CN102683607B - 一种有机电致发光器件及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种有机电致发光器件，包括依次叠加设置的透光基底层、阳极层、有机电致发光结构和阴极层；所述透光基底层、阳极层、有机电致发光结构和阴极层的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的所述凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；两两相邻的层与层之间所述凹部与凸部相互叠加设置；所述透光基底层设有阵列分布的凸部的表面作为出光面；所述有机电致发光结构含有至少一层发光层。本发明有机电致发光器件发光效率、发光亮度高，发光性能稳定的有机电致发光器件。该有机电致发光器件制备方法工序简单，提高了生产效率，降低了生产成本，适于工业化生产。

Description

一种有机电致发光器件及其制备方法

技术领域

本发明属于电光源技术领域，具体的说是涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

电光源行业一直是世界各国竞相研究的热点，在世界经济中占据着非常重要的地位。目前广泛使用的光源为气体放电光源，这种光源的原理是将灯的内部经抽真空后充入含汞的混合气体，利用气体放电发光或气体放电产生的紫外光激发荧光粉发光。然而，气体放电光源的脉冲光闪容易导致人视觉疲劳，而且汞污染环境，随着社会和科技的进步，研究开发节能又环保的绿色光源来替代传统光源，成为各国竞相研究的重要课题。

有机电致发光器件(OLED)是电光源中的一种。OLED是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层，发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时，发光层就产生光辐射。OLED显示器件具有的主动发光、发光效率较高、功耗低、轻、薄、无视角限制等优点，被业内人士认为是最有可能在未来的显示器件市场上占据霸主地位的新一代显示器件。由于全球越来越多的显示器厂家纷纷投入研发，大大的推动了OLED的产业化进程，使得OLED产业的成长速度惊人，目前已经到达了大规模量产的前夜。作为一项崭新的显示技术，OLED技术在过去的十多年里发展迅猛，取得了巨大的成就。1987年，美国Eastman Kodak公司的C.W.Tang和VanSlyke报道了有机电致发光研究中的突破性进展。利用超薄薄膜技术制备出了高亮度，高效率的双层小分子有机电致发光器件。在该双层结构的器件中，10V下亮度达到1000cd/m²，其发光效率为1.51lm/W、寿命大于100小时。1990年，英国剑桥大学Burronghes等人首次提出用高分子共轭聚合物聚苯撑乙烯(PPV)制成聚合物电致发光(EL)器件，随后，美国加洲大学Heeger教授领导的实验组于1991年进一步确证了聚合物电致发光特性，并进行了改进。从此有机发光器件的研究开辟了一个全新的领域-聚合物电致发光器件(PLED)。自此，有机电致发光器件在短短的十几年内得到了迅速的发展。

目前，有机电致发光器件已经获得了如下的一些优点：(1)OLED属于扩散型面光源，不需要像发光二极管(LED)一样通过额外的导光系统来获得大面积的白光光源；(2)由于有机发光材料的多样性，OLED照明可根据需要设计所需颜色的光；(3)OLED可在多种衬底如玻璃、陶瓷、金属、塑料等材料上制作，这使得设计照明光源时更加自由；(4)采用制作OLED显示的方式制作OLED照明面板，可在照明的同时显示信息；(5)OLED在照明系统中还可被用作可控色，允许使用者根据个人需要调节灯光氛围；(6)OLED能做成透光器件，这样当器件应用在窗户玻璃上时，白天以外光为光源，夜晚则能作为照明光源。

虽然目前OLED具有上述所述的优点，但也存在不足之处。其中，比较突出的不足在于现有的OLED发光效率、发光强度不高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术之缺陷，提供一种发光效率、发光亮度高，发光性能稳定的有机电致发光器件。

以及，上述有机电致发光器件的制备方法。

为了实现上述发明目的，本发明的技术方案如下：

一种有机电致发光器件，包括依次叠加设置的透光基底层、阳极层、有机电致发光结构和阴极层；所述透光基底层、阳极层、有机电致发光结构和阴极层的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的所述凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；两两相邻的层与层之间所述凹部与所述凸部相互叠加设置，其中所述透光基底层设有阵列分布的所述凸部的表面作为发光面；所述有机电致发光结构含有至少一层发光层。

以及，一种有机电致发光器件制备方法，包括如下步骤：

提供具有相对的第一表面和第二表面的透光基板，在所述透光基板的第一表面形成阵列分布的凸透镜型的凸部，在所述第二表面形成阵列分布的凹透镜型的凹部，制备成透光基底层；

在所述透光基底层的第二面上蒸镀阳极层；

在所述阳极层的与透光基底层相对的表面蒸镀有机电致发光结构；

在所述有机电致发光结构的与阳极层相对的表面蒸镀阴极层，得到所述的有机电致发光器件。

本发明有机电致发光器件各层的一表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，分别在与各自设有所述凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹部，这样，透光基底层、阳极层设有阵列分布的凹部的表面面向发光层设置，能有效的降低光线在透光基底层、阳极层界面发生反射，增强光线的折射，将从发光层发射来的光更多的从该透光基底层射出；而阴极层的设有阵列分布的凸部的表面面向发光层设置，能有效的降低光线在阴极层界面发生折射，增强光线的反射，将从发光层发射来的光更多的从该阴极层反射至透光基底层并射出，从而提高了该有机电致发光器件的发光效率和发光亮度。由于含有至少一层发光层，因此，可以灵活调节该有机电致发光器件发光颜色。同时，采用镀层的方式依次在透光基底层上镀层，使得该有机电致发光器件各层之间形成良好的欧姆接触，提高了其发光性能，且发光性能稳定，制备方法工序简单，提高了生产效率，降低了生产成本，适于工业化生产。

附图说明

图1是本发明实施例有机电致发光器件一种优选结构示意图；

图2是本发明实施例有机电致发光器件另一种优选结构示意图；

图3是本发明实施例有机电致发光器件又一种优选结构示意图；

图4是图3所示有机电致发光器件主视图；

图5是本发明实施例有机电致发光器件制备方法的流程示意图；

图6是本发明实施例3制备的有机电致发光器件与对比实施例有机电致发光器件的电流效率-亮度进行对比测试图；其中，曲线A是实施例3制备的有机电致发光器件电流效率-亮度关系曲线，曲线B是对比实施例有机电致发光器件电流效率-亮度关系曲线。

具体实施方式

为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明实施例提供一种发光效率、发光亮度高，发光性能稳定的有机电致发光器件。如图1至图4所示，其包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、有机电致发光结构3和阴极层4；透光基底层1、阳极层2、有机电致发光结构3和阴极层4的一表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，透光基底层1、阳极层2、有机电致发光结构3和阴极层4分别在与各自设有凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；在透光基底层1、阳极层2、有机电致发光结构3和阴极层4的两两相邻的层与层之间凹部与凸部相互叠加设置，其中，透光基底层1设有阵列分布的凸部的表面作为本发明实施例有机电致发光器件的发光面；有机电致发光结构3含有至少一层发光层33。这样，透光基底层1、阳极层2的设有阵列分布的凹部的表面均面向发光层设置，能有效的降低光线在透光基底层1、阳极层2界面发生反射，增强光线的折射，将从发光层33发射来的光更多的从该透光基底层1射出；而阴极层4的设有阵列分布的凸部的表面面向发光层设置，能有效的降低光线在阴极层4界面发生折射，增强光线的反射，将从发光层33发射来的光更多的从该阴极层4反射至透光基底层1并射出，从而提高了该有机电致发光器件的发光效率和发光亮度。由于含有至少一层发光层33，因此，可以灵活调节该有机电致发光器件发光颜色。

优选地，上述透光基底层1、阳极层2、有机电致发光结构3和阴极层4的两两相邻的两层中，其中一层的凹部优选与另一层的凸部匹配叠加设置。其中，透光基底层1、阳极层2、有机电致发光结构3和阴极层4中的凹透镜型的凹部直径均优选大于0μm、小于或等于20μm，焦距优选为大于0、小于或等于30μm；凸透镜型的凸部直径均优选大于0μm、小于或等于20μm，焦距优选为大于0、小于或等于30μm。该优选直径和焦距的凹透镜型的凹部和凸透镜型的凸部能进一步的降低光线在透光基底层1与有机电致发光结构3之间的反射，提高光线的折射，同时降低光线在有机电致发光结构3与阴极4之间的折射，提高光线的反射，从而进一步提高该有机电致发光器件出光效率和发光亮度。本发明实施例有机电致发光器件在工作时，由发光层33被激发，当发出的光射向透光基底层1、阳极层2时，光会发生折射和反射，发生反射的光造成该有机电致发光器件射出光的损耗，而发生折射的光从透光基底层1射出；当发出的光射向阴极层4时，光也会发生折射和反射，发生折射的光造成该有机电致发光器件射出光的损耗，而发生反射的光反射至透光基底层1并射出，从而增强有机电致发光器件的发出光的取光效率。因此，该有机电致发光器件各层的机构特性能有效地改变光发生折射和反射的界面特性，使原在透光基底层1界面发生全反射或反射的光发生折射和原从阴极层4界面发生折射的光发生反射，从透光基底层1射出，进一步增强该有机电致发光器件的发出光的取光效率。

具体地，上述透光基底层1的材质可以选取本技术领域中折射率较高的透光材料，如玻璃和透光聚合物薄膜材料等。透光基底层1的厚度可以采用本领域常用的厚度。阳极层2的厚度优选为100～150nm，其材质优选为铟锡氧化物(ITO)、掺铝的氧化锌(AZO)、掺铟的氧化锌(IZO)中的至少一种，更优选为铟锡氧化物(ITO)。该阳极层2优选的厚度和材质能有效的降低其在通电过程中所产生的热量和具有优良的透光性能。

上述有机电致发光结构3含有的发光层33可以是一层发光层，也可以是两层或者三层发光层。当然，还可以根据实际需要，灵活设置三层以上的发光层。该发光层33的每一层厚度优选为10～20nm，发光层33的材质可以是本技术领域常用的发光材料。本发明实施例中有机电致发光结构3优选含有的三层发光层，如图3所示，有机电致发光结构含有依次叠加设置的红光发光层331、绿光发光层332和蓝光发光层333。在工作过程中，该红光发光层331、绿光发光层332和蓝光发光层333三层发光层33共同作用，使得该有机电致发光器件发出白光，可将该有机电致发光器件用于照明领域。其中，红光发光层331的材质优选为苯基吗琳(NPB)掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)，绿光发光层332的材质优选为TPBI掺杂绿Ir(ppy)₃，蓝光发光层333的材质优选为蓝FIrpic。

进一步地，上述有机电致发光结构3还包括空穴注入层31、空穴传输层32中的至少一层和/或电子传输层34、电子注入层35中的至少一层。其中，空穴注入层31、空穴传输层32中的至少一层叠加设置在阳极层2与发光层33之间，电子传输层34、电子注入层35中的至少一层叠加设置在发光层33与阴极层4之间。

上述发光层33与空穴注入层31、空穴传输层32中的至少一层和/或电子传输层34、电子注入层35中的至少一层的一表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，分别在与各自设有所述凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；在发光层33与空穴注入层31、空穴传输层32中的至少一层和/或电子传输层34、电子注入层35中的至少一层的两两相邻的两层中，其中一层的凹部与另一层的凸部叠加设置。当含有空穴注入层31、空穴传输层32中的至少一层时，空穴注入层31或空穴传输层32中的凸部与阳极层的凹部叠加设置；当含有电子传输层34、电子注入层35中的至少一层时，电子传输层34或电子注入层35中的凹部与阴极层4的凸部叠加设置。

上述空穴注入层31的厚度优选为10～15nm，其材质优选为过渡金属氧化物，更优选为MoO₃、WO₃、VO_x或WO_x。空穴传输层32厚度优选为40～60nm，其材质优选为苯基吗琳(NPB)，当然也可以为N，N’-二(3-甲基苯基)-N，N’-二苯基-4，4’-联苯二胺(TPD)、N，N’-(1-萘基)-N，N’-二苯基-4，4’-联苯二胺(TPD)、1，3，5-三苯基苯(TDAPB)、酞菁铜CuPc或P型掺杂无机半导体中的至少一种。电子传输层34的厚度优选为20～80nm，其材质优选为8-羟基喹啉铝(Alq3)、2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基)苯基-1，3，4-噁二唑(PBD)、2，5-二(1-萘基)-1，3，4-二唑(BND)、1，2，4-三唑衍生物(如TAZ等)、N-芳基苯并咪唑(TPBI)、喹喔啉衍生物(TPQ)或n型掺杂无机半导体中的至少一种。电子注入层35的厚度优选为1～2nm，其材质优选为CsF或LiF，当然也可以用本领域常用的其他材质替代，如，碱土金属氟化物(NaF、CaF₂、MgF₂)或氯化物(NaCl、KCl、RbCl)。

在上述有机电致发光结构3中，空穴和电子彼此相遇并复合，发光材料直接或通过能量传递被激发，激发的发光材料通过发光返回基态。在有机电致发光结构3中加入了载流子注入层来改善载流子的注入效率，不但保证了有机功能层与透光基底层1间的良好附着性，而且还使得来自阳极层2和阴极层4的载流子更容易的注入到有机功能薄膜中。其中，由于所用的空穴注入层31优选为过渡金属氧化物，这种材料与有机空穴传输层32能级比较匹配，使得阳极层2的空穴注入得到了明显的加强，另外，空穴注入层31与阳极层2之间能形成欧姆接触，加强了导电性能，进一步提高该有机电致发光器件的空穴注入能力，提高了其发光亮度和强度，有效的调节电子和空穴的注入和传输速率，平衡载流子，控制复合区域，获得了理想的发光亮度和发光效率。同时，空穴注入层31和/或空穴传输层32的设有阵列分布的凹部的表面均对应着发光层33设置，能有效的降低光线在空穴注入层31和/或空穴传输层32界面发生反射，增强光线的折射；电子传输层34和/或电子注入层35的设有阵列分布的凸部的表面对应着发光层33设置，能有效的降低光线在电子传输层34和/或电子注入层35界面发生折射，增强光线的反射，将从发光层33发射来的光更多的反射至透光基底层1并射出，从而提高了该有机电致发光器件的发光效率和发光亮度。

上述阴极层4的厚度优选为100～150nm，其材质优选为铝(Al)，当然，也可以采用本领域其他常用的金属替代。该优选厚度和材质的阴极层4能有效的降低在通电时电极的电阻，降低电极的放热与增强电极的散热性能，相应的降低生产成本。在选取该阴极层4和上述阳极层2的材料时，应该使作为该阴极层4的材料的功函数值低于上述阳极层2的材料的功函数值。

由上所述，本发明实施例有机电致发光器件可以至少是如下的几种结构的优选实施例，当然不仅仅限于下述结构：

第一种结构：如图1所示，本发明实施例有机电致发光器件包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和阴极层4。透光基底层1、阳极层2、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和阴极层4的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；两两相邻的层与层之间凹部与凸部相互叠加设置；其中，透光基底层1的设有凸部11的表面为有机电致发光器件的外表面，该表面作为出光面，透光基底层1的设有凹部12的表面与阳极层2的凸部叠加设置。该空穴传输层32、发光层33、电子传输层34构成有机电致发光结构3。

第二种结构：如图2所示，本发明实施例有机电致发光器件包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35和阴极层4。透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35和阴极层4的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；两两相邻的两层与层之间的凹部与另一层的凸部叠加设置；其中，透光基底层1的设有凸部11的表面为有机电致发光器件的外表面，该表面作为出光面，透光基底层1的设有凹部12的表面与阳极层2的凸部叠加设置。该空穴传输层32、发光层33、电子传输层34构成有机电致发光结构3。

第三种结构：如图3所示，本发明实施例有机电致发光器件包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35和阴极层4。该有机电致发光器件的主视图如图4。透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35和阴极层4的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；两两相邻的层与层之间的凹部与凸部相互叠加设置；其中，透光基底层1的设有凸部11的表面为有机电致发光器件的外表面，该表面作为出光面，透光基底层1的设有凹部12的表面与阳极层2的凸部叠加设置。该空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35构成有机电致发光结构3。

本发明实施例还提供了上述有机电致发光器件的制备方法，该方法工艺流程图如图5所示，同时参见图1或图2或图3，该方法包括如下步骤：

S1.提供具有相对的第一表面和第二表面的透明基板，在透明基板的第一表面形成阵列分布的凸透镜型的凸部11，第二表面的形成阵列分布的凹透镜型的凹部12，制备成透明基底1；其中，透明基板的第一表面构成透光基底1的第一表面，透明基板的第二表面即是透光基底1的第二表面；

S2.在透光基底层1的第二表面上蒸镀阳极层2；

S3.在阳极层2的与透光基底层1相对的表面蒸镀有机电致发光结构3；

S4.在有机电致发光结构3的与阳极层2相对的表面蒸镀阴极层4，得到所述的有机电致发光器件；

具体地，上述有机电致发光器件制备方法的S1步骤中，透光基底层1具有相对的第一表面和第二表面，在第一表面设有阵列分布的凸透镜型的凸部11，在第二表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部12。该透光基底层1优选按如下方法获取：

(1)将光刻胶涂在透光基板的第二表面上，再采用掩模板对光刻胶进行曝光并蚀刻，形成阵列分布的光刻胶，然后采用各向同性反应离子刻蚀(RIE)，在透明基板第二表面制作凹透镜型的凹部12；

(2)先采用保护胶将透光基板的第二表面保护起来，再将光刻胶涂在第一表面上，采用光刻工艺将光刻胶制成阵列分布的光刻胶圆柱体模型，并将光刻胶圆柱体模型放在热板上熔化形成光刻胶凸透镜，然后将光刻胶凸透镜作为掩模板，采用反应离子刻蚀(RIE)法在透光基板的第一表面制作凸透镜型的凸部11，最后去胶，从而得到该透光基底层1。

上述对光刻胶进行曝光并蚀刻、光刻工艺和各向同性反应离子刻蚀(RIE)方法按本领域现有方法进行处理即可。在对透光基板上涂光刻胶之前，优选对其前置处理，该前置处理的流程优选为：洗洁精清洗→乙醇清洗→丙酮清洗→纯水清洗，每个清洗步骤均用超声波清洗机进行清洗。每次洗涤优选采用清洗5分钟，停止5分钟，分别重复3次的方法。清洗完毕后，用红外烘箱烘干待用。该前处理其主要作用是改善透光基板表面的湿润性和吸附性，而且通过表面处理后能够进一步去除其表面的有机污染物。

上述有机电致发光器件制备方法的S2步骤中，镀阳光极2的方式还可以是采用溅射或喷镀其他方式。阳极层2的材质以及镀的厚度已在上文中阐述，在此不再赘述。

上述有机电致发光器件制备方法的S3步骤中，镀有机电致发光结构3的方式还可以是采用溅射、喷镀或化学沉积方式等其他方式。当该有机电致发光结构3优选包含依次叠加设置的空穴注入层31、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和电子注入层35时，采用蒸镀在阳极层2的与透光基底层1相对的表面上依次镀上空穴注入层31、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和电子注入层35。其中，镀空穴注入层31的方式优选采用蒸镀，其蒸镀的工艺条件优选为：真空度5×10^-5Pa～7×10^-5Pa，蒸发速度0.1～空穴传输层32、电子传输层34的方式优选采用蒸镀，其蒸镀的工艺条件优选为：真空度3×10^-5Pa～5×10^-5Pa，蒸发速度0.1～镀发光层33的方式优选采用蒸镀，其蒸镀的工艺条件优选为：真空度3×10^-5Pa～5×10^-5Pa，蒸发速度0.1～镀电子注入层35的方式优选采用蒸镀，其蒸镀的工艺条件优选为：真空度5×10^-5Pa～7×10^-5Pa，蒸发速度0.1～

上述有机电致发光器件制备方法的S4步骤中，镀阴极层4的方式还可以是采用溅射或喷镀等其他方式，更优选为蒸镀方式。在镀阴极层4的过程中，真空度优选为5×10^-5Pa～7×10^-5Pa，蒸发速度0.5～阴极层4的材质以及镀的厚度已在上文中阐述，在此不再赘述。

上述有机电致发光器件采用镀层的方式依次在透光基底层1上镀层，使得该有机电致发光器件各层之间形成良好的欧姆接触，提高了其发光性能，制备方法工序简单，提高了生产效率，降低了生产成本，适于工业化生产。

现结合具体实例，对本发明进行进一步详细说明。

实施例1

本实施例的有机电致发光器件结构如图1所示，该有机电致发光器件包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和阴极层4。其中，透光基底层1、阳极层2、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和阴极层4的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的该凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；在透光基底层1、阳极层2、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和阴极层4的两两相邻的层与层之间的凹部与凸部相互叠加设置；透光基底层1的设有凸部11的表面为本实施例有机电致发光器件的外表面，该外表面作为该有机电致发光器件的出光面。该空穴传输层32、发光层33、电子传输层34构成有机电致发光结构3。透光基底层1、阳极层2、空穴传输层32、发光层33、电子传输层34和阴极层4各层中的凸透镜型的凸部直径、凹透镜型的凹部直径均为20μm，焦距均为30μm；透光基底层1为透光玻璃；阳极层2为150nm厚的ITO，空穴传输层32为60nm厚的TPD，发光层33为20nm厚的NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)，电子传输层34为20nm厚的Alq₃；阴极层4为150nm厚的Al。

其制备方法如下：

(1)透光基底层1的制备：

(1.1)获取具有相对的第一表面和第二表面的透明基板，将该透光基板按洗洁精清洗→乙醇清洗→丙酮清洗→纯水清洗的流程进行清洗，每个清洗步骤均用超声波清洗机进行清洗。每次洗涤优选采用清洗5分钟，停止5分钟，分别重复3次的方法。清洗完毕后，用红外烘箱烘干待用；

(1.2)将光刻胶涂在透光基板的第二表面，再采用掩模板对光刻胶进行曝光并蚀刻，形成阵列分布的光刻胶，然后采用各向同性反应离子刻蚀(RIE)，在透明基板的第二表面制作凹透镜12，最后去胶；

(1.3)先采用保护胶将透光基板的第二表面保护起来，再将光刻胶涂在第一表面上，采用光刻工艺将光刻胶制成阵列分布的光刻胶圆柱体模型，并将光刻胶圆柱体模型放在热板上熔化形成光刻胶凸透镜，然后将光刻胶凸透镜作为掩模板，采用反应离子刻蚀(RIE)法在透光基板的第一表面制作凸透镜11，从而得到该透光基底层1；其中，透明基板的第一表面构成透光基底1的第一表面，透明基板的第二表面既是透光基底1的第二表面；

(2)采用磁控溅射方式在透光基底层1的透光基底层1的第二表面上制作一层ITO层，形成阳极层2；其中，磁控溅射的真空度2.7×10^-3Pa；

(3)在阳极层2的与透光基底层1相对的外表面采用蒸镀方式依次镀上TPD层32、NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层33、Alq₃层34，形成有机电致发光结构3；其中，TPD层32、镀NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层33的真空度为5×10^-5Pa，蒸发速度为镀Alq3层34的真空度为5×10^-5Pa，蒸发速度为

(4)在Alq₃层34的与NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层33相对的表面蒸镀Al层4，从而形成阴极层4；镀Al层4真空度均为7×10^-5Pa，蒸发速度均为

(5)蒸发完成后对器件进行封装，得到本实施例的有机电致发光器件；

其中，该阳极层2、TPD层32、NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层33、Alq₃层34和阴极层4的一表面分别成有阵列分布的凸透镜型的凸部，阳极层2、TPD层32、NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层33、Alq₃层34和阴极层4分别在与各自形成有所述凸部的表面相对的另一表面均形成有阵列分布的凹部；阳极层2、TPD层32、NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层33、Alq₃层34和阴极层4的两两相邻的两层中，其中一层的凹部与另一层的凸部叠加设置。

实施例2

本实施例的有机电致发光器件结构如图2所示，该有机电致发光器件包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35和阴极层4。其中，透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35和阴极层4的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的该凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；在透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35和阴极层4的两两相邻的层与层之间的凹部与凸部相互叠加设置；透光基底层1的设有凸部11的表面为本实施例有机电致发光器件的外表面，该外表面作为该有机电致发光器件的出光面，透光基底层1的设有凹部12的表面与阳极层2的凸部叠加设置。该空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35构成有机电致发光结构3。透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、红光发光层331、蓝光发光层333、电子注入层35和阴极层4各层中的凸透镜型的凸部直径、凹透镜型的凹部直径均为10μm，焦距均为20μm；透光基底层1为透光玻璃；阳极层2为120nm厚的AZO；空穴注入层31为13nm厚的WO₃，红光发光层331为150nm厚的NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)，蓝光发光层333为150nm厚的蓝FIrpic，电子注入层35为2nm厚的CsF；阴极层4为120nm厚的Al。

其制备方法如下：

(1)透光基底层1的制备：

(1.1)获取具有相对的第一表面和第二表面的透明基板，将该透光基板按洗洁精清洗→乙醇清洗→丙酮清洗→纯水清洗的流程进行清洗，每个清洗步骤均用超声波清洗机进行清洗。每次洗涤优选采用清洗5分钟，停止5分钟，分别重复3次的方法。清洗完毕后，用红外烘箱烘干待用；

(1.2)将光刻胶涂在透光基板的第二表面，再采用掩模板对光刻胶进行曝光并蚀刻，形成阵列分布的光刻胶，然后采用各向同性反应离子刻蚀(RIE)，在透明基板的第二表面制作凹透镜12，最后去胶；

(1.3)先采用保护胶将透光基板的第二表面保护起来，再将光刻胶涂在第一表面上，采用光刻工艺将光刻胶制成阵列分布的光刻胶圆柱体模型，并将光刻胶圆柱体模型放在热板上熔化形成光刻胶凸透镜，然后将光刻胶凸透镜作为掩模板，采用反应离子刻蚀(RIE)法在透光基板的第一表面制作凸透镜11，从而得到该透光基底层1；其中，透明基板的第一表面构成透光基底1的第一表面，透明基板的第二表面既是透光基底1的第二表面；

(2)采用磁控溅射的方式在透光基底层1的透光基底层1的第二表面上制作一层AZO层，形成阳极层2；其中，磁控溅射的真空度2.7×10^-3Pa；

(3)在阳极层2的与透光基底层1相对的外表面采用蒸镀方式依次镀上WO₃层31，NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层331，蓝FIrpic层333为，CsF层35；其中，镀CsF层35的真空度为6×10^-5Pa，蒸发速度为镀红光发光层331、蓝光发光层333的真空度为4×10^-5Pa，蒸发速度为镀WO₃层31的真空度为6×10^-5Pa，蒸发速度为

(4)在CsF层35的与蓝光发光层333相对的表面蒸镀Al层4；镀Al层4的真空度均为6×10^-5Pa，蒸发速度均为

(5)蒸发完成后对器件进行封装，得到本实施例的有机电致发光器件；

其中，该阳极层2、WO₃层31、NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层331、蓝FIrpic层333、CsF层35、Al层4的一表面分别形成有阵列分布的凸透镜型的凸部，分别在与各自形成有所述凸部的表面相对的另一表面形成有阵列分布的凹部；阳极层2、WO₃层31、NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层331、蓝FIrpic层333、CsF层35、Al层4的两两相邻的两层中，其中一层的凹部与另一层的凸部叠加设置。

实施例3

本实施例的有机电致发光器件结构如图3、图4所示，该有机电致发光器件包括依次叠加设置的透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35和阴极层4。其中，透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35和阴极层4的每一层表面分别设有阵列分布的凸透镜型的凸部，在相应的该凸部的表面相对的另一表面设有阵列分布的凹透镜型的凹部；在透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35和阴极层4的两两相邻的层与层之间的凹部与凸部相互叠加设置；透光基底层1的设有凸部11的表面为本实施例有机电致发光器件的外表面，该外表面作为该有机电致发光器件的出光面，透光基底层1的设有凹部12的表面与阳极层2的凸部叠加设置。透光基底层1、阳极层2、空穴注入层31、空穴传输层32、红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333、电子传输层34、电子注入层35和阴极层4各层中的凸透镜型的凸部直径、凹透镜型的凹部直径均为4μm，焦距均为8μm；透光基底层1为透光玻璃；阳极层2为100nm厚的ITO，空穴注入层31为10nm厚的MoO₃，空穴传输层32为40nm厚的NPB，红光发光层331为10nm厚的NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)，绿光发光层332为10nm厚的TPBI掺杂绿Ir(ppy)₃，蓝光发光层333为10nm厚的蓝FIrpic，电子传输层34为40nm厚的Alq₃，电子注入层35为1nm厚的LiF，Al层4的厚度为100nm。

其制备方法如下：

(1)透光基底层1的制备：

(1.1)获取具有相对的第一表面和第二表面的透明基板，将该透光基板按洗洁精清洗→乙醇清洗→丙酮清洗→纯水清洗的流程进行清洗，每个清洗步骤均用超声波清洗机进行清洗。每次洗涤优选采用清洗5分钟，停止5分钟，分别重复3次的方法。清洗完毕后，用红外烘箱烘干待用；

(1.2)将光刻胶涂在透光基板的第二表面，再采用掩模板对光刻胶进行曝光并蚀刻，形成阵列分布的光刻胶，然后采用各向同性反应离子刻蚀(RIE)，在透明基板的第二表面制作凹透镜12，最后去胶；

(1.3)先采用保护胶将透光基板的第二表面保护起来，再将光刻胶涂在第一表面上，采用光刻工艺将光刻胶制成阵列分布的光刻胶圆柱体模型，并将光刻胶圆柱体模型放在热板上熔化形成光刻胶凸透镜，然后将光刻胶凸透镜作为掩模板，采用反应离子刻蚀(RIE)法在透光基板的第一表面制作凸透镜11，从而得到该透光基底层1；其中，透明基板的第一表面构成透光基底1的第一表面，透明基板的第二表面既是透光基底1的第二表面；

(2)采用磁控溅射的方式在透光基底层1的第二表面上制作一层ITO层，形成阳极层2；其中，磁控溅射的本底真空度2.7×10^-3Pa；

(3)在阳极层2的与透光基底层1相对的外表面采用蒸镀方式依次镀上MoO₃层31，NPB层32，NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层331，TPBI掺杂绿Ir(ppy)层332，蓝FIrpic层333，Alq₃层34，LiF层35，构成有机电致发光结构3；其中，镀MoO₃层31的真空度为5×10^-5Pa，蒸发速度为镀NPB层32的真空度为3×10^-5Pa，蒸发速度为镀红光发光层331、绿光发光层332、蓝光发光层333的真空度为3×10^-5Pa，蒸发速度为镀Alq₃层34的真空度为3×10^-5Pa，蒸发速度为镀LiF层35的真空度为5×10^-5Pa，蒸发速度为

(4)在LiF层35的与蓝光发光层333相对的表面蒸镀Al层，形成阴极层4；镀Al层4的真空度均为5×10^-5Pa，蒸发速度均为

(5)蒸发完成后对器件进行封装，得到本实施例的有机电致发光器件；

其中，该阳极层2、MoO₃层31，NPB层32，NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层331，TPBI掺杂绿Ir(ppy)层332，蓝FIrpic层333，Alq₃层34，LiF层35和阴极层4的一表面分别形成有阵列分布的凸透镜型的凸部，分别在与各自形成有所述凸部的表面相对的另一表面形成有阵列分布的凹部；阳极层2、MoO₃层31，NPB层32，NPB掺杂红Ir(MDQ)₂(acac)层331，TPBI掺杂绿Ir(ppy)层332，蓝FIrpic层333，Alq3层34，LiF层35和阴极层4的两两相邻的两层中，其中一层的凹部与另一层的凸部叠加设置。

对比实施例

提供一对比实施例有机电致发光器件，该对比实施例有机电致发光器件的除了基板之外，其他各层的材质和层结构与实施例3制备的有机电致发光器件相同，不同之处在于：该对比实施例有机电致发光器件各层结构均为平面，其中，基板为普通平面玻离。

将该对比实施例有机电致发光器件与本实施例3制备的有机电致发光器件的电流效率-亮度进行对比测试分析。对比测试结果见表1和图6，图6中，曲线A是实施例3制备的有机电致发光器件电流效率-亮度关系曲线，曲线B是对比实施例有机电致发光器件的电流效率-亮度关系曲线。由表1和图6可知，实施例3制备的有机电致发光器件发光效率、发光亮度高，其电流效率是对比实施例有机电致发光器件的3～5倍。

表1

亮度(cd/m2)	100.00	500.00	1946.90	3075.22	3964.60	4508.84	4907.07
								对比实施例(cd/A)	4.86	4.62	4.41	4.08	3.73	3.05	2.82
实施例3(cd/A)	15.61	14.90	14.79	14.19	13.82	13.80	13.12

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种有机电致发光器件制备方法，包括如下步骤：

提供具有相对的第一表面和第二表面的透光基板，在所述透光基板的第一表面形成阵列分布的凸透镜型的凸部，在所述第二表面形成阵列分布的凹透镜型的凹部，制备成透光基底层；

所述透光基板第二面形成阵列分布凹透镜型的凹部方法为：将光刻胶涂在透光基板的第二表面上，再采用掩模板对光刻胶进行曝光并蚀刻，形成阵列分布的光刻胶，然后采用各向同性反应离子刻蚀，在透明基板第二表面制作凹透镜型的凹部；

所述透光基板第一表面形成阵列分布凸透镜型的凸部的方法为：先采用保护胶将透光基板的第二表面保护起来，再将光刻胶涂在第一表面上，采用光刻工艺将光刻胶制成阵列分布的光刻胶圆柱体模型，并将光刻胶圆柱体模型放在热板上熔化形成光刻胶凸透镜，然后将光刻胶凸透镜作为掩模板，采用反应离子刻蚀法在透光基板的第一表面制作凸透镜型的凸部；

在所述透光基底层的第二面上蒸镀阳极层；

在所述阳极层的与透光基底层相对的表面蒸镀有机电致发光结构；

在所述有机电致发光结构的与阳极层相对的表面蒸镀阴极层，得到所述的有机电致发光器件。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件制备方法，其特征在于：所述蒸镀过程中真空度为3×10^-5Pa～7×10^-5Pa，蒸发速度