CN102703866A - 线性蒸发源装置及具有该装置的蒸发速率精控式蒸发设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种用于真空环境中对蒸发源进行蒸发的线性蒸发源装置，包括装置本体、绝缘套组件、加热丝及蒸发盖。装置本体上开设有开口向上的收容槽；绝缘套组件固定于收容槽内并包括第一水平绝缘套排，第一水平绝缘套排包括若干呈等间隔凸设于收容槽内并位于同一高度的第一绝缘套；加热丝依次缠绕于第一绝缘套上且两端与外界电源的电性连接；蒸发盖盖设于装置本体上并与收容槽形成加热腔，蒸发盖上开设有与第一绝缘套一一对应的置料槽，置料槽贯穿开设形成蒸发孔。本发明的线性蒸发源装置能形成多个独立的点蒸发源，使得蒸发物质在各处的浓度更均匀，从而为基板的均匀性镀膜创造优异的条件。另，本发明还公开了一种蒸发速率精控式蒸发设备。

Description

线性蒸发源装置及具有该装置的蒸发速率精控式蒸发设备

技术领域

本发明涉及一种蒸发源装置及具有该蒸发源装置的蒸发设备，尤其涉及一种适于设置在呈真空环境的真空腔体内对蒸发源进行线性蒸发的线性蒸发源装置及具有该线性蒸发源装置的蒸发速率精控式蒸发设备。

背景技术

玻璃基材等薄板已广泛用于制造LCD-TFT显示屏、有机发光显示器件(OLED)面板、太阳能面板及其他类似者。于此类应用中大多在洁净玻璃上镀覆薄膜，这类大型玻璃基材的制程通常包含实施多个连续步骤，包括如化学气相沉积制程(CVD)、物理气相沉积制程(PVD)、有机物质蒸镀、磁控溅射沉积或蚀刻制程。

由于上述制程的工艺要求均比较严格，尤其是有机物质蒸镀制程，不但需要在完全洁净的空间环境中进行，而且对于玻璃基板的镀膜厚度的要求也相当严格，需要工作人员可以在镀膜过程中做到全程监控，随时了解镀膜层的厚度以使得镀膜后的玻璃基板的镀膜层厚度达到工艺所需要的均匀性要求。其中，在玻璃基板镀膜的过程中，会使用到蒸发源装置对有机物质进行蒸发，且蒸发源装置性能的好坏直接影响到玻璃基板镀膜层厚度的均匀性，因此，选择好的蒸发源装置是确保玻璃基板镀膜层具有均匀性的重要条件之一。但是，现有的蒸发源装置却存在如下的不足：

现有的蒸发源装置是把所有的有机物质集中的置于蒸发源装置的加热腔内，然后通过蒸发源装置的加热板把加热腔内的有机物质进行加热蒸发形成蒸发物质，蒸发物质通过蒸发源装置的蒸发源喷嘴后向四周扩散，扩散的蒸发物质贴附于玻璃基板以实现玻璃基板的镀膜。由于蒸发物质的浓度是以蒸发源喷嘴为中心向两侧呈递减的布置，故使得与蒸发源喷嘴正对的玻璃基板的部位处的镀膜层厚度相应的比玻璃基板的其他部位的要厚一些，从而严重的影响到玻璃基板的镀膜层的均匀性，相应的影响到后续器件的质量及寿命。

因此，急需一种能为玻璃基板的均匀性镀膜提供优异条件的线性蒸发源装置。

发明内容

本发明的一目的在于提供一种能为玻璃基板的均匀性镀膜提供优异条件的线性蒸发源装置。

本发明的另一目的在于提供一种能精准控制有机物质的蒸发速率以使玻璃基板镀膜更均匀的蒸发速率精控式蒸发设备

为实现上述目的，本发明提供了一种线性蒸发源装置，适于设置在呈真空环境的真空腔体内对蒸发源进行线性蒸发，其中，所述线性蒸发源装置包括装置本体、绝缘套组件、加热丝及蒸发盖。所述装置本体上开设有开口向上的收容槽；所述绝缘套组件固定于所述收容槽内，所述绝缘套组件包括第一水平绝缘套排，所述第一水平绝缘套排包括若干呈等间隔凸设于所述收容槽内的第一绝缘套，凸设于所述收容槽内的第一绝缘套位于同一高度且悬于所述收容槽内；所述加热丝的一端依次缠绕于所述第一绝缘套上并与外界电源的正极电性连接，所述加热丝的另一端与外界电源的负极电性连接；所述蒸发盖盖设于所述装置本体上并与所述收容槽形成加热腔，所述蒸发盖上开设有与所述第一绝缘套一一对应的置料槽，所述置料槽贯穿开设形成蒸发孔。

较佳地，所述绝缘套组件还包括第二水平绝缘套排，所述第二水平绝缘套排与所述第一水平绝缘套排平行且位于所述第一水平绝缘套排的下方，所述第二水平绝缘套排包括若干呈等间隔设置的第二绝缘套，每一所述第二绝缘套悬于所述收容槽内且位于两相邻所述第一绝缘套的投影之间，所述加热丝呈轮流的缠绕于所述第一绝缘套和第二绝缘套上。通过由上述的第二绝缘套构成的第二水平绝缘套排，相应的增加了加热丝的缠绕长度，使得加热腔能在更短时间内达到所述需要的工艺温度以满足镀膜的要求。

较佳地，所述蒸发盖上凸伸出与所述蒸发孔连通的呈中空结构的蒸发源喷嘴，使得操作人员选择相应盖子去改变蒸发源喷嘴孔径的大小，或者对蒸发源喷嘴进行密封以满足玻璃基板不同的工艺镀膜要求。具体地，本发明线性蒸发源装置还包括若干可扣合于所述蒸发源喷嘴上的喷嘴盖，若干所述喷嘴盖分别为第一喷嘴盖和第二喷嘴盖，所述第一喷嘴盖开设有孔径小于所述蒸发源喷嘴孔径的喷孔，所述第二喷嘴盖扣合于所述蒸发源喷嘴上对所述蒸发源喷嘴密封，使得本发明的线性蒸发源装置能根据工艺要求更加准确的调配蒸发物质各处的浓度，从而为玻璃基板的均匀性镀膜创造最优的条件。

较佳地，穿出所述装置本体与外界电源正极及负极电性连接的加热丝两端分别套有陶瓷绝缘套，对加热丝的两端进行绝缘封装，提高安全性。

较佳地，本发明的线性蒸发源装置还包括隔热板及若干隔热支撑柱，所述隔热支撑柱的顶端与所述装置本体的底端固定连接，所述隔热支撑柱的底端沿竖直延伸出并与所述隔热板固定连接，所述隔热板与所述装置本体平行形成散热区。通过上述的隔热支撑柱和隔热板，便于加热腔内的热量的释放，从而便于对本发明的线性蒸发源装置的温度调节。

本发明的蒸发速率精控式蒸发设备适用于对基板进行精准的镀膜，该蒸发速率精控式蒸发设备包括提供真空环境的真空腔体及控制蒸发速率的控制器，基板收容于所述真空腔体内，其中，所述蒸发速率精控式蒸发设备还包括与所述控制器电性连接的传感器组件及本发明的线性蒸发源装置，所述线性蒸发源装置收容于所述真空腔体内并位于所述基板的正下方，所述传感器组件包括温度传感器及晶振传感器，所述晶振传感器设置于所述真空腔体内并与所述基板邻设，所述温度传感器安装在所述装置本体的内壁上。

较佳地，本发明的蒸发速率精控式蒸发设备还包括冷却装置，所述冷却装置包括冷却板及与所述控制器电性连接的冷却液输送器，所述冷却板开设有与所述冷却液输送器连通的冷却回路，所述冷却板收容于所述真空腔体内并呈紧贴的位于所述线性蒸发源装置的正下方。通过由上述的冷却板及冷却液输送器组成的冷却装置，在控制器的作用下，能对上述的线性蒸发源装置的温度进行精准的调节，从而更精准的控制有机物质的蒸发速率。

较佳地，本发明的蒸发速率精控式蒸发设备还包括挡板装置，所述挡板装置包括挡板及与所述控制器电性连接的挡板驱动器，所述挡板收容于所述真空腔体内并位于所述线性蒸发源装置与所述基板之间，所述挡板驱动器驱使所述挡板开通或遮挡所述线性蒸发源装置。通过由上述的挡板及挡板驱动器组成的挡板装置，在控制器的作用下，精准地开通或遮挡线性蒸发源装置，从而为玻璃基板的均匀镀膜及玻璃基板的更换创造极好的条件。

较佳地，所述晶振传感器位于所述基板的上方，使得晶振传感器对蒸发物质沉积速率的检测更精准，从而为蒸发速率的精准控制创造最优的条件。

与现有技术相比，由于本发明的第一绝缘套呈等间隔凸设于收容槽内并位于同一高度，加热丝的一端依次缠绕于第一绝缘套上并外界电源的正极电性连接，加热丝的另一端与外界电源的负极电性连接，蒸发盖盖设于装置本体上并与收容槽形成加热腔，蒸发盖上开设有与第一绝缘套一一对应的置料槽，置料槽贯穿开设形成蒸发孔，故使得本发明的线性蒸发源装置能在每一个蒸发孔内形成一个独立的蒸发源喷嘴，相互单独的蒸发源喷嘴使得各处的蒸发物质浓度更一致，因而为玻璃基板的均匀性镀膜创造极优的条件。另，由于本发明的蒸发速率精控式蒸发设备的晶振传感器、温度传感器及线性蒸发源装置的配合，并在控制器的作用下，使得本发明的蒸发速率精控式蒸发设备能根据晶振传感器检测的蒸发物质沉积速率，以及温度传感器检测的蒸发温度，精准地控制有机物质的蒸发速率，从而达到控制玻璃基板均匀性镀膜的目的。

附图说明

图1是本发明线性蒸发源装置的立体图。

图2是图1的分解图。

图3是本发明线性蒸发源装置的第一喷嘴盖的结构示意图。

图4是本发明线性蒸发源装置的第二喷嘴盖的结构示意图。

图5是本发明线性蒸发源装置的第三喷嘴盖的结构示意图。

图6是本发明的第一喷嘴盖扣合于蒸发源喷嘴上的结构示意图。

图7是本发明的第二喷嘴盖扣合于蒸发源喷嘴上的结构示意图。

图8是本发明的第三喷嘴盖扣合于蒸发源喷嘴上的结构示意图。

图9是本发明的第一、二、三喷嘴盖同时扣合于蒸发源喷嘴上的结构示意图。

图10是本发明的蒸发速率精控式蒸发设备的结构示意图。

具体实施方式

为了详细说明本发明的技术内容、构造特征，以下结合实施方式并配合附图作进一步说明。

请参阅图1和图2，本发明的线性蒸发源装置10用于设置在呈真空环境的真空腔体20的真空腔21(见图10)内对蒸发源进行线性蒸发，其中，该线性蒸发源装置10包括装置本体11、绝缘套组件13、加热丝14及蒸发盖15。所述装置本体11上开设有开口向上的收容槽12a；在本实施例中，所述绝缘套组件13固定于所述收容槽12a内并包括第一水平绝缘套排13a和第二水平绝缘套排13b，所述第一水平绝缘套排13a包括若干呈等间隔凸设于所述收容槽12a内的第一绝缘套131a，凸设于所述收容槽12a内的第一绝缘套131a位于同一高度且悬于所述收容槽12a内，所述第二水平绝缘套排13b与所述第一水平绝缘套排13a平行且位于所述第一水平绝缘套排13a的下方，所述第二水平绝缘套排13b包括若干呈等间隔设置的第二绝缘套131b，每一所述第二绝缘套131b悬于所述收容槽12a内且位于两相邻所述第一绝缘套131a的投影之间；所述加热丝14的一端依次轮流的缠绕于所述第一绝缘套131a和第二绝缘套131b上并外界电源的正极电性连接，所述加热丝14的另一端与外界电源的负极电性连接，相应地增加了加热丝14的缠绕长度，以便能在较短时间达到工艺所要的温度要求；所述蒸发盖15盖设于所述装置本体11上并与所述收容槽12a形成加热腔12(见图10)，所述蒸发盖15上开设有与所述第一绝缘套131a一一对应的置料槽(图中未示)，所述置料槽贯穿开设形成蒸发孔151。其中，为了便于加热腔12内的热量的释放，从而便于对本发明的线性蒸发源装置10的温度调节，故本发明的线性蒸发源装置10还设有隔热板19a及若干隔热支撑柱19b，所述隔热支撑柱19b的顶端与所述装置本体11的底端固定连接，所述隔热支撑柱19b的底端竖直延伸出并与所述隔热板19a固定连接，所述隔热板19a与所述装置本体11平行形成散热区19c；为了对穿出装置本体11的加热丝14的两端进行绝缘封装，提高安全性，故穿出装置本体11与外界电源正极及负极电性连接的加热丝14两端分别套有陶瓷绝缘套141。更具体地，如下：

较优者，上述提到的蒸发盖15上沿竖直方向凸伸出与上述提到的蒸发孔151连通的呈中空结构的蒸发源喷嘴15a，使得操作人员选择相应盖子去改变蒸发源喷嘴15a孔径的大小，或者对蒸发源喷嘴15a进行密封以满足玻璃基板200(见图10)不同的工艺镀膜要求。结合图3至图5，具体地，本发明线性蒸发源装置10还包括若干可扣合于所述蒸发源喷嘴15a上的喷嘴盖，若干所述喷嘴盖分别为第一喷嘴盖16和第二喷嘴盖18，所述第一喷嘴盖16开设有孔径小于所述蒸发源喷嘴15a孔径的喷孔16a，所述第二喷嘴盖18扣合于所述蒸发源喷嘴15a上对所述蒸发源喷嘴15a密封，使得本发明的线性蒸发源装置10能根据工艺要求更加准确的调配蒸发物质各处的浓度，从而为玻璃基板200的均匀性镀膜创造最优的条件。其中，为了更好的调节蒸发源喷嘴15a的孔径大小，故本发明的线性蒸发源装置10的喷嘴盖还包括第三喷嘴盖17，该第三喷嘴盖17开设有孔径小于喷孔16a的小喷孔17a。而第一喷嘴盖16、第二喷嘴盖18及第三喷嘴盖17扣合于蒸发源喷嘴15a上的方式是：第一喷嘴盖16的底端开设有拓展所述喷孔16a孔径的扣合槽16b，通过该扣合槽16b使第一喷嘴盖16扣合于蒸发源喷嘴15a上；第二喷嘴盖18的底端开设有扣合孔18b，通过该扣合孔18b扣合于蒸发源喷嘴15a上；第三喷嘴盖17的底端开设有拓展所述小喷孔17a的扣槽17b，通过该扣槽17b使第三喷嘴盖17扣合于蒸发源喷嘴15a上。其中，为使得小喷孔17a、喷孔16a及蒸发孔151的形成更易，故使上述的小喷孔17a、喷孔16a及蒸发孔151呈圆形开设。通过上述的第一喷嘴盖16、第二喷嘴盖18及第三喷嘴盖17的单独使用或者组合使用，使得本发明的线性蒸发源装置10能根据工艺要求更加准确的调配蒸发物质各处的浓度，从而为玻璃基板200的均匀性镀膜创造最优的条件。

结合图6至图9，对第一喷嘴盖16、第二喷嘴盖18和第三喷嘴盖17的使用原理进行描述：在图6中，根据具体的工艺环境要求，将第一喷嘴盖16扣合于蒸发源喷嘴15a上，并根据实际玻璃基板200的镀膜层厚度的要求，灵活地使第一喷嘴盖16扣合于蒸发源喷嘴15a上的位置，从而达到工艺所要求的镀膜均匀性的要求。在图7中，根据具体的工艺环境要求，将第二喷嘴盖18扣合于蒸发源喷嘴15a上，并根据实际玻璃基板200的镀膜层厚度的要求，灵活地使第二喷嘴盖18扣合于蒸发源喷嘴15a上的位置，从而达到工艺所要求的镀膜均匀性的要求。在图8中，根据具体的工艺环境要求，将第三喷嘴盖17扣合于蒸发源喷嘴15a上，并根据实际玻璃基板200的镀膜层厚度的要求，灵活地使第三喷嘴盖17扣合于蒸发源喷嘴15a上的位置，从而达到工艺所要求的镀膜均匀性的要求。而在图9中，通过第一喷嘴盖16、第二喷嘴盖18和第三喷嘴盖17的组合而达到灵活调节玻璃基板200的镀膜均匀性的要求。其中，在图6至图8中，调节玻璃基板200镀膜的均匀性是靠改变第一喷嘴盖16、第二喷嘴盖18或第三喷嘴盖17在蒸发源喷嘴15a上位置；而在图9中，调节玻璃基板200镀膜的均匀性不仅靠改变孔径的大小(即是喷孔16a大于小喷孔17a而小于蒸发孔151)，而且还靠改变第一喷嘴盖16、第二喷嘴盖18和第三喷嘴盖17在蒸发源喷嘴15a上的位置。

请参阅图10，本发明的蒸发速率精控式蒸发设备100用于对玻璃基板200进行精准的镀膜，其包括提供真空环境的真空腔体20、控制蒸发速率的控制器60、传感器组件及本发明的线性蒸发源装置10。所述真空腔体20具有真空腔21，玻璃基板200收容于所述真空腔体20的真空腔21内，所述控制器60分别与所述传感器组件和所述线性蒸发源装置10电性连接，所述线性蒸发源装置10收容于所述真空腔体20的真空腔21内并位于所述玻璃基板200的正下方，所述传感器组件包括温度传感器31及晶振传感器32，所述晶振传感器32设置于所述真空腔体20的真空腔21内并与所述玻璃基板200邻设，具体地是，晶振传感器32位于玻璃基板200的上方以使得晶振传感器32对蒸发物质沉积速率的检测更精准，从而为蒸发速率的精准控制创造优异的条件，而所述温度传感器31安装在所述装置本体11的内壁上。

其中，为能对上述的线性蒸发源装置10的温度进行精准的调节，从而更精准的控制有机物质的蒸发速率，并精准地开通或遮挡线性蒸发源装置10，从而为玻璃基板200的均匀镀膜及玻璃基板200的更换创造极好的条件，故本发明的蒸发速率精控式蒸发设备100还包括冷却装置及挡板装置，所述冷却装置包括冷却板41及与所述控制器60电性连接的冷却液输送器(图中未示)，所述冷却板41开设有与所述冷却液输送器连通的冷却回路，所述冷却板41收容于所述真空腔体20的真空腔21内并呈紧贴的位于所述线性蒸发源装置10的正下方，具体是紧贴于线性蒸发源装置10的隔热板19a上；而所述挡板装置包括挡板51及与所述控制器60电性连接的挡板驱动器(图中未示)，所述挡板51收容于所述真空腔体20的真空腔21内并位于所述线性蒸发源装置10与所述玻璃基板200之间，所述挡板驱动器驱使所述挡板51开通或遮挡所述线性蒸发源装置10。值得注意者，上述的真空腔21内的挡板51与挡板驱动器的连接并使真空腔体20密封是本领域普通技术人员所熟知的；上述的冷却板41与冷却液输送器的连接并使真空腔体20密封也是本领域普通技术人员所熟知的，故在此不再赘述。

结合附图，对本发明蒸发速率精控式蒸发设备的工作原理作详细的说明：首先，使真空腔体20的真空腔21处于真空状态；接着，控制器60使线性蒸发源装置10工作，工作的线性蒸发源装置10对置料槽内的有机物质进行加热，使得有机物质的加热温度缓慢上升，并分梯度地上升至所要求的蒸镀温度。而在有机物质的升温的过程中，温度传感器31不断的将有机物质的温度反馈给控制器60的同时，晶振传感器32也将沉积速率反馈给控制器60，由控制器60根据有机物质的温度和沉积速率之间的关系，转换成相应的输出电压值并作用于线性蒸发源装置10，从而使控制器60能精准的控制线性蒸发源装置10的有机物质的蒸发速率以达到玻璃基板200的镀膜要求；然后，控制器60控制挡板驱动器驱使挡板51开通玻璃基板200与线性蒸发源装置10之间空间连接，此时的蒸发物质通过各个蒸发孔151便均匀的镀于玻璃基板200，因而完成玻璃基板200的均匀性镀膜。其中，当线性蒸发源装置10的有机物质的温度要调节时，控制器控制冷却液输送器，驱使冷却液穿过冷却板41，从而带走线性蒸发源装置10的部分热量以达到精准调节温度的要求。

本发明的第一绝缘套131a呈等间隔凸设于所述收容槽12a内并位于同一高度，加热丝14的一端依次缠绕于第一绝缘套131a上并外界电源的正极电性连接，加热丝14的另一端与外界电源的负极电性连接，蒸发盖15盖设于装置本体11上并与收容槽12a形成加热腔12，蒸发盖15上开设有与第一绝缘套131a一一对应的置料槽，置料槽贯穿开设形成蒸发孔151，故使得本发明的线性蒸发源装置10能在每一个蒸发孔151内形成一个独立的蒸发源喷嘴，相互单独的蒸发源喷嘴使得各处的蒸发物质浓度更一致，因而为玻璃基板200的均匀性镀膜创造极优的条件。另，由于本发明的蒸发速率精控式蒸发设备100的晶振传感器32、温度传感器31及线性蒸发源装置10的配合，并在控制器60的作用下，使得本发明的蒸发速率精控式蒸发设备100能根据晶振传感器32检测的蒸发物质沉积速率，以及温度传感器31检测的蒸发温度，精准地控制有机物质的蒸发速率，从而达到控制玻璃基板200均匀性镀膜的目的。

以上所揭露的仅为本发明的较佳实例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于本发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种线性蒸发源装置，适于设置在呈真空环境的真空腔体内对蒸发源进行线性蒸发，其特征在于，所述线性蒸发源装置包括：

装置本体，所述装置本体上开设有开口向上的收容槽；

绝缘套组件，所述绝缘套组件固定于所述收容槽内，所述绝缘套组件包括第一水平绝缘套排，所述第一水平绝缘套排包括若干呈等间隔凸设于所述收容槽内的第一绝缘套，凸设于所述收容槽内的第一绝缘套位于同一高度且悬于所述收容槽内；

加热丝，所述加热丝的一端依次缠绕于所述第一绝缘套上并与外界电源的正极电性连接，所述加热丝的另一端与外界电源的负极电性连接；以及

蒸发盖，所述蒸发盖盖设于所述装置本体上并与所述收容槽形成加热腔，所述蒸发盖上开设有与所述第一绝缘套一一对应的置料槽，所述置料槽贯穿开设形成蒸发孔。

2.如权利要求1所述的线性蒸发源装置，其特征在于，所述绝缘套组件还包括第二水平绝缘套排，所述第二水平绝缘套排与所述第一水平绝缘套排平行且位于所述第一水平绝缘套排的下方，所述第二水平绝缘套排包括若干呈等间隔设置的第二绝缘套，每一所述第二绝缘套悬于所述收容槽内且位于两相邻所述第一绝缘套的投影之间，所述加热丝呈轮流的缠绕于所述第一绝缘套和第二绝缘套上。

3.如权利要求1所述的线性蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发盖上凸伸出与所述蒸发孔连通的呈中空结构的蒸发源喷嘴。

4.如权利要求3所述的线性蒸发源装置，其特征在于，所述线性蒸发源装置还包括若干可扣合于所述蒸发源喷嘴上的喷嘴盖，若干所述喷嘴盖分别为第一喷嘴盖和第二喷嘴盖，所述第一喷嘴盖开设有孔径小于所述蒸发源喷嘴孔径的喷孔，所述第二喷嘴盖扣合于所述蒸发源喷嘴上对所述蒸发源喷嘴密封。

5.如权利要求1所述的线性蒸发源装置，其特征在于，穿出所述装置本体与外界电源正极及负极电性连接的加热丝两端分别套有陶瓷绝缘套。

6.如权利要求1所述的线性蒸发源装置，其特征在于，所述线性蒸发源装置还包括隔热板及若干隔热支撑柱，所述隔热支撑柱的顶端与所述装置本体的底端固定连接，所述隔热支撑柱的底端竖直延伸出并与所述隔热板固定连接，所述隔热板与所述装置本体平行形成散热区。

7.一种蒸发速率精控式蒸发设备，适用于对基板进行精准的镀膜，所述蒸发速率精控式蒸发设备包括提供真空环境的真空腔体及控制蒸发速率的控制器，基板收容于所述真空腔体内，其特征在于，所述蒸发速率精控式蒸发设备还包括与所述控制器电性连接的传感器组件及如权利要求1至6任一项所述的线性蒸发源装置，所述线性蒸发源装置收容于所述真空腔体内并位于所述基板的正下方，所述传感器组件包括温度传感器及晶振传感器，所述晶振传感器设置于所述真空腔体内并与所述基板邻设，所述温度传感器安装在所述装置本体的内壁上。

8.如权利要求7所述的蒸发速率精控式蒸发设备，其特征在于，所述蒸发速率精控式蒸发设备还包括冷却装置，所述冷却装置包括冷却板及与所述控制器电性连接的冷却液输送器，所述冷却板开设有与所述冷却液输送器连通的冷却回路，所述冷却板收容于所述真空腔体内并呈紧贴的位于所述线性蒸发源装置的正下方。

9.如权利要求7所述的蒸发速率精控式蒸发设备，其特征在于，所述蒸发速率精控式蒸发设备还包括挡板装置，所述挡板装置包括挡板及与所述控制器电性连接的挡板驱动器，所述挡板收容于所述真空腔体内并位于所述线性蒸发源装置与所述基板之间，所述挡板驱动器驱使所述挡板开通或遮挡所述线性蒸发源装置。

10.如权利要求7所述的蒸发速率精控式蒸发设备，其特征在于，所述晶振传感器位于所述基板的上方。

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