CN102648833B - 用于表面处理器具的清洁器头 - Google Patents

Abstract

一种用于表面处理器具的清洁器头包括主体，该主体具有位于主体的后部的流体出口端口；前导管，用于接收来自主体的出口端口的流体流；和后导管，用于接收来自前导管的流体流。前导管包括连接至主体用于相对于该主体绕第一轴线旋转的前区段，该第一轴线从主体向后且中心地穿过前区段延伸，以及后肘状区段和至少一个第一连接器。后导管包括前肘状区段，前导管的后肘状区段被插入该前肘状区段，以及后区段和至少一个第二连接器，该至少一个第二连接器被连接至至少一个第一连接器以使得后导管能相对于前导管绕第二轴线枢转，该第二轴线垂直于第一轴线且其位于穿过前导管和后导管的流体流动路径之外。

Description

用于表面处理器具的清洁器头

技术领域

本发明涉及用于表面处理器具的清洁器头。在其优选实施例中，本发明涉及用于真空清洁器具的清洁器头。

背景技术

真空吸尘器通常被提供多个工具用于处理特定类型的清洁。工具包括用于一般地板清洁的清洁器头。清洁器头包括主体，其与地面接合。主体具有包括吸口的下表面，在使用中脏物和灰尘通过该吸口被从地面吸入清洁器头。

对于主体有利的是被可枢转地连接至清洁器头的其余部分以使得当清洁器头被在地面上操纵时吸口可保持紧邻地面。

例如，JP 11-155786描述了一种清洁器头，其具有主体和连接至主体用于传送气流离开主体的导管组件。主体包括位于主体的下表面的吸口，其且位于抽吸平面中。导管组件可连接至真空吸尘器的棒，其具有手柄，该手柄由用户操作以在地面上操纵地板工具。导管组件包括大致管状前导管，其具有圆形空气入口，该入口被连接至主体的后部以绕第一轴线旋转，该第一轴线从主体平行于抽吸平面向后延伸且穿过前导管的孔。空气出口沿前导管的上表面从中部向前导管的后部延伸。导管组件还包括后导管，其被连接至前导管以相当于前导管绕第二轴线枢转运动，该第二轴线垂直于第一轴线且平行于抽吸平面。相对凹部被设置在邻近空气出口的前部的前导管的内表面上用于接收后导管的前部的上表面上的轴的端部。通过接收在凹部内的轴的端部，后导管可在前导管内且绕第二轴线在抬高位置和下降位置之间运动。

通过前导管绕第一轴线的旋转与后导管绕第二轴线的旋转的组合，导管组件能采取相对于主体的不同配置以便于主体在地面上、以及在家具物件之间和之下的操纵。但是，由于前和后导管之间的枢转连接部位于穿过导管的气流路径之中，存在绕该连接部空气泄漏的风险，其降低了清洁器头的拾取性能。气流路径内的这种连接部的存在可干扰穿过导管的空气流动，其可产生湍流和噪音。

发明内容

在第一方面本发明提供一种用于表面处理器具的清洁器头，包括：

主体，具有位于主体的后部的流体端口；

前导管，包括前区段、后肘状区段和至少一个第一连接器，前区段连接至主体用于相对于该主体绕第一轴线旋转的前区段，该第一轴线从主体向后且穿过流体端口和前区段延伸；以及

后导管，包括前肘状区段、后区段和至少一个第二连接器，该前肘状区段能在前导管的后肘状区段内运动或在后肘状区段周围运动，该至少一个第二连接器被连接至所述至少一个第一连接器以使得后导管能相对于前导管绕第二轴线枢转，该第二轴线垂直于第一轴线且位于穿过前导管和后导管的流体流动路径之外。

由于用于将前导管和后导管连接在一起的连接件位于穿过导管的流体流动路径之外，连接件可具有任意期望的配置而不要求任何密封件以防止流体在连接件之间泄漏。在优选实施例中，前导管包括一对臂，其朝向后导管延伸，且后导管包括轴，其被接收在臂之间。螺栓、销或其它连接构件可被提供用于将轴连接至臂，从而轴可相对于臂旋转。替换地，连接件可通过卡扣配合连接而被连接在一起。相对简单的密封件于是可被设置在肘状区段之间以防止流体在肘状区段之间泄漏。

前导管的后区段优选地被插入后导管的前区段中。由于前导管被插入后导管中，至少后导管的前区段比前导管的后区段具有更大的横截面积。在优选实施例中，清洁器头被用作清洁器头的一部分，其中流体从前导管流至后导管。当流体流进入后导管时，流体流不撞击在后导管的前端上，否则其将干扰流体流穿过导管且产生噪音，而是替代地穿入具有更大横截面积的区域中。

肘状区段优选地具有实质上相同的曲率，从而当后导管被相对于前导管运动时密封可被容易地保持在肘状区段之间。例如，当后导管被相对于前导管枢转时，环形密封件可位于前导管的后肘状区段的外表面上以接合后导管的前肘状区段的内表面。替换地，密封构件可被布置在前肘状区段的内表面上，以接合后肘状区段的外表面。后导管的前区段的内表面优选具有一直径，其仅稍微大于前导管的后区段的外表面，从而当后导管被枢转时前导管的后区段可引导后导管的前区段相对于其的运动且后导管相对于前导管具有最小摆动以最小化流体在导管之间泄漏的风险。优选地，当后导管相对于前导管枢转时后导管的前肘状区段的内表面在前导管的后肘状区段的外表面上滑动。

当后导管在抬高位置和下降位置之间相对于前导管枢转时，后导管的前肘状区段的前端优选在前导管的后肘状区段的后端和前端之间运动。在这种情况下，肘状区段的弯曲可确定后区段可相对于前区段枢转的范围。每个肘状区段的弯曲优选地是至少60°，且在优选实施例中每个肘状区段具有大约90°的弯曲。当清洁器头位于基本上水平表面上时，当后导管相对于前导管枢转时，后导管的后区段则可在相对水平位置和相对垂直位置之间运动。

当后导管处于相对于前导管的下降位置中时，前导管的前区段优选地也是水平的。这可使得当后导管处于下降位置中时，包括前和后导管的导管组件具有相对低的姿态。每个导管优选地包括弯曲中间段，其位于前区段和后区段之间，每个中间段优选地具有从40°至50°范围的弯曲，以允许导管组件具有低姿。

每个导管可包括多个管或管子，其被连接在一起且每个都提供导管的相应段。替换地，每个导管可为单个管或管子，其提供该导管的不同段。

清洁器头优选地包括支架用于将前导管支撑在表面上。支架优选地被连接至前导管用于与其一起绕第一轴线旋转。支架可绕前导管，且绕用于将前和后导管连接在一起的连接器延伸，以阻止灰尘进入连接器之间。

支架优选地包括本体，和由该本体支撑的一对轮子。后导管和支架之间的接触可限制后导管运动离开下降位置。本体可包括凹陷部分用于接收绕第二轴线枢转运动的后导管，从而支架不阻止后导管的运动直至后导管到达，或运动超过，期望的抬高位置。这可允许支架被定位为邻近后导管，且由此允许导管组件相对紧凑以最小化清洁器头的长度。

清洁器头可包括屏蔽构件，用于在后导管不处于抬高位置中时阻止灰尘通过凹陷进入支架的本体。当后导管在抬高和下降位置之间枢转时，屏蔽构件优选地与后导管一起运动。例如，屏蔽构件可被连接至后导管。替换地，屏蔽构件可被可枢转地连接至支架的本体，且可被朝向后导管偏压。屏蔽构件可绕第三轴线枢转，该第三轴线垂直地与第一轴线相交。屏蔽构件优选地被布置在本体的凹陷部分和后导管之间。

屏蔽构件和本体的凹陷部分可每个都具有弯曲外表面，屏蔽构件的外表面的曲率优选地与本体的凹陷部分的曲率基本上相同。支架的轮子优选地为穹顶形，且优选地具有大致球形曲率。轮子的外表面的曲率优选地与本体的凹陷部分的外表面的曲率基本上相同，从而本体的外表面和支架的轮子位于共用球的表面上。屏蔽构件相对于支架的主体枢转所绕的第三轴线优选地穿过该球的中心。当屏蔽构件随着后导管运动离开抬高位置而露出时，屏蔽构件和支架的本体的类似曲率意味着屏蔽构件的出现不会不适当地干扰支架的球形外观。

清洁器头可被用于任意清洁或表面处理器具，其传送流体至和/或离开一表面，例如湿式/干式真空吸尘器，抛光/打蜡机和地毯清洗机。

在第二方面，本发明提供一种用于表面处理器具的清洁器头的导管组件，该导管组件包括前导管、可枢转地连接至前导管以在抬高位置和下降位置之间运动的后导管、和用于支持前导管的支架，该支架包括本体和可枢转地连接至该本体的一对轮子，该本体具有凹陷部分用于在后导管朝向抬高位置运动时接收后导管，该支架还包括屏蔽构件用于覆盖当后导管运动离开抬高位置时在后导管和本体的凹陷部分之间形成的间隙。

结合本发明的第一方面描述的特征可同等地应用于本发明的第二方面，反之亦然。

附图说明

参考附图且仅通过示例的方式描述本发明的实施例，在附图中：

图1是清洁器头的分解视图；

图2是清洁器头的顶部视图，该清洁器头的后导管处于下降位置中；

图3是清洁器头的侧视图，后导管处于下降位置中，且清洁器头的支架被去除以露出清洁器头的前导管；

图4是沿图2中的线A-A截取的截面侧视图；

图5是清洁器头的顶部视图，后导管处于抬高位置中；

图6是清洁器头的侧视图，后导管处于抬高位置中，且清洁器头的支架被去除以露出清洁器头的前导管；以及

图7是沿图5中的线B-B截取的截面侧视图。

具体实施方式

图1至4示出了用于表面处理器具的清洁器头的实施例。在该实施例中，清洁器头10被设置为可连接至筒式真空清洁器具的棒或软管。清洁器头10包括主体12和连接至该主体12的导管组件14。主体12包括从主体12的后区段20的相对端部向前延伸的大致平行的侧壁16、18，和位于主体12的侧壁16、18之间的活动区段22。在该实施例中，活动区段22可旋转地连接至主体12用于绕轴线旋转，该轴线在主体12的侧壁16、18之间大致正交地延伸。

活动区段22包括上壁24、下板或底板26、和把底板26连接至上壁24的两个侧壁28。侧壁28被定位在主体12的侧壁16、18之间，每个侧壁28被定位为邻近且基本上平行于主体12的侧壁16、18中的相应一个。在使用中，底板26面对要被清洁的地面，并接合铺地毯地面的表面。

特别参考图3和4，底板26包括位于吸口34的相对侧上的前导区段(leading section)30和尾部区段(trailing section)32，携带脏物的空气流通过该吸口34进入清洁器头10。吸口34是大致矩形。底板26包括位于吸口34的相对长侧边上的两个工作边缘36、38，用于在清洁器头10被在铺地毯地面上操纵时搅动该表面的纤维。为了防止在清洁器头10被在硬地面表面上操纵时工作边缘36、38刮擦或以其它方式在该地面表面上形成痕迹，清洁器头10包括表面接合支撑构件，其用于把工作边缘36、38从硬地面隔开。在该实施例中，清洁器头10包括多个表面接合支撑构件，其每个都是滚动元件的形式，优选地为轮子。第一对轮子40被可旋转地安装在底板26的前导区段30中形成的一对凹部中，且第二对轮子42被可旋转地安装在底板26的尾区段32中形成的一对凹部中。

在使用过程中，压力差产生于穿过清洁器头10的空气和外部环境之间。该压力差产生力，该力向下朝向地面表面作用在清洁器头10上。当清洁器头10被定位在地毯地面上时，轮子40、42在清洁器头10的重量和向下作用在清洁器头10上的力的作用下被压入铺地毯地面表面的纤维中。轮子40、42的厚度被选择为使得轮子40、42容易地没入铺地毯地面表面以至少使底板26的工作边缘36、38与地面表面的纤维接触。

当清洁器头10被用户在铺地毯地面表面上向后拉时，对于用户存在把清洁器头10的主体12的后区段20抬起的倾向。但是，活动区段22至主体12的可旋转连接允许底板26相对于主体12枢转以保持工作边缘36、38接触地面表面。通过位于活动区段22上的向上朝向的表面44与位于主体12的侧壁16、18的前部附近的向下朝向表面46的邻接，活动区段22相对于主体12的顺时针旋转受到限制。通过底板26的尾部区段32的上表面48与主体12的侧壁16、18的底表面50的邻接，活动区段22相对于主体12的逆时针旋转受到限制。

清洁器头10还包括搅动器组件，用于搅动位于地面上的脏物和灰尘。在该实例中，搅动器组件包括可旋转刷条60，其被安装在主体12的活动区段22的搅动器腔室62内。搅动器腔室62部分地由活动区段22的上壁24限定。上壁24优选地由透明材料形成，以允许用户看见是否搅动器腔室62已被阻塞。刷条60由马达(未示出)驱动，该马达位于主体12的后区段20中。马达可被电连接至位于导管组件14内的端子，以与位于清洁器具的管内的随形端子连接，以使得电能被供应至马达。替换地，马达可由位于主体12的后区段20中的电池供电。

刷条60被驱动机构连接至马达，该驱动机构至少部分地位于驱动机构壳体66内使得驱动机构被与穿过抽吸通道的空气隔离。刷条60的一端被连接至驱动机构以使得刷条60能被马达驱动，而刷条60的另一端由端帽(未示出)可旋转地支撑，该端帽可移除地连接至主体12的侧壁18。驱动机构包括驱动带轮和从动带轮，驱动带轮被连接至由驱动马达旋转的驱动轴，以及从动带轮通过带连接至驱动带轮。驱动卡爪被安装在从动带轮的一侧上，用于连接至刷条60。

刷条60包括细长本体70。刷条60通过驱动机构而被绕细长本体70的纵向轴线旋转。细长本体70支撑两种不同类型的鬃毛用于当刷条60被马达旋转时从地面搅动脏物和灰尘。当刷条60被马达旋转时，不同类型的鬃毛的每个从底板26中的吸口36突出各自的不同的量。在该实施例中，刷条60包括较短的优选地较硬的鬃毛72，和较长的优选地较软的鬃毛74。较短鬃毛72被布置为沿本体70延伸的两个成角度地间隔开的螺旋排。在每排内，较短鬃毛72被布置为一系列沿该排规律地间隔开的簇或丛。较长鬃毛被布置为两个连续的螺旋排，每排被与较短鬃毛72形成的簇的排成角度地间隔开。

较短鬃毛72的长度被选择为使得，当刷条60被旋转时，这些鬃毛72的末端向外突出超过包含吸口34的第一平面，但是不超过包含轮子40、42的最下端的第二平面。较长鬃毛74从本体70径向向外突出超过较短鬃毛72，从而在刷条60的旋转过程中较长鬃毛74突出超过第一平面和第二平面二者。

当清洁器头10被定位在地毯地面上时，轮子40、42没入地毯的纤维之间，从而底板26的底面接合地毯的纤维。由于在刷条60旋转时较短鬃毛72和较长鬃毛74二者都从吸口26突出，两种不同类型的鬃毛能从地面搅动脏物和灰尘。当通过清洁器头10被连接至的真空清洁器具的风扇单元的操作，气流被产生并通过清洁器头10时，脏物和灰尘被夹带在气流中且被通过吸口34传送至清洁器头10中。

当清洁器头10被从地毯地面移动至硬地面上时，底板26通过轮子40、42而与硬地面间隔开。由于较短鬃毛72的末端不突出至包含轮子40、42的最下端的平面之下，这些鬃毛不接触硬地面，由此防止这些鬃毛刮擦或以其它方式划伤硬地面。但是，由于较长鬃毛74突出超过该平面，随着刷条60的旋转，这些鬃毛接合且扫过硬地面以将脏物和灰尘从地面驱走以被夹带在气流中。

吸口34提供开口，通过刷条60的旋转鬃毛72、74，脏物、灰尘颗粒和其它碎屑通过该开口被扫入搅动器腔室62。在该例中，马达和驱动机构被布置为沿一方向旋转刷条，使得鬃毛72、54向后扫脏物和灰尘，即越过后工作边缘38，进入搅动器腔室62。搅动器腔室62由上壁24的弯曲前区段76、底板26、侧壁28和连接至上壁24的弯曲内壁78界定。内壁78和上壁24的前区段76是圆柱形的段的形式，其与刷条60的旋转轴线大致共轴线。内壁78的下端从底板26的上表面80间隔开，以限定搅动器腔室62的灰尘出口82。在该实例中，内壁78的下端是大致直的，且基本上延伸搅动器腔室62的整个长度，从而灰尘出口82的高度沿搅动器腔室62的长度基本上恒定。

排出端口84被形成在上壁24的后区段85中。在该实例中，排出端口84位于侧壁28之间的中途处。灰尘通道86在搅动器腔室62的灰尘出口82和排出端口84之间延伸，以将灰尘和碎屑传送至排出端口84。灰尘通道86大致为弯曲漏斗形，其具有较宽的嘴部和较窄的出口。灰尘通道86限定了气流路径的部分，该气流路径延伸穿过清洁器头10，且空气被清洁器头所附连至的真空清洁器具的马达和风扇单元沿该路径抽吸。气流路径从吸口34延伸，穿过搅动器腔室62的灰尘出口82且穿过灰尘通道86至排出端口84。

主体12的后区段20包括从其中心穿过的空气通道88，以从主体12的活动区段22传送气流至导管组件14。空气通道88包括入口端口90，用于从排出端口84接收气流，和出口端口92。密封构件94位于主体12的活动区段22和后区段20之间以在活动区段22相对于后区段20枢转时保持排出端口84和入口端口90之间的气密密封。出口端口92是大致圆形，且被取向为使得当清洁器头10位于硬地面上，且底板26的尾部区段32的上表面48邻接主体12的侧壁16、18的底表面50时，出口端口92基本上垂直于包含轮子40、42的最下端的第二平面。

导管组件14被连接至主体12的后区段20。导管组件14包括前导管100和后导管102，前导管100用于接收来自主体12的出口端口92的气流，导管102用于接收来自前导管100的气流。后导管102能被连接至用于接收来自导管组件14的气流的真空清洁器具的棒和软管。

前导管100包括前区段104，其连接至主体12。前区段104是大致圆柱形。前区段104被插入出口端口92，且被连接至出口端口92，例如通过C形卡子或卡扣连接，从而前导管100能相对于主体12旋转。环形密封件106位于前区段104和出口端口92之间，以保持主体12和导管组件14之间的气密密封。前导管100能相对于主体12绕第一轴线A旋转，如图2和4所示，该第一轴线A从主体12向后延伸且中心地穿过出口端口92和前导管100的前区段104。第一轴线A基本上垂直于刷条60的旋转轴线。

前导管100还包括后肘状区段108，气流从该段进入后导管102。后肘状区段108具有大致90°的弯曲，且绕第二轴线B延伸，如图3和4所示。第二轴线B垂直于第一轴线A。后肘状区段108通过弯曲的中间段110而被连接至前区段104。中间段110具有小于后肘状区段108的弯曲，且在该实施例中弯曲的角度是约40°。

后导管102包括前肘状区段112，前导管100的后肘状区段108被插入该前肘状区段。肘状区段108、112优选地具有基本上相同的曲率，且由此前肘状区段112具有大致90°的弯曲。前肘状区段112也绕第二轴线B延伸，如图3和4所示。环形密封件114位于前导管100的后肘状区段108的外周周围，用于与后导管102的前肘状区段112的内表面形成气密密封。

后导管还包括后区段116，其能被连接至真空清洁器具的棒或软管。后区段116是大致圆柱形。前肘状区段112通过弯曲的中间段118而被连接至后区段116。如上，中间段118具有小于前肘状区段112的弯曲，且在该实施例中弯曲的角度是约50°。

后导管102被连接至前导管100，从而后导管102可相对于前导管100枢转。后导管102能相对于前导管100在下降位置(如图2至4所示)和抬高位置(如图5-7所示)之间运动，在该下降位置中后导管102的后区段116大致平行于前导管100的前区段104，在该抬高位置中后导管102的后区段116大致垂直于前导管100的前区段104。当后导管102处于下降位置中时，前导管100的后肘状区段108基本上完全被后导管102的前肘状区段112包围。在后导管102的下降位置中，后导管102的前肘状区段112的前端抵靠前导管100的中间段110的外壁。

后导管102被连接至前导管100，从而后导管102可相对于前导管100绕第二轴线B枢转。在该示例中，前导管100包括一对臂120，其从前导管100的中间段110向后朝向后导管102延伸。后导管102包括轴122，其被接收在臂120之间，且被插入臂120中形成的孔的销或杆(未示出)固定至臂120，从而轴122能绕第二轴线B旋转。当然，前导管100和后导管102之间的连接可被颠倒，从而臂120位于后导管120而轴122位于前导管100上。

前导管100和后导管102之间的枢转连接由此位于穿过导管组件14的气流路径的外部。这意味着前导管100和后导管102之间的连接可被以任意期望的方式进行，而不用管该连接的部件之间或周围的任何空气泄漏。当后导管102从下降位置运动至抬高位置时，后导管102的前肘状区段112的内表面在前导管100的后肘状区段108的外表面上滑动，其中前和后导管100、102之间的密封由位于前导管100的周边周围的环形密封件114保持。

导管组件14还包括支架，用于在地面上支撑导管组件14。支架被连接至前导管100，从而当前导管绕第一轴线A旋转时该支架随前导管100一起旋转。支架绕前导管100延伸，其被连接至前导管100，例如通过卡扣连接，其将支架相对于前导管100保持在固定的角度位置中。

支架包括本体124，和一对轮子，其由本体124支撑以相对于本体124旋转。在该实施例中，每个轮子126都为穹顶形，且绕各自的旋转轴线旋转。旋转轴线是不平行的且位于公共平面内，该平面平行于主体12的出口端口92。旋转轴线相对于第二轴线B倾斜，从而轮子126在本体124之下会聚以接合地面。轮子126具有大致球形曲率，且被布置为使得轮子126的表面与公共球一致。第一轴线A穿过该球的中心，使得当导管组件14绕第一轴线A旋转时球的表面保持与地面接触。支架的本体124的上表面具有类似于轮子126的曲率，从而本体124的该表面也与该球一致。

如图7所示，后导管102的中间构件118在支架的本体124上的抵靠沿一个方向限制了后导管102相对于前导管100的枢转运动。为了允许后导管102被抬高至图5至7中所示的位置，同时允许支架位于后导管102附近，支架的本体124包括凹陷部分128，其位于后导管102附近。当后导管102被朝向抬高位置枢转时，后导管102运动进入由支架的本体124限定的凹部中。该凹部由此允许后导管102自由地朝向图5和7中所示的抬高位置运动，且该凹部被设定形状使得后导管102不抵靠支架直至后导管102的后区段116基本上垂直。

为了在后导管102不处于抬高位置中时抑制灰尘通过该凹部进入支架的本体124中，支架包括屏蔽构件130，其被布置在本体124的凹陷部分128之下。屏蔽构件130被布置为覆盖支架的本体124和后导管之间形成的间隙。屏蔽构件130被可枢转地连接至本体124。如图1所示，屏蔽构件130包括一对凸耳132，其每个都位于本体124的相应侧表面中形成的孔134中，以允许屏蔽构件130绕第三轴线C枢转，如图2和4所示，该轴线穿过由本体124和轮子126限定的球的中心且垂直地与第一轴线A相交。

屏蔽构件130被朝向后导管102偏压。在该实施例中，扭力弹簧(未示出)或其它弹性元件被设置在本体124和屏蔽构件130之间，用于将屏蔽构件130朝向后导管102促动。弹性元件的偏压力被选择为使得弹性元件不过度地阻止后导管102相对于前导管100且由此相对于支架的枢转运动。由于作用在屏蔽构件130上的偏压力，当后导管在其抬高和下降位置之间枢转时屏蔽构件130与后导管102一起运动，以保持盖住后导管102和支架的本体124之间的间隙。

屏蔽构件130优选地具有弯曲外表面，屏蔽构件130的该外表面的曲率与支架的本体124的上表面的曲率基本上相同。这可使得屏蔽构件130被定位为当后导管102处于其抬高位置中时紧位于本体124的上表面之下，且导致当由于后导管102被枢转离开其抬高位置而屏蔽构件130被露出时对支架的外部球形外观的最小干扰。

在使用中，后导管102的后区段116可被连接至真空清洁器具的棒。真空清洁器具被打开以操作风扇单元，其抽吸气流穿过清洁器头10的主体12和导管组件14。清洁器头10位于地面上或其他要被处理的表面，且被利用该器具的棒在该表面上前后操纵。当清洁器头10被前后操纵时，后导管102相对于前导管100绕第二轴线B枢转，以使得清洁器头10保持随清洁表面的扁平姿态，且主体12的活动区段22相对于后区段20枢转以保持底板26，或底板的轮子40、42与地面接触。清洁器头10的转向是通过旋转棒实现的，而该棒的旋转导致导管组件14绕第一轴线A旋转，从而清洁器头10响应于清洁器具的棒的顺时针或逆时针旋转而向右或向左运动。

当清洁器头10被前后操纵时，支架的轮子126旋转以对导管组件14提供滚动支撑。响应于清洁器头10的转向，前导管100和由此支架绕第一轴线A旋转。当支架旋转时，两个轮子126中的一个保持接触地面且由此继续给导管组件14提供滚动支撑。由于轮子126的表面与公共球保持一致，该公共球中心与第一轴线A一致，轮子126继续支撑前导管100于地面上相同高度，从而不会发生清洁器头10的抬离且随地面的扁平姿态得以保持。

Claims (20)

1.一种用于表面处理器具的清洁器头，包括：

主体，具有位于主体的后部的流体端口；

前导管，包括前区段、后肘状区段和至少一个第一连接器，该前区段连接至主体用于相对于该主体绕第一轴线旋转，该第一轴线从主体向后且穿过流体端口和前区段延伸；

用于在一表面上支撑前导管的支架，该支架被连接至前导管以与其一起绕第一轴线旋转，以及

后导管，包括前肘状区段、后区段和至少一个第二连接器，该前肘状区段能在前导管的后肘状区段内运动或在后肘状区段周围运动，该至少一个第二连接器被连接至所述至少一个第一连接器以使得后导管能相对于前导管绕第二轴线枢转，该第二轴线垂直于第一轴线且其位于穿过前导管和后导管的流体流动路径之外。

2.如权利要求1所述的清洁器头，其中，肘状区段具有相同的曲率。

3.如权利要求1所述的清洁器头，其中前导管的后肘状区段被插入后导管的前肘状区段。

4.如权利要求3所述的清洁器头，其中当后导管相对于前导管枢转时后导管的前肘状区段的内表面在前导管的后肘状区段的外表面上滑动。

5.如权利要求1所述的清洁器头，其中，每个肘状区段具有大致90°的弯曲。

6.如权利要求1所述的清洁器头，其中每个导管包括位于其前区段和后区段之间的弯曲的中间段。

7.如权利要求6所述的清洁器头，其中每个中间段具有从40°至50°范围的弯曲。

8.如权利要求1所述的清洁器头，其中所述至少一个第一连接器包括一对臂，该臂朝向后导管延伸，且所述至少一个第二连接器包括被接收在臂之间的轴。

9.如权利要求1所述的清洁器头，其中，支架绕前导管延伸。

10.如权利要求1所述的清洁器头，其中支架包括本体，和由该本体支撑的一对轮子。

11.如权利要求10所述的清洁器头，其中支架的本体包括凹陷部分用于接收绕第二轴线的枢转运动的后导管。

12.如权利要求11所述的清洁器头，包括布置在本体的凹陷部分和后导管之间的屏蔽构件。

13.如权利要求12所述的清洁器头，其中，所述屏蔽构件被可枢转地连接至本体。

14.如权利要求13所述的清洁器头，其中所述屏蔽构件能绕第三轴线枢转，该第三轴线垂直地与第一轴线相交。

15.如权利要求13所述的清洁器头，其中，屏蔽构件被朝向后导管偏压。

16.如权利要求12所述的清洁器头，其中屏蔽构件和本体的凹陷部分每个都具有弯曲外表面。

17.如权利要求16所述的清洁器头，其中屏蔽构件的外表面的曲率与本体的凹陷部分的曲率相同。

18.如权利要求10所述的清洁器头，其中轮子是穹顶形的。

19.如权利要求18所述的清洁器头，其中，轮子具有大致球形曲率。

20.如权利要求19所述的清洁器头，其中轮子的外表面的曲率与本体的凹陷部分的外表面的曲率相同。