CN102569492A - 太阳能晶片的掺杂方法以及掺杂晶片 - Google Patents

太阳能晶片的掺杂方法以及掺杂晶片 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种太阳能晶片的掺杂方法包括以下步骤：步骤S1、在N型基底表面形成P+型掺杂层；步骤S2、在该P+型掺杂层表面形成一保护薄膜；步骤S3、蚀刻该保护薄膜、该P+型掺杂层和该N型基底以在该N型基底中形成一凹槽；步骤S4、加速N型离子并通过离子注入的方式将该N型离子从该凹槽注入至N型基底中以形成N+型掺杂区域，其中，该N+型掺杂区域与该未经蚀刻的P+型掺杂层互不接触；步骤S5、去除该保护薄膜，其中，所述的P型替换为N型时，N型同时替换为P型。本发明还公开了一种掺杂晶片。本发明的掺杂方法简化了工艺步骤，无需购买光刻机，无需使用多张掩模板，不存在掩模板校准问题且降低了制作成本。

Description

太阳能晶片的掺杂方法以及掺杂晶片
技术领域
本发明涉及一种太阳能晶片的掺杂方法以及掺杂晶片，特别是涉及一种用于制作背结电池的太阳能晶片的掺杂方法以及掺杂晶片。
背景技术
新能源是二十一世纪世界经济发展中最具决定力的五大技术领域之一。太阳能是一种清洁、高效和永不衰竭的新能源。在新世纪中，各国政府都将太阳能资源利用作为国家可持续发展战略的重要内容。而光伏发电具有安全可靠、无噪声、无污染、制约少、故障率低、维护简便等优点。
近几年，国际光伏发电迅猛发展，太阳能晶片供不应求，于是提高太阳能晶片的光电转化效率和太阳能晶片的生产能力成为重要的课题。太阳能电池受光照后，电池吸收一个能量大于带隙宽度的入射光子后产生电子-空穴对，电子和空穴分别激发到导带与价带的高能态。在激发后的瞬间，电子和空穴在激发态的能量位置取决于入射光子的能量。处于高能态的光生载流子很快与晶格相互作用，将能量交给声子而回落到导带底与价带顶，这过程也称作热化过程，热化过程使高能光子的能量损失了一部分。热化过程后，光生载流子的输运过程(势垒区或扩散区)中将有复合损失。最后的电压输出又有一次压降，压降来源于与电极材料的功函数的差异。由上述分析，太阳能电池效率受材料、器件结构及制备工艺的影响，包括电池的光损失、材料的有限迁移率、复合损失、串联电阻和旁路电阻损失等。对于一定的材料，电池结构与制备工艺的改进对提高光电转换效率是重要的。一种可行的实现低成本高效率太阳电池方案是聚光太阳电池。聚光太阳电池可以大大节约材料成本，明显提高太阳电池效率。采用正面结结构的太阳电池，为了满足聚光电池电流密度更大的特点，必须大大增加正面栅线密度，这会反过来影响栅线遮光率，减小短路电流。一种可行的解决遮光损失的方案就是背接触结构太阳电池，也叫背结电池。背接触结构太阳能电池的掺杂区域和金半接触区域全部集成在太阳电池背面，背面电极占据背表面很大部分，减小了接触电阻损失。另外，电流流动方向垂直于结区，这就进一步消除了正面结构横向电流流动造成的电阻损失，这样就会同时满足高强度聚焦正面受光和高光电转换效率的要求。背接触太阳能电池也有利于电池封装，进一步降低成本。
但是由于背结电池的PN结靠近电池背面，而少数载流子必须扩散通过整个硅片厚度才能达到背面结区，所以这种电池设计就需要格外高的少子寿命的硅片作为基地材料，否则少子还未扩散到背面结区就被复合掉了，这样电池的效率就会大大下降。IBC(interdigitated back contact)太阳能电池是最早研究的背结电池，最初主要用于聚光系统中，任丙彦等的背接触硅太阳能电池研究进展(材料导报2008年9月第22卷第9期)中介绍了各种背接触硅太阳能电池的结构和制作工艺，以IBC太阳能电池为例，SUNPOWER公司制作的IBC太阳能电池的最高转换效率可达24％，然后由于其采用了光刻工艺，由于光刻所带来的复杂操作使得其成本难以下降，给民用或者普通场合的商业化应用造成困难。为了降低成本，也有利用掩模板来形成交叉排列的P+区和N+区，但是在制作过程中必须用到多张掩模板，增加成本的同时还产生了掩模板校准的问题，为制作过程带来了不少难度。
发明内容
本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术IBC太阳能电池的制作过程中使用光刻工艺步骤繁杂、成本较高的缺陷，提供一种制作过程中仅需一张掩模板、无掩模板校准问题、成本较低、工艺步骤较少且掺杂离子浓度得以精确控制的太阳能晶片的掺杂方法以及掺杂晶片。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：
一种太阳能晶片的掺杂方法，其特点在于，其包括以下步骤：
步骤S1、在N型基底表面中形成P+型掺杂层；
步骤S2、在该P+型掺杂层表面形成一保护薄膜；该保护薄膜用于保护在后续步骤中无需加工处理的区域；
步骤S3、蚀刻该保护薄膜、该P+型掺杂层以及该N型基底以在该N型基底中形成一凹槽；也就是说，将后续步骤中需要加工处理的区域的保护薄膜和该P+型掺杂层完全去除，同时后续步骤中需要加工处理的区域所对应的N型基底也被蚀刻掉一薄层；
步骤S4、在N型基底的凹槽表面中形成N+型掺杂区域，其中，该N+型掺杂区域与该未经蚀刻的P+型掺杂层互不接触；
步骤S5、去除该保护薄膜，
其中，所述的P型替换为N型时，N型同时替换为P型。
优选地，步骤S1中通过热扩散或者离子注入的方式形成该P+型掺杂层，其中该P+型掺杂层的方块电阻为20-100Ω/□。本领域技术人员可以根据需要选择合适的扩散源或者掺杂离子的能量、浓度等参数以形成该P+型掺杂层。较佳地，该P+型掺杂层的方块电阻为30-90Ω/□，更佳地，该P+型掺杂层的方块电阻为40-80Ω/□。
优选地，步骤S2中采用常规方法生长保护薄膜，其中该保护薄膜的厚度为10-50μm，该保护薄膜为光刻胶或二氧化硅、非晶硅、多晶硅或氮化硅薄膜。本领域技术人员可以根据实际需要选择其他的公知材料与公知手段形成上述薄膜。
优选地，步骤S3中通过激光切割形成凹槽，凹槽的深度即所蚀刻的N型基底的深度为5-30μm，凹槽宽度为200-400μm。为了使PN结不容易被击穿，提高掺杂晶片的使用寿命，该蚀刻的N型基底的深度的优选深度为5-20μm。
优选地，步骤S4中通过热扩散或者离子注入的方式形成该N+型掺杂区域，本领域技术人员可以根据常规参数选择扩散源和扩散温度，或者加速N型离子并通过离子注入的方式将该N型离子从该凹槽注入至N型基底中以形成N+型掺杂区域，其中，该N型离子被加速至500eV-50keV，所形成的N+型掺杂区域的方块电阻为40-120Ω/□。优选地，N型离子被加速至1keV-40keV，更优选地，N型离子被加速至5keV-30keV；较佳地，所形成的N+型掺杂区域的方块电阻为60-110Ω/□，更佳地，所形成的N+型掺杂区域的方块电阻为80-100Ω/□。
另外，在步骤S4中，由于热扩散工艺不具方向性，其扩散是各个方向的，除了在凹槽的表面中形成N+型掺杂区域外，还会在该凹槽的两个侧壁中形成N+型掺杂层；即使在步骤S4中采用的是离子注入的方法，虽然离子注入具有很好的方向性，但是在离子的碰撞过程中，也可能会造成部分离子被反弹至该凹槽的两侧壁中，形成较薄的N+型掺杂层。无论采用的是热扩散工艺还是离子注入的方法，都有可能在形成N+型掺杂区域的过程中造成凹槽的侧壁中形成N+型掺杂层，而该N+型掺杂层与未经蚀刻(步骤S3所述的蚀刻)的P+型掺杂层接触，这样会导致P+/N+的结构，其耗尽层很薄，非常容易被击穿，影响了最终制得的掺杂晶片的质量和使用寿命，因此在步骤S4之后、步骤S5之前还包括步骤SP：蚀刻去除步骤S4中形成该N+型掺杂区域时在该凹槽侧壁中形成的N+型掺杂层，所述的蚀刻采用的为常规手段。
优选地，步骤S5之后还包括退火步骤，离子注入后，在700-1100℃的温度下退火30秒至30分钟以激活掺杂离子，优选地，退火温度为850-1000℃。
本发明还提供一种按照如上所述的太阳能晶片的掺杂方法制得的掺杂晶片，其特点在于，该掺杂晶片包括：
一具有凹槽的N型基底；
形成于该N型基底表面中的至少一个P+型掺杂区域；
形成于该N型基底凹槽表面中的N+型掺杂区域；
其中，该P+型掺杂区域与该N+型掺杂区域互不接触，
其中，所述的P型替换为N型时，N型同时替换为P型。
优选地，该凹槽的深度为5-30μm，这里所说的凹槽的深度即是所蚀刻的N型基底的深度，凹槽宽度为200-400μm，更优选地，该凹槽的深度为5-20μm，凹槽宽度为250-350μm。
优选地，该P+型掺杂区域与该N+型掺杂区域的最小距离至少为5μm，更优选地，该P+型掺杂区域与该N+型掺杂区域的最小距离为5-20μm。
优选地，该P+型掺杂区域的方块电阻为20-100Ω/□，较佳地，该P+型掺杂区域的方块电阻为30-90Ω/□，更佳地，该P+型掺杂区域的方块电阻为40-80Ω/□。
优选地，N+型掺杂区域的方块电阻为40-120Ω/□，较佳地，该N+型掺杂区域的方块电阻为60-110Ω/□，更佳地，所形成的N+型掺杂区域的方块电阻为80-100Ω/□。
利用上述方法形成的掺杂晶片，再经钝化和镀压电极的操作可以形成背结电池。例如，在掺杂晶片的表面和背面分别形成氮化硅薄膜作为钝化层，掺杂晶片表面的氮化硅薄膜还作为减反射层，之后分别在该P+型掺杂区域和该N+型掺杂区域(即未经蚀刻的N+型掺杂层)上镀压金属电极并烧结，使金属电极中的金属元素与N型基底共晶复合，由此形成了背结电池。当然，本领域技术人员还可根据实际需要选择其他合适的钝化方法以及电极制作方法。
只需要在上述过程中，调换基底材料和离子注入或扩散生长的方式掺杂的杂质材料，则该方法同样适用于P型太阳能掺杂晶片的制作，即所述的N型替换为P型时，P型同时替换为N型。
本发明的积极进步效果在于：
1、本发明中P+型掺杂区域与N+型掺杂层之间具有N型基底材料作为缓冲层，使得PN结之间不会因为耗尽层太薄而导致被击穿，由此提高了该掺杂晶片的使用寿命。
2、比起采用光刻工艺制作背结电池而言，本发明简化了工艺步骤，无需购买光刻机，成本大大降低，另外制作流程中无需使用多张掩模板，解决了掩模板校准问题的同时还降低了制作成本。
3、本发明中P+型掺杂区域与N+型掺杂区域之间的N型缓冲层的最小宽度为5μm，采用纯粹机械加工方法制得的掩模板很难做到这样的精度，即使能做到，这样的掩模板也是价格高昂，本发明通过在基底材料中形成凹槽并在凹槽中形成N+掺杂区域的方式，自然形成符合上述最小宽度的N型缓冲层，省去了购买价格高昂的掩模板的成本，进一步降低了制作成本。
4、采用离子注入进行掺杂形成N+型掺杂区域，掺杂离子的浓度得到了精确的控制，比起热扩散工艺的掺杂而言对提高光电转换的效率更有利。
附图说明
图1-5为本发明的制作背结电池的掺杂晶片的分解步骤示意图。
具体实施方式
下面结合附图给出本发明较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。
实施例1
参考图1，步骤S1、在N型基底1表面形成P+型掺杂层2，该P+型掺杂层的方块电阻为20Ω/□。具体来说，将硼离子加速至500eV并通过离子注入的方式将该硼离子从该N型基底的表面注入至该N型基底中。
参考图2，步骤S2、在该P+型掺杂层2表面形成一保护薄膜3；该保护薄膜用于保护在后续步骤中无需加工处理的区域。具体来说，该保护薄膜3是通过常规方法形成的，该保护薄膜3为厚度为10μm的二氧化硅薄膜。
参考图3，步骤S3、蚀刻该保护薄膜3、该P+型掺杂层2和该N型基底1以在该N型基底1中形成一凹槽4。其中通过激光切割形成凹槽4，该凹槽4的深度即所蚀刻的N型基底的深度为5μm，凹槽宽度为200μm。也就是说，将凹槽上方的保护薄膜3、P+型掺杂层2完全去除，并且将N型基底也去除一薄层，该薄层的厚度也就是该凹槽的深度。
参考图4a，步骤S4、加速磷离子至500eV并通过离子注入的方式将该磷离子从该凹槽注入至N型基底中以形成N+型掺杂区域5，该N+型掺杂区域5的方块电阻为40Ω/□，其中，该N+型掺杂区域与该未经激光切割的P+型掺杂层互不接触。该未经激光切割的P+型掺杂层与该N+型掺杂区域的最小距离为5μm。
参考图5，步骤S5、采用本领域的常用手段去除该保护薄膜3，之后进行退火步骤，将掺杂晶片在在700℃的温度下退火30分钟以激活掺杂离子。由该N+型掺杂区域5、该未经激光切割的P+型掺杂层2以及上述两者之间的N型基底构成N+/N/P+结构的PN结。
由此，掺杂晶片的制作完成。利用上述方法形成的掺杂晶片，再经钝化和镀压电极的操作可以形成背结电池。例如，在掺杂晶片的表面和背面分别形成氮化硅薄膜作为钝化层，掺杂晶片表面的氮化硅薄膜还作为减反射层，之后分别在该P+型掺杂区域和该N+型掺杂区域(即未经蚀刻的N+型掺杂层)上镀压金属电极并烧结，使金属电极中的金属元素与N型基底共晶复合，由此形成了背结电池。
实施例2
参考图1，步骤S1、在N型基底1表面形成P+型掺杂层2，该P+型掺杂层的方块电阻为100Ω/□。具体来说，将硼离子加速至50keV并通过离子注入的方式将该硼离子从该N型基底的表面注入至该N型基底中。
参考图2，步骤S2、在该P+型掺杂层2表面形成一保护薄膜3；该保护薄膜用于保护在后续步骤中无需加工处理的区域。具体来说，该保护薄膜3是通过常规方法形成的，该保护薄膜3为厚度为50μm的二氧化硅薄膜。
参考图3，步骤S3、蚀刻该保护薄膜3、该P+型掺杂层2和该N型基底1以在该N型基底1中形成一凹槽4。其中通过激光切割形成凹槽4，该凹槽4的深度即所蚀刻的N型基底的深度为30μm，凹槽宽度为400μm。也就是说，将凹槽上方的保护薄膜3、P+型掺杂层2完全去除，并且将N型基底也去除一薄层，该薄层的厚度也就是该凹槽的深度。
参考图4a，步骤S4、加速磷离子至50keV并通过离子注入的方式将该磷离子从该凹槽注入至N型基底中以形成N+型掺杂区域5，该N+型掺杂区域5的方块电阻为120Ω/□，其中，该N+型掺杂区域5与该未经激光切割的P+型掺杂层互不接触。该未经激光切割的P+型掺杂层与该N+型掺杂区域的最小距离为30μm。
参考图5，步骤S5、采用本领域的常用手段去除该保护薄膜3，之后进行退火步骤，将掺杂晶片在在1100℃的温度下退火30秒以激活掺杂离子。由该N+型掺杂区域5、该未经激光切割的P+型掺杂层2以及上述两者之间的N型基底构成N+/N/P+结构的PN结。
由此，掺杂晶片的制作完成。利用上述方法形成的掺杂晶片，再经钝化和镀压电极的操作可以形成背结电池。例如，在掺杂晶片的表面和背面分别形成氮化硅薄膜作为钝化层，掺杂晶片表面的氮化硅薄膜还作为减反射层，之后可以在钝化层中分别与该P+型掺杂区域和该N+型掺杂区域(即未经蚀刻的N+型掺杂层)相对应的位置开出接触孔，接着在该接触孔上镀压金属电极并烧结，使金属电极中的金属元素与N型基底共晶复合，由此形成了背结电池。
实施例3
参考图1，步骤S1、在N型基底1表面形成P+型掺杂层2，该P+型掺杂层的方块电阻为80Ω/□。具体来说，将硼离子加速至30keV并通过离子注入的方式将该硼离子从该N型基底的表面注入至该N型基底中。
参考图2，步骤S2、在该P+型掺杂层2表面形成一保护薄膜3；该保护薄膜用于保护在后续步骤中无需加工处理的区域。具体来说，该保护薄膜3是通过常规方法形成的，该保护薄膜3为厚度为30μm的二氧化硅薄膜。
参考图3，步骤S3、蚀刻该保护薄膜3、该P+型掺杂层2和该N型基底1以在该N型基底1中形成一凹槽4。其中通过激光切割形成凹槽4，该凹槽4的深度即所蚀刻的N型基底的深度为10μm，凹槽宽度为300μm。也就是说，将凹槽上方的保护薄膜3、P+型掺杂层2完全去除，并且将N型基底也去除一薄层，该薄层的厚度也就是该凹槽的深度。
参考图4a，步骤S4、加速磷离子至30keV并通过离子注入的方式将该磷离子从该凹槽注入至N型基底中以形成N+型掺杂区域5，该N+型掺杂区域5的方块电阻为80Ω/□，其中，该N+型掺杂区域5与该未经激光切割的P+型掺杂层互不接触。该未经激光切割的P+型掺杂层与该N+型掺杂区域的最小距离为10μm。
参考图5，步骤S5、采用本领域的常用手段去除该保护薄膜3，之后进行退火步骤，将掺杂晶片在在850℃的温度下退火10分钟以激活掺杂离子。由该N+型掺杂区域5、该未经激光切割的P+型掺杂层2以及上述两者之间的N型基底构成N+/N/P+结构的PN结。
由此，掺杂晶片的制作完成。为了制作太阳能电池，可以在该掺杂晶片的基础之上进行钝化层、减反射层以及金属电极的制作。
实施例4
实施例4的原理与实施例1相同，其主要工艺步骤也相同，不同之处仅在于以下工艺以及参数的选择：
步骤S1中通过热扩散的方式形成该P+型掺杂层2，该P+型掺杂层的方块电阻为50Ω/□。
步骤S3、通过激光切割蚀刻该保护薄膜3、该P+型掺杂层2和该N型基底1以在该N型基底1中形成一凹槽4，在本实施例中，蚀刻的N型基底的深度为15μm。其余未提及的工艺步骤和参数选择均于实施例1相同。
实施例5
实施例5的原理与实施例1相同，其主要工艺步骤也相同，不同之处仅在于以下工艺以及参数的选择：
参考图4b，步骤S4、加速磷离子至500eV并通过离子注入的方式将该磷离子从该N型基底1的凹槽沿着方向a垂直注入至N型基底1中以形成方块电阻为70Ω/□的N+型掺杂区域5，也就是说，该N+型掺杂区域5形成于该凹槽4中，虽然离子注入具有很好的方向性，但是在离子的碰撞过程中，也可能会造成部分离子被反弹至该凹槽的两侧壁中，形成较薄的N+型掺杂层51，参考图4b，此时该N+型掺杂层51与该未经蚀刻的P+型掺杂层2接触，为了防止PN结被击穿，必须要去除该凹槽侧壁中的N+型掺杂层51。因此，需要进行步骤SP：蚀刻去除步骤S4中形成该N+型掺杂区域时在该凹槽侧壁中形成的N+型掺杂层51，所述的蚀刻采用的为常规手段。
去除了该凹槽侧壁中的N+型掺杂层51后，该N+型掺杂区域5与该未经蚀刻的P+型掺杂层互不接触。本实施例中，该N+型掺杂区域5与该未经蚀刻的P+型掺杂层的最小距离为5μm。
其余未提及的工艺步骤和参数选择均于实施例1相同。
实施例6
实施例6的原理与实施例1相同，其主要工艺步骤也相同，不同之处仅在于以下工艺以及参数的选择：
参考图4b，步骤S4、通过热扩散的方式形成方块电阻为80Ω/□的N+型掺杂区域5，也就是说，该N+型掺杂区域5形成于该凹槽4中，由于热扩散工艺不具方向性，其扩散是各个方向的，除了在凹槽的表面中形成N+型掺杂区域5外，还会在该凹槽的两个侧壁中形成N+型掺杂层51，参考图4b，此时该N+型掺杂层51与该未经蚀刻的P+型掺杂层2接触，为了防止PN结被击穿，必须要去除该凹槽侧壁中的N+型掺杂层51。因此，需要进行步骤SP：蚀刻去除步骤S4中形成该N+型掺杂区域时在该凹槽侧壁中形成的N+型掺杂层51，所述的蚀刻采用的为常规手段。
去除了该凹槽侧壁中的N+型掺杂层51后，该N+型掺杂区域5与该未经蚀刻的P+型掺杂层互不接触。本实施例中，该N+型掺杂区域5与该未经蚀刻的P+型掺杂层的最小距离为5μm。
其余未提及的工艺步骤和参数选择均于实施例1相同。
只需要在上述过程中，调换基底材料和离子注入或扩散生长的方式掺杂的杂质材料，则该方法同样适用于P型太阳能掺杂晶片的制作，即所述的N型替换为P型时，P型同时替换为N型。
虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，其包括以下步骤：
步骤S1、在N型基底表面中形成P+型掺杂层；
步骤S2、在该P+型掺杂层表面形成一保护薄膜；
步骤S3、蚀刻该保护薄膜、该P+型掺杂层以及该N型基底以在该N型基底中形成一凹槽；
步骤S4、在N型基底的凹槽表面中形成N+型掺杂区域，其中，该N+型掺杂区域与该未经蚀刻的P+型掺杂层互不接触；
步骤S5、去除该保护薄膜，
其中，所述的P型替换为N型时，N型同时替换为P型。
2.如权利要求1所述的太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，步骤S1中通过热扩散或者离子注入的方式形成该P+型掺杂层，其中该P+型掺杂层的方块电阻为20-100Ω/□。
3.如权利要求1所述的太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，步骤S2中形成的保护薄膜的厚度为10-50μm，该保护薄膜为光刻胶、二氧化硅、非晶硅、多晶硅或氮化硅薄膜。
4.如权利要求1所述的太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，步骤S3中通过激光切割形成凹槽，凹槽的深度为5-30μm，凹槽宽度为200-400μm。
5.如权利要求1所述的太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，步骤S4中通过热扩散或者离子注入的方式形成该N+型掺杂区域，所形成的N+型掺杂区域的方块电阻为40-120Ω/□。
6.如权利要求1-5中任意一项所述的太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，步骤S4之后、步骤S5之前还包括步骤SP：
蚀刻去除步骤S4中形成该N+型掺杂区域时在该凹槽侧壁中形成的N+型掺杂层。
7.如权利要求1-5中任意一项所述的太阳能晶片的掺杂方法，其特征在于，步骤S5之后还包括退火步骤，退火温度为700-1100℃，退火时间为30秒-30分钟。
8.一种按照如权利要求1所述的太阳能晶片的掺杂方法制得的掺杂晶片，其特征在于，该掺杂晶片包括：
一具有凹槽的N型基底；
形成于该N型基底表面中的至少一个P+型掺杂区域；
形成于该N型基底凹槽表面中的N+型掺杂区域；
其中，该P+型掺杂区域与该N+型掺杂区域互不接触，
其中，所述的P型替换为N型时，N型同时替换为P型。
9.如权利要求8所述的掺杂晶片，其特征在于，该凹槽的深度为5-30μm，凹槽宽度为200-400μm。
10.如权利要求8所述的掺杂晶片，其特征在于，该P+型掺杂区域与该N+型掺杂区域的最小距离至少为5μm。
11.如权利要求8所述的掺杂晶片，其特征在于，该P+型掺杂区域的方块电阻为20-100Ω/□。
12.如权利要求8-11中任意一项所述的掺杂晶片，其特征在于，N+型掺杂区域的方块电阻为40-120Ω/□。
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