CN102566145A - 液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开一种液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法，涉及液晶显示领域，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。本发明实施例提供的液晶显示面板包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板上形成有相互接触的主隔垫物和凸起物，所述凸起物对应于所述阵列基板的栅线或数据线。本发明实施例提供的液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法应用在带有液晶显示面板的装置中。

Description

液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法。

背景技术

液晶面板包括阵列基板和彩膜基板，阵列基板与彩膜基板之间填充有液晶，且阵列基板与彩膜基板之间设有起支撑盒厚作用的主隔垫物和次隔垫物，主隔垫物与次隔垫物之间存在段差，这样可以使得液晶面板受到挤压时，液晶量在一定范围内波动。在现有技术中，使得主隔垫物与次隔垫物之间存在段差的结构可以是：主隔垫物与次隔垫物均通过在彩膜基板上掩膜构图工艺得到，且主隔垫物与次隔垫物的高度相同。所述主隔垫物置于高于栅线的薄膜晶体管(thinfilm transistor，TFT)上，而次隔垫物置于栅线之上，不与阵列基板相接触。

在实现本发明的过程中，发明人发现，在液晶显示器的制造过程中，确保液晶显示面板比较均一的厚度是实现高品质液晶显示的基础，所述主隔垫物不仅起到支撑盒厚作用，还保持了液晶面板的厚度的均一性。但是，由于TFT表面凹凸不平，要保持液晶面板厚度的均一性，必须对阵列基板与彩膜基板之间进行精准度的要求很高的对位。然而，在制造液晶显示面板的过程中，阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差，这样影响了液晶显示面板的均一度。

发明内容

本发明实施例提供的液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法，用于解决现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

为达到上述目的，本发明实施例采用如下技术方案：

一种液晶面板，包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和所述栅线围设形成像素单元；每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极；其中，所述薄膜晶体管开关包括栅极、源极、漏极和有源层；所述栅极连接所述栅线，所述源极连接所述数据线，所述漏极连接所述像素电极，所述有源层形成在所述源极、所述漏极与所述栅极之间，所述阵列基板与彩膜基板之间设置有主隔垫物和次隔垫物，所述彩膜基板上形成有彩色树脂和黑矩阵，所述彩色树脂与所述阵列基板上的所述像素电极相对应，所述黑矩阵与所述阵列基板上除所述像素电极之外的区域相对应，所述阵列基板和彩膜基板上形成有相互接触的主隔垫物和凸起物，所述凸起物对应于所述阵列基板的栅线或数据线。

进一步的，为了使得所述主隔垫物与所述凸起物之间相接触的面积恒定，所述主隔垫物和所述凸起物为狭长状，且所述主隔垫物和所述凸起物的狭长延伸方向相互垂直。

具体的，所述主隔垫物形成在彩膜基板上，所述凸起物形成在阵列基板上。或者，所述主隔垫物形成在阵列基板上，所述凸起物形成在彩膜基板上。

在所述凸起物形成在阵列基板上时，为了使得凸起物的形成不会造成阵列基板的制作工艺的复杂化，所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的数据线金属层上刻蚀出对应所述栅线位置的数据线金属层图案，所述数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案，并且数据线金属层上刻蚀出与所述有源层图案重叠的数据线金属层图案，所述有源层图案、以及数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案，所述栅线金属层图案将位于栅线金属层之上的数据线和绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述数据线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案，并且在有源层薄膜上刻蚀出与所述栅线金属层图案重叠的有源层图案，所述栅线金属层图案以及有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线和所述数据线交叉处的有源层图案，所述有源层图案将位于所述有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与栅线与数据线交叉处对应的凸起物。

进一步的，为了使得所述主隔垫物与所述凸起物之间的想接触的面积尽可能大，所述与栅线对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述栅线；或者

所述与数据线对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述数据线；或者

所述与栅线和数据线交叉处对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述栅线或所述数据线。

进一步的，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述彩膜基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

在所述凸起物在彩膜基板上形成时，所述凸起物设置在所述彩膜基板的黑矩阵上，对应阵列基板的栅线或数据线设置，所述凸起物由色阻图案和所述黑矩阵构成。

进一步的，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述阵列基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

一种阵列基板的制造方法，包括，通过构图工艺在基板上形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层，还包括：

在形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层的过程中通过构图工艺形成凸起物，所述凸起物对应所述栅线或数据线形成。

进一步的，在所述凸起物形成在阵列基板上时，为了使得凸起物的形成不会造成阵列基板的制作工艺的复杂化，所述在形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层的过程中通过构图工艺形成凸起物，所述凸起物对应所述栅线或数据线形成，包括：

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

在形成数据线、源极和漏极的过程中通过构图工艺在数据线金属层上刻蚀出对应所述栅线位置的数据线金属层图案，所述数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案；在形成数据线、源极和漏极的过程中通过构图工艺在数据线金属层上刻蚀出与所述有源层图案重叠的数据线金属层图案，所述有源层图案、以及数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成栅线、栅极的过程中通过构图工艺在栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案，所述栅线金属层图案将位于栅线金属层之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述数据线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成栅线、栅极的过程中通过构图工艺在栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案；在形成有源层的过程中，通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出与所述栅线金属层图案重叠的有源层图案，所述栅线金属层图案以及有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线和所述数据线交叉处的有源层图案，所述有源层图案将位于所述有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与栅线与数据线交叉处对应的凸起物。

一种液晶面板的制造方法，包括上述的的阵列基板的形成方法，还包括，

形成彩膜基板，所述彩膜基板上形成有彩色树脂和黑矩阵，所述彩色树脂与所述阵列基板上的所述像素电极相对应，所述黑矩阵与所述阵列基板上除所述像素电极之外的区域相对应；

在所述彩膜基板上形成主隔垫物和次隔垫物，所述主隔垫物和次隔垫物同步形成且厚度相同，所述主隔垫物与所述凸起物对应；

对盒所述阵列基板和所述彩膜基板，使得所述主隔垫物与所述凸起物接触。

一种彩膜基板的制造方法，包括形成彩色树脂和黑矩阵，所述彩膜基板与阵列基板配合形成液晶面板，所述彩色树脂与所述阵列基板上的像素电极相对应，所述黑矩阵与所述阵列基板上除所述像素电极之外的区域相对应，包括：

通过构图工艺形成黑矩阵、彩色树脂、色阻图案，所述黑矩阵和所述色阻图案构成凸起物，所述凸起物对应于阵列基板的栅线或数据线；

所述色阻图案与所述彩色树脂同步形成，且形成在所述黑矩阵之上或形成在所述黑矩阵之下。

一种液晶面板的制造方法，包括如上述的彩膜基板的形成方法，还包括，

形成阵列基板，所述阵列基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和所述栅线围设形成像素单元；每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极；其中，所述薄膜晶体管开关包括栅极、源极、漏极和有源层；所述栅极连接所述栅线，所述源极连接所述数据线，所述漏极连接所述像素电极，所述有源层形成在所述源极和所述漏极与所述栅极之间；

在所述阵列基板上形成主隔垫物和次隔垫物，所述主隔垫物和次隔垫物同步形成且厚度相同，所述主隔垫物与所述凸起物对应；

对盒所述阵列基板和所述彩膜基板，使得所述主隔垫物与所述凸起物接触。

本发明实施例提供的液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法，由于所述阵列基板与彩膜基板之间包括与栅线或数据线对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与所述主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

附图说明

图1为本发明实施例提供的液晶面板中阵列基板的结构示意图一；

图2为本发明实施例提供的液晶面板的剖面示意图一；

图3为本发明实施例提供的液晶面板的剖面示意图二；

图4为图2所示的液晶面板的俯视示意图；

图5为本发明实施例提供的液晶面板中阵列基板的结构示意图二；

图5(a)为图5的A-A剖面图一；

图5(b)为图5的A-A剖面图二；

图5(c)为图5的A-A剖面图三；

途6为本发明实施例提供的液晶面板中阵列基板的结构示意图三；

图6(a)为图6的B-B剖面图一；

图6(b)为图6的B-B剖面图二；

图6(c)为图6的B-B剖面图三；

图7为本发明实施例提供的液晶面板中阵列基板的结构示意图四；

图7(a)为图7的C-C剖面图；

图8为本发明实施例提供的阵列基板制造方法流程图；

图8(a1)和图8(a2)为图5所示的阵列基板的步骤801～802的制造过程；

图8(b1)和图8(b2)为图5所示的阵列基板的步骤803的制造过程；

图8(c1)和图8(c2)为图5所示的阵列基板的步骤804的制造过程；

图8(d1)和图8(d2)为图5所示的阵列基板的步骤805～806的制造过程。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为了解决现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题，本发明实施例提供一种液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法。

本发明实施例提供的液晶面板，包括阵列基板和彩膜基板。

如图1所示，所述阵列基板1上形成有横纵交叉的数据线11和栅线12；所述数据线11和所述栅线12围设形成像素单元13；每个所述像素单元13包括薄膜晶体管131和像素电极132；其中，所述薄膜晶体管131包括栅极1311、源极1312、漏极1313和有源层1314；所述栅极1311连接所述栅线12，所述源极1312连接所述数据线11，所述漏极1313连接所述像素电极132，所述有源层1312形成在所述源极1312、所述漏极1313与所述栅极1311之间。

如图2所示，所述阵列基板1与彩膜基板2之间设置有主隔垫物3和次隔垫物4，所述彩膜基板2上形成有彩色树脂21和黑矩阵22，所述彩色树脂21与所述阵列基板上的所述像素电极132相对应，所述黑矩阵22与所述阵列基板1上除所述像素电极132之外的区域相对应，所述阵列基板1上形成有与栅线或数据线对应设置的凸起物5，彩膜基板2上形成有主隔垫物3，所述主隔垫物3与所述凸起物5对应相接触。

可选的，如图3所示，所述阵列基板1与彩膜基板2之间设置有主隔垫物3和次隔垫物4，所述彩膜基板2上形成有彩色树脂21和黑矩阵22，所述彩色树脂21与所述阵列基板上的所述像素电极132相对应，所述黑矩阵22与所述阵列基板1上除所述像素电极132之外的区域相对应，所述彩膜基板2上形成有与阵列基板1的栅线或数据线对应设置的凸起物5，阵列基板1上形成有主隔垫物，所述主隔垫物与所述凸起物对应相接触。

在所述在所述凸起物在彩膜基板上形成时，所述凸起物设置在所述彩膜基板的黑矩阵上，对应阵列基板的栅线或数据线设置，所述凸起物由色阻图案和所述黑矩阵构成。

进一步的，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述阵列基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

本发明实施例提供的液晶面板，由于所述阵列基板与彩膜基板之间包括与栅线或数据线对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与所述主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

进一步的，为了使得主隔垫物与凸起物之间接触的面恒定在本实施例中，如图4所示，主隔垫物3和凸起物5为狭长状，且主隔垫物3和凸起物5的狭长延伸方向相互垂直。优选的，所述主隔垫物3的朝向所述凸起物4的面为圆角矩形、椭圆矩形或矩形，所述凸起物4朝向所述主隔垫物3的面为圆角矩形、椭圆矩形或矩形。

进一步的，在所述凸起物形成在阵列基板上时，为了使得凸起物的形成不会造成阵列基板的制作工艺的复杂化，所述凸起物5的具体实现包括但不限于以下方式：

(一)如图5所示，所述凸起物5形成在与所述阵列基板1的栅线12对应的位置时，所述凸起物5的具体实现包括但不限于以下方式：

如图5(a)所示，所述阵列基板1的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线12位置的有源层图案51，所述有源层图案51将位于有源层薄膜之上的绝缘层14垫起形成与栅线12对应的凸起物5；或者

如图5(b)所示，所述阵列基板1的数据线金属层上刻蚀出对应所述栅线12位置的数据线金属层图案52，所述数据线金属层图案52将位于数据线金属层之上的绝缘层14垫起形成与栅线12对应的凸起物5；或者

如图5(c)所述阵列基板1的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线12位置的有源层图案51，并且数据线金属层上刻蚀出与所述有源层图案51重叠的数据线金属层图案52，所述有源层图案51、以及数据线金属层图案52将位于数据线金属层之上的绝缘层14垫起形成与栅线12对应的凸起物5。

进一步的，为了使得所述主隔垫物与所述凸起物之间的想接触的面积尽可能大，所述与栅线对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述栅线。

进一步的，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述彩膜基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

(二)如图6所示，所述凸起物5形成在与所述阵列基板1的数据线11对应的位置时，所述凸起物5的具体实现包括但不限于以下方式：

如图6(a)所示，所述阵列基板1的栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线11位置的栅线金属层图案53，所述栅线金属层图案53将位于栅线金属层之上的数据线11和绝缘层14垫起形成与数据线11对应的凸起物5；或者

如图6(b)所示，所述阵列基板1的有源层薄膜上刻蚀出对应所述数据线11位置的有源层图案51，所述有源层图案51将位于有源层薄膜之上的数据线11以及绝缘层14垫起形成与数据线11对应的凸起物5；或者

如图6(c)所述阵列基板1的栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线11位置的栅线金属层图案53，并且在有源层薄膜上刻蚀出与所述栅线金属层图案53重叠的有源层图案51，所述栅线金属层图案53以及有源层图案51将位于有源层薄膜之上的数据线11和绝缘层14垫起形成与数据线对应的凸起物。

进一步的，为了使得所述主隔垫物与所述凸起物之间的想接触的面积尽可能大，所述与数据线对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述数据线。

进一步的，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述彩膜基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

(三)如图7所示，所述凸起物5形成在与所述阵列基板1的栅线12与数据线11的交叉处，所述凸起物5的具体实现包括但不限于以下方式：

如图7(a)所述阵列基板1的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线12和所述数据线11交叉处的有源层图案51，所述有源层图案51将位于所述有源层图案51之上的数据线11以及绝缘层14垫起形成与栅线12与数据线11交叉处对应的凸起物5。

进一步的，为了使得所述主隔垫物与所述凸起物之间的想接触的面积尽可能大，所述与栅线和数据线交叉处对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述栅线或所述数据线。

进一步的，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述彩膜基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，包括：

(1)在基板上形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层。

(2)在形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层的过程中通过构图工艺形成凸起物，所述凸起物对应所述栅线或数据线形成。

本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，由于在所述阵列基板的栅线或数据线上对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与所述主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

本发明又一实施例提供的阵列制造方法，包括：在基板上形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层；在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案；在形成数据线、源极和漏极的过程中通过构图工艺在数据线金属层上刻蚀出与所述有源层图案重叠的数据线金属层图案，所述有源层图案、以及数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物。

具体的，如图8所示，所述阵列基板的制造方法，包括：

步骤801，如图8(a1)和图8(a2)所示，利用沉积技术在基板801上形成栅金属层薄膜。随后，通过掩膜构图工艺将所述栅金属层刻蚀形成栅图案，该栅图案包括栅线802、薄膜晶体管的栅极803。

步骤802，如图8(a1)和图8(a2)所示，利用沉积技术在具有栅图案的基板上沉积栅极绝缘薄膜804。

步骤803，如图8(b1)和图8(b2)，利用沉积技术在具有栅极绝缘薄膜的基板上沉积有源层薄膜，通过掩膜构图工艺将所属有源层薄膜刻蚀形成与薄膜晶体管的栅极803重叠的有源层805以及对应所述栅线802位置的有源层图案806。

步骤804，如图8(c1)和图8(c2)所示，在包括有源层的基板上形成数据线金属层薄膜，通过掩膜构图工艺刻蚀出源/漏图案和与所述有源层图案806重叠的数据线金属层图案807，该源/漏图案包括与栅极扫描线交叉且相互平行的数据线、开关薄膜晶体管的源极808和漏极809。

步骤805，如图8(d1)和图8(d2)所示，利用沉积技术在步骤804所形成的基板上沉积钝化薄膜810，并利用掩膜构图工艺在钝化薄膜上刻蚀出过孔811，该过孔811能够露出薄膜晶体管的漏极809。

步骤806，如图8(d1)和图8(d2)所示，在具有过孔的钝化薄膜上沉积一层透明电极材料，并利用掩膜构图工艺刻蚀出像素电极812，该像素电极经过孔811连接到薄膜晶体管的漏极809。

在本实施例中，所述有源层图案、以及数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物

值得说明的是，所述与栅线对应的凸起物可以如图5(a)所示由所述有源层图案将位于所述有源层图案的之上的绝缘层垫起形成，或者可以如图5(b)所示由所述数据金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成。上述的两种形式的凸起物可以在图8所示的制造方法的过程中，省略其中的803或804中的一部分内容制造得到，此处不再赘述。

另一方面，所述凸起物可以是与数据线对应的凸起物，也可以是与栅线和数据线交叉处对应的凸起物。

在所述凸起物是与数据线对应的凸起物时，所述阵列基板的制造方法，包括：在基板上形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层；在形成栅线、栅极的过程中通过构图工艺在栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案；在形成有源层的过程中，通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出与所述栅线金属层图案重叠的有源层图案，所述栅线金属层图案以及有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物，如图6(c)所示。其制造原理与上述的制造方法相同，此处不再赘述。

值得说明的是，所述与数据线对应的凸起物可以如图6(a)所示由所述栅线金属层图案将位于栅线金属层之上的数据线和绝缘层垫起形成，或者可以如图6(b)所示由有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成。其制造原理与上述的制造方法相同，此处不再赘述。

在所述凸起物是与栅线和数据线交叉处对应的凸起物时，所述阵列基板的制造方法，包括：在基板上形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层；在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线和所述数据线交叉处的有源层图案，所述有源层图案将位于所述有源层图案之上的数据线以及绝缘层垫起形成与栅线与数据线交叉处对应的凸起物。其制造原理与上述的制造方法相同，此处不再赘述。

本发明实施例提供的阵列基板的制造方法，由于在所述阵列基板的栅线或数据线上对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与所述主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

本发明实施例提供的液晶面板的制造方法，包括：上述的阵列基板的形成方法。以及形成彩膜基板。彩膜基板上形成有彩色树脂和黑矩阵，彩色树脂与阵列基板上的像素电极相对应，黑矩阵与阵列基板上除像素电极之外的区域相对应。在彩膜基板上形成主隔垫物和次隔垫物，主隔垫物和次隔垫物同步形成且厚度相同，主隔垫物与凸起物对应。对盒阵列基板和彩膜基板，使得主隔垫物与凸起物接触。

本发明实施例提供的液晶显示面板的制造方法，由于阵列基板与彩膜基板之间包括与栅线或数据线对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，包括：

形成彩色树脂和黑矩阵，彩膜基板与阵列基板配合形成液晶面板，彩色树脂与阵列基板上的像素电极相对应，黑矩阵与阵列基板上除像素电极之外的区域相对应。

其中，通过构图工艺形成彩色树脂时同步形成色阻图案，色阻图案与黑矩阵交叠，与交叠处的黑矩阵构成凸起物，凸起物对应于阵列基板的栅线或数据线；色阻图案与彩色树脂同步形成，且形成在黑矩阵之上或形成在黑矩阵之下。

本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，由于阵列基板与彩膜基板之间包括与栅线或数据线对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

本发明实施例提供的液晶面板的制造方法，包括：上述的彩膜基板的形成方法。形成阵列基板。阵列基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线。数据线和栅线围设形成像素单元；每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极；其中，薄膜晶体管开关包括栅极、源极、漏极和有源层；栅极连接栅线，源极连接数据线，漏极连接像素电极，有源层形成在源极和漏极与栅极之间。在阵列基板上形成主隔垫物和次隔垫物，主隔垫物和次隔垫物同步形成且厚度相同，主隔垫物与凸起物对应；对盒阵列基板和彩膜基板，使得主隔垫物与凸起物接触。

本发明实施例提供的液晶显示面板的制造方法，由于阵列基板与彩膜基板之间包括与栅线或数据线对应设置且与主隔垫物接触的凸起物，使得凸起物替代TFT与主隔垫物接触，解决了现有技术中主隔垫物设置在表面凹凸不平的TFT上，由于阵列基板与彩膜基板之间对位会有偏差影响液晶显示面板的均一度的问题。

本发明实施例提供的液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法应用在带有液晶显示面板的装置中。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种液晶面板，包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和所述栅线围设形成像素单元；每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极；其中，所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极和有源层；所述栅极连接所述栅线，所述源极连接所述数据线，所述漏极连接所述像素电极，所述有源层形成在所述源极、所述漏极与所述栅极之间，所述阵列基板与彩膜基板之间设置有主隔垫物和次隔垫物，所述彩膜基板上形成有彩色树脂和黑矩阵，所述彩色树脂与所述阵列基板上的所述像素电极相对应，所述黑矩阵与所述阵列基板上除所述像素电极之外的区域相对应，其特征在于，

所述阵列基板和彩膜基板上形成有相互接触的主隔垫物和凸起物，所述凸起物对应于所述阵列基板的栅线或数据线。

2.如权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述主隔垫物和所述凸起物为狭长状，且所述主隔垫物和所述凸起物的狭长延伸方向相互垂直。

3.如权利要求1-2任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述主隔垫物形成在彩膜基板上，所述凸起物形成在阵列基板上。

4.如权利要求1-2任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述主隔垫物形成在阵列基板上，所述凸起物形成在彩膜基板上。

5.如权利要求3所述的液晶面板，其特征在于，

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的数据线金属层上刻蚀出对应所述栅线位置的数据线金属层图案，所述数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案，并且数据线金属层上刻蚀出与所述有源层图案重叠的数据线金属层图案，所述有源层图案、以及数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案，所述栅线金属层图案将位于栅线金属层之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述数据线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案，并且在有源层薄膜上刻蚀出与所述栅线金属层图案重叠的有源层图案，所述栅线金属层图案以及有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

所述阵列基板的有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线和所述数据线交叉处的有源层图案，所述有源层图案将位于所述有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与栅线与数据线交叉处对应的凸起物。

6.根据权利要求5所述的液晶面板，其特征在于，

所述与栅线对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述栅线；或者

所述与数据线对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述数据线；或者

所述与栅线和数据线交叉处对应的凸起物的狭长延伸方向平行于所述栅线或所述数据线。

7.如权利要求3或5或6任一项所述的液晶面板，其特征在于，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述彩膜基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

8.如权利要求3所述的液晶面板，其特征在于，所述凸起物设置在所述彩膜基板的黑矩阵上，对应阵列基板的栅线或数据线设置，所述凸起物由色阻图案和所述黑矩阵构成。

9.如权利要求8所述的液晶面板，其特征在于，所述主隔垫物和次隔垫物形成在所述阵列基板上，且所述主隔垫物和次隔垫物厚度相同。

10.一种阵列基板的制造方法，包括，通过构图工艺在基板上形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层，其特征在于，还包括：

在形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层的过程中通过构图工艺形成凸起物，所述凸起物对应所述栅线或数据线形成。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在形成栅线、栅极、数据线、源极、漏极、有源层、像素电极和绝缘层的过程中通过构图工艺形成凸起物，所述凸起物对应所述栅线或数据线形成，包括：

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

在形成数据线、源极和漏极的过程中通过构图工艺在数据线金属层上刻蚀出对应所述栅线位置的数据线金属层图案，所述数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线位置的有源层图案；在形成数据线、源极和漏极的过程中通过构图工艺在数据线金属层上刻蚀出与所述有源层图案重叠的数据线金属层图案，所述有源层图案、以及数据线金属层图案将位于数据线金属层之上的绝缘层垫起形成与栅线对应的凸起物；或者

在形成栅线、栅极的过程中通过构图工艺在栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案，所述栅线金属层图案将位于栅线金属层之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述数据线位置的有源层图案，所述有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线以及绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成栅线、栅极的过程中通过构图工艺在栅线金属层上刻蚀出对应所述数据线位置的栅线金属层图案；在形成有源层的过程中，通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出与所述栅线金属层图案重叠的有源层图案，所述栅线金属层图案以及有源层图案将位于有源层薄膜之上的数据线和绝缘层垫起形成与数据线对应的凸起物；或者

在形成有源层的过程中通过构图工艺在有源层薄膜上刻蚀出对应所述栅线和所述数据线交叉处的有源层图案，所述有源层图案将位于所述有源层图案之上的数据线以及绝缘层垫起形成与栅线与数据线交叉处对应的凸起物。

12.一种液晶面板的制造方法，其特征在于，包括如权利要求10或11所述的阵列基板的形成方法，还包括，

形成彩膜基板，所述彩膜基板上形成有彩色树脂和黑矩阵，所述彩色树脂与所述阵列基板上的所述像素电极相对应，所述黑矩阵与所述阵列基板上除所述像素电极之外的区域相对应；

在所述彩膜基板上形成主隔垫物和次隔垫物，所述主隔垫物和次隔垫物同步形成且厚度相同，所述主隔垫物与所述凸起物对应；

对盒所述阵列基板和所述彩膜基板，使得所述主隔垫物与所述凸起物接触。

13.一种彩膜基板的制造方法，包括形成彩色树脂和黑矩阵，所述彩膜基板与阵列基板配合形成液晶面板，所述彩色树脂与所述阵列基板上的像素电极相对应，所述黑矩阵与所述阵列基板上除所述像素电极之外的区域相对应，其特征在于，包括：

通过构图工艺形成黑矩阵、彩色树脂、色阻图案，所述黑矩阵和所述色阻图案构成凸起物，所述凸起物对应于阵列基板的栅线或数据线；

所述色阻图案与所述彩色树脂同步形成，且形成在所述黑矩阵之上或形成在所述黑矩阵之下。

14.一种液晶面板的制造方法，其特征在于，包括如权利要求13所述的彩膜基板的形成方法，还包括，

形成阵列基板，所述阵列基板上形成有横纵交叉的数据线和栅线；所述数据线和所述栅线围设形成像素单元；每个所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极；其中，所述薄膜晶体管开关包括栅极、源极、漏极和有源层；所述栅极连接所述栅线，所述源极连接所述数据线，所述漏极连接所述像素电极，所述有源层形成在所述源极和所述漏极与所述栅极之间；

在所述阵列基板上形成主隔垫物和次隔垫物，所述主隔垫物和次隔垫物同步形成且厚度相同，所述主隔垫物与所述凸起物对应；

对盒所述阵列基板和所述彩膜基板，使得所述主隔垫物与所述凸起物接触。

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