CN102466932B - 液晶面板、tft阵列基板及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种液晶面板、TFT阵列基板及其制造方法,涉及液晶显示技术领域,解决了封框胶区域中数据扫描线或栅极扫描线出现漏电问题。本发明实施例所使用的TFT阵列基板,包括栅极扫描线、数据扫描线、以及覆盖所述TFT阵列基板的保护层;并且所述保护层上在涂覆封框胶的区域对应于栅极扫描线和/或数据扫描线的位置设有导电层。本发明实施例主要用于各种液晶面板。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及液晶面板、TFT阵列基板及其制造方法。
背景技术
液晶面板主要包括对合的TFT阵列基板和彩膜基板,TFT阵列基板和彩膜基板之间通过封框胶密封在一起,并且TFT阵列基板和彩膜基板之间滴注有液晶。TFT阵列基板包括彼此交叉的栅极扫描线和数据扫描线,所述栅极扫描线和数据扫描线交叉形成像素单元,每个像素单元处设置有TFT、像素电极。彩膜基板上设有公共电极和对应各个像素单元的彩色树脂膜。
在栅极扫描线上施加电压,使得TFT中的源极和漏极导通,由于数据扫描线与TFT的源极相连、TFT的漏极与像素电极相连,所以,施加在数据扫描线上的像素电压就可以充入像素电极并保持,像素电极上的电压使得像素电极与彩膜基板上公共电极之间形成电场从而控制液晶的透光率以显示图像。
上述TFT阵列基板中还设有与像素电极形成存储电容的公共电极,为了保证TFT阵列基板上的公共电极与彩膜基板上的公共电极之间具有相同的电位,需要将TFT阵列基板上的公共电极与彩膜基板上的公共电极连接到一起。现有技术中比较节约加工流程的方案为:如图1所示,在封框胶11中设置导电性球12,并且在TFT阵列基板上涂覆封框胶11的区域对应于公共电极13的位置预留出过孔,在过孔内沉积金属层14,使得TFT阵列基板上公共电极13通过该金属层14与封框胶11中的导电性球12相连,进而与彩膜基板15上的公共电极16相连。
在实现上述方案的过程中,发明人发现现有技术中至少存在如下问题:如图2所示,由于在封框胶11中的导电性球12容易聚集静电,使得导电性球12与TFT阵列基板中的数据扫描线17之间存在电场,从而击穿覆盖在数据扫描线17之上的保护层18,导致数据扫描线17出现漏电现象,影响正常的显示功能;另外,在栅极扫描线上也会出现上述问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种液晶面板、TFT阵列基板及其制造方法,减少封框胶区域中数据扫描线或栅极扫描线出现漏电问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种TFT阵列基板,包括栅极扫描线、数据扫描线、以及覆盖所述TFT阵列基板的保护层;所述保护层上在涂覆封框胶的区域对应于栅极扫描线和/或数据扫描线的位置设有导电层。
一种TFT阵列基板的制造方法,包括:
在基板上形成栅极扫描线、数据扫描线、薄膜晶体管以及保护层之后,在保护层上形成导电层,所述导电层与涂覆封框胶的区域内的栅极扫描线和/或数据扫描线相对应。
一种液晶面板,包括彩膜基板和TFT阵列基板,所述彩膜基板和TFT阵列基板之间采用封框胶密封;所述TFT阵列基板为权利要求1至7中任意一项所述的TFT阵列基板。
本发明实施例提供的液晶面板、TFT阵列基板及其制造方法,本发明实施例在涂覆封框胶的区域对应于栅极扫描线和/或数据扫描线的位置设有导电层,该导电层如果与封框胶中的导电性球相接触,就可以薄导电性球上聚集的电荷分散到导电层上,使得电荷不会聚集到一个点上,从而可以减小导电层与栅极扫描线、数据扫描线之间的电场,从而可以有效地防止覆盖在数据扫描线或栅极扫描线之上的保护层被击穿,减少了数据扫描线或栅极扫描线出现漏电问题,保证了液晶面板的正常显示。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中通过导电性球连接公共电极的示意图;
图2为现有技术中导电性球与数据扫描线形成电容的示意图;
图3为本发明实施例1中采用一种TFT阵列基板的液晶面板剖面示意图;
图4为本发明实施例1中导电性球的剖面示意图;
图5为本发明实施例1中采用另一种TFT阵列基板的液晶面板剖面示意图;
图6为本发明实施例1中液晶面板中封框胶具有多种导电性球的剖面示意图;
图7为本发明实施例2中TFT阵列基板的制作方法流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1:
本发明实施例提供一种TFT阵列基板,所述TFT阵列基板上的数据扫描线、栅极扫描线、薄膜晶体管以及所述TFT阵列基板的保护层等结构可以采用目前已有的任何一项技术。图3所示为本发明实施例中液晶面板的局部剖面图,并且图3中没有示出栅极扫描线。
下面以图3为了说明本发明实施例的实现方式,图中液晶面板有TFT阵列基板31和彩膜基板32,并且TFT阵列基板31和彩膜基板32之间通过封框胶33密封,该封框胶33中包含有导电性球34,为了保护TFT阵列基板31中的数据扫描线35,本发明实施例中TFT阵列基板31的保护层36上在涂覆封框胶33的区域对应于数据扫描线35的位置设有导电层37。
采用本发明实施例后,上述导电层37如果与封框胶33中的导电性球34相接触,可以将导电性球34上聚集的电荷分散到导电层37上,使得电荷不会聚集到一个点上,从而可以减小导电层34与数据扫描线35之间的电场,从而可以有效地防止覆盖在数据扫描线35之上的保护层36被击穿,减少了数据扫描线35出现漏电问题,保证了液晶面板的正常显示。
由于数据扫描线之上的保护层一般只有钝化层一层,而栅极扫描线之上的保护层一般包括栅极绝缘层和钝化层两层,所以一般情况下只需要保护数据扫描线。
除了上述在数据扫描线对应位置设置导电层以外,本发明实施例还提供另一种实现方式:为了保护栅极扫描线,本发明实施例TFT阵列基板的保护层上可以在涂覆封框胶的区域对应于栅极扫描线的位置设置导电层,可以把导电性球上聚集的电荷分散到导电层上,使得电荷不会聚集到一个点上,这样能够减小导电层与栅极扫描线之间的电场,从而可以有效地防止覆盖在栅极扫描线之上的保护层被击穿,减少了栅极扫描线出现漏电问题,保证了液晶面板的正常显示。
当然,本发明实施例可以在封框胶区域内同时对应于栅极扫描线和数据扫描线设置导电层,从而可以有效地同时保护数据扫描线和栅极扫描线。
为了更有效地防止覆盖在栅极扫描线和/或数据扫描线之上的保护层被击穿,本发明实施例中的所述导电层延伸到TFT阵列基板上封框胶的外部区域,并且连接到接地端,通过延伸到外部区域的部分来接地,可以把把导电性球上的电荷通过导电层传输到接地端,使得位于栅极扫描线和/或数据扫描线上方的导电性球不会聚集电荷,有效地防止覆盖在栅极扫描线和/或数据扫描线之上的保护层被击穿,减少了栅极扫描线和/或数据扫描线出现漏电问题,保证了液晶面板的正常显示。
本发明实施例中的,所述导电层的制作材料可以采用但不限于透明导电材料,也就是可以采用与像素电极相同的材料;当然,本发明实施例中的导电层由于并不位于液晶面板的有效显示区域内,所以,所述导电层还可以采用其他金属材料。
为了保证能够将涂覆封框胶区域内的导电层都能够接地,本发明实施例中涂覆封框胶的区域内的所有导电层相互导通。或者将涂覆封框胶的区域划分为多个子区域,在一个子区域内的所有导电层互相导通,这样便于某一子区域内的导电层能够接地;如对于方形的TFT阵列基板而言,可以将TFT阵列基板四个侧边划分成四个子区域,每个子区域包括其中一个侧边上对应的涂覆封框胶的区域。
一般来讲,本发明实施例封框胶导电性球可以采用内部具有弹性的树脂材料,外廓由镍等一次导电膜和金等二次导电膜所构成,具体参见图4所示结构。内部为具有弹性的树脂材料41,外廓由镍等一次导电膜42和金等二次导电膜43所构成。
在具体实现时,本发明实施例中的导电层可以采用但不限于如下设置方式:
第一、如果在数据扫描线上对应位置设置有导电层,如图3所示,则可以将导电层设置成与数据扫描线整个宽度方向相重叠的形式,相当于导电层覆盖整个数据扫描线;当然,如果在栅极扫描线上对应位置设置导电层,也可以将导电层设置成与栅极扫描线整个宽度相重叠的形式。
第二、如果在数据扫描线上对应位置设置有导电层,如图5所示,可以将导电层37设置成与数据扫描线11两侧边分别重叠的形式,相当于在数据扫描线11两侧边对应位置处分别设置一个导电层37;同理,如果在栅极扫描线上对应位置设置导电层,也可以将导电层设置成栅极扫描线两侧边相重叠的形式。
为了保证导电性球能够与导电层有效接触,本发明实施例可以在封框胶内设置至少两种直径的导电性球,如图6所示,如果封框胶中包括一种直径大的导电性球341和一种直径小的导电性球342,较小的导电性球342能够与导电层较为有效地接触,从而可以减少短路不良的情况发生。
当然,为了保证封框胶内的导电性球与导电层能够较有效地接触,本发明实施例中导电层的宽度一般要求大于所述导电性球的直径。
实施例2:
本发明实施例提供一种TFT阵列基板的制造方法,如图7所示,所述制造方法包括:
701、在基板上形成栅极扫描线、数据扫描线、薄膜晶体管以及保护层,具体的制作过程可以采用但不限于目前已有的制作方法,具体可以参考后续的描述。另外,本发明实施例中的保护层主要是指位于数据扫描线之上钝化层。
702、为了对数据扫描线和/或栅极扫描线形成保护,本发明实施例还需要在保护层上形成导电层,并且所述导电层与涂覆封框胶的区域内的栅极扫描线和/或数据扫描线相对应,具体形成的导电层可以参考图3和图5。
上述导电层如果与封框胶中的导电性球相接触,可以将导电性球上聚集的电荷分散到导电层上,使得电荷不会聚集到一个点上,从而可以减小导电层与数据扫描线之间的电场,从而可以有效地防止覆盖在栅极扫描线和/或数据扫描线之上的保护层被击穿,减少了数据扫描线出现漏电问题,保证了液晶面板的正常显示
本发明实施例在制作完成保护层之后可以进行像素电极的制作,其材料可以为ITO、IZO等透明导电材料,以便通过像素电极与彩膜基板上的公共电极形成电容,从而可以驱动液晶材料的旋转。为了节约工序,本发明实施例702过程中制作导电层的工艺可以与制作像素电极采用同一个MASK(掩膜板)工艺,所以本发明实施例中导电层的材料一般选用与像素电极相同的材料,即:透明导电材料。
为了进一步减小导电层与数据扫描线之间的电场,本发明实施例在702中制作所述导电层时,将导电层延伸到TFT阵列基板上封框胶的外部区域,并且连接到接地端。可以把把导电性球上的电荷通过导电层传输到接地端,使得位于栅极扫描线和/或数据扫描线上方的导电性球不会聚集电荷,有效地防止覆盖在栅极扫描线和/或数据扫描线之上的保护层被击穿,减少了栅极扫描线和/或数据扫描线出现漏电问题,保证了液晶面板的正常显示。
为了保证能够将涂覆封框胶区域内的导电层都能够接地,本发明实施例中涂覆封框胶的区域内的所有导电层相互导通。或者将涂覆封框胶的区域划分为多个子区域,在一个子区域内的所有导电层互相导通,这样便于某一子区域内的导电层能够接地;如对于方形的TFT阵列基板而言,可以将TFT阵列基板四个侧边划分成四个子区域,每个子区域包括其中一个侧边上对应的涂覆封框胶的区域。
在具体实现时,本发明实施例中的导电层可以采用但不限于如下设置方式:
第一、如果在数据扫描线上对应位置设置有导电层,在形成所述导电层的过程中,则可以将导电层设置成与数据扫描线整个宽度方向相重叠的形式,相当于导电层覆盖整个数据扫描线,具体形式参见图3;当然,如果在栅极扫描线上对应位置设置导电层,也可以将导电层设置成与栅极扫描线整个宽度相重叠的形式。
第二、如果在数据扫描线上对应位置设置有导电层,在形成所述导电层的过程中,,可以将导电层设置成与数据扫描线两侧边分别重叠的形式,相当于在数据扫描线两侧边对应位置处分别设置一个导电层,具体参见图5;同理,如果在栅极扫描线上对应位置设置导电层,也可以将导电层设置成栅极扫描线两侧边相重叠的形式。
本发明实施例701中制作TFT阵列基板上的栅极扫描线、数据扫描线、薄膜晶体管、保护层等结构的方法可以采用但不限于如下过程:
801、在基板上形成栅图案,该栅图案包括栅极扫描线、以及与栅极扫描线相连的栅极;栅图案的制作材料一般为铝、钼、钛、或铜等金属材料、或者上述材料中两种以上的合金制作层栅图案。
802、在具有栅图案的基板上沉积栅极绝缘薄膜,栅极绝缘薄膜的材料一般为氮化硅,化学式为:SiNx,其中X为整数。
803、在栅极绝缘薄膜上形成与上述栅电极重叠的有源薄膜图案,该有源薄膜图案包括依次形成的具有沟道的掺杂半导体层、半导体层。
804、在具有有源薄膜图案的基板上形成源/漏金属薄膜,并在所述源/漏金属薄膜上刻蚀出源/漏图案,该源/漏图案包括与栅极扫描线交叉的数据扫描线、薄膜晶体管的源极和漏极,其中薄膜晶体管的源极和漏极均与上述有源薄膜图案重叠。
805、在上述源/漏图案上面形成钝化层,并且在钝化层上刻蚀出位于漏极上方的过孔,以便露出漏极。
806、在钝化层上形成像素电极,该像素电极通过上述过孔与薄膜晶体管的漏极相连,本发明实施例中像素电极的材料可以为ITO、IZO等透明导电材料。在具体运用时,本发明实施例中702过程中制作的导电层可以与像素电极采用同一个MASK工艺。
实施例3:
本发明实施例还提供一种液晶面板,包括彩膜基板和TFT阵列基板,所述彩膜基板和TFT阵列基板之间采用封框胶密封;并且该液晶面板所采用的TFT阵列基板为实施例1中所描述的TFT阵列基板。
在制作本发明实施例提供的液晶面板时,除了需要按照实施例2提供的方法制作TFT阵列基板外,还需要制作彩膜基板,然后将彩膜基板与TFT阵列基板通过封框胶进行对合密封。
本发明实施例主要用于各种液晶面板,例如运用在笔记本电脑、液晶电视或者液晶显示器等电子设备上的液晶面板。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (5)
1.一种TFT阵列基板,包括栅极扫描线、数据扫描线、以及覆盖所述TFT阵列基板的保护层;其特征在于,所述保护层上在涂覆封框胶的区域对应于栅极扫描线和/或数据扫描线的位置设有导电层;
所述栅极扫描线和/或数据扫描线两侧边对应位置处分别设置有一个所述导电层;
所述涂覆封框胶的区域内的所有导电层相互导通;或者所述涂覆封框胶的区域包括至少两个子区域,并且每个子区域内的所有导电层相互导通;
所述封框胶内设有至少两种直径的导电性球,所述导电性球内部具有弹性的树脂材料,外廓由一次导电膜和二次导电膜所构成。
2.根据权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述导电层的制作材料包括透明导电材料。
3.根据权利要求1所述的TFT阵列基板,其特征在于,所述封框胶内设有导电性球,所述导电层的宽度大于所述导电性球的直径。
4.一种TFT阵列基板的制造方法,其特征在于,包括:
在基板上形成栅极扫描线、数据扫描线、薄膜晶体管以及保护层之后,在保护层上形成导电层,所述导电层与涂覆封框胶的区域内的栅极扫描线和/或数据扫描线相对应,且,所述栅极扫描线和/或数据扫描线两侧边对应位置处分别设置有一个所述导电层,所述涂覆封框胶的区域内的所有导电层相互导通;或者所述涂覆封框胶的区域包括至少两个子区域,并且每个子区域内的所有导电层相互导通;
在所述封框胶内设置至少两种直径的导电性球,所述导电性球内部具有弹性的树脂材料,外廓由一次导电膜和二次导电膜所构成。
5.一种液晶面板,包括彩膜基板和TFT阵列基板,所述彩膜基板和TFT阵列基板之间采用封框胶密封;其特征在于,所述TFT阵列基板为权利要求1至3中任意一项所述的TFT阵列基板。
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