清洗工序
S4、S12、S22加热工序
S5、S13、S23制膜工序
T处理温度
t保持时间
Ts制膜温度
Tg玻璃化转变温度

Claims (10)

1.一种光学部件的制造方法，其具备：
镜面加工工序，其中，对玻璃制的被加工体的表面进行镜面加工；
加热工序，其中，对镜面加工后的所述被加工体进行加热；和
制膜工序，其中，在由该加热工序进行了加热后的所述被加工体的表面上进行光学薄膜的制膜；
在所述加热工序中，所述被加工体的温度为所述被加工体的玻璃化转变温度Tg的0.75倍以上以及1倍以下，所述玻璃化转变温度Tg的单位为K。
2.如权利要求1所述的光学部件的制造方法，其中，在所述加热工序中，按照所述被加工体的温度比所述制膜工序中的所述被加工体的温度高的方式来进行加热。
3.如权利要求1或2所述的光学部件的制造方法，其中，在所述镜面加工工序和所述加热工序之间，具备利用水系清洗液来清洗所述被检体的清洗工序。
4.如权利要求1～3任一项所述的光学部件的制造方法，其中，在真空中进行所述加热工序中的所述被加工体的加热。
5.如权利要求1～3任一项所述的光学部件的制造方法，其中，在惰性气体中进行所述加热工序中的所述被加工体的加热。
6.如权利要求5所述的光学部件的制造方法，其中，所述惰性气体为氦。
7.如权利要求1～6任一项所述的光学部件的制造方法，其中，所述加热工序是在与进行所述制膜工序的制膜室另行设置的加热室中进行的。
8.如权利要求1～7任一项所述的光学部件的制造方法，其中，所述被加工体由至少含有氟的光学玻璃构成。
9.如权利要求1～7任一项所述的光学部件的制造方法，其中，所述被加工体由至少含有磷的光学玻璃构成。
10.如权利要求1～7任一项所述的光学部件的制造方法，其中，所述被加工体由至少含有铋的光学玻璃构成。
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