JPS6199101A - 合成樹脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法 - Google Patents
合成樹脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法Info
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- JPS6199101A JPS6199101A JP59221676A JP22167684A JPS6199101A JP S6199101 A JPS6199101 A JP S6199101A JP 59221676 A JP59221676 A JP 59221676A JP 22167684 A JP22167684 A JP 22167684A JP S6199101 A JPS6199101 A JP S6199101A
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- G02—OPTICS
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- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野 ・
本発明は、カメラ等の光学系（ファインダー。
レンズ等）に用いる合成樹脂製光学部品の反射防止膜及
びその形成方法（＝関する。
びその形成方法（＝関する。
従来技術
周知のごとく、レンズ、反射鏡、プリズム、ファインダ
ー等の光学部品は通常ガラスを素材として製作されてい
る。ところが、最近では軽量化。
ー等の光学部品は通常ガラスを素材として製作されてい
る。ところが、最近では軽量化。
生産性の向上、精度の向上、コストの低減化等の要請か
ら合成樹脂製光学部品が使用され始めている。
ら合成樹脂製光学部品が使用され始めている。
光学部品に反射防止膜をコーティングする際には、ガラ
スの場合、ガラス基材を数１００℃に加熱し、真を蒸着
（二より単層、多層にコーティングすることができる。
スの場合、ガラス基材を数１００℃に加熱し、真を蒸着
（二より単層、多層にコーティングすることができる。
ところが、合成樹脂製光学部品の場合１：は、ガラスと
同等の条件でコーティングしようとすると、加熱時に熱
変形、熱分解を生じ、光学部品としては精度上使用でき
ないものとなる。
同等の条件でコーティングしようとすると、加熱時に熱
変形、熱分解を生じ、光学部品としては精度上使用でき
ないものとなる。
そこで、合成樹脂製光学部品に反射防止膜をコーティン
グする方法として、一般に次のごとき手段が採用されて
いる。
グする方法として、一般に次のごとき手段が採用されて
いる。
第１の手段
合成樹脂製光学部品に塗布手段にてプライマーコートと
称するアンダーコート膜を塗膜形成し、その上に反射防
止膜を真空蒸着によりコーティングする方法であり、こ
の方法には、熱硬化法で行なうシリコーンコーティング
（塗膜形成法）とＵＶ硬化法で行なうアクリル系コーテ
ィングとがある。
称するアンダーコート膜を塗膜形成し、その上に反射防
止膜を真空蒸着によりコーティングする方法であり、こ
の方法には、熱硬化法で行なうシリコーンコーティング
（塗膜形成法）とＵＶ硬化法で行なうアクリル系コーテ
ィングとがある。
上記熱硬化法とＵＶ硬化法とを比較した場合、硬化時間
の点ではＵＶ硬化法がより有利である。
の点ではＵＶ硬化法がより有利である。
ところが、現状の所定表面荒さを有する基材に対して、
光学精度上要求されるコーティング膜Ｏ２１μｍ以下の
均等膜厚にコーティングするのは不可能に近く、特（：
、再現性、生産性（設備投資、塗膜材料管理、生産機管
理等による歩留り向上）を考慮した場合は極めて困難で
ある。そのために、上記熱硬化法、ＵＶ硬化法のいずれ
の場合にも光学精度上要求される均等膜厚を管理してコ
ーティングすることができない。そして、さらにその上
に真空蒸着コーティングする透明誘電体材料（二対して
、シリコーンコーテイング材は、密着性は良好であるが
、熱を付加する硬化法のために基材の形状精嘲が基材の
熱変形や膜の応力変形のため（二悪くなり、膜厚も不均
等で厚くなるため、反射率（透過高）特性が大きく変動
するという問題点があった。
光学精度上要求されるコーティング膜Ｏ２１μｍ以下の
均等膜厚にコーティングするのは不可能に近く、特（：
、再現性、生産性（設備投資、塗膜材料管理、生産機管
理等による歩留り向上）を考慮した場合は極めて困難で
ある。そのために、上記熱硬化法、ＵＶ硬化法のいずれ
の場合にも光学精度上要求される均等膜厚を管理してコ
ーティングすることができない。そして、さらにその上
に真空蒸着コーティングする透明誘電体材料（二対して
、シリコーンコーテイング材は、密着性は良好であるが
、熱を付加する硬化法のために基材の形状精嘲が基材の
熱変形や膜の応力変形のため（二悪くなり、膜厚も不均
等で厚くなるため、反射率（透過高）特性が大きく変動
するという問題点があった。
他方、アクリル系コーテイング材は、ＵＶ硬化時間が数
１０秒〜２．３分のため、熱による基材の形状精度低下
は少ないが、厚膜（：よる応力変形。
１０秒〜２．３分のため、熱による基材の形状精度低下
は少ないが、厚膜（：よる応力変形。
さらには基本的な反射防止膜で用いる透明誘電体材料と
の密着性が悪いため、剥離が生ずるという大きな問題点
があった。
の密着性が悪いため、剥離が生ずるという大きな問題点
があった。
第２の手段
全て真空蒸着（＝よって合成樹脂製光学部品の表面にＡ
ｆｉ２０Ｂ 、 ＺｎＯ１、ＭｇＦ、 、 ＳｉＯ
等の透明誘電体膜を形成させる方法である。
ｆｉ２０Ｂ 、 ＺｎＯ１、ＭｇＦ、 、 ＳｉＯ
等の透明誘電体膜を形成させる方法である。
しかしながら、上記方法の場合（＝は、室温８度の低温
雰囲気の中では密着性、成膜耐久性が不十分であり、そ
のために、従来の真空コーティング法では全く不可能で
あり、反射防止膜の成形手段としては利用できないもの
である。
雰囲気の中では密着性、成膜耐久性が不十分であり、そ
のために、従来の真空コーティング法では全く不可能で
あり、反射防止膜の成形手段としては利用できないもの
である。
発明の目的
本発明は、成膜耐久性２合成樹脂製光学部品との密着性
及び耐候性が高く、かつ生産性の高い合成樹脂製光学部
品の反射防止膜とその成形方法を提供しようとするもの
である。
及び耐候性が高く、かつ生産性の高い合成樹脂製光学部
品の反射防止膜とその成形方法を提供しようとするもの
である。
発明の概要
本発明は、合成樹脂製光学部品に第一層とじて形成され
るＳｉ被膜と、前記Ｓｉ被膜上に第２層として形成され
る５ｉｌｌ膜とにより構成される反射防止膜と、前記反
射防止膜を前処理、真空コーティング処理、後処理によ
り形成する方法とを提供することにより、上記本発明の
目的を達成しようとするものである。
るＳｉ被膜と、前記Ｓｉ被膜上に第２層として形成され
る５ｉｌｌ膜とにより構成される反射防止膜と、前記反
射防止膜を前処理、真空コーティング処理、後処理によ
り形成する方法とを提供することにより、上記本発明の
目的を達成しようとするものである。
実 施 例
以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明
する。
する。
本発明に係る合成樹脂製光学部品の反射防止膜は、光学
部品表面に第１層として形成されるＳｉ被膜とこのＳｉ
被膜上１：第２層として形成されるＳｉＯ彼膜とにより
構成されるのであるが、以下、上記構成の反射防止膜を
形成する方法Ｉ：ついて説明する。
部品表面に第１層として形成されるＳｉ被膜とこのＳｉ
被膜上１：第２層として形成されるＳｉＯ彼膜とにより
構成されるのであるが、以下、上記構成の反射防止膜を
形成する方法Ｉ：ついて説明する。
第１工程
射出成形等で成形されたアクリル等の合成樹脂製光学部
品の表面の汚れを洗浄にて十分除去する。
品の表面の汚れを洗浄にて十分除去する。
次に、乾燥機又は恒温槽で表面の成形歪、水分を除去す
るため３〜５ ＨＲ５，５０〜８０℃にて加熱アニール
処理をする。
るため３〜５ ＨＲ５，５０〜８０℃にて加熱アニール
処理をする。
第２工程
第１工程にて処理された合成樹脂製光学部品を第１図に
て示す真空蒸着装置１内に設置し、第１層のＳｉ被膜及
び第２層のＳｉＯ被膜を順次蒸着して反射防止膜を形成
する。この第２工程の処理方法（二ついて第１図を用い
て説明する。
て示す真空蒸着装置１内に設置し、第１層のＳｉ被膜及
び第２層のＳｉＯ被膜を順次蒸着して反射防止膜を形成
する。この第２工程の処理方法（二ついて第１図を用い
て説明する。
第１図は、真空蒸着装置１の概略縦断面を示すものであ
り、図（：おいて２で示すのはチャンバー。
り、図（：おいて２で示すのはチャンバー。
３で示すのはチャンバー２内を荒引排気又は水引排気す
るための真空排気口、４で示すのはＯ，、Ｎ。
るための真空排気口、４で示すのはＯ，、Ｎ。
又はＡｒ等のガス封入口□、５で示すのはＳｉ蒸着用の
電子銃、６で示すのはＳｉＯ蒸着用の抵抗加電極。
電子銃、６で示すのはＳｉＯ蒸着用の抵抗加電極。
７で示すのは被コーテイング材である合成樹脂製
ｉ光学部品８を設置するための回転ドームで、回
転軸９を中心として回転することにより合成樹脂製光学
部品８表面≦二電子銃５．抵抗加熱電極からのＳｔ蒸発
粒子１Ｏ２ＳｉＯ蒸発粒子１１を真空蒸着（コーティン
グ）しうるように設定構成されている。
ｉ光学部品８を設置するための回転ドームで、回
転軸９を中心として回転することにより合成樹脂製光学
部品８表面≦二電子銃５．抵抗加熱電極からのＳｔ蒸発
粒子１Ｏ２ＳｉＯ蒸発粒子１１を真空蒸着（コーティン
グ）しうるように設定構成されている。
１２で示すのはヒーターで、チャンバー２内を１０“〜
５０℃Ｃ二加熱しうるようＣ二なっている。
５０℃Ｃ二加熱しうるようＣ二なっている。
上記構成において、まず、第１工程にて洗浄。
アニール処理された合成樹脂製光学部品８を回転ドーム
７（：設置する。この際Ｃ；、電子銃５にＳｔを、又抵
抗加熱電極６にＳｉＯを仕掛け、真空排気口３から排気
を行なうととも１：、チャンバー２内をヒーター１２を
介して１０〜５０℃に加熱する。そして、加熱と排気と
を同時１：行ないながらチャン六−２内の到達真空度が
５ Ｘ １０”” Ｔｏｒｒ Ｃなるまで真空排気を行
なう。
７（：設置する。この際Ｃ；、電子銃５にＳｔを、又抵
抗加熱電極６にＳｉＯを仕掛け、真空排気口３から排気
を行なうととも１：、チャンバー２内をヒーター１２を
介して１０〜５０℃に加熱する。そして、加熱と排気と
を同時１：行ないながらチャン六−２内の到達真空度が
５ Ｘ １０”” Ｔｏｒｒ Ｃなるまで真空排気を行
なう。
チャンバー２内が上記到達真空度（−達した時点で、Ｓ
ｉを電子銃５を介してガス出しくＳｉの内部のガスを抜
きとること）を行ない、ガス出しの完了後に、Ｏ２をガ
ス封入口４から１〜３ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒになる
まで導入する。そして、Ｏ２イオンで１〜１０分間プレ
スパツタして合成樹脂製光学部品８表面の汚れ（コンタ
ミ）を除去するとともＣ二表面改質を行なう。合成樹脂
製光学部品８の表面をＯ２イオン（二てプレスパツタす
ると、プレスパツタ後の分光反射率特性をグラフ化した
第２図にて示すごとく表面反射率が時間の経過とともに
上り、表面改質が行なわれることが理解できる。即ち、
図において、実線１３で示すグラフ図は、プレスパツタ
しない場合の反射率を示し、第１の破１１１４と第２の
破線１５とで示す各グラフ図は、それぞれ３分、５分経
過時の反射率（罰を示すものであるが、図の測定結果か
ら明らかなごとく、表面反射率が時間の経過とともに向
上し、表面改質が行なわれているのが判断できる。なお
、第２図中、横軸は波長（ｎｍ）を示し、縦軸は反射率
（係）を示している。また、表面反射率は長時間プレス
パツタすればさら（：上るのではなく、逆に、長時間プ
レスパツタして処理しすぎると表面がエツチングしたよ
うに荒れを生じたり、合成樹脂が分解作用をおこしたり
するので、プレスパツタを長時間性なわない必要がある
。
ｉを電子銃５を介してガス出しくＳｉの内部のガスを抜
きとること）を行ない、ガス出しの完了後に、Ｏ２をガ
ス封入口４から１〜３ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒになる
まで導入する。そして、Ｏ２イオンで１〜１０分間プレ
スパツタして合成樹脂製光学部品８表面の汚れ（コンタ
ミ）を除去するとともＣ二表面改質を行なう。合成樹脂
製光学部品８の表面をＯ２イオン（二てプレスパツタす
ると、プレスパツタ後の分光反射率特性をグラフ化した
第２図にて示すごとく表面反射率が時間の経過とともに
上り、表面改質が行なわれることが理解できる。即ち、
図において、実線１３で示すグラフ図は、プレスパツタ
しない場合の反射率を示し、第１の破１１１４と第２の
破線１５とで示す各グラフ図は、それぞれ３分、５分経
過時の反射率（罰を示すものであるが、図の測定結果か
ら明らかなごとく、表面反射率が時間の経過とともに向
上し、表面改質が行なわれているのが判断できる。なお
、第２図中、横軸は波長（ｎｍ）を示し、縦軸は反射率
（係）を示している。また、表面反射率は長時間プレス
パツタすればさら（：上るのではなく、逆に、長時間プ
レスパツタして処理しすぎると表面がエツチングしたよ
うに荒れを生じたり、合成樹脂が分解作用をおこしたり
するので、プレスパツタを長時間性なわない必要がある
。
次（＝、Ｏ２封入量を５ Ｘ １０−ｓ〜Ｉ Ｘ １０
−’ Ｔｏｒｒとなるように設定し、電子銃５の０１反
応性蒸着でＳｉを合成樹脂製光学部材８表面に機械的膜
厚５〜２０ｎｍ蒸着する。
−’ Ｔｏｒｒとなるように設定し、電子銃５の０１反
応性蒸着でＳｉを合成樹脂製光学部材８表面に機械的膜
厚５〜２０ｎｍ蒸着する。
その後、８ Ｘ ＩＦ’ 〜３ Ｘ １０−’ Ｔｏｒ
ｒ −二なるまで０、を導入し、Ｏ，プラズマ中でＳｉ
Ｏを抵抗加熱電極６を介して蒸着する。
ｒ −二なるまで０、を導入し、Ｏ，プラズマ中でＳｉ
Ｏを抵抗加熱電極６を介して蒸着する。
なお、上記蒸着中は、チャンバー２内をヒーター１２を
介して１０〜５０℃（二保持設定しておく。
介して１０〜５０℃（二保持設定しておく。
第３工程
蒸着により合成樹脂製光学部品８に第１層としてＳｉ被
膜を形成し、その後に第２層としてＳｉＯ被膜を形成し
た後、真空徐冷な１０〜３０分行ない、その後に大気を
入れて大気リークする。
膜を形成し、その後に第２層としてＳｉＯ被膜を形成し
た後、真空徐冷な１０〜３０分行ない、その後に大気を
入れて大気リークする。
第４工程
大気にもどした後Ｃ二、蒸着を完了した合成樹脂１
表光学部８８を・乾燥機（１示省略）又）１１槽
（図示省略）を介して４０〜７０℃ζ；て５〜１２ＨＲ
Ｓエージングする。これにより、成膜歪を除去するとと
もに成膜硬度も助長することができる。
表光学部８８を・乾燥機（１示省略）又）１１槽
（図示省略）を介して４０〜７０℃ζ；て５〜１２ＨＲ
Ｓエージングする。これにより、成膜歪を除去するとと
もに成膜硬度も助長することができる。
第５工程
エージング後、自然冷却させて常温にもどす。
以上の工程で、合成樹脂製光学部品８表面に２層構造の
反射防止膜を形成することができるものである。特に、
本発明によれば、真空蒸着前に合成樹脂製光学部品８を
アニール処理すること（二より成形応力による歪を除去
することができ、又、まず第１層として密着性、耐久性
、耐候性の優れた５ｉｉｌ膜を蒸着し、次に第２層とし
て反射防止膜及び硬化膜としての機能を保有するＳｉＯ
被膜を蒸着して反射防止膜を形成させているので、合成
樹脂製光学部品８との密着性の良好な（従って、剥離し
にくい）、かつ耐久性、耐候性、硬度性の優れた反射防
止膜を形成することができるものである。
反射防止膜を形成することができるものである。特に、
本発明によれば、真空蒸着前に合成樹脂製光学部品８を
アニール処理すること（二より成形応力による歪を除去
することができ、又、まず第１層として密着性、耐久性
、耐候性の優れた５ｉｉｌ膜を蒸着し、次に第２層とし
て反射防止膜及び硬化膜としての機能を保有するＳｉＯ
被膜を蒸着して反射防止膜を形成させているので、合成
樹脂製光学部品８との密着性の良好な（従って、剥離し
にくい）、かつ耐久性、耐候性、硬度性の優れた反射防
止膜を形成することができるものである。
上記反射防止膜を形成した合成樹脂製光学部品８の耐久
性、耐候性、形状精度の評価結果を下表Ｃ二示す。なお
、合成樹脂基材としてはＰＭＭＡ 、 ＣＲ−３９，Ｐ
Ｃ，ＡＳ、 ＰＳ、 ＰＳＦ並びＣＢＫ−７（ガラス基
材）の各基材を用いた。又、評価結果の良好な場合には
○印を付しである。
性、耐候性、形状精度の評価結果を下表Ｃ二示す。なお
、合成樹脂基材としてはＰＭＭＡ 、 ＣＲ−３９，Ｐ
Ｃ，ＡＳ、 ＰＳ、 ＰＳＦ並びＣＢＫ−７（ガラス基
材）の各基材を用いた。又、評価結果の良好な場合には
○印を付しである。
表に示すごとく結果は全て良好であり、特に吸水性の小
さい樹脂は効果が大きかった。又、形状精度に関しては
コーティング前に対するコーテイング後の影響を測定し
た結果であり、又、ヒートサイクル（Ｉ）、ヒートサイ
クル（■）、温湿度テストに関しては耐クラツク性と形
状精度変化をみた結果である。表に示すとおり、全ての
基材１ニクラツクの発生は生じなかった。
さい樹脂は効果が大きかった。又、形状精度に関しては
コーティング前に対するコーテイング後の影響を測定し
た結果であり、又、ヒートサイクル（Ｉ）、ヒートサイ
クル（■）、温湿度テストに関しては耐クラツク性と形
状精度変化をみた結果である。表に示すとおり、全ての
基材１ニクラツクの発生は生じなかった。
第３図に反射率の測定結果を示す。図において横軸は波
長（ｎｍ）を示しており、縦軸は反射率（係）を示す。
長（ｎｍ）を示しており、縦軸は反射率（係）を示す。
図中、破線で示すグラフ１６は、樹脂単体の場合、即ち
コーティングなしの場合の反射率を示し、３．７１であ
った。これに対して、実線で示すグラフ１７は、合成樹
脂基材をＯ２イオンでプレスパツタし、その後に表面に
Ｓｉを蒸着し、次いでＳｉＯを蒸着して被膜形成させた
場合の反射率を示すものであり、図から明らかなように
、樹脂単体の場合に比してかなり反射率が低くなってい
る。
コーティングなしの場合の反射率を示し、３．７１であ
った。これに対して、実線で示すグラフ１７は、合成樹
脂基材をＯ２イオンでプレスパツタし、その後に表面に
Ｓｉを蒸着し、次いでＳｉＯを蒸着して被膜形成させた
場合の反射率を示すものであり、図から明らかなように
、樹脂単体の場合に比してかなり反射率が低くなってい
る。
周知のように、カメラ用レンズのごとき光学部品は、可
視領域での反射は小さい方がよいので、第３図の測定結
果より、本発明によれば反射率の点においてもより良好
な光学部品を得ることができるのである。
視領域での反射は小さい方がよいので、第３図の測定結
果より、本発明によれば反射率の点においてもより良好
な光学部品を得ることができるのである。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、次のような効果を奏す
ることができる。
ることができる。
（１）反射防止膜の密着性、耐久性が優れ、膜が剥れた
りすることがない。
りすることがない。
（２）反射防止膜の耐候性が優れ、特（：、クラック発
生が全くない。
生が全くない。
（３） ＤＩＰコートがなく、又、高温加熱Ｃ；よる
真空蒸着コートをしないので、樹脂基材の形状精度が維
持できる。
真空蒸着コートをしないので、樹脂基材の形状精度が維
持できる。
（４）ＤＩＰコートがないので、大規模な設備投資が必
要ない。又、ＤＩＰ液管理等の湿式における複雑な工程
管理１ニカを入れる必要がなく、真空コーティング範囲
のみの条件確認のみでよいので、品質管理が徹底できる
。
要ない。又、ＤＩＰ液管理等の湿式における複雑な工程
管理１ニカを入れる必要がなく、真空コーティング範囲
のみの条件確認のみでよいので、品質管理が徹底できる
。
（５）真空コーティングのため、クリーン性も優れてお
り、容易に１産システム化を図ることができる。
り、容易に１産システム化を図ることができる。
第１図は本発明に係る反射防止膜の蒸着装置の概略縦断
面図、第２図及び第３図は本発明に係る反射防止膜の測
定結果を示すグラフ図である。 ５・・・・・・電子銃 ６・・・・・・抵抗加熱電極 ７・・・・・・回転ドーム ８・・・・・・合成樹脂製光学部品 １０・・・・・・Ｓｉ蒸発粒子 １１・・・・・・ＳｉＯ蒸発粒子 １２・・・・・・ヒーター 吋 手続補正書く自発） 昭和６０年４月２日 昭和５９年特許願第２２１６７６号 ２、発明の名称 合成ＩＩＡ脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法
３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号名 称
（０３７） オリンパス光学工業株式会社取締
役社長 下 山 敏 部 ４、代理人 ６、補正の対象 ｐｎ、 ４．３．１ Ｊ ７、補正の内容 （１）明細書第９頁第１２行目に記載する’５ Ｘ Ｉ
Ｏ−５Ｔａｒｒ」を’５ＸＩＯ−らＴｏｒｒ−Ｉ Ｘ
１０−５Ｔｏｒｒｐと補正する。 （２）明細書第１Ｏ頁第１１行目に記載する「向上し」
を「上昇し、と補正する。 （３）明細書第１４頁第１５行目に記載する１３．７％
１を「３．７％〜３．８％ヨと補正する。 （４）図面中箱２図及び第３図を別紙の通り補正する。 ８、添付書類の目録
面図、第２図及び第３図は本発明に係る反射防止膜の測
定結果を示すグラフ図である。 ５・・・・・・電子銃 ６・・・・・・抵抗加熱電極 ７・・・・・・回転ドーム ８・・・・・・合成樹脂製光学部品 １０・・・・・・Ｓｉ蒸発粒子 １１・・・・・・ＳｉＯ蒸発粒子 １２・・・・・・ヒーター 吋 手続補正書く自発） 昭和６０年４月２日 昭和５９年特許願第２２１６７６号 ２、発明の名称 合成ＩＩＡ脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法
３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号名 称
（０３７） オリンパス光学工業株式会社取締
役社長 下 山 敏 部 ４、代理人 ６、補正の対象 ｐｎ、 ４．３．１ Ｊ ７、補正の内容 （１）明細書第９頁第１２行目に記載する’５ Ｘ Ｉ
Ｏ−５Ｔａｒｒ」を’５ＸＩＯ−らＴｏｒｒ−Ｉ Ｘ
１０−５Ｔｏｒｒｐと補正する。 （２）明細書第１Ｏ頁第１１行目に記載する「向上し」
を「上昇し、と補正する。 （３）明細書第１４頁第１５行目に記載する１３．７％
１を「３．７％〜３．８％ヨと補正する。 （４）図面中箱２図及び第３図を別紙の通り補正する。 ８、添付書類の目録
Claims (8)
- （１）合成樹脂製光学部品基材に第１層として被膜形成
されるＳｉ被膜と、前記Ｓｉ被膜上に第２層として被膜
形成されるＳｉＯ被膜とよりなる合成樹脂製光学部品の
反射防止膜。 - （２）合成樹脂製光学部品をアニール処理した後ガスイ
オンでプレスパッタ処理し、しかる後にＳｉ被膜を第１
層として形成し、しかる後にＳｉＯ被膜を第２層として
形成し、しかる後に後処理することを特徴とする合成樹
脂製光学部品の反射防止膜形成方法。 - （３）前記アニール処理は、合成樹脂製光学部品を洗浄
処理後、５０〜８０℃にて３〜５ＨＲＳ乾燥機又は恒温
槽で処理されることを特徴とする特許請求の範囲第２項
記載の合成樹脂製光学部品の反射防止膜形成方法。 - （４）前記ガスイオンによるプレスパッタ処理は、Ｏ＿
２、Ａｒ又はＮ＿２の各単体ガス又はそれらの混合ガス
のうちの少なくとも１種のガスイオンにて処理されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の合成樹脂製
光学部品の反射防止膜形成方法。 - （５）前記Ｓｉ被膜は、真空槽内にＯ＿２、Ｎ＿２等の
反応性ガスを導入し、その雰囲気中にて反応蒸着させて
被膜することを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の
合成樹脂製光学部品の反射防止膜形成方法。 - （６）前記Ｓｉ被膜は、合成樹脂製光学部品を真空中で
１０〜５０℃に加熱して被膜形成することを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の合成樹脂製光学部品の反射
防止膜形成方法。 - （７）前記ＳｉＯ被膜は、Ｏ＿２プラズマ中で反応蒸着
することにより被膜形成することを特徴とする特許請求
の範囲第２項記載の合成樹脂製光学部品の反射防止膜形
成方法。 - （８）前記後処理は、前記第一層、第２層の被膜形成後
に大気リークして取出した後、乾燥機又は恒温槽で５０
〜７０℃にて５〜１２ＨＲＳエージングする処理である
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の合成樹脂
製光学部品の反射防止膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221676A JPS6199101A (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221676A JPS6199101A (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199101A true JPS6199101A (ja) | 1986-05-17 |
Family
ID=16770523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59221676A Pending JPS6199101A (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜及びその形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199101A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011093235A1 (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | オリンパス株式会社 | 光学部品の製造方法 |
-
1984
- 1984-10-22 JP JP59221676A patent/JPS6199101A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011093235A1 (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | オリンパス株式会社 | 光学部品の製造方法 |
| JPWO2011093235A1 (ja) * | 2010-01-28 | 2013-06-06 | オリンパス株式会社 | 光学部品の製造方法 |
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