CN102456362A - 记录装置和圆点位置控制方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及记录装置和圆点位置控制方法。该记录装置包括光照射与光接收单元，该光照射与光接收单元对光记录介质照射第一光和第二光，其中该光记录介质具有基准面和记录层，该记录层形成在不同于该基准面的深度位置处，其中在该基准面中形成了将一个圆周内的凹坑可成形位置的间隔限定为第一间隔并且沿半径方向配置的凹坑列，并且该凹坑列通过将该凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向的间隔设定在各自偏离预定的第二间隔的位置中而具有多个凹坑列相位，该第一光用作对该记录层的记录光，该第二光用以获得来自该基准面的反射光，并且该光照射与光接收单元接收来自该基准面的该第二光的反射光。

Description

记录装置和圆点位置控制方法
技术领域
本发明涉及对光记录介质执行记录的记录装置及其方法，其中该光记录介质具有其中形成有位置引导元件的基准面和形成在不同于该基准面的深度位置处的记录层。
背景技术
作为通过光照来执行信号的记录与再现的光记录介质，例如，所谓的光盘诸如唱片(Compact Disc，CD)、数字化通用光盘(Digital VersatileDisc，DVD)和蓝光光盘(Blu-Ray Disc(注册商标)，BD)等得到了广泛的使用。
在CD、DVD和BD的目前状态下，关于光记录介质的下一代光记录介质，申请人已经在日本未审查专利申请公开号No.2008-135144和日本未审查专利申请公开号No.2008-179902中提出了一种所谓的体记录型(bulk recording type)(也被简称为体型)光记录介质。
这里，体记录是通过对例如，如图23所示的至少具有覆盖层101和体层(记录层)102的光记录介质(体记录介质100)改变依次的焦点位置、执行激光照射以及在体层102中执行多层记录来实现体记录的技术。
关于诸如上述的体记录，在日本未审查专利申请公开号No.2008-135144中，公开了一种被称作所谓的显微全息格式的记录技术。在显微全息格式中，所谓的全息记录材料被用作体层102的记录材料。作为全息记录材料，例如，光固化光聚合物等是公知的。
显微全息格式大致分为正型(positive-type)显微全息格式和负型(negative-type)显微全息格式。
正型显微全息格式是通过使两束相对的光(光束A和光束B)聚焦在同一位置上来形成具体的全息照片并且将其变成记录标记的方法。
另外，负型显微全息格式是通过激光照射来去除预先形成的全息照片并且使被去除的部分变成记录标记的方法，并且是与正型显微全息格式相对的概念。在负型显微全息格式中，预先在体层中形成全息照片的处理作为初始化处理是必需的。
另外，作为一种不同于显微全息格式的体记录方法，申请人也在日本未审查专利申请公开号No.2008-179902中公开了一种将空隙(间隙或者孔)形成为记录标记的记录方法。
该空隙记录方法是通过以较高的功率对体层102执行激光照射而在上述体层102中记录间隙的方法，其中体层102由例如，诸如光固化光聚合物之类的记录材料构成。如日本未审查专利申请公开号No.2008-179902所述，以此方式所形成的间隙部分是与体层102中的其它部分具有不同折射率的部分，并且在这些部分的边界部分处，光的反射率增大。因此，上述间隙部分充当记录标记，并且通过以此方式形成间隙标记来实现信息记录。
在上述空隙记录方法中，由于没有形成全息照片，所以可以在记录过程中使光从一侧执行照射。也就是说，没有必要通过使两个光束聚焦在与上述正型显微全息格式的情况相同的位置来形成记录标记。
另外，与正型显微全息格式相比，存在不需要初始化处理的优点。
这里，在日本未审查专利申请公开号No.2008-179902中，示出了在执行空隙记录过程中的记录之前，执行了前体光的照射的示例，但是可以在省略前体光的照射的情况下执行空隙记录。
但是，现有其中提出了诸如上述各种记录方法的体记录型(也被简称为体型)光记录介质，但是以此方式所形成的体型光记录介质的记录层(体层)具有明显的多层结构，这意为其中形成有多个位置指引元件和记录薄膜(反射膜)，其中位置指引元件形成在记录薄膜处。也就是说，就这点而论，可以省略掉多层盘的情况下通常所必需的多个记录薄膜(和位置指引元件)的制造过程，并且可以在一定程度上实现制造成本的降低。
但是，对于图23所示的体记录介质100的先前构造，在未形成标记的情况下，不可以在记录过程中执行聚焦伺服或者跟踪伺服。
结果，就体记录介质100而论，如图24所示，将反射面设置为具有位置指引元件的基准面。
具体而言，在覆盖层101的下表面侧中，通过例如形成凹坑或者沟槽而使指引沟槽(位置指引元件)形成为螺旋形或者同心形，并且在其上沉积选有择性反射膜103。接着，对于以此方式沉积了选择性反射膜103的覆盖层101的下表面侧，经由粘合材料如在图中作为中间层104的UV固化树脂层压该体层。
这里，通过形成使用了如上所述的凹坑或者沟槽等指引沟槽来执行绝对位置信息(地址信息)，如半径位置信息和旋转角度信息等的记录。在下面的描述中，其中通过以此方式形成的指引沟槽来执行绝对位置信息的记录的表面(在此情况下，选择性反射膜103的形成表面)被称作“基准面Ref”。
另外，对于上述介质构造，如图25所示，对体记录介质100照射用于记录(与再现)标记的激光(也被称为用于记录与再现的激光或者被简称为记录与再现光)和用于伺服的激光(也被简称为伺服光)，作为用于位置控制的激光。
如本图所示，用于记录与再现的激光和用于伺服的激光经由共同的物镜照射到体记录介质100上。
此时，假设用于伺服的激光到达体层102，则需要考虑可能施加到体层102中的标记记录的负面影响。结果，在过去的体记录方法中，用于记录与再现的激光相对于用于伺服的激光，具有不同波长范围的激光，将具有波长选择性的选择性反射膜103被设置为形成在基准面Ref中的反射层上，其中在选择性反射膜103处，用于伺服的激光被反射，而用于记录与再现的激光被透过。
对于基于上述考虑的假设，将参考图25来描述对体记录介质100的标记记录操作。
首先，当在未形成指引沟槽或者反射膜的情况下对体层102执行多层记录时，预先将其中记录有标记的层位置的定位设定为沿体层102中的深度方向。在图中，示出了将第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5一共五个信息记录层位置L设定为形成在体层102中的层位置(也被称为信息记录层位置)处的标记的实例。如图所示，第一信息记录层位置L1被设定为与选择性反射膜103(基准面Ref)分开第一偏移量of-L1的位置，其中在选择性反射膜103处，指引沟槽沿聚焦方向(深度方向)形成。另外，第二信息记录层位置L2、第三信息记录层位置L3、第四信息记录层位置L4和第五信息记录层位置L5被设定为分别与基准面Ref分开第二偏移量of-L2、第三偏移量of-L3、第四偏移量of-L4和第五偏移量of-L5的位置。
这里，层位置L的数目并不限于五个。
当利用未形成的标记进行记录时，可以基于用于记录与再现的激光的反射光，以体层102中的各个层位置为目标，执行聚焦伺服和跟踪伺服。因此，当进行记录时，基于用于伺服的激光的反射光来执行物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制，使得用于伺服的激光的圆点位置跟踪基准面Ref中的指引沟槽。
但是，为了执行标记记录，上述用于记录与再现的激光必须到达比基准面Ref更靠下层侧的体层102。结果，在此情况下的光系统中，单独对物镜的聚焦机构而言，聚焦机构(用于记录与再现光的聚焦机构)被单独设置为用于独立建立和调节用于记录与再现的激光的聚焦位置。
具体而言，作为诸如上述之类的聚焦机构，设有用以改变照射到物镜的用于记录与再现的激光的准直状态(发散/平行/汇聚)的放大器。也就是说，通过以此方式改变照射到物镜的用于记录与再现的激光的准直状态，可以独立地调节用于记录与再现的激光和用于伺服的激光的聚焦位置。
通过以此方式对用于记录与再现的激光设置聚焦机构，通过基于来自基准面Ref的用于伺服的激光的反射光来执行上述物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制，使用于记录与再现的激光的聚焦位置与体层102中预定的信息记录层位置L一致，并且将其控制到与沿跟踪方向形成在基准面Ref中的指引沟槽相对应的位置。
这里，当对其中已经执行了标记记录的体记录介质100执行再现时，在进行记录时，没有必要基于用于伺服的激光的反射光来控制物镜的位置。也就是说，当执行再现时，可以形成在信息记录层位置L中的一列标记(再现目标)为目标(也被称为再现时的信息记录层L)，基于用于记录与再现的激光的反射光来执行物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。
发明内容
当对上述体记录介质100进行记录时，基于来自基准面Ref的用于伺服的激光的反射光来执行物镜的聚焦伺服和跟踪伺服，并且通过上述聚集机构使用于记录与再现的激光聚焦在体层102中的预定信息记录层位置L上，可以在体层102中的预定位置处执行标记记录。
这里，为了实现选择性反射膜103的选择性反射，上述用于伺服的激光和用于记录与再现的激光使用了分别具有不同波长范围的激光。此时，考虑到会增加体层102的记录密度，用于记录与再现的激光是比用于伺服的激光的波长更短的光。例如，考虑了将用于伺服的激光设定为与DVD具有相同波长的红色激光(波长λ约为650nm)，并且将用于记录与再现的激光设定为与BD具有相同波长的蓝色激光(波长λ约为405nm)。
但是，通过使用上述有关技术中的位置控制方法，体层102中的记录间距取决于基准面Ref的轨道间距。也就是说，位置指引元件通过基准面Ref中的凹坑或者沟槽等形成为螺旋形(或者同心形)，体层102中的记录间距和位置指引元件的成形间距(轨道间距)相同，并且最终，即使用于记录与再现的激光的圆点的尺寸很小，也可能会增加体层102(半径方向上)的记录密度，使其超越基准面Ref的记录密度。
期望在记录装置中，其中该记录装置被构造为对光记录介质经由共同的物镜照射第一光和第二光，其中该光记录介质具有基准面和记录层，其中在该基准面中形成有位置指引元件，该记录层被形成在不同于基准面的深度位置处，第一光作为对记录层的记录光，第二光用以获得来自该基准面的反射光，并且该记录装置被构造为基于来自该基准面的第二光的反射光来执行物镜的跟踪伺服控制，记录层的记录间距不会依赖于基准面的轨道间距。另外，在此情况下，期望结合上述使跟踪伺服的稳定性更加可靠。
根据本发明的实施例，提供了如下所构造的记录装置。
也就是说，该构造包括光照射与光接收单元，该光照射与光接收单元经由共同的物镜对光记录介质照射第一光和第二光，其中该光记录介质具有基准面和记录层，该记录层形成在不同于该基准面的深度位置处，其中在该基准面中形成了将一个圆周内的凹坑可成形位置的间隔限定为第一间隔、呈螺旋形或同心形并且沿半径方向配置的凹坑列，并且该光记录介质通过将该凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向的间隔设定在各自偏离预定的第二间隔的位置中而具有多个凹坑列相位，该第一光用作对该记录层的记录光，该第二光用以获得来自该基准面的反射光，并且该光照射与光接收单元接收来自该基准面的该第二光的反射光。
另外，该构造还包括跟踪机构单元，其中该跟踪机构单元被设置为使物镜在半径方向上的位置发生改变。
另外，该构造还包括时钟生成单元，其中该时钟生成单元被设置为基于该光照射与光接收单元在接收第二光的反射光过程中所获得的光接收信号，生成与凹坑可成形位置的间隔相应的时钟。
另外，该构造还包括定时选择信号生成单元，其中该定时选择信号生成单元被设置为基于该时钟生成单元所生成的时钟，生成多个定时选择信号，其中这多个定时选择信号分别表示凹坑可成形位置相对于形成在该光记录介质中的各个相位的凹坑列的定时。
另外，该构造还包括跟踪误差信号生成单元。
也就是说，该构造还包括跟踪误差信号生成单元，其中该跟踪误差信号生成单元被构造为，当从形成在该基准面中的各个相位的凹坑列中选择的作为跟踪伺服目标的凹坑列是目标凹坑列，并且当从形成在该基准面中的各个相位的凹坑列的各自中间位置中选择的作为跟踪伺服目标的中间位置是目标中间位置时，能够通过从该多个定时选择信号中选择与其相位差相对于该目标凹坑列具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列的定时选择信号，通过在用于选择凹坑列的定时选择信号表示的各个定时对该光接收信号的数值进行采样与保持，并且通过计算被采样与被保持的数值之差，来实施第一跟踪误差信号的生成，其中该第一跟踪误差信号表示该第二光的照射圆点相对于该目标凹坑列在半径方向上的位置误差；以及能够通过从该多个定时选择信号中选择与其相位差相对于该目标中间位置具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列间位置的定时选择信号，通过在用于选择凹坑列间位置的定时选择信号表示的各个定时对该光接收信号的数值进行采样与保持，并且通过计算被采样与被保持的数值之差，来实施第二跟踪误差信号的生成，其中该第二跟踪误差信号表示该第二光的照射圆点位置相对于该目标中间位置在半径方向上的位置误差。
另外，该构造还包括跟踪伺服控制单元，其中该跟踪伺服控制单元被设置为基于由跟踪误差信号生成单元输出的跟踪误差信号，通过控制跟踪机构单元对物镜执行跟踪伺服控制。
另外，该构造还包括偏移量施加单元，其中该偏移量施加单元被设置为对包括该跟踪伺服控制单元的跟踪伺服环路执行基于锯齿波的偏移量的施加。
此外，该构造还包括控制单元，该控制单元被设置为通过跟踪误差信号生成单元来控制输出，在与基于锯齿波的偏移量的极性倒换定时相应的定时处，在第一跟踪误差信号和第二跟踪误差信号之间可交替地切换。
根据本发明实施例的位置控制方法，结合了上述基准面的构造和使用了具有锯齿波的偏移量施加和跟踪误差信号的依次切换(凹坑列/中间位置)的各种伺服控制方法，可以维持施加跟踪伺服的状态，并且可以连续地改变第二的照射圆点位置(还有第一光的照射圆点位置)在半径方向上的位置。此时，可以通过设定偏移量的斜率，来任意地设定照射圆点位置在各单位时间的半径方向上的移动量。结果，根据本发明的实施例，可以将圆点的运动轨迹描绘成具有任意间距的螺旋。
随着进一步的描述，根据本发明的实施例，记录层中及记录间距不依赖于基准面中的轨道间距。
接着，在本发明的实施例中，在使用了偏移量的施加和跟踪误差信号的切换(伺服目标位置的切换)的位置控制方法中，不仅使用了用以选择凹坑列的第一跟踪误差信号，而且使用了用以选择凹坑列之间的中间位置的第二跟踪误差信号。
根据其中位置控制过程中也使用了第二跟踪误差信号的本发明的实施例，可以更小的间隔执行地图目标位置的选择，并且在一定程度上，可以减小用以改变上述照射圆点位置的锯齿波的偏移量的最大值(绝对值)。换言之，可以减小与跟踪误差信号的目标值(0)分开的最大值，并且由此，可以实现使用了在跟踪误差信号中具有高直线度的部分的位置控制，并且结果，可以仅以提高伺服控制的稳定性。
根据本发明的上述实施例，在记录装置中，该记录装置被构造为对光记录介质经由共同的物镜照射第一光和第二光，其中该光记录介质具有基准面和记录层，其中在该基准面中形成有位置指引元件，该记录层被形成在不同于基准面的深度位置处，第一光作为对记录层的记录光，第二光用以获得来自该基准面的反射光，并且该记录装置被构造为基于来自该基准面的第二光的反射光来执行物镜的跟踪伺服控制，记录层的记录间距不会依赖于基准面的轨道间距，可以使记录层的记录间距不依赖于基准面的轨道间距。也就是说，由此，可以使记录层的记录间距小于有关技术中的记录间距，并且因此，可以进一步提高记录密度。
此外，根据本发明的实施例，由于在通过将偏移量施加到伺服环路和依次切换跟踪误差信号来执行圆点位置在半径方向上的位置连续变化的过程中使用了将凹坑列选作伺服目标的第一跟踪误差信和将选择凹坑列之间的中间位置选作伺服目标的第二跟踪误差信号，所以可以减小在位置控制过程中所施加的偏移量的最大值(绝对值)，并且因此，可以进一步提高伺服控制的稳定性。
附图说明
图1是在先前示例和实施例中被设定为记录与再现目标的体记录介质的剖视构造图；
图2是主要解释被设置在先前示例和实施例中的记录装置的管系统的构造图；
图3是解释先前示例和实施例中所使用的体记录介质的基准面的部分放大表面的平面图；
图4是用以描述整个基准面中的凹坑成形状态的视图；
图5A至图5C是用以描述地址信息的格式的视图；
图6是概要地解释用于伺服的激光的圆点随体记录介质1的旋转驱动在基准面上的移动迹象和在移动过程中所得到的和信号、和微分信号和PP(推挽)信号的波形之间的关系视图；
图7是用以解释峰值位置检测的具体方法的视图；
图8是概要地解释从代表峰值定时的定时信号中产生的时钟、基于该时钟所产生的各个选择器信号的波形以及形成在基准面中的各个凹坑列(的一部分)之间的关系视图；
图9A和图9B是用以描述光接收圆点位置因倾斜(skewing)和透镜移位(lens shifting)而在反射光中发生偏离的视图；
图10是用以描述在先前示例中用于生成跟踪误差信号的方法的视图；
图11是解释先前示例的记录装置的整体内部构造的方框图；
图12是解释时钟生成电路的内部构造的视图；
图13是解释被设置在先前示例的记录装置中的选择器信号生成与选择部的内部构造的视图；
图14是用以描述作为用以实现任意记录间距的先前示例的具体控制方法的视图；
图15是解释作为关于各个凹坑列的跟踪误差信号的先前示例的位置控制方法视图；
图16是用以描述作为实施例的位置控制方法的视图；
图17是用以描述与半间距相对应的跟踪误差信号的生成方法的视图；
图18是用以描述与半间距相对应的跟踪误差信号的生成方法的相同视图；
图19是用以描述作为实施例的记录装置的内部构造的视图；
图20是解释被设置在实施例的记录装置中的选择器信号生成与选择部的内部构造的视图；
图21是用以描述作为实现任意记录间距的具体控制方法的视图；
图22是解释作为修改例的光记录装置的截面构造的视图；
图23是用以描述体记录方法的视图；
图24是解释其中设有基准面的实际体记录装置的截面构造的视图；以及
图25是用以描述关于体记录介质的标记记录与再现方法的视图。
具体实施方式
下面，将描述本发明的实施例。
这里，在本说明书中，在描述实施例之前，首先将执行申请人先前提出的先前示例的描述。
这里，按照下面的次序进行描述。
1.先前示例
1-1.光记录介质，即记录与再现目标
1-2.光系统的构造
1-3.基准面的构造
1-4.地址信息
1-5.伺服目标位置的选择方法
1-6.对推挽信号进行采样的方法中的问题
1-7.记录装置的整体内部构造
1-8.实现任意记录间距的方法
2.实施例
2-1.先前示例的问题
2-2.在实施例中实现任意记录间距的方法
2-3.实施例的记录装置的构造
3.修改例
1.先前示例
1-1.光记录介质，即记录与再现目标
图1是被设定为先前示例(和实施例)中的记录与再现目标的光记录介质的截面构造图。在后述并包括先前示例的实施例中，被设定为记录与再现目标的光记录介质是所谓的体记录型光记录介质，并且下面，被称作体记录介质1。
体型光记录介质表示其中执行所谓的体记录的光记录介质。体记录表示在不将其中形成有多个记录膜的多层构造的记录层作为通常的多层光盘的情况下，通过依次改变聚焦位置并通过对记录层，如本图所示的体层5执行激光照射来执行多层记录的技术。
在图1中，体记录介质1是盘状光记录介质，并且通过对可旋转驱动的体记录介质1执行激光照射来执行标记记录(信息记录)。另外，同样地，在记录信息的再现过程中，对可旋转驱动的体记录介质1执行激光照射。
这里，光记录介质是对通过光照来执行信息记录与再现的记录介质的通称。
在如本图所示的体记录介质1中，从上层侧开始依次形成有覆盖层2、选择性反射膜3、中间层4和体层5。
在本说明书中，“上层侧”表示其中来自后述记录装置侧(记录与再现装置10)的激光入射的表面为上表面时的上层侧。
另外，在本说明书中，使用了术语“深度方向”，并且该“深度方向”表示基于“上层方向”的定义而与上下方向一致的方向(即，与来自记录装置侧的激光的入射方向平行的方向；聚焦方向)。
在体记录介质1中，上述覆盖层2由例如，诸如聚碳酸酯和丙烯酸之类的树脂构成，并且如本图所示，凹凸不平的截面形状通过后述的凹坑列被施加到下表面侧，其中该凹坑列被形成为用以指引记录位置的位置指引元件。覆盖层2是形成后述凹坑列的压膜通过喷射成型法等而形成的。
这里，下面将描述体记录介质1中具体的凹坑列形成状态。
另外，选择性反射膜3被沉积在其中形成有凹坑列的覆盖层2的下表面侧上。
这里，在诸如先前参考图25所述的体记录方法中，对作为记录层的体层5，照射用于执行标记记录与再现的光(用于记录与再现的激光)，并且基于诸如上述凹坑列之类的位置指引元件，单独照射用于获得跟踪误差信号和聚焦误差信号的光(用于伺服的激光)。
此时，假设用于伺服的激光到达了体层5，则需要考虑可能被施加到体层5中的标记记录的负面影响。结果，需要具有波长选择性的反射膜，其中该波长选择性使用于伺服的激光发生反射，并且透过用于记录与再现的激光。
在有关技术的体记录方法中，用于记录与再现的激光和用于伺服的激光使用了分别具有不同波长范围的激光，并且与此对应，将具有波长选择性的选择性反射膜用作选择性反射膜3，其中该波长选择性使和用于伺服的光具有相同波长的光发生反射，并且透过具有其他波长的光。
这里，下面，将选择性反射膜3的反射表面(其中根据作为位置指引元件的凹坑列而被施加了凹凸不平截面形状的表面)称作基准面Ref。
作为记录层的体层5经由中间层4层压(粘附)在选择性反射膜3的下层侧上，其中中间层4由诸如UV固化树脂之类的粘合材料构成。
作为体层5的形成材料(记录材料)，可以根据显微全息方法，诸如先前被用作示例的正型显微全息方法和负型显微全息中所采用的体记录方法或者空隙记录方法，采用合适的光学材料。
这里，在本发明的实施例中，对于体层的标记记录方法并不特别限于此，并且可以采用与体记录方法有关的任意方法。在下面的描述中，作为示例，采用了上述的空隙记录方法。
这里，当对其中未形成有指引沟槽或者反射层的体层5执行多层记录时，预先将其中记录有标记的层位置的定位设定在体层5中的深度方向上(参考图25)。在此情况下，作为在体层5中形成有标记的层位置(标记形成层位置：也被称为信息记录层位置)，例如以与图25的先前实例相同的方式，一共设定五个信息记录层位置，即第一信息记录层位置L1至第五信息记录层位置L5。
在此情况下，通过先前示例中的记录与再现装置10的后述控制器41(与实施例中的控制器53相同)，设定各个信息记录层位置L到基准面Ref的偏移量of-L信息。
1-2.光系统的构造
图2是主要用以描述被设置在记录与再现装置中的光系统的构造视图，其中该记录与再现装置对上述体记录介质1执行记录与再现。具体而言，主要示出了被设置在记录与再现装置10中的光学摄像管OP的内部构造。
在图2中，被安装在记录与再现装置10中的体记录介质1被设定为使其中心孔夹置在记录与再现装置10中的预定位置处，并且被维持在通过图中所省略的主轴马达44n(图11)可旋转地驱动的状态。
光学摄像管OP被设置为用以对通过主轴马达44可旋转地驱动的体记录介质1照射用于记录与再现的激光和用于伺服的激光。
在光学摄像管OP中，设有记录与再现激光器11和伺服激光器24，其中记录与再现激光器11是通过使用标记来执行信息记录和通过使用标记来执行信息再现的用于记录与再现的激光的光源，并且伺服激光器24是用于伺服的激光的光源，而该用于伺服的激光是通过形成在基准面Ref中的位置指引元件来执行位置控制的光。
这里，上述用于记录与再现的激光和用于伺服的激光分别具有不同的波长。在本示例的情况下，用于记录与再现的激光的波长约为405nm(所谓的蓝色激光)，并且用于伺服的激光的波长约为650nm(所谓的红色激光)。
另外，在光学摄像管OP中，设有物镜20，该物镜20位于用于记录与再现的激光和用于伺服的激光对体记录介质1的输出端处。
此外，设有记录与再现光接收部23和伺服光接收部29，其中记录与再现光接收部23用以接收来自体记录介质1的用于记录与再现的激光的反射光，并且伺服光接收部29用以接收来自体记录介质1的用于伺服的激光的反射光。
同样地，在光学摄像管OP中，形成了光系统，用以将从记录与再现激光器11输出的用于记录与再现的激光引向物镜20，并且将入射在物镜20上的来自体记录介质1的用于记录与再现的激光的反射光引向记录与再现光接收部23。
具体而言，在由记录与再现激光器11输出的用于记录与再现的激光经由准直透镜12变为平行光之后，使其照射到偏振光束分离器13上。偏振光束分离器13被构造为透过来自记录与再现激光器11的用于记录与再现的激光。
将由偏振光束分离器13透过的用于记录与再现的激光照射到放大器上，其中该放大器由固定透镜14、可移动透镜15和透镜驱动部16形成。该放大器相当于上述的记录与再现光聚焦机构，并且通过固定透镜14和可移动透镜15对用于记录与再现的激光执行独立的聚焦控制，其中固定透镜14位于靠近记录与再现激光器11(即光源)的一侧上，可移动透镜15位于远离记录与再现激光器11的一侧上，并且可移动透镜15通过透镜驱动部16沿与用于记录与再现的激光的光轴平行的方向被驱动。
如下所述，记录与再现光聚集机构的透镜驱动部16由如图11所示的驱动器41根据偏移量of-L的数值而驱动，其中偏移量of-L的数值被设定为与目标信息记录层位置L对应。
在被如图所示的镜面17反射后，经过记录与再现光聚焦机构的固定透镜14和可移动透镜15的用于记录与再现的激光经由1/4波长板18照射到二向色棱镜19上。
二向色棱镜19被构造为使和用于记录与再现的激光具有相同波长的光发生反射并且透过其它波长的光。因此，上述用于记录与再现的激光在二向色棱镜19处被反射。
在二向色棱镜19处被反射的用于记录与再现的激光经由本图所述的物镜20照射到体记录介质1。
对于物镜20，设有二轴执行器21，该二轴执行器21维持物镜20，使其能够改变聚焦方向(接近和远离体记录介质1的方向)和跟踪方向(与聚焦方向相交的方向：体记录介质1的半径方向)上的位置。
在二轴执行器21中，设有聚焦线圈和跟踪线圈，并且物镜20因相应驱动信号的施加(后述的驱动信号FD和TD)而改变聚焦方向和跟踪方向每一者上的位置。
这里，当进行再现时，基于用于记录与再现的激光对上述体记录介质1的照射，从体记录介质1(被记录在信息记录层位置L(体层5中的记录目标)上的标记行)中获得用于记录与再现的激光的反射光。以此方式所获得的用于记录与再现的激光的反射光经由物镜20被引向二向色棱镜19，并且被二向色棱镜19反射。
在经过1/4波长板18→镜面17→记录与再现光聚焦机构(可移动透镜15→固定透镜14)之后，被二向色棱镜19反射的用于记录与再现的激光的反射光照射到偏振光束分离器13上。
这里，以此方式照射到偏振光束分离器13上的用于记录与再现的激光的反射光具有偏振方向，其中该偏振方向因1/4波长板18的作用和体记录介质1处进行反射时的作用，而与来自记录与再现激光器11侧的照射到偏振光束分离器13上的用于记录与再现的激光(往路光)方向相差90°。结果，上述所照射的用于记录与再现的激光的反射光在偏振光束分离器13处被反射。
在偏振光束分离器13处以此方式被反射的用于记录与再现的激光的反射光经由光聚焦透镜22聚焦在记录与再现光接收部23的光接收表面上。
另外，在光学摄像管OP中，除了与上述用于记录与再现的激光有关的光系统的构造以外，还形成了用以将从伺服激光器24中输出的用于伺服的激光引向物镜20以及用以将照射到物镜20上的来自体记录介质1的用于伺服的激光引向伺服光接收部29的光系统。
如本图所示，在由伺服激光器24输出的伺服激光经由准直透镜25变为平行光之后，使其照射到偏振光束分离器26上。偏振光束分离器26被构造为以此方式透过从伺服激光器24入射的用于伺服的激光(往路光)。
被偏振光束分离器26透过的用于伺服的激光经由1/4波长板27照射到二向色棱镜19上。
如前所述，由于二向色棱镜19被构造为使和用于记录与再现的激光具有相同波长的光发生反射并且透过其它波长的光，所以用于伺服的激光被二向色棱镜19透过，并且经由物镜20照射到体记录介质1上。
另外，根据被照射到体记录介质1上的用于伺服的激光所获得的用于伺服的激光的反射光(来自基准面Ref的反射光)，其在经过物镜20之后被二向色棱镜19透过，并且经由1/4波长板27中被照射到偏振光束分离器26上。
以与用于记录与再现的激光的先前情况相同的方式，从体记录介质1侧射出的伺服激光的反射光(返路光)具有偏振方向，其中该偏振方向因1/4波长板27的作用和体记录介质1处进行反射时的作用而与往路光方向相差90°。因此，作为返路光的用于伺服的激光的反射光在偏振光束分离器26处被反射。
在偏振光束分离器26处被反射的用于伺服的激光的反射光经由聚光透镜28聚焦在伺服光接收部29的光接收表面上。
这里，尽管忽略了本图的描述，但实际上，在记录与再现装置10中，设有用以在跟踪方向上滑行驱动上述整个光学摄像管OP的滑行驱动部，并且可以因该滑行驱动部对光学摄像管OP的驱动，在较大的范围内改变激光的照射位置。
1-3.基准面的构造
这里，先前示例中具有上述光学摄像管OP的记录与再现装置10被构造为对具有基准面和记录层的光记录介质，其中在该基准面上形成有位置指引元件，该记录层形成在不同于该基准面的深度位置处，照射经由共同物镜的第一光(用于记录与再现的激光)和第二光(用于伺服的激光)，并且基于来自该基准面的第二光的反射光执行物镜的跟踪伺服控制。
如上所述，在采用上述构造的情况下，存在这样的问题，即使用第一光的记录层中的记录间距取决于基准面中的跟踪间距，并且不能实现记录层的记录密度的提高。
为了解决上述问题，申请人先前提出了在下述状态下形成凹坑列作为基准面Ref中的位置指引元件的方法。
图3是解释体记录介质1的基准面Ref(选择性反射膜3)的部分放大表面的平面图。
在图3中，纸张的左侧到右侧的方向为凹坑列成形方向，即轨道(track)成形方向(直线方向)。在此情况下，用于伺服的激光的圆点随体记录介质1的旋转运动从纸张的左侧移动到右侧。
另外，与凹坑列成形方向(纸张上的竖直方向)相交的方向为体记录介质1的半径方向。
在此情况下，半径方向上的圆点行进方向(即，与体层5的半径方向上的记录行进方向相同)被假设为从内周→外周。
在图3中，用白色圆圈示出的A至F表示凹坑可成形位置。也就是说，在基准面Ref中，凹坑只形成在凹坑可成形位置中，并且除了凹坑可成形位置以外，不可以执行凹坑的成形。
另外，除了图中的标号A至F以外，示出了其它凹坑列(沿半径方向配置的其它凹坑列)，并且贴附在标号A至F的数字表示凹坑列中的其它凹坑可成形位置。
这里，由图中的粗黑线表示的间隔表示在有关技术中的体记录介质1中能够实现的最小轨道间距。由此可以理解，在本实施例的体记录介质1中，一共六个凹坑列A至F形成在作为有关技术的界限的一个轨道宽度中，即配置在超越半径方向上的光学界限的间距中。
但是，必须考虑将多个凹坑列简单地配置在作为有关技术的界限的一个轨道宽度中，而使凹坑成形位置沿凹坑列成形方向重合的问题，也就是说，必须考虑凹坑在凹坑列成形方向上的间隔超越光学界限的问题。
因此，在本示例中，设定了以下条件，即配置在作为有关技术的界限的一个轨道宽度中的多个凹坑列A至F中的凹坑之间的间隔不超越凹坑列成形方向上的光学界限。
也就是说，
1)将各个凹坑列A至F中的凹坑成形位置的间距限定为预定的第一间隔，以及
2)以此方式配置其中限定了凹坑成形位置的各个凹坑列A至F，使得凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向偏离预定的第二间隔(即，各个凹坑列的相位偏离了第二间隔)。
这里，在沿半径方向配置的凹坑列A至F中，凹坑列成形方向上的各个凹坑可成形位置的间隔(第二间隔)被设定为n。此时，在满足条件2的情况下配置各个凹坑列A至F，本图中所示的凹坑列A-B、凹坑列B-C、凹坑列C-D、凹坑列D-E、凹坑列E-F和凹坑列F-A的各个凹坑可成形位置之间的间距均为n。
另外，在此情况下，为了实现一共六个凹坑列相位A至F，将各个凹坑列A至F中的凹坑可成形位置的间隔(第一间隔)设定为6n。
在本示例中，在波长λ与DVD(数字通用化光盘)的情况相等，即约为650nm，并且数值孔径NA约为0.65的情况下，通过用于伺服的激光在基准面Ref上执行信息再现和伺服控制。与此对应，在本示例中，将各个凹坑可成形位置的区间长度设定为与DVD中的最短标记相同，即为3T(T为信道比特(channel bit))的区间长度，并且以相同的方式将凹坑列成形方向上的各个凹坑可成形位置A至F的边缘之间的间隔设定为3T的长度。也就是说，由此，n＝6T。
结果，满足了条件1和2。
这里，为了理解整个基准面Ref上的凹坑成形状态，将参考图4来描述具体的凹坑列成形方法。
这里，在图4中，为了便于图例解释，只示出了将凹坑列的类型(相位)设定为三种A至C的示例情况。
另外，在本图中，黑圆圈表示凹坑可成形位置。
参考图4可理解，在体记录介质1的基准面Ref中，分别具有不同相位(图4中示出了三种凹坑列A至C，但是实际上有六种凹坑列A至F)的多种凹坑列为一个集合，并且多种凹坑列的一个集合形成为螺旋形。
由此，通过继续施加跟踪伺服，其中该跟踪伺服是从多种凹坑列中瞄准一种预定的凹坑列，将圆点位置的轨迹描绘成螺旋形。
这里，凹坑列通过CAV(constant angular velocity，恒角速度)法形成在基准面Ref中。由此，本图中所示的多种凹坑列的每一者都具有沿半径方向配置在同一角位置中的凹坑成形位置(凹坑可成形位置)。
这里，为了维持光盘上任何区域中的如图3所示的各个凹坑列A至F的相位关系，通过CAV法以此方式执行基准面Ref中的凹坑的记录。
1-4.地址信息
接着，将通过图5A至图5C来描述被记录在基准面Ref上的地址信息的格式示例。
这里，下面，在直到图8为止的描述中，为了便于描述，假设基于推挽信号生成了作为跟踪误差信息的信号。通过下文的描述可以清楚，在根据先前示例和实施例的实际构造中，基于和信号生成了作为跟踪误差信号的信号。
在图5A至图5C中，图5A示出了分别具有不同凹坑列相位的各个凹坑列(A至F)中的凹坑可成形位置的关系。在图5A中，凹坑可成形位置用标记“*”表示。
这里，如下面所要描述的，记录与再现装置10从凹坑列A至F中选择一个凹坑列，并且以被选择的一个凹坑列为目标，施加跟踪伺服。
但是，此时，配置在超越半径方向上的光学界限的间距处的各个凹坑列A至F的点成为问题。也就是说，在此情况下，当通过移动(扫描)伺服光在轨道上的照射圆点而得到跟踪误差伺服(推挽信号)时，由于包括了所有的凹坑A至F，所以即使基于该跟踪误差信号施加了跟踪伺服，也不可以跟踪一个被选择的凹坑列。
结果，在本示例中，存在这样的基本概念，即在所选择的凹坑列中的凹坑可成形位置的定时处对跟踪误差信号进行采样，并且基于被采样的跟踪误差信号的(即，间断的)数值来施加跟踪伺服。
接着，以与上述相同的方式，同样地在读取地址信息的情况下，为了有选择地只读取被记录在所选择的凹坑列中的信息，采用了其中在所选择的凹坑列中的凹坑可成形位置的定时处对跟踪误差信号进行采样，并且基于被采样的跟踪误差信号来检测地址信息的方法。
为了与上述信息检测方法相对应，在本示例中，采用了其中通过在凹坑可成形位置中形成或者不形成凹坑来实现信道比特(记录符号)“0”或“1”的格式。也就是说，一个凹坑可成形位置具有一个信道比特的信息。
同样地，通过使用多个信道比特的“0”或“1”数据图案来实现一个比特的数据位(data bit)。
具体而言，在本示例中，通过如图5B所示的信道比特来实现数据集“0”或“1”，例如，四个信道比特图案“1011”表示数据集“0”，并且四个信道比特图案“1101”表示数据集“1”。
此时，不连续的信道比特“0”的点很重要。也就是说，由于连续的信道比特“0”是指当通过使用上述跟踪误差信号来间断地执行伺服时，所获得的误差信号不连续的周期，据此，很难确保跟踪伺服的准确度。
结果，在本示例中，通过使用数据位的上述定义，满足了信道比特“0”不连续的条件。也就是说，通过使用数据位的上述定义，可以抑制跟踪伺服的准确度的降低，以使其达到最小。
图5C示出了同步图案的示例。
例如，针对该同步图案，不同(种类)的同步图案通过如本图所示的12个信道比特来实现，其中其后具有4个信道比特图案的、第一部分中的信道比特图案“11111111”不符合数据位的定义。具体而言，如果上述8个信道比特之后是信道比特图案“1011”，则其为Snyc1，或者如果上述8个信道比特之后为信道比特图案“1101”，则其为Snyc2。
在体记录介质1中，在上述同步之后，继续记录地址信息。
这里，将绝对位置信息(半径位置信息和角速度位置信息)记录在光盘上，作为地址信息。
这里，为了便于清楚地描述，在本示例中，将多个凹坑列A至F配置在作为有关技术中的界限的一个轨道宽度中，但是通过向各个凹坑列分配个别信息来执行地址信息的记录，使得各个凹坑列的半径位置被单独表示(可以识别各个凹坑列)。也就是说，不会向配置在作为有关技术中的界限中的各个凹坑列A至F记录相同的地址信息。
这里，从图5A至图5C中的描述中可理解，凹坑是对体记录介质1的基准面Ref进行记录的位置。位置记录表示其中用信道数据“1”设定凹坑(或者标记)成形部分并且用信道数据“0”设定其它部分的记录方法。
1-5.选择伺服目标位置的方法
基于下述方法来描述其中以配置在上述有关技术中的一个轨道宽度中的凹坑列中的任意凹坑列为目标来施加跟踪伺服的方法。
图6概要地示出了用于伺服的激光的圆点随体记录介质的旋转驱动在基准面Ref上的移动迹象和在移动过程中所得到的和信号、和微分信号和PP(推挽)信号的波形之间的关系视图。
和信号是来自多个光接收元件如图2所示的伺服光接收部29的光接收信号DT-sv的和信号，并且和微分信号是通过对该和信号进行微分所得到的信号。
这里，在本图中，为了便于描述，凹坑均形成在本图中的相应的凹坑可成形位置中。
如本图所示，基于随体记录介质1的旋转而移动的用于伺服的激光的圆点，和信号的信号电平根据各个凹坑列A至F在凹坑列成形方向上的配置间隔而在圆圈中到达峰值。也就是说，和信号表示凹坑列成形方向上的各个凹坑列A至F的间隔(成形圆圈)。
这里，在本图的示例中，由于用于伺服的激光的圆点沿凹坑列A的上方移动，所以存在这样的倾向性，即当沿凹坑列成形方向经过成形位置A时，和信号的峰值(绝对值)最大，并且在各个凹坑B至D的成形位置处，该和信号的峰值逐渐减小。接着，在此之后，峰值在从凹坑E的成形位置→凹坑F的成形位置的次序中出现了上升的趋势，并且当到达凹坑A的成形位置时达到最大。也就是说，在凹坑列成形方向上的凹坑E和F的成形位置中，由于受到与外周侧邻接的凹坑列E和F中的凹坑的影响，所以对于深坑E和F的各个成形位置而言，和信号的峰值依次增加。
另外，作为通过对和信号进行微分所产生的和微分信号和作为跟踪误差信号的PP信号，本图示出了所得到的相应波形。
和微分信号被用以根据各个凹坑列A至F在凹坑列成形方向上的凹坑成形位置(严格来讲，凹坑可成形位置)的间隔来生成时钟CLK。
具体而言，在通过和微分信号使相当于各凹坑(峰值位置)中间位置的位置(定时)变为上升位置(定时)的情况下，生成了作为时钟CLK的信号。
作为时钟CLK的生成方法，如图7所示，首先，生成了其中在预定的阈值Th1处分割和信号的信号和其中以相同的方式在预定的阈值Th2处分割和微分信号的信号。然后，通过对上述信号进行AND，生成了定时信号，其中该定时信号具有相当于峰值位置的上升定时。
通过将以此方式所产生的定时信号作为输入信号(基准信号)，来执行PLL(Phase Locked Loop，锁相环)处理，以生成时钟CLK。
图8概要地示出了通过使用上述规律产生的时钟CLK、基于该时钟CLK所产生的各个选择器信号的波形，以及形成在基准面中的各个凹坑列(的一部分)之间的关系视图。
从本图中可以清楚，作为时钟CLK的信号具有基于凹坑A至F的成形间隔的圆圈。具体而言，存在在凹坑A至F的峰值位置中具有上升定时的信号。
从时钟CLK中，生成六种选择器信号，该选择器信号表示各个凹坑A至F的凹坑成形位置的定时。
具体而言，通过将时钟CLK分割成六种来分别生成选择器信号，并且相应的相位相差了1/6圆圈。换言之，通过在相应的定时处将时钟CLK分割为六种来生成各个选择器信号，使得相应的上升时间相差1/6圆圈。
选择器信号是表示与A至F相对应的凹坑列的凹坑可成形位置的定时的各个信号。因此，选择具有所生成的选择器信号的任意选择器信号，并且在由被选择的选择器信号表示的定时处，对跟踪误差信号(推挽信号)进行采样与保持，因此，可以得到用于跟踪深坑行A至F中的一个凹坑列的跟踪误差信号。也就是说，通过基于以此方式所生成的跟踪误差信号对物镜20执行跟踪伺服控制，用于伺服的激光的圆点可以跟踪凹坑列A至F中的任意凹坑列。
1-6.对推挽信号进行采样的方法中的问题。
这里，在上面的描述中，使用了其中选择任意的凹坑列作为伺服目标，对推挽信号进行采样与保持以作为跟踪误差信号的信号，但是在以此方式使用推挽信号的情况下，必须考虑因所谓的倾斜和物镜的透镜移位而不可能得到准确的跟踪误差信息的问题。
图9A和图9B是用以描述光接收圆点位置因倾斜和透镜移位而使反射光发生偏离的视图，其中图9A示出了处于理想状态，即没有倾斜和透镜移位的状态下的、伺服光接收部29上的反射光圆点(光接收圆点)，并且图9B示出了处于存在倾斜和透镜移位的情况下的、伺服光接收部29上的反射光圆点(光接收圆点)。
这里，在图9A及图9B中，反射光圆点中所示出的斜线部分表示来自形成在光盘上的凹坑中的第一次序衍射光成分的重合区域(推挽信号成分的重合部分)。
首先，假设在本图中的光接收元件A和B的分组与光接收元件C和D的分组分别沿与光盘的半径方向相对应的方向邻接的情况下，推挽信号PP通过
PP＝(Ai+Bi)-(Ci+Di)……(等式1)来计算，其中(等式1)中的Ai、Bi、Ci和Di分别为光接收元件A、B、C和D的光接收信号。
这里，假设用于伺服的激光的照射圆点在目标凹坑列上准确地追踪。在此情况下，如果它处于图9A的理想状态，即没有倾斜和透镜移位，则根据(等式1)所计算的推挽信号PP的数值为“0”。
另一方面，如图9B所示，在反射光圆点位置因倾斜和透镜移位而存在偏离的情况下，根据(等式1)所计算的推挽信号PP的数值为不同于原先所得到的“0”的数值，并且存在误差。
由此可理解，在推挽信号PP中，因倾斜和透镜移位而存在偏移量。
如果在一定程度上不能忽略因倾斜和透镜移位而存在的偏移量成分时，与上述生成跟踪误差信号的方法相同的方法是有效的，但是为了提高跟踪伺服控制的稳定性，期望上述偏移量成分不会导致跟踪误差信号重合。
在有关技术中，作为用以避免因倾斜和透镜移位而产生的偏移量影响的跟踪误差检测方法，所谓的三点法是公知的，但是需要在该三点法中添加诸如光栅之类的光学部件，并且在一定程度上，这会增加部件成本和调节成本。
另外，DPP(Differential Push Pull，微分推挽信号)方法也被称作用以避免偏移量影响的跟踪误差检测方法，但是必须在DPP方法中以相同的方式添加光栅等，并且这会增加部件成本和调节成本。
为了在现有技术的跟踪误差检测方法中解决上述问题，并且为了避免因倾斜和透镜移位而产生的偏移量成分的影响，通过使用上述和信号的方法在先前示例中(类似地，在本实施例中)生成跟踪误差信号。
图10是用以描述在先前示例中生成跟踪误差信号的方法的视图。
这里，根据如图10所示的用于伺服的激光的移动，得到了形成在基准面Ref上的各个凹坑列A至F，在施加了跟踪伺服以跟踪凹坑列D的状态下的、用于伺服的激光的圆点位置的移动轨迹(斜线部分)，以及和信号的波形。
例如，如图10所示，在用于伺服的激光的圆点在凹坑列D上准确地进行追踪的情况下，将与凹坑列D上的凹坑成形位置一致的定时(图中的n)处的最小值作为和信号的数值，并且存在这样的趋势，即当相对于凹坑列D的相位差增大时，用于凹坑列的凹坑成形位置处的数值逐渐增大。
此时，和信号的数值采用了与凹坑列C和凹坑列E的相应凹坑成形位置一致的定时(图中的n-1和n+1)处的相同数值(即，具有相同的相位差)，其中凹坑列C和凹坑列E分别相对于凹坑列D邻接，并且另外，和信号的数值采用了与凹坑列B和凹坑列F的相应凹坑成形位置一致的定时(图中的n-2和n+2)处的相同数值(即，具有相同的相位差)，其中凹坑列B和凹坑列F相对于凹坑列D分开了相同的距离(半径方向上的距离)。
这里，与图中的状态不同的是，当用于伺服的激光的圆点位置沿半径方向偏离凹坑列D时，应理解，在相对于凹坑列D具有相同相位差的各个凹坑列的分组中，相应的凹坑成形位置处的和信号的数值存在偏差。
也就是说，由此可理解，在相对于作为跟踪伺服目标的凹坑列具有相同相位差的相应凹坑列的分组中的、相应凹坑成形位置处的和信号的数值反映了相对于作为跟踪伺服目标的凹坑列的跟踪方向误差。具体而言，可以通过计算具有相同相位差的相应凹坑列的分组中的相应凹坑成形位置处的数值之差，来得到跟踪误差信号。
就这点而论，在先前示例中，具体而言，基于如下所述的和信号来执行跟踪误差信号的生成。
也就是说，首先，选择两个相对于作为跟踪伺服目标的凹坑列具有相同相位差的凹坑列。具体而言，在本示例的情况下，选择分别与作为跟踪伺服目标的凹坑列邻接的凹坑列。
同样地，在与各个被选择的凹坑列的凹坑成形位置相对应的定时(相当于图10中的n-1和n+1)处，对和信号进行采样，并且计算被采样的和信号的数值之差。该计算结果就是相对于作为伺服目标的凹坑列的跟踪误差信号。
1-7.记录装置的整体内部构造
基于上面的描述，将描述根据先前示例的记录装置(记录与再现装置10)的整体构造。
图11示出了记录与再现装置10的整体内部构造。
在图11中，关于光学摄像管OP的内部构造，仅仅从先前图2所示的构造中抽取并示出了记录与再现激光器11、透镜驱动部16和二轴执行器21。
在图11中，主轴马达44被设置在记录与再现装置10中。
主轴马达44设有FG(Frequency Generator，频率发生器)马达，并且以恒定的速度(恒定的旋转速度)可旋转地驱动体记录介质1。
主轴马达44根据来自控制器41的指令来执行旋转的开始和停止。
另外，在记录与再现装置10中，本图中的记录处理部31、记录与再现光矩阵电路32和再现处理部33被设置为信号处理系统，用以在当以体层5为目标进行记录与再现并且再现记录标记时，执行物镜20的聚焦与跟踪伺服控制(即，基于用于记录与再现的激光的反射光的位置控制)。
在记录处理部31中输入被记录到体记录介质1的数据(记录数据)。记录处理部31例如通过实施误差校正码和预定记录修改的添加并且对输入记录数据进行编码，来获得记录修正数据，实际上是被记录在体记录介质1中的二进制数据列“0”和“1”。然后，在光学摄像管OP中，根据以此方式所产生的记录修正数据通过使用记录脉冲信号RCP来执行记录与再现激光器11的发光驱动。
记录与再现光矩阵电路32设有与来自多个光接收元件如图2所示的记录与再现光接收部23的光接收信号DT-rp相对应的电流-电压转换电路和矩阵计算与放大电路等，并且通过矩阵计算流程来生成必要的信号。
具体而言，生成了与上述记录调制数据列的再现信号相对应的高频信号(以下被称为再现信号RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-rp和用于跟踪伺服控制的跟踪误差信号TE-rp。
将记录与再现光矩阵电路32中所生成的再现信号RF供给再现处理部33。
另外，将聚焦误差信号FE-rp和跟踪误差信号TE-rp供给记录与再现光伺服电路34。
再现处理部33执行用以重构上述记录数据的再现处理，如对再现信号RF的二值化处理和译码，以及再现调制的误差校正处理和解码，并且获得重构记录数据的再现数据。
另外，记录与再现光伺服电路34基于由记录与再现光矩阵电路32供应的聚焦误差信号FE-rp和跟踪误差信号TE-rp，分别生成了聚焦伺服信号FS-rp和跟踪伺服信号TS-rp，并且通过基于该聚焦伺服信号FS-rp和跟踪伺服信号TS-rp所生成的聚焦驱动信号FD-rp和跟踪驱动信号TD-rp来驱动二轴执行器21的聚焦线圈和跟踪线圈，对用于记录与再现的激光执行聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。
为了便于清楚地描述，当进行再现时，基于用于记录与再现的激光的反射光来执行二轴执行器21(和物镜)的伺服控制。
另外，记录与再现光伺服电路34在执行再现时，根据来自控制器41的指令，通过将跳变脉冲施加到跟踪伺服回路已经关闭的跟踪线圈，来实现跳变操作，并且也执行了包含控制等的跟踪伺服等。另外，也执行了包含控制等的聚焦跟踪伺服等。
另外，在记录与再现装置10中，伺服光矩阵电路35、地址检测电路36、采样与保持电路SH1、采样与保持电路SH2、减法部37、伺服光伺服电路38、时钟生成电路39、选择器信号生成与选择部40、偏移量生成部42和加法部43被设置为针对用于伺服的激光的反射光的信号处理系统。
这里，在此构造之外，下面将再次描述偏移量生成部42和加法部43。
伺服光矩阵电路35基于来自图2所示的伺服光接收部29的多个光接收元件的光接收信号DT-sv，生成了必要的信号。
具体而言，在此情况下的伺服光矩阵电路35生成了和信号，即多个光接收信号的和信号和用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-sv。
相对于采样与保持电路SH1、采样与保持电路SH2、时钟生成电路39以及地址检测电路36来供应图中所示的和信号。
另外，将聚焦误差信号FE-sv供给伺服光伺服电路38。
地址检测电路36输入由选择器信号生成与选择部40以下述方式产生并选择的选择器信号S_Ad，并且在选择器信号S_Ad所代表的凹坑可成形位置的定时处，基于对来自伺服光矩阵电路35的和信号的采样结果，检测记录基准面Ref中的地址信息(至少包括半径方向位置信息和旋转角度位置信息的绝对地址信息)。
这里，如参考图5的描述，在本示例的情况下，各个凹坑列的地址信息是其中将凹坑列中的凹坑可成形位置处的凹坑成形位置和非成形位置，记录为1个信道比特信息。据此，地址检测电路36通过在选择器信号S_Ad的上升定时处识别和信号的数值，来执行1个信道比特“0”和“1”的数据识别，并且基于该结果，通过根据图5所述的数据格式执行地址码处理，来执行多记录地址信息的检测(再现)。
将由地址检测电路36检测到的地址信息供给控制器41。
时钟生成电路39根据上述次序生成时钟CLK。
图12示出了时钟生成电路39的内部构造。
在图12中，脉冲限制电路39A、和微分电路39B、脉冲限制电路39C、AND门电路39D和PLL电路39E被设置在时钟生成电路39中。
和信号被输入到本图中的脉冲限制电路39A和和微分电路39B。脉冲限制电路39A基于设定阈值Th1来分割和信号，并且将该结果输入到AND门电路39D。
和微分电路39B对该和信号进行微分，并且产生上述的和微分信号。脉冲限制电路39C基于设定阈值Th2分割由和微分电路39B生成的和微分信号，并且将该结果输入到AND门电路39D。
AND门电路39D对来自脉冲限制电路39A的输出和来自脉冲限制电路39C的输出进行AND逻辑运算，生成上述定时信号。
PLL电路39E将以此方式从AND门电路39D中获得的定时信号作为输入信号，通过执行PLL流程来生成时钟CLK。
返回到图11，将时钟生成电路39所生成的时钟CLK供给选择器信号生成与选择部40。
选择器信号生成与选择部40基于时钟CLK和选择器信号(本图中的选择器信号S_1、S_2和S_Ad的选择器信号)的选择输出，即所生成的选择器信号的指令输出，来执行各个选择器信号的生成。
图13示出了选择器信号生成与选择部40的内部构造。
如本图所示，选择器信号生成电路45和选择器信号选择电路46被设置在选择器信号生成与选择部40中。
选择器信号生成电路45生成了六种选择器信号，其中这六种选择器信号表示基于时钟CLK的各个凹坑列A至F的凹坑可成像位置的定时。具体而言，选择器信号生成电路45通过产生其相位各自偏离1/6圆圈的信号，作为1/6时钟CLK信号，来获得六种选择器信号。
将这六种选择器信号供给选择器信号选择电路46。
选择器信号选择电路46通过由选择器信号生成电路45供应的选择器信号中的、来自控制器41的选择信号SLCT，有选择地输出被供给地址检测电路36的被指示相位的选择器信号作为选择器信号S_Ad，并且有选择地输出选择器信号S_1和选择器信号S_2，与相对于作为生成上述跟踪误差信号的方法中所需要的伺服目标的凹坑列具有相同相位差关系的各个凹坑列相对应，并被选择信号SLCT指示的被指示相位的选择器信号。
这里，从先前的描述中可理解，在本示例的情况下，对于选择器信号S_1和选择器信号S_2，存在来自控制器41的指令，以输出与相对于伺服目标凹坑列彼此邻接的凹坑列相对应的选择器信号。
将由选择器信号选择电路46输出的选择器信号S_1供给采样与保持电路SH1，并且将选择器信号S_2供给采样与保持电路SH2。
采样与保持电路SH1在选择器信号S_1所表示的定时处对伺服光矩阵电路35所供应的和信号的数值进行采样与保持，并且将结果输出到减法部37。
另外，采样与保持电路SH2在选择器信号S_2所表示的定时处对伺服光矩阵电路35所供应的和信号的数值进行采样与保持，并且将结果输出到减法部37。
减法部37通过从使用采样与保持电路SH1进行采样与保持的输出数值中减去使用采样与保持电路SH2进行采样与保持的输出数值，来获得跟踪误差信号TE-sv。从先前的描述中也可以理解，跟踪误差信号TE-sv是代表与被选择作为伺服目标的凹坑列有关的跟踪误差。
将本图中所示的跟踪误差信号TE-sv经由后述的加法部43供给伺服光伺服电路38。
伺服光伺服电路38分别基于(经过加法部43之后的)聚焦误差信号FE-sv和跟踪误差信号TE-sv生成聚焦伺服信号FS-sv和跟踪伺服信号TS-sv。
然后，当进行记录时，根据来自控制器41的指令，通过基于聚焦伺服信号FS-sv和跟踪伺服信号TS-sv所生成的聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv，来驱动二轴执行器21的聚焦线圈和跟踪线圈的每一者，实现了以预定的凹坑列为目标，对用于伺服和跟踪控制的激光的聚焦伺服控制。
控制器41由微计算机构成，其中该微计算机例如设有存储器(记录单元)如CPU、ROM和RAM等，并且通过根据ROM中所存储的程序实施控制和处理，来执行对记录与再现装置10的整体控制。
例如，控制41基于被预先设定为与上述各个层位置L相对应的偏移量of-L，执行用于记录与再现的激光的聚焦位置的控制(设定)。具体而言，通过基于被预先设定为与信息记录层位置L，即与记录目标相对应的偏移量of-L，驱动光学摄像管OP中的透镜驱动部16，来执行体层5深度方向上的记录位置的选择。
另外，当进行上述记录与再现时，控制器41也执行用以实现物镜20的伺服控制切换的控制。具体而言，当进行记录时，控制器41对伺服光伺服电路38执行聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv的输出指令，并且另外，在记录与再现光伺服电路34中执行聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv的输出停止指令。
另一方面，当进行再现时，对记录与再现光伺服电路34执行聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv的输出指令，并且对伺服光伺服电路38执行聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv的输出停止指令。
另外，控制器41也对伺服光伺服电路38执行搜索操作控制。也就是说，对伺服光伺服电路38执行指令，以将用于伺服的激光的圆点位置移动到基准面Ref中的预定目标地址，并且通过选择信号SLCT对选择器信号生成与选择部40(选择器信号选择电路46)执行选择器信号的选择指令。
这里，例如，按照下面的次序来执行搜索操作控制。
1)通过上述滑动驱动部移动整个光学摄像管OP，使其移动到目标地址附近，
2)打开用于伺服的激光的聚焦控制，
3)基于和信号生成时钟CLK和各个选择器信号，
4)基于被任意选择的选择器信号，以任意的凹坑列为目标，实施跟踪伺服控制，
5)通过施加4)中的跟踪，读取地址信息(用于识别凹坑列的信息)，执行从凹坑列的地址到目标地址的跳变。
控制器41对伺服光伺服电路38执行指令，使其实施1)和2)的操作。另外，控制器41通过使用用以在4)中选择任意选择器信号的选择器信号SLCT，对选择器信号生成与选择部40，执行与相对于相位被提前设定的凹坑列彼此邻接的凹坑列的相位相对应的选择器信号S_1和选择器信号S_2的选择指令。
另外，对于选择器信号S_Ad，为了实现5)的操作，控制器41对选择器信号生成与选择部40执行了与“相位被提前设定的凹坑列”(即，被选作为伺服目标的凹坑列)相对应的选择器信号的选择指令。
然后，根据以此方式被指示的选择器信号S_Ad，输入地址检测电路36所检测到的地址信息，对伺服光伺服电路38执行到目标地址所需要的凹坑列的跳变的数目和用于实施跳变数目的凹坑列跳变操作。
1-8.实现任意记录间距的方法
根据上述记录与再现装置10的构造，可以各相位形成在基准面Ref中的一个任意的凹坑列为目标，执行跟踪伺服。
在先前的示例中，假设以此方式对基准面Ref的一个凹坑列进行伺服跟踪的构造是可行的，通过下述方法来实现任意的记录间距。
图14是用以描述先前示例的具体控制方法，用于实现任意的记录间距。
在图14中，示出了为了实现任意的记录间距(螺距)对跟踪伺服环路施加具有波形的偏移量，根据偏移量的施加被依次输出的选择器信号S_1和S_2的转变，以及伺服目标凹坑列根据选择器信号S_1和S_2的转变和偏移量的施加的依次切换所产生的圆点位置的移动轨迹之间的关系。
另外，在图14中，也示出了根据圆点的移动被依次切换的选择器信号S_Ad的转变。
这里，为了在圆盘上将用于伺服的激光的圆点位置绘制成具有任意间距的螺旋形，可以使随体记录介质1的旋转而移动的照射圆点位置横跨半径方向上的连续凹坑列。也就是说，根据要被实现的螺距来预先设定要被横跨的凹坑列之间的间距，可以实现任意的螺距。
通过对跟踪伺服环路施加偏移量来实现上述圆点位置的移动。具体而言，在打开跟踪伺服的状态下，通过对跟踪伺服环路施加其数值随时间的流逝而增加的偏移量，来使圆点位置逐渐与作为伺服目标的凹坑列分开。然后，当圆点位置与作为伺服目标的凹坑列分开一定的程度时，伺服目标凹坑列被切换为在外周侧上邻接的凹坑列，并且通过以相同的方式对跟踪伺服环路施加其数值随时间的流逝而增加的偏移量，来使圆点位置与刚刚被切换为伺服目标的凹坑列分离，到达外周侧。
通过对跟踪伺服环路施加偏移量，重复执行伺服目标凹坑列的连续切换和以所谓的走绳索的方式横跨各个凹坑的圆点位置，可以将圆点位置绘制为圆盘上的螺旋形轨迹，其中该轨迹的间距不依赖于形成在基准面Ref上的凹坑列的间距。此时，可以因被施加到跟踪伺服环路的偏移量的设定而任意设定螺距。
这里，为了便于清楚地描述，可以通过伺服目标凹坑列的连续切换和偏移量的施加来实现圆点位置的位置改变，使得在基准面Ref的构造为图3所示的构造的情况下，以超越半径方向上的光学界限的间距配置凹坑列。也就是说，如果不能以超越半径方向上的光学界限的间距配置凹坑列时，跟踪伺服根据偏移量的施加就会发生偏离。
但是，在为了实现任意的螺距而采用以上述方法连续切换伺服目标凹坑列的情况下，必须预先设定邻接凹坑列之间的位置，即切换位置(定时)。在本示例中，伺服目标凹坑列的切换位置被正确地设定在邻接凹坑列之间的中点的位置处。
这里，当实现特定的螺距时，以圆盘上的位置作为经过的圆点位置，能够通过基准面Ref格式的计算来预先确定螺距的实现。也就是说，由此可理解，能够通过计算预先确定圆点位置到达邻接凹坑列之间的中点的位置。
在本示例中，根据通过以此方式所预先确定的中点的位置(任一地址时钟上的任一时钟)，将伺服目标凹坑列切换到与后来成为目标的凹坑列的外周侧邻接的凹坑列。
另外，为了在以此方式到达邻接的凹坑列之间的中点的定时处，与伺服目标凹坑列的切换的执行相对应，将极性在如图14所示的各个中点处发生变化的波形用作用以改变圆点位置在半径方向上的位置的偏移量。这里，由于当圆点位置位于中点位置时的偏移量为，例如在凹坑列A为目标时进行伺服的过程中的“+of_s”，以及在凹坑列B为目标时进行伺服的过程中的“-of_s”，必须倒换伺服目标凹坑列的切换定时，即到达中点的定时处的偏移量的极性。从这点来看，在此情况下被施加的偏移量的波形为如上所述的锯齿波形。
为了进一步确认，甚至可以基于被实现的螺距信息和基准面Ref的格式信息，通过计算来预先确定上述所述的偏移量波形。
通过对跟踪伺服环路施加使用了被预先确定的锯齿波的偏移量，并且将跟踪伺服目标凹坑列重复切换到与直到圆点位置到达被预先确定为中点的邻接凹坑列之间的预定位置的各个定时处的目标凹坑的外周侧邻接的凹坑列，可以执行圆点位置的检测，以将该预先被确定位置绘制成使用了圆盘上任意间距的螺旋形。
这里，根据先前示例，图14是示出了为了实现圆点位置控制而选择各个选择器信号的方法。这里，在图14中，示出了其中点位置经过凹坑列A→凹坑列F→凹坑列E→凹坑列D→凹坑列C→凹坑列B和在上述时间处依次选择选择器信号S_1、选择器信号S_2和选择器信号S_Ad。
如本图所示，这里，相当于凹坑列A-F之间的中点的定时被设定为定时t1。在此之后，相当于凹坑列F-E、凹坑列E-D、凹坑列D-C、凹坑列C-B和凹坑列B-A之间的中点的定时分别被设定为定时t2、t3、t4、t5和t6。
在定时t1之前的时段处，由于凹坑列A为伺服目标，如本图所示，所以将具有与凹坑列F相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_1，并且将具有与凹坑列B相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_2。也就是说，对于作为伺服目标的凹坑列A，分别选择了各自具有邻接关系(相位差一致)的凹坑列F和凹坑列B的选择器信号。
另外，关于选择器信号S_Ad，选择了具有与作为伺服目标的凹坑列A相对应的相位差的选择器信号。
这里，从图11及图13的先前描述中可以理解，通过使用了选择器SLCT的控制器41，对选择器信号生成与选择部40(选择器信号生成电路45)执行选择器信号S_1、S_2和S_Ad的选择指令。
当到达定时t1时，为了将伺服目标凹坑列切换到凹坑列F，将具有与凹坑列E相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_1，并且将具有与凹坑列A相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_2。
另外，关于选择器信号S_Ad，选择了具有与凹坑列F相对应的相位差的选择器信号。
下面，以相同的方式，在作为切换定时的各个定时tn处，将与伺服目标凹坑列邻接的各个凹坑列的选择器信号选作选择器信号S_1和S_2，并且将伺服目标凹坑列的选择器信号选作为选择器信号S_Ad。具体而言，在本视图中，分别在定时t2处选择了“S_1：D、S_2：F、S_Ad：E”，在定时t3处选择了“S_1：C、S_2：E、S_Ad：D”，在定时t4处选择了“S_1：B、S_2：D、S_Ad：C”，并且在定时t5处选择了“S_1：A、S_2：C、S_Ad：B”。
这里，通过先前图11所示的记录与再现装置10中的偏移量生成部42和加法部43执行使用了图14所示的锯齿波形的偏移量的施加。
偏移量生成部42产生了具有被预先计算的预定倾斜度的锯齿波形信号，并且将该信号输出到加法部43。
加法部43将由偏移量生成部42以此方式所输入的锯齿波形信号添加到减法部37中所输入的跟踪误差信号TE-sv。
这里，控制器41对偏移量生成部42执行锯齿波形信号的输出停止或者开始指令。
这里，为了便于清楚地描述，如图15所述的先前示例中的位置控制方法被表示与各个凹坑列的跟踪误差信号TE-sv相对应。
在图15中，跟踪误差信号TE_A至TE_F表示相对于各个凹坑列A至F的跟踪误差信号TE-sv。这里，跟踪误差信号TE_A至TE_F的波形表示当照射圆点位置逐渐向外周侧移动时的波形。
在此情况下，由于存在六种凹坑列的相位A至F，所以本图中所示的相应跟踪误差信号(TE)TE-sv具有彼此偏离60°的关系。
上述先前示例中的位置控制方法可以跟踪误差信号TE_A、TE_F、TE_E、TE_D、TE_B、TE_C和TE_A的次序依次实现0附近的部分。
2.实施例
2-1.先前示例中存在的问题
根据上述先前实施例，可以在圆盘上将用于伺服的激光的照射圆点位置在绘制成具有任意间距的螺旋形，并且结果，与体层5中的记录间距有关的任意间距是可行的。
但是，在先前示例中，在采用其中对用于螺旋控制的跟踪伺服环路施加偏移量并且依次切换伺服目标凹坑列的方法的情况下，期望对伺服环路所施加的偏移量的数值尽可能地小。也就是说，参考图15可理解，如果偏移量的数值尽可能小，在一定程度上，可以通过跟踪误差信号TE-sv中的具有高直线度的部分来横跨凹坑列，并且结果，可以更加可靠地实现伺服的稳定性。
2-2.在实施例中实现任意间距的方法
因此，在本实施例中，如图16所示，可以产生与凹坑列A-F中的各个凹坑列之间的中间位置相对应的跟踪误差信号TE-sv(与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv)，并且可以与先前示例相同的方式听过与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv来执行位置控制。
具体而言，在本示例中，生成了与凹坑列A-F之间的中间位置相对应的跟踪误差信号TE-AF、与凹坑列F-E之间的中间位置相对应的跟踪误差信号TE-FE、与凹坑列E-D之间的中间位置相对应的跟踪误差信号TE-ED、与凹坑列D-C之间的中间位置相对应的跟踪误差信号TE-DC和与凹坑列C-B之间的中间位置相对应的跟踪误差信号TE-CB，作为与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv。
这里，在本视图中，为了便于描述，为了轻松地区分图15所示的跟踪误差信号TE-sv(TE_A至TE_F)，改变并示出了具有半间距的跟踪误差信号TE-sv的增益。
这里，可以通过下面的方法生成与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv 。
图17和图18是用以描述与半间距相对应的跟踪误差信号的视图。在图17及图18中，示出了形成在基准面Ref上的各个凹坑列A至F，以及移动用于伺服的激光的圆点以使其映射在凹坑列D与凹坑列E的中间位置上的外观。
参考图17及图18，当用于伺服的激光的圆点映射在凹坑列D-E之间的中间位置上时，应理解，该和信号的数值等于相对于D-E之间的中间位置具有相同相位差的凹坑列的间距。
也就是说，由此应理解，可以生成与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv，其中该半间距使用了以预定的凹坑列之间的中间位置(中间相位)为标准，相对于该中间位置具有相同相位差的关系的各个凹坑列的和信号的采样与保持数值。具体而言，在表示相对于中间位置具有相同相位差的各个凹坑列的凹坑成形位置(凹坑可成形位置)的定时处进行采样与保持的和信号的数值差成为中间位置处的跟踪误差信号TE-sv。换言之，成为用于能够被选作为伺服目标的中间位置的跟踪误差信号TE-sv。
同样地，通过使用与间距相对应的跟踪误差信号TE-sv，从某一凹坑列→其邻接的中间位置→其邻接的凹坑列...可替换地切换伺服目标位置。具体而言，如图14所示，当参考在指示以凹坑列A为目标的伺服的状态下的转变时，首先，执行凹坑列A→凹坑列A-F之间的中间位置AF的切换，在此之后，依次执行凹坑列A-F之间的中间位置→凹坑列F→凹坑列F-E之间的中间位置→凹坑列E→凹坑列E-D之间的中间位置→凹坑列D→凹坑列D-C之间的中间位置→凹坑列C→凹坑列C-B之间的中间位置→凹坑列B→凹坑列B-A之间的中间位置...的切换。
2-3.实施例的记录装置的构造
图19是用以描述本实施例的记录装置的内部构造的视图。
本实施例的记录装置是相对于先前示例中的记录与再现装置10中的用于伺服的激光改变其跟踪伺服控制系统的构造。结果，在图19中，抽取并示出了相对于被设置在本实施例的记录装置中的用于伺服的激光的跟踪伺服控制系统的构造，并且忽略了关于光学摄像管OP和记录与再现系统以及用于记录与再现的激光的伺服系统的构造的视图解释，这是因为其与记录与再现装置10的情况相同。
这里，在图19中，在先前的示例中已经完成了部分描述，施加了相同的标号并且忽略了其描述。
通过比较图19与之前的图11，可以理解，用以生成与上述半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv的采样与保持电路SH3和采样与保持电路SH4刚刚被添加为对和信号进行采样与保持的采样与保持电路。另外，添加了减法部51，用以从采样与保持电路SH3的输出中减去采样与保持电路SH4的输出。
如本视图所示，将减法部51的输出添加到选择器52中。另外，在此情况下，将减法部37的输出添加到选择器52中。选择器52因来自后述的控制器53的指令，选择并输出减法部37的输出和减法部51的输出的任一者。
将选择器52的输出输入到加法部43中，作为跟踪误差信号TE-sv。
另外，在此情况下的记录装置中，设有选择器信号生成与选择部50被，以代替图11中所示的选择器信号生成与选择部40。图20示出了选择器信号生成与选择部50的内部构造，但是为了便于理解，通过与之前的图13进行比较，选择器信号生成与选择部50的不同点在于，设有选择器信号选择部55，从而代替选择器信号选择电路46。
选择器信号选择部55与先前示例的情况的相同点在于，对采样与保持电路SH1输出选择器信号S_1，对采样与保持电路SH2输出选择器信号S_2，并且对地址检测电路36输出选择器信号S_Ad，但是在此情况下，此外，其不同点在于存在这样的构造，使得对采样与保持电路SH3输出选择器信号S_3，并且对采样与保持电路SH4输出选择器信号S_4。
选择器信号选择部55以选择器信号生成电路45所生成的各个相位为选择器信号S_1、S_2、S_3、S_4和S_Ad，通过使用来自选择器信号的选择信号SLCT，来选择并输出由控制器53分别所指示的信号。
控制器53以与之前控制器41相同的方式例如由微计算机来构造，并且执行记录装置的整体控制。
在此情况下的控制器53的不同之处在于，通过使用选择信号SLCT来选择并指示选择器信号S_3和选择器信号S_4，并且通过使用与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv，在用以实现任意记录间距的流程下，执行选择器52的输出的切换控制。
这里，参考图21，来描述在本实施例中所执行的选择器信号S_1、S_2、S_3、S_4和S_Ad的选择与被施加到跟踪伺服环路的偏移量之间的具体关系。
首先，在图21中，以与之前图14的情况相同的方式，将到达各个凹坑列之间的中点(中间位置)时的定时表示为定时t1至t6。
这里，在本示例中，将在指向凹坑列的伺服装置与指向中间位置的伺服状态之间执行切换时的定时设定在凹坑列与中间位置之间的中点的定时处。也就是说，例如，将伺服目标位置从凹坑列A切换到中间位置AF时的定时为凹坑列A与中间位置AF之间的中点的定时。
结果，在图21中，凹坑列A→中间位置AF的切换定时被写为定时t0.75，并且中间位置AF→凹坑列F、凹坑列F→中间位置FE、中间位置FE→凹坑列E、凹坑列E→中间位置ED、中间位置ED→凹坑列D、凹坑列D→中间位置DC、中间位置DC→凹坑列C、凹坑列C→中间位置CB、中间位置CB→凹坑列B、凹坑列B→中间位置BA和中间位置BA→凹坑列A的相应切换的定时分别被写为t1.25、t1.75、t2.25、t2.75、t3.25、t3.75、t4.25、t4.75、t5.25、t5.75和t6.25。
这里，如果凹坑列与中间位置之间的中点被设定为上述伺服目标位置的切换定时，则为了改变圆点位置在半径方向上的位置，可以使被施加的偏移量的最大值最小化。
由于以此方式将凹坑列与中间位置之间的中点设定成了上述伺服目标位置的切换定时，所以即使在本示例中，对跟踪伺服环路施加波形的偏移量的情况下，倒换用于本示例中的凹坑列与中间位置之间的中点的各个定时的极性。
也就是说，在此情况下，偏移量生成部42被构造为输出其凹坑列与中间位置之间的中点的各个定时的极性被倒换的锯齿波形信号。
这里，能够根据将获得的螺旋间隔的信息以及基准面Ref的形成信息来计算得到凹坑列与中间位置之间的中点的定时。
然后，在本实施例的情况下，在实行偏移量的施加的同时，对选择器信号S_1、S_2、S_3、S_4和S_Ad执行切换。这里，从先前的描述中可以理解，通过相对于选择器信号生成与选择部50供应选择信号SLCT的控制器53，来执行选择器信号的选择指令。
首先，同样地，在此情况下，对于选择器信号S_Ad，在与先前示例相同的定时处以相同的方式执行切换。也就是说，在照射圆顶到达凹坑列A与凹坑列F的中点(即，中间位置AF)时的定时t1处，执行了从相对于凹坑列A的选择器信号到相对于凹坑列F的选择器信号的切换。
下面，执行选择器信号S_Ad的选择和切换，使得在到达中间位置FE的定时t2处执行F→E，在到达中间位置Ed的定时t3处执行E→D，在到达中间位置DC的定时t4处执行D→C，在到达中间位置CB的定时t5处执行C→B，并且在到达中间位置BA的定时t6处执行B→A。
另外，对于选择器信号S_1和选择器信号S_2，如在本视图中，在到达定时t0.75(凹坑列A与中间位置AF的中点)之时，选择并输出“S_1：F、S_2：B”，并且在从定时t0.75至定时定时t1.75(凹坑列F与中间位置FE的中点)之时，选择并输出“S_1：E、S_2：A”。
下面，在从定时t1.75至定时定时t2.75(凹坑列E与中间位置ED的中点)之时，选择并输出“S_1：D、S_2：F”；在从定时t2.75至定时定时t3.75(凹坑列D与中间位置DC的中点)之时，选择并输出“S_1：C、S_2：E”；在从定时t3.75至定时定时t4.75(凹坑列C与中间位置CB的中点)之时，选择并输出“S_1：B、S_2：D”；在从定时t4.75至定时定时t5.75(凹坑列B与中间位置BA的中点)之时，选择并输出“S_1：A、S_2：C”；并且在从定时t5.75(凹坑列A与中间位置AF的中点)之后，选择并输出“S_1：F、S_2：E”。
另外，对位于半间距侧上的选择器信号S_3和选择器信号S_4，由此能够选择和输出。
首先，从先前的描述中可以理解，在生成与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv的过程中，将相对于作为伺服目标的中间位置具有相同相位差的凹坑列的选择器信号选作为选择器信号S_3和选择器信号S_4。这里，作为示例，相对于具有相同相位差的凹坑列的选择其信号，现有其中选择了相对于作为如图18所示的伺服目标的中间位置具有1.5倍相位差的各个凹坑列的选择器信号的示例。
在图21中，在此情况下，相对于选择器信号S_3和选择器信号S_4，在到达定时t1.25(中间位置AF与凹坑列F的中点)之时，选择并输出“S_3：E、S_2：B”。
然后，在从定时t1.25至定时定时t2.25(中间位置FE与凹坑列E的中点)之时，选择并输出“S_3：D、S_2：A”。下面，在从定时t2.25至定时定时t3.25(中间位置ED与凹坑列D的中点)之时，选择并输出“S_3：C、S_2：F”；在从定时t3.25至定时定时t4.25(中间位置DC与凹坑列C的中点)之时，选择并输出“S_3：B、S_2：E”；在从定时t4.25至定时定时t5.25(中间位置CB与凹坑列B的中点)之时，选择并输出“S_3：A、S_2：D”；并且在从定时t5.25至定时定时t6.25(中间位置BA与凹坑列A的中点)之时，选择并输出“S_3：F、S_2：C”。
接着，在本示例中，在以此方式执行选择器信号的依次切换和施加上述偏移量的情况下，执行选择器52的切换控制。具体而言，如本视图的点划线所示，通过使用直至定时t0.75之时所选择并输出的选择器信号S_1和S_2，来生成跟踪误差信号TE-sv(即，图19中的减法部37的输出)，并且通过从定时t0.75直至定时t1.25之时所选择并输出的选择器信号S_3和S_4，来生成跟踪误差信号TE-sv(减法部51的输出)。
下面，以相同的方式，在到达具有邻接关系的凹坑列与中点的中点时各定时处，即在定时t1.25、t1.75、t2.25、t3.75、t4.25、t4.75、t5.25、t5.75和t6.25处，通过使用选择器52可替换的切换减法部37的输出和减法部51的输出。
通过依次切换(选择)选择器52的输出的切换控制以及以此方式重复上述选择器信号，依次切换并输出了指向凹坑列A、中间位置AF、凹坑列F、中间位置FE、凹坑列E、中间位置ED、凹坑列D、中间位置DC、凹坑列C、中间位置CB、凹坑列B、中间位置BA和凹坑列A...的信号，作为跟踪误差信号TE-sv，并且结果，执行依次指向凹坑列和中间位置的跟踪伺服，并且执行圆点位置控制(用以绘制具有任意间距的螺旋的控制)，其中点位置根据上述偏移量的施加，逐渐向外周侧移动。
这里，从上面的描述可以理解，不仅将SH1和SH2的分组，而且将SH3和SH4的分组设置为采样与保持电路SH。然后，从选择上述选择器信号S_1至S_4的方法中可以理解，在本示例中，相对于被输入到采样与保持电路SH1和SH2(即，在当凹坑列为伺服目标时生成跟踪误差信号TE-sv的过程中被选择的选择器信号)的选择器信号S_1和S_2，根据凹坑列→中间位置的切换，对被确定为用于下一伺服目标的凹坑列预先选择选择器信号。以相同的方式，相对于被输入到采样与保持电路SH3和SH4(即，在当中间位置为伺服目标时生成跟踪误差信号TE-sv的过程中被选择的选择器信号)的选择器信号S_1和S_2，根据中间位置→凹坑列的切换，对被确定为用于下一伺服目标的凹坑列预先选择选择器信号。
以此方式，在当凹坑列为伺服目标时生成跟踪误差信号TE-sv的一侧(SH1、SH2和减法部37)中，可以在当中间位置被选作为伺服目标时的周期内，对预先成为下一伺服目标的凹坑列开始进行和信号的采样与保持。以相同的方式，在当中间位置为伺服目标时生成跟踪误差信号TE-sv的一侧(SH3、SH4和减法部51)中，可以在当凹坑列被选作为伺服目标时的周期内，对预先成为下一伺服目标的中间位置开始进行和信号的采样与保持。
也就是说，可以避免必须开始进行和信号的采样与保持，并且然后根据伺服目标位置的切换，可以立即输出该信号，并且结果，可以实现跟踪伺服的稳定性的提高。
这里，当然，上面的描述不会限定其中只有一组采样与保持电路SH1和SH2以及减法部37来生成并分割跟踪误差信号TE-sv的构造。在只有一组采样与保持电路SH1和SH2以及减法部37的情况下，对于图21的点划线内的部分，S_3由被供应给采样与保持电路SH1的选择器信号S_1所替代，并且S_4由被供应给采样与保持电路SH2的选择器信号S_2所替代，并且以与点划线内的部分相同的方式来依次切换S_1和S_2。
根据上述实施例，与先前示例的情况相比，通过使用圆点位置控制，其中该圆点位置控制也使用了与半间距相对应的跟踪误差信号TE-sv，可以减小被施加到伺服环路的偏移量的最大值。具体而言，可以使其减半。
通过以此方式减小被施加到伺服环路的偏移量的最大值，可以使用跟踪误差信号TE-sv中的具有高直线度的部分，并且结果，可以提高伺服控制的稳定性。同样地，可以实现用于绘制具有任意间距的螺旋形的位置控制的稳定性的提高。
3.修改例
上面，已经描述了本发明的实施例，但是到此为止，本发明并不限于上述具体示例。
例如，在到此为止的描述中，由于假设了沿外周方向侧执行从记录层如体层5中的内周→外周的记录和凹坑列与中间位置的可替换选择，但是在从外周→内周进行记录的情况下，相反地，可以沿内周方向侧执行凹坑列与中间位置的可替换选择。
另外，在到此为止的描述中，描述了其中用以对记录层执行记录的激光的光源与通过使用记录在记录层中的标记行的反射光用以执行信息再现和跟踪以及聚焦伺服的激光的光源相同的示例，但是可以具有其中单独设置用于记录的激光的光源和用于信息再现和伺服控制的激光的光源的构造。
另外，尽管在到此为止的描述中未提及，但是在本示例中，凹坑列通过CAV法被记录在基准面Ref中，但是据此，可以恒定的旋转速度来可旋转地驱动体记录介质1，使得在此情况下的记录层中，记录密度朝向外周侧变小。作为对此的测量，例如，可以施加具有恒定记录密度(记录密度看似恒定的状态)诸如根据半径位置来连接改变记录时钟频率的构造。
另外，在到此为止的描述中，描述了其中基准面Ref中的凹坑列形成为螺旋形的示例，但是也可以形成为同心形。同样地，在凹坑列形成为同心形的情况下，本实施例中的描述可以与用于绘制具有任意位置的螺旋形的位置控制方法相同。
另外，在到此为止的描述中，当多个凹坑列具有彼此不同的凹坑列相位时，一种设定六种A至F，并且沿半径方向重复形成具有六种图案(凹坑列相位)的凹坑列，但是多个凹坑列的数目并不限于六个，并且可以具有更大数目或者更小数目的凹坑列。
另外，描述了其中将凹坑列中的各个凹坑可成形位置的分段长度设定为分段长度3T，并且以相同的方式将凹坑列可成形方向上的各个凹坑可成形位置之间的间距设定为长度3T(即，n被设定为6T)的示例，但是这仅为一个示例。各个凹坑可成形位置的分段长度和凹坑列可成形方向上的各个凹坑可成形位置之间的间隔可以被设定为满足先前所述的条件1和2。
另外，在到此为止的描述中，关于具有不同凹坑列相位差的多个凹坑列，凹坑列被配置为使得凹坑列相位在外周侧上上升，并且凹坑列相位在内周侧上下落，但是可以在不超越凹坑成形方向上的光学界限的条件下，将多个凹坑列的配置图案设定为各种图案，相反地，凹坑列被配置为使得凹坑列相位在内周侧上上升，并且在外周侧上下落。
另外，在到此为止的描述中，描述了其中作为本发明记录目标的光记录介质为体型光记录介质的示例，但是本发明可以适当地施加，例如，不仅设有体层5，而且还设有记录层的光记录介质(多层记录介质60)，其中该记录层具有其中形成了如图22所示的多个记录层的多层结构。
在图22中，多层记录介质60与图1所示的体记录介质1的相同之处在于，从上层侧开始依次形成有覆盖层2、选择性反射膜3和中间层4，但是在此情况下，代替了体层5的记录层被层压为具有其中重复层压了本图所示的预定数目的半透过性记录薄膜61和中间层4的构造。如本图所示，形成在最下层上的半透过性记录薄膜61被层压在衬底62上。这里，在被形成在最下层上的记录薄膜中，可以使用全反射记录薄膜。
这里，必须注意这点，在半透过性记录薄膜61中并未形成基于凹坑列成形位置的位置指引元件。也就是说，即使在多层记录介质60中，对仅仅一层位置如基准面Ref形成螺旋形或者同心形位置指引元件。
在多层记录介质60的记录层中，即使当进行记录时，由于形成了充当反射膜的半透过性记录薄膜61，所以可以通过用于记录与再现的激光的反射光来执行聚焦控制。
也就是说，当在此情况下进行记录时，可以基于用于记录与再现的激光的反射光，通过驱动可移动透镜15(透镜驱动部16)，使其聚焦在所谓记录目标的半透过性记录薄膜61上，来对用于记录与再现的激光执行聚焦伺服控制。
这里，当进行再现时，聚焦伺服与跟踪伺服的具体方法与将体记录介质1作为目标的情况下的具体方法相同。
另外，在到此为止的描述中，基准面被设置到记录层的上层侧，但是可以将基准面设置在记录层的下层侧上。
另外，在到此为止的描述中，描述了其中将对光记录介质(记录层)执行记录与再现的记录与再现装置施加到本发明的示例，但是也可以将对光记录介质(记录层)只执行记录的专用记录装置(记录装置)适当地施加到本发明中。
本申请包含于2010年10月26日向日本特许厅递交的日本在先专利申请JP2010-239472涉及的主题，在此通过引用将其全部内容包含在本说明书中。
本领域的技术人员可以理解，在不脱离所附权利要求的范围及其等同范围的前提下，取决于设计要求及其他因素，可以进行各种改变、组合、子组合以及替换。

Claims (6)

1.一种记录装置，其包括：
光照射与光接收单元，所述光照射与光接收单元经由共同的物镜对光记录介质照射第一光和第二光，其中所述光记录介质具有基准面和记录层，所述记录层形成在不同于所述基准面的深度位置处，其中在所述基准面中形成了将一个圆周内的凹坑可成形位置的间隔限定为第一间隔、呈螺旋形或同心形并且沿半径方向配置的凹坑列，并且所述光记录介质通过将所述凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向的间隔设定在各自偏离预定的第二间隔的位置中而具有多个凹坑列相位，所述第一光用作对所述记录层的记录光，所述第二光用以获得来自所述基准面的反射光，并且所述光照射与光接收单元接收来自所述基准面的所述第二光的反射光；
跟踪机构单元，所述跟踪机构单元使所述物镜在所述半径方向上的位置发生改变；
时钟生成单元，所述时钟生成单元基于所述光照射与光接收单元在接收所述第二光的反射光过程中所获得的光接收信号，生成与所述凹坑可成形位置的间隔相应的时钟；
定时选择信号生成单元，所述定时选择信号生成单元基于由所述时钟生成单元生成的所述时钟来生成多个定时选择信号，其中所述多个定时选择信号分别表示所述凹坑可成形位置相对于形成在所述光记录介质中的各个相位的凹坑列的定时；
跟踪误差信号生成单元，所述跟踪误差信号生成单元被构造为，当从形成在所述基准面中的各个相位的凹坑列中选择的作为跟踪伺服目标的凹坑列是目标凹坑列，并且当从形成在所述基准面中的各个相位的凹坑列的各自中间位置中选择的作为跟踪伺服目标的中间位置是目标中间位置时，能够通过从所述多个定时选择信号中选择与其相位差相对于所述目标凹坑列具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列的定时选择信号，通过在用于选择凹坑列的定时选择信号表示的各个定时对所述光接收信号的数值进行采样与保持，并且通过计算被采样与被保持的数值之差，来实施第一跟踪误差信号的生成，其中所述第一跟踪误差信号表示所述第二光的照射圆点相对于所述目标凹坑列在半径方向上的位置误差；以及能够通过从所述多个定时选择信号中选择与其相位差相对于所述目标中间位置具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列间位置的定时选择信号，通过在用于选择凹坑列间位置的定时选择信号表示的各个定时对所述光接收信号的数值进行采样与保持，并且通过计算被采样与被保持的数值之差，来实施第二跟踪误差信号的生成，其中所述第二跟踪误差信号表示所述第二光的照射圆点位置相对于所述目标中间位置在半径方向上的位置误差；
跟踪伺服控制单元，所述跟踪伺服控制单元基于由所述跟踪误差信号生成单元输出的所述跟踪误差信号，通过控制所述跟踪机构单元而对所述物镜执行跟踪伺服控制；
偏移量施加单元，所述偏移量施加单元对包括所述跟踪伺服控制单元的跟踪伺服环路执行基于锯齿波的偏移量的施加；以及
控制单元，所述控制单元通过所述跟踪误差信号生成单元来控制输出，以在与基于锯齿波的所述偏移量的极性倒换定时相应的定时处，在所述第一跟踪误差信号和所述第二跟踪误差信号之间可交替地切换。
2.根据权利要求1所述的记录装置，其中
所述跟踪误差信号生成单元被构造为具有：
第一采样与保持单元和第二采样与保持单元，其中所述第一采样与保持单元和所述第二采样与保持单元输入用于选择凹坑列的定时选择信号；
第一减法单元，所述第一减法单元计算由所述第一采样与保持单元和所述第二采样与保持单元进行采样与保持的数值之差并且获取所述第一跟踪误差信号；
第三采样与保持单元和第四采样与保持单元，其中所述第三采样与保持单元和所述第四采样与保持单元输入用于选择凹坑列中间位置的定时选择信号；
第二减法单元，所述第二减法单元计算由所述第三采样与保持单元和所述第四采样与保持单元进行采样与保持的数值之差并且获取所述第二跟踪误差信号；以及
选择与输出单元，所述选择与输出单元选择并输出所述第一减法单元的输出和所述第二减法单元的输出；
所述控制部在与基于锯齿波的所述偏移量的极性倒换定时相应的定时处，通过所述选择与输出单元控制执行输出切换控制。
3.根据权利要求1所述的记录装置，
其中，在所述基准面中，通过各个所述凹坑列上的凹坑可成形位置中的有无形成凹坑的图案，按照所述各个凹坑列的每一列来记录所述光记录介质上的位置信息，
并且包括位置信息检测单元，其被设置为在从所述多个定时选择信号中所选择的定时选择信号所表示的定时处，通过对所述光接收信号进行采样，基于对作为凹坑可成形位置中的有无形成上述凹坑的信道比特值的判定结果来检测所述位置信息。
4.根据权利要求1所述的记录装置，
其中所述光照射与所述光接收单元对所述光记录介质照射所述第一光和所述第二光，所述光记录介质具有作为所述记录层的体型记录层。
5.根据权利要求1所述的记录装置，
其中所述光照射与所述光接收单元对所述光记录介质照射所述第一光和所述第二光，所述光记录介质具有多层构造的记录层，其中在所述多层构造中，在深度方向上的多个位置中形成有记录薄膜，作为记录层。
6.一种记录装置的圆点位置控制方法，所述记录装置具有光照射与光接收单元，所述光照射与光接收单元经由共同的物镜对光记录介质照射第一光和第二光，其中所述光记录介质具有基准面和记录层，所述记录层形成在不同于所述基准面的深度位置处，其中在所述基准面中形成了将一个圆周内的凹坑可成形位置的间隔限定为第一间隔、呈螺旋形或同心形并且沿半径方向配置的凹坑列，并且所述光记录介质通过将所述凹坑可成形位置沿凹坑列成形方向的间隔设定在各自偏离预定的第二间隔的位置中而具有多个凹坑列相位，所述第一光用作对所述记录层的记录光，所述第二光用以获得来自所述基准面的反射光，并且所述光照射与光接收单元接收来自所述基准面的所述第二光的反射光，以及跟踪机构单元，所述跟踪机构单元使所述物镜在半径方向上的位置发生改变，所述圆点位置控制方法包括：
基于所述光照射与光接收单元在接收所述第二光的反射光过程中所获得的光接收信号，生成与所述凹坑可成形位置的间隔相应的时钟；
基于由所述时钟生成单元生成的所述时钟来生成多个定时选择信号，其中所述多个定时选择信号分别表示所述凹坑可成形位置相对于形成在所述光记录介质中的各个相位的凹坑列的定时；
当从形成在所述基准面中的各个相位的凹坑列中选择的作为跟踪伺服目标的凹坑列是目标凹坑列，并且当从形成在所述基准面中的各个相位的凹坑列的各自中间位置中选择的作为跟踪伺服目标的中间位置是目标中间位置时，能够通过从所述多个定时选择信号中选择与其相位差相对于所述目标凹坑列具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列的定时选择信号，通过在用于选择凹坑列的定时选择信号表示的各个定时对所述光接收信号的数值进行采样与保持，并且通过计算被采样与被保持的数值之差，来实施第一跟踪误差信号的生成，其中所述第一跟踪误差信号表示所述第二光的照射圆点相对于所述目标凹坑列在半径方向上的位置误差；以及能够通过从所述多个定时选择信号中选择与其相位差相对于所述目标中间位置具有相同关系的两个凹坑列分别对应的定时选择信号作为用于选择凹坑列间位置的定时选择信号，通过在用于选择凹坑列间位置的定时选择信号表示的各个定时对所述光接收信号的数值进行采样与保持，并且通过计算被采样与被保持的数值之差，来实施第二跟踪误差信号的生成，其中所述第二跟踪误差信号表示所述第二光的照射圆点位置相对于所述目标中间位置在半径方向上的位置误差；以及
基于第一跟踪误差信号和第二跟踪误差信号对跟踪伺服环路执行基于锯齿波的偏移量的施加，在与基于锯齿波的所述偏移量的极性倒换定时相应的定时处，在所述第一跟踪误差信号和所述第二跟踪误差信号之间可交替地切换，并且基于所输入的跟踪误差信号通过控制所述跟踪机构单元对所述物镜执行跟踪伺服控制。
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