CN105140241B - 阵列基板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该阵列基板包括：衬底基板；衬底基板上形成有包含至少一个凸起的铺垫层；形成有铺垫层的衬底基板上形成有数据线，数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域。本发明解决了数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良的问题，实现了消除数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良的效果，本发明用于阵列基板的制造。

Description

阵列基板及其制造方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，人们对显示装置的显示效果的要求越来越高，进而对显示装置中阵列基板的制作工艺的要求也越来越高。

阵列基板可以包括：衬底基板，以及形成在该衬底基板上的栅极、栅线、公共电极线、像素电极和数据线。在制造阵列基板时，可以首先在衬底基板上同时形成栅极、栅线和公共电极线，栅线的长度方向和公共电极线的长度方向平行，且栅线与栅极相连接；在形成有栅极、栅线和公共电极线的衬底基板上形成像素电极，像素电极与公共电极线相连接；在形成有像素电极的衬底基板上形成数据线，数据线的长度方向分别与栅线的长度方向、公共电极线的长度方向垂直，且数据线与栅极、公共电极线在衬底基板上的投影有重叠区域。需要说明的是，由于在制造阵列基板的过程中，衬底基板的表面很容易附着一些颗粒，在衬底基板表面形成数据线后，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良，因此在上述的每个步骤之前，均需要对衬底基板的表面进行清洗，除去衬底基板表面附着的颗粒。具体的，可以倾斜衬底基板，并向衬底基板的表面喷洒清洗液，附着在衬底基板表面的颗粒能够在清洗液流动的作用下脱离衬底基板的表面。

由于在形成数据线之前，衬底基板的上形成有栅极、公共电极线，在清洗衬底基板表面的颗粒时，会有一部分颗粒附着于栅极、栅线与衬底基板表面的连接部位，且无法随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，因此，衬底基板的表面附着的颗粒较多，在衬底基板表面形成数据线后，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。

发明内容

为了解决数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良的问题，本发明提供了一种阵列基板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种阵列基板，所述阵列基板包括：

衬底基板；

所述衬底基板上形成有包含至少一个凸起的铺垫层；

形成有所述铺垫层的衬底基板上形成有数据线，所述数据线在所述铺垫层的正投影与所述凸起存在重叠区域。

可选的，所述铺垫层包括：多个栅极和多个栅线；

每个所述栅极与一个栅线连接，至少一个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起，所述凸起的高度方向与所述栅线的宽度方向平行。

可选的，至少一个所述栅极上远离栅线的一侧设置有凸起。

可选的，所述铺垫层还包括：多个公共电极线，

至少一个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

可选的，每个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起；

每个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

可选的，所述衬底基板上形成有包含至少一个凸起的所述铺垫层，所述铺垫层上的凸起以垫层加高的方式形成，所述凸起的高度方向与所述铺垫层的厚度方向平行。

可选的，所述铺垫层包括：栅极绝缘层，所述栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起，所述栅极绝缘层上的凸起以垫层加高的方式形成，所述凸起的高度方向与所述栅极绝缘层的厚度方向平行。

可选的，所述凸起为圆弧形凸起，所述圆弧形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

可选的，所述凸起为方形凸起，所述方形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

第二方面，提供了一种阵列基板的制造方法，所述阵列基板的制造方法包括：

在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层；

在形成有所述铺垫层的衬底基板上形成数据线，所述数据线在所述铺垫层的正投影与所述凸起存在重叠区域。

可选的，所述在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，包括：

采用单色掩膜板在所述衬底基板上形成多个栅极和多个栅线，每个所述栅极与一个栅线连接，至少一个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起，所述凸起的高度方向与所述栅线的宽度方向平行。

可选的，至少一个所述栅极上远离栅线的一侧设置有凸起。

可选的，所述采用单色掩膜板在所述衬底基板上形成多个栅极和多个栅线，包括：

采用单色掩膜板在所述衬底基板上形成多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，至少一个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

可选的，每个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起；

每个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

可选的，所述在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，包括：

采用多色掩膜板以垫层加高的方式，在所述衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，所述凸起的高度方向与所述铺垫层的厚度方向平行。

可选的，所述在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，包括：

采用多色掩膜板以垫层加高的方式，在所述衬底基板上形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起，所述凸起的高度方向与所述栅极绝缘层的厚度方向平行。

可选的，所述凸起为圆弧形凸起，所述圆弧形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

可选的，所述凸起为方形凸起，所述方形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括如第一方面所述的阵列基板。

本发明提供了一种阵列基板及其制造方法、显示装置，由于阵列基板中的铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，衬底基板表面待形成数据线的位置上不会附着的颗粒，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；

图2是相关技术提供的一种阵列基板的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的一种阵列基板的局部结构的俯视图；

图4是本发明实施例提供的另一种阵列基板的局部结构的俯视图；

图5是本发明实施例提供的一种阵列基板的剖面图；

图6是本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种阵列基板的制造方法的方法流程图；

图8是本发明实施例提供的另一种阵列基板的制造方法的方法流程图；

图9是本发明实施例提供的又一种阵列基板的制造方法的方法流程图。

通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

本发明实施例提供了一种阵列基板，该阵列基板可以包括；衬底基板，衬底基板上可以形成有包含至少一个凸起的铺垫层；形成有铺垫层的衬底基板上可以形成有数据线，且数据线在铺垫层上的正投影与铺垫层上的凸起存在重叠区域。

综上所述，由于本发明实施例提供的阵列基板中，铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

一方面，如图1所示，本发明实施例提供了一种阵列基板0，该阵列基板0可以包括：衬底基板01，衬底基板01上可以形成有包含至少一个凸起A的铺垫层；形成有铺垫层的衬底基板01上形成有数据线03，且该数据线03在铺垫层的正投影与凸起A存在重叠区域。该铺垫层可以包括：多个栅极021和多个栅线022。每个栅极021与一个栅线022连接，至少一个栅线022远离栅极021的一侧设置有阵列排布的多个凸起A，且图1中的每个凸起A的高度方向e均与栅线022的宽度方向f平行。本发明实施例中的衬底基板01可以为玻璃基板，需要说明的是，本发明实施例中的衬底基板01还可以为其他基板，本发明实施例对此不做限定。

可选的，至少一个栅极021上远离栅线022的一侧可以设置有阵列排布的多个凸起A。该铺垫层02还可以包括：多个公共电极线023，且至少一个公共电极线023的两侧可以设置有阵列排布的多个凸起A。示例的，图1中以每个栅线022远离栅极021的一侧设置有阵列排布的多个凸起A，以及每个公共电极线023的两侧设置有阵列排布的多个凸起A为例。

可选的，由于该栅线和公共电极线平行，且该数据线平行于栅线、公共电极线，即栅线、公共电极线和数据线存在交叉，相关技术中，在制造阵列基板的过程中，衬底基板的表面很容易附着一些颗粒，在衬底基板表面形成数据线后，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。如图2所示，图2为相关技术提供的一种阵列基板1的局部结构示意图，该阵列基板1包括衬底基板11，在形成数据线13之前，衬底基板11的上形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z，在清洗衬底基板11表面的颗粒时，会有一部分颗粒M附着于栅极X、栅线Y和公共电极线Z与衬底基板11表面的连接部位N，且无法随着清洗液的流动脱离衬底基板11的表面，若数据线13形成于该连接部位N，则位于该连接部位N的颗粒M会影响数据线13、栅线Y、公共电极线Z交叉区域P处信号的传输，因此，数据线13的功能性不良，阵列基板1的功能性不良。

如图1所示，本发明实施例提供的阵列基板0中，由于每个栅线022远离栅极021的一侧设置有多个凸起A，每个公共电极线023的两侧设置有阵列排布的多个凸起A，且数据线03在栅线022、栅极021和公共电极线023的正投影与凸起A存在重叠区域。在栅线022、栅极021或公共电极线023上形成数据线03之前，附着于凸起A上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板01的表面，即栅线022和公共电极线023上设置有凸起A的位置不会附着有颗粒，在形成数据线03后，该阵列基板0上的数据线03、栅线022、公共电极线023的交叉区域不会存在颗粒，所以，消除了数据线03的功能性不良，以及阵列基板0的功能性不良。

该凸起A可以为圆弧形凸起，如图3所示，图3为本发明实施例提供的一种局部结构的俯视图，该公共电极线023上的圆弧形凸起A的宽度K1可以如图3所示，该圆弧形凸起A的宽度K1大于或等于数据线03的宽度。可选的，公共电极线023上设置的凸起A还可以为如图4所示的凸起A，同样，该凸起A的宽度K1也大于或等于数据线03的宽度。需要说明的是，若栅极和栅线上设置有凸起A，则栅极或栅线上的凸起A也可以为图3或图4所示的凸起A。

另一方面，图5为本发明实施例提供的一种阵列基板0的剖面图，如图5所示，该阵列基板0可以包括：衬底基板01，衬底基板01上可以形成有包含至少一个凸起A的铺垫层V；形成有铺垫层V的衬底基板01上形成有数据线03，且该数据线03在铺垫层V的正投影与凸起A存在重叠区域，每个凸起A的高度方向g与铺垫层V的厚度方向h平行，示例的，图5中的铺垫层V上的凸起A可以以垫层加高的方式形成。本发明实施例中的衬底基板01可以为玻璃基板，需要说明的是，本发明实施例中的衬底基板01还可以为其他基板，本发明实施例对此不做限定。

可选的，如图6所示，该铺垫层V可以为栅极绝缘层024，即该栅极绝缘层024上设置有阵列排布的多个凸起A，数据线03在栅极绝缘层024的正投影与栅极绝缘层024上设置的凸起A存在重叠区域，且每个凸起A的高度方向g与栅极绝缘层024的厚度方向平行。衬底基板上可以形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z，形成有该栅极X、栅线Y和公共电极线Z的衬底基板上可以形成有该栅极绝缘层024，且该栅极绝缘层024上设置有阵列排布的多个凸起A，每个凸起A的高度方向可以与栅极绝缘层024的厚度方向平行。形成有栅极绝缘层024的衬底基板上形成有数据线03，数据线03在栅极绝缘层024的正投影与栅极绝缘层024上设置的凸起A存在重叠区域。

可选的，由于该栅线和公共电极线平行，且该数据线平行于栅线、公共电极线，即栅线、公共电极线和数据线存在交叉，相关技术中，在制造阵列基板的过程中，衬底基板的表面很容易附着一些颗粒，在衬底基板表面形成数据线后，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。如图2所示，图2为相关技术提供的一种阵列基板1的局部结构示意图，该阵列基板1包括衬底基板11，在形成数据线13之前，衬底基板11的上形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z，在清洗衬底基板11表面的颗粒时，会有一部分颗粒M附着于栅极X、栅线Y和公共电极线Z与衬底基板11表面的连接部位N，且无法随着清洗液的流动脱离衬底基板11的表面，若数据线13形成于该连接部位N，则位于该连接部位N的颗粒M会影响数据线13、栅线Y、公共电极线Z交叉区域P处信号的传输，因此，数据线13的功能性不良，阵列基板1的功能性不良。

进一步的，图2所示的阵列基板1中，形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z的衬底基板上还可以形成有栅极绝缘层(图2中未示出)，形成有栅极绝缘层的衬底基板上可以形成有数据线13。由于在形成该数据线13之前，该衬底基板11上待形成数据线13的位置上附着有颗粒M，在形成数据线13时，由于该数据线与栅极绝缘层12之间存在颗粒M，使得该数据线13与栅极绝缘层12无法完全接触，数据线13较容易从该栅极绝缘层12上脱落，因此，在衬底基板表面形成数据线13后，数据线13的功能性不良，阵列基板1的功能性不良。可选的，在形成该数据线13之后，还需要在数据线13上进行涂覆光刻胶、对光刻胶进行曝光、对光刻胶进行显影、以及对阵列基板进行刻蚀的工作。在对阵列基板进行刻蚀时，该数据线表面覆盖有光刻胶，但是，由于数据线与栅极绝缘层之间存在颗粒M，数据线与栅极绝缘层之间会存在缝隙，刻蚀液能够从缝隙进入该数据线与栅极绝缘层之间的位置，并对数据线进行刻蚀，刻蚀掉数据线上不该被刻蚀掉的部分。示例的，若该数据线与栅极绝缘层之间的颗粒较多，且较集中，则刻蚀液刻蚀掉的数据线的面积较大，会导致数据线断裂，使得阵列基板1无法正常工作。

如图6所示，本发明实施例提供的阵列基板0中，由于栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起A，且数据线03在栅极绝缘层上的正投影与凸起A存在重叠区域，每个凸起A的高度方向与栅极绝缘层的厚度方向平行。在形成数据线03之前，附着于凸起A上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板01的表面，即栅极绝缘层上设置有凸起A的位置不会附着有颗粒，在形成数据线03后，该数据线与栅极绝缘层之间不会附着有颗粒，在形成数据线之后的刻蚀步骤中，刻蚀液不会刻蚀数据线上不该刻蚀掉的部分，阵列基板能够正常工作，减少了衬底基板01表面附着的颗粒，且衬底基板01表面待形成数据线03的位置上不会附着的颗粒，消除了数据线03的功能性不良，以及阵列基板01的功能性不良。

该凸起A可以为方形凸起，如图6所示，Q所指示的区域为W所指示的区域的剖视图，该方形凸起A的宽度K2可以大于或等于数据线03的宽度。示例的，图6中以该方形凸起A的宽度K2大于数据线03的宽度为例。需要说明的是，图6所示的阵列基板中，该铺垫层还可以为在形成数据线03之前，形成于衬底基板01上的其他膜层，且该其他膜层上形成有阵列排布的凸起，数据线在该其他膜层上的正投影与该其他膜层上的凸起有重叠，本发明实施例对此不作限定。可选的，还可以通过调整该栅极绝缘层上各个位置凸起的厚度，使得该栅极绝缘层上对应同一条数据线的凸起与该条数据线之间的距离相等。

综上所述，由于本发明实施例提供的阵列基板中，铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

如图7所示，本发明实施例提供了一种阵列基板的制造方法，该阵列基板的制造方法可以包括：

步骤701、在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层。

步骤702、在形成有铺垫层的衬底基板上形成数据线，数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域。

综上所述，由于本发明实施例提供的阵列基板的制造方法所制造的阵列基板中，铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

可选的，步骤701可以包括：

采用单色掩膜板在衬底基板上形成多个栅极和多个栅线，每个栅极与一个栅线连接，至少一个栅线远离栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起，凸起的高度方向与栅线的宽度方向平行。

示例的，至少一个栅极上远离栅线的一侧设置有凸起。采用单色掩膜板在衬底基板上形成多个栅极和多个栅线，可以包括：

采用单色掩膜板在衬底基板上形成多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，至少一个公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

进一步的，每个栅线远离栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起；每个公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。示例的，凸起为圆弧形凸起，圆弧形凸起的宽度大于或等于数据线的宽度。

可选的，步骤701可以包括：

采用多色掩膜板以垫层加高的方式，在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，凸起的高度方向与铺垫层的厚度方向平行。

示例的，步骤701可以包括：

采用多色掩膜板以垫层加高的方式在衬底基板上形成栅极绝缘层，栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起。示例的，凸起为方形凸起，方形凸起的宽度大于或等于数据线的宽度。

综上所述，由于本发明实施例提供的阵列基板的制造方法所制造的阵列基板中，铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

如图8所示，本发明实施例提供了另一种阵列基板的制造方法，该阵列基板的制造方法可以包括：

步骤801、采用单色掩膜板在衬底基板上形成铺垫层，铺垫层包括多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，每个栅线远离栅极的一侧形成有阵列排布的多个凸起，每个公共电极线的两侧形成有阵列排布的多个凸起，每个凸起的高度方向与栅线的宽度方向平行。

可选的，该铺垫层可以包括：多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，且每个栅线上远离栅极的一侧形成有阵列排布的多个凸起，每个公共电极线的两侧形成有阵列排布的多个凸起。如图1所示，可以在衬底基板01上形成金属层，并在金属层上涂覆光刻胶，采用单色掩膜板对涂覆在金属层上的光刻胶进行曝光、显影，使得涂覆在金属层上待形成凸起的位置涂覆有光刻胶，然后对该衬底基板上的金属层进行刻蚀，将该金属层上未覆盖有光刻胶的部分刻蚀掉，在衬底基板上成多个栅极021、多个栅线022和多个公共电极线023，其中，每个栅极021与一个栅线022相连接，公共电极线023与栅线022平行设置。每个栅线022远离栅极021的一侧形成有阵列排布的多个凸起A，且图1中的每个凸起A的高度方向e均与栅线022的宽度方向f平行，每个公共电极线023的两侧设置有阵列排布的多个凸起A，且每个栅极021远离栅线022的一侧不形成有凸起。本发明实施例中的衬底基板01可以为玻璃基板，需要说明的是，本发明实施例中的衬底基板01还可以为其他基板本发明实施例对此不做限定。

本发明实施例中采用单色掩膜板对形成于金属层上的光刻胶进行曝光、显影后，该金属层上待形成凸起的位置上仍然覆盖有光刻胶，相关技术中采用单色掩膜板对形成于金属层上的光刻胶进行曝光、显影后，该金属层上对应本发明实施例中待形成凸起的位置上并未覆盖有光刻胶，因此，本发明实施例中使用的单色掩膜板的掩膜图形与相关技术中使用的单色掩膜板的掩膜图形不同。

可选的，还可以采用单色掩膜板在衬底基板上形成多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，使得：至少公共电极线的两侧形成有阵列排布的多个凸起，且栅线的两侧以及栅极上远离栅线的一侧均不形成有凸起；或者，至少一个栅线远离栅极的一侧形成有阵列排布的多个凸起，且公共电极线的两侧以及栅极上远离栅线的一侧均不形成有凸起；或者，每个栅线远离栅极的一侧形成有阵列排布的多个凸起，每个公共电极线的两侧形成有阵列排布的多个凸起，且每个栅极远离栅线的一侧可以形成有凸起。

示例的，该凸起A可以为圆弧形凸起，如图3所示，图3为本发明实施例提供的一种局部结构的俯视图，该公共电极线023上的圆弧形凸起A的宽度K1可以如图3所示，该圆弧形凸起A的宽度K1大于或等于数据线03的宽度。可选的，公共电极线023上设置的凸起A还可以为如图4所示的凸起A，同样，该凸起A的宽度K1也大于或等于数据线03的宽度。需要说明的是，若栅极和栅线上设置有凸起A，则栅极或栅线上的凸起A也可以为图3或图4所示的凸起A。

步骤802、在形成有铺垫层的衬底基板上形成数据线，数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域。

由于该铺垫层包括：多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，且每个栅线上远离栅极的一侧形成有阵列排布的多个凸起，每个公共电极线的两侧形成有阵列排布的多个凸起，因此，在该铺垫层上形成数据线时，可以首先在形成有栅极、栅线和公共电极线的衬底基板上形成栅极绝缘层，然后在形成有该栅极绝缘层的衬底基板上形成数据线，使得该数据线在铺垫层上的正投影与凸起存在重叠区域，即数据线在栅线或公共电极线上的正投影与栅线或公共电极线上的凸起存在重叠区域。

可选的，由于该栅线和公共电极线平行，且该数据线平行于栅线、公共电极线，即栅线、公共电极线和数据线存在交叉，相关技术中，在制造阵列基板的过程中，衬底基板的表面很容易附着一些颗粒，在衬底基板表面形成数据线后，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。如图2所示，图2为相关技术提供的一种阵列基板1的局部结构示意图，该阵列基板1包括衬底基板11，在形成数据线13之前，衬底基板11的上形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z，在清洗衬底基板11表面的颗粒时，会有一部分颗粒M附着于栅极X、栅线Y和公共电极线Z与衬底基板11表面的连接部位N，且无法随着清洗液的流动脱离衬底基板11的表面，若数据线13形成于该连接部位N，则位于该连接部位N的颗粒M会影响数据线13、栅线Y、公共电极线Z交叉区域P处信号的传输，所以，数据线13的功能性不良，阵列基板1的功能性不良。

如图1所示，本发明实施例提供的阵列基板0中，由于每个栅线022远离栅极021的一侧设置有多个凸起A，每个公共电极线023的两侧设置有阵列排布的多个凸起A，且数据线03在栅线022、栅极021和公共电极线023的正投影与凸起A存在重叠区域。在栅线022、栅极021或公共电极线023上形成数据线03之前，附着于凸起A上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板01的表面，即栅线022和公共电极线023上设置有凸起A的位置不会附着有颗粒，在形成数据线03后，该阵列基板0上的数据线03、栅线022、公共电极线023的交叉区域不会存在颗粒，所以，减少了衬底基板01表面附着的颗粒，衬底基板表面待形成数据线03的位置上不会附着的颗粒，所以，消除了数据线03的功能性不良，以及阵列基板0的功能性不良。

综上所述，由于本发明实施例提供的阵列基板的制造方法所制造的阵列基板中，铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

如图9所示，本发明实施例提供了又一种阵列基板的制造方法，该阵列基板的制造方法可以包括：

步骤901、在衬底基板上形成栅极、栅线和公共电极线。

可选的，可以在衬底基板上形成金属层，并采用单色掩膜板对该金属层进行一次构图工艺，在该衬底基板上形成栅极、栅线和公共电极线。需要说明的是，本发明实施例中，在衬底基板上形成栅极、栅线和公共电极线的具体步骤可以参考相关技术中在衬底基板上形成栅极、栅线和公共电极线的具体步骤，本发明实施例在此不做赘述，且本发明实施例中使用的单色掩膜板的掩膜图形与相关技术中使用的单色掩膜板的掩膜图形相同。本发明实施例中的衬底基板可以为玻璃基板，需要说明的是，本发明实施例中的衬底基板还可以为其他基板，本发明实施例对此不做限定。

步骤902、采用多色掩膜板以垫层加高的方式，在形成有栅极、栅线和公共电极线的衬底基板上形成铺垫层，铺垫层包括：栅极绝缘层，栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起，每个凸起的高度方向与栅极绝缘层的厚度方向平行。

可选的，如图6所示，在衬底基板上形成栅极X、栅线Y和公共电极线Z之后，可以在形成有衬底基板的栅极X、栅线Y和公共电极线Z上以垫层加高的方式形成初始栅极绝缘层，需要说明的是，此时形成的初始栅极绝缘层的厚度可以大于相关技术中栅极绝缘层的厚度。然后，采用多色掩膜板对形成于栅极X、栅线Y和公共电极线Z上的初始栅极绝缘层进行一次构图工艺，使得该初始栅极绝缘层上待形成数据线03的位置上形成阵列排布的多个凸起A，从而形成如图6所示的栅极绝缘层024，且每个凸起A的高度方向与栅极绝缘层024的厚度方向平行。

示例的，该多色掩膜板上可以设置有多个区域，每个区域对应一种透光率，且该多个区域至少对应两种透光率。本发明实施例中，该多个区域可以对应两种透光率，其中，当将该多色掩膜板置于该初始栅极绝缘层上时，位于该初始栅极绝缘层待形成凸起的位置上方的多色掩膜板的区域对应第一透光率，位于初始栅极绝缘层上不待形成凸起的位置上方的多色掩膜板的区域对应第二透光率，该第一透光率可以小于第二透光率。在采用该多色掩膜板对该栅极绝缘层进行一次构图工艺之后，该栅极绝缘层上待形成数据线的位置上既可以形成有阵列排布的多个凸起。

该凸起A可以为方形凸起，如图6所示，Q所指示的区域为W所指示的区域的剖视图，该方形凸起A的宽度K2可以大于或等于数据线03的宽度。示例的，图6中以该方形凸起A的宽度K2大于数据线03的宽度为例。需要说明的是，图6所示的阵列基板中，该铺垫层还可以为该阵列基板中在形成该数据线之前形成的其他膜层，且该其他膜层上形成有阵列排布的凸起，数据线在该其他膜层上的正投影与该其他膜层上的凸起有重叠，本发明实施例对此不作限定。可选的，还可以通过调整该栅极绝缘层上各个位置凸起的厚度，使得该栅极绝缘层上对应同一条数据线的凸起与该条数据线之间的距离相等。

步骤903、在形成有铺垫层的衬底基板上形成数据线，数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域。

可选的，在形成有该栅极绝缘层的衬底基板上形成数据线，使得该数据线在该栅极绝缘层上的正投影与栅极绝缘层上的凸起存在重叠区域。

由于该栅线和公共电极线平行，且该数据线平行于栅线、公共电极线，即栅线、公共电极线和数据线存在交叉，相关技术中，在制造阵列基板的过程中，衬底基板的表面很容易附着一些颗粒，在衬底基板表面形成数据线后，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。如图2所示，图2为相关技术提供的一种阵列基板1的局部结构示意图，该阵列基板1包括衬底基板11，在形成数据线13之前，衬底基板11的上形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z，在清洗衬底基板11表面的颗粒时，会有一部分颗粒M附着于栅极X、栅线Y和公共电极线Z与衬底基板11表面的连接部位N，且无法随着清洗液的流动脱离衬底基板11的表面，若数据线13形成于该连接部位N，则位于该连接部位N的颗粒M会影响数据线13、栅线Y、公共电极线Z交叉区域P处信号的传输，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。

进一步的，图2所示的阵列基板1中，形成有栅极X、栅线Y和公共电极线Z的衬底基板上还可以形成有栅极绝缘层(图2中未示出)，形成有栅极绝缘层的衬底基板上可以形成有数据线13。由于在形成该数据线13之前，该衬底基板11上待形成数据线13的位置上附着有颗粒M，在形成数据线13时，由于该数据线与栅极绝缘层12之间存在颗粒M，使得该数据线13与栅极绝缘层12无法完全接触，数据线13较容易从该栅极绝缘层12上脱落，因此，数据线的功能性不良，阵列基板的功能性不良。可选的，在形成该数据线13之后，还需要在数据线13上进行涂覆光刻胶、对光刻胶进行曝光、对光刻胶进行显影、以及对阵列基板进行刻蚀的工作。在对阵列基板进行刻蚀时，该数据线表面覆盖有光刻胶，但是，由于数据线与栅极绝缘层之间存在颗粒M，数据线与栅极绝缘层之间会存在缝隙，刻蚀液能够从缝隙进入该数据线与栅极绝缘层之间的位置，并对数据线进行刻蚀，刻蚀掉数据线上不该被刻蚀掉的部分。示例的，若该数据线与栅极绝缘层之间的颗粒较多，且较集中，则刻蚀液刻蚀掉的数据线的面积较大，会导致数据线断裂，使得阵列基板1无法正常工作。

如图6所示，本发明实施例提供的阵列基板0中，由于栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起A，且数据线03在栅极绝缘层上的正投影与凸起A存在重叠区域，每个凸起A的高度方向与栅极绝缘层的厚度方向平行。在形成数据线03之前，附着于凸起A上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板01的表面，即栅极绝缘层上设置有凸起A的位置不会附着有颗粒，在形成数据线03后，该数据线与栅极绝缘层之间不会附着有颗粒，在形成数据线之后的刻蚀步骤中，刻蚀液不会刻蚀数据线上不该刻蚀掉的部分，阵列基板能够正常工作，减少了衬底基板01表面附着的颗粒，衬底基板01表面待形成数据线03的位置上不会附着的颗粒，所以，消除了数据线03的功能性不良，以及阵列基板0的功能性不良。

综上所述，由于本发明实施例提供的阵列基板的制造方法所制造的阵列基板中，铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以包括如图1、图5或图6所示的阵列基板0。

该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

综上所述，由于本发明实施例提供的显示装置中，阵列基板中的铺垫层上设置有凸起，且数据线在铺垫层的正投影与凸起存在重叠区域，在铺垫层上形成数据线之前，附着于凸起上的颗粒，能够随着清洗液的流动脱离衬底基板的表面，即铺垫层上设置有凸起的位置不会附着有颗粒，在铺垫层上形成的数据线不会受到附着在铺垫层上的颗粒的影响，所以，消除了数据线的功能性不良，以及阵列基板的功能性不良。

上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本发明的可选实施例，在此不再一一赘述。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (19)

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：

衬底基板；

所述衬底基板上形成有包含至少一个凸起的铺垫层；

形成有所述铺垫层的衬底基板上形成有数据线，所述数据线在所述铺垫层的正投影与所述凸起存在重叠区域。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述铺垫层包括：多个栅极和多个栅线；

每个所述栅极与一个栅线连接，至少一个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起，所述凸起的高度方向与所述栅线的宽度方向平行。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

至少一个所述栅极上远离栅线的一侧设置有凸起。

4.根据权利要求2或3所述的阵列基板，其特征在于，

所述铺垫层还包括：多个公共电极线，

至少一个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，

每个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起；

每个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述衬底基板上形成有包含至少一个凸起的所述铺垫层，所述铺垫层上的凸起以垫层加高的方式形成，所述凸起的高度方向与所述铺垫层的厚度方向平行。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，

所述铺垫层包括：栅极绝缘层，所述栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起，所述栅极绝缘层上的凸起以垫层加高的方式形成，所述凸起的高度方向与所述栅极绝缘层的厚度方向平行。

8.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，

所述凸起为圆弧形凸起，所述圆弧形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

9.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，

所述凸起为方形凸起，所述方形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

10.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述阵列基板的制造方法包括：

在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层；

在形成有所述铺垫层的衬底基板上形成数据线，所述数据线在所述铺垫层的正投影与所述凸起存在重叠区域。

11.根据权利要求10所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，包括：

采用单色掩膜板在所述衬底基板上形成多个栅极和多个栅线，每个所述栅极与一个栅线连接，至少一个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起，所述凸起的高度方向与所述栅线的宽度方向平行。

12.根据权利要求11所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，

至少一个所述栅极上远离栅线的一侧设置有凸起。

13.根据权利要求11或12所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述采用单色掩膜板在所述衬底基板上形成多个栅极和多个栅线，包括：

采用单色掩膜板在所述衬底基板上形成多个栅极、多个栅线和多个公共电极线，至少一个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

14.根据权利要求13所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，

每个所述栅线远离所述栅极的一侧设置有阵列排布的多个凸起；

每个所述公共电极线两侧设置有阵列排布的多个凸起。

15.根据权利要求10所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，包括：

采用多色掩膜板以垫层加高的方式，在所述衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，所述凸起的高度方向与所述铺垫层的厚度方向平行。

16.根据权利要求15所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包含至少一个凸起的铺垫层，包括：

采用多色掩膜板以垫层加高的方式，在所述衬底基板上形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层上设置有阵列排布的多个凸起，所述凸起的高度方向与所述栅极绝缘层的厚度方向平行。

17.根据权利要求14所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，

所述凸起为圆弧形凸起，所述圆弧形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

18.根据权利要求16所述的阵列基板的制造方法，其特征在于，

所述凸起为方形凸起，所述方形凸起的宽度大于或等于所述数据线的宽度。

19.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1至9任一所述的阵列基板。