CN102393548A - 一种柔性光波导 - Google Patents

一种柔性光波导 Download PDF

Info

Publication number
CN102393548A
CN102393548A CN2011102413293A CN201110241329A CN102393548A CN 102393548 A CN102393548 A CN 102393548A CN 2011102413293 A CN2011102413293 A CN 2011102413293A CN 201110241329 A CN201110241329 A CN 201110241329A CN 102393548 A CN102393548 A CN 102393548A
Authority
CN
China
Prior art keywords
optical waveguide
epoxy resin
film
undercloak
central core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011102413293A
Other languages
English (en)
Inventor
佐藤信平
田尻浩三
松井洋子
牧野朋未
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Publication of CN102393548A publication Critical patent/CN102393548A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1221Basic optical elements, e.g. light-guiding paths made from organic materials
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/138Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083Constructional arrangements
    • G02B2006/121Channel; buried or the like

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

本发明提供了一种柔性光波导及其制备方法、以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物,该柔性光波导中的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜、或者玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。

Description

一种柔性光波导
相关申请
本申请是申请号为200780040166.4、申请日为2007年10月30日、发明名称为“柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物”的中国发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种柔性光波导。
背景技术
伴随着光通信系统的实用化,关于作为其基本构成的光波导的技术引起了人们的注意。所谓光波导,代表性的有:折射率高的中心层被折射率低的覆盖层所包围的包埋型结构,或者在折射率低的下部覆盖层上形成折射率高的中心层、并将上部覆盖层作为空气层的山脊型的结构;入射到光波导的光在该中心层和该覆盖层之间的界面、或者该中心层和该空气层之间的界面反射,同时在该中心层中传播。
作为构成光波导的材料,已知的有例如石英玻璃和半导体等的无机材料。另外,正在进行用各种聚合物来制备光波导的研究开发。与无机材料相对比,作为有机材料的聚合物,由于在成膜工序中可以在常压下进行涂布以及加热处理,因此具有能使装置以及制备工序简单化的优点。
作为聚合物光波导的材料,从光透明性高方面来看,普遍被使用的是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),除此之外,从玻璃化温度(Tg)高、柔性和耐热性良好、能够耐锡焊方面来看,聚酰亚胺尤其受到期待。
但是,由于聚酰亚胺价格高,因此尝试了使用更廉价的环氧树脂来制备光波导。例如,在专利文献1和2中公开了使用将脂肪族环状环氧树脂、双酚型环氧树脂或溴化环氧树脂作为必须成分的紫外线固化树脂而制成的光波导。另外,在专利文献3中公开了使用具有环氧环的单体或低聚物与聚合引发剂的混合物而制成的光波导。
但是,一般来说,环氧树脂具有硬且脆的性质。即,由环氧树脂得到的环氧薄膜缺乏柔性、很难弯曲、弯折时产生龟裂很容易裂开。因此,难以利用环氧树脂来制备具有柔性的光波导即柔性光波导。
另一方面,最近,正在开发一种通过将光波导和电子电路混载在一片基板上而形成的光电子混载模块。例如,在专利文献4中公开了一种通过用粘接剂将光波导薄膜粘贴到多层配线基板上而形成的光电子配线基板。另外,在专利文献5中公开了一种通过用粘接剂将在透明基板上形成的光波导部件粘贴到电子电路基板上而形成的光电子配线基板。而且在专利文献6中公开了一种通过用粘接剂将光波导薄膜粘贴到电子电路基板上而形成的光电子混载基板。
然而这样的通过用粘接剂将光波导薄膜粘贴到电子电路基板上而形成的光电子混载模块,在湿热试验时存在电子电路基板与光波导薄膜容易剥离的问题。另外,为了将从安装于电子电路基板的发光元件发射的光导入光波导,有必要使该光通过粘接剂层,此时,还存在由于光波导薄膜与粘接剂层中的折射率失配而引起光散射,从而使得光波导的波导损失增大的问题。而且,即使光电子混载模块具有一定程度的柔性,粘接剂层存在时,也存在难以弯曲、弯曲试验时电子电路基板与光波导薄膜容易剥离的问题。
为此,在专利文献7中公开了一种光电子混载柔性模块,该光电子混载柔性模块是通过如下方法形成的:预先制作作为光波导的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的环氧树脂薄膜,然后将这些环氧树脂薄膜在聚酰亚胺覆铜箔基板上依次进行真空层压后,通过固化从而不使用粘接剂而直接在电子电路基板上形成光波导薄膜。
但是,在这样的光电子混载柔性模块中,由于需要:另外制备作为光波导的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的环氧树脂薄膜,将这些环氧树脂薄膜在聚酰亚胺覆铜箔基板上进行真空层压后进行固化,然后剥离基膜,因此存在制备工序复杂、制备成本增高的问题。
因而谋求一种柔性光波导及其简便的制备方法,该柔性光波导能简便地制备光电子混载柔性模块,而且能不使用粘接剂而直接在基板上形成光波导薄膜。
专利文献1:特开平6-273631号公报
专利文献2:特开平7-159630号公报
专利文献3:特开平8-271746号公报
专利文献4:特开2001-15889号公报
专利文献5:特开2002-189137号公报
专利文献6:特开2004-341454号公报
专利文献7:特开2006-22317号公报
发明内容
在上述情况下,本发明要解决的问题是提供一种虽然由环氧树脂构成但是柔性良好、弯曲性强的柔性光波导及其制备方法、以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物,还提供一种柔性光波导及其简便的制备方法,该柔性光波导能不使用粘接剂等而直接在基板上形成光波导薄膜,而且包括基板在内的光波导薄膜的柔性以及基板与光波导薄膜之间的粘接性良好。
本发明人经过各种研究,结果发现,只要下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层由使用含有特定的环氧树脂的环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜、或者玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜构成,光波导薄膜就显示出良好的柔性;另外,能不使用粘接剂等而直接在由聚酰亚胺形成的基板上形成光波导薄膜,构成下部覆盖层的环氧薄膜显示出对于构成基板的聚酰亚胺薄膜的良好的粘接性,从而完成本发明。
即,在本发明的第一种实施方式中提供了一种柔性光波导,该柔性光波导具有下部覆盖层、形成于该下部覆盖层上的中心层、以及以包埋该中心层的方式形成于该下部覆盖层和该中心层上的上部覆盖层,其特征在于,该下部覆盖层、该中心层以及该上部覆盖层中的至少一层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
在该柔性光波导中,优选所述下部覆盖层、所述中心层以及所述上部覆盖层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
或者,在该柔性光波导中,优选所述下部覆盖层是由环氧薄膜而构成的,该环氧薄膜是在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。在该柔性光波导中,更优选所述中心层以及所述上部覆盖层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
在这些柔性光波导中,所述多缩水甘油基化合物优选为聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
另外,在本发明的第二种实施方式中提供了一种柔性光波导,该柔性光波导具有下部覆盖层、形成于该下部覆盖层上的中心层、以及以包埋该中心层的方式形成于该下部覆盖层和该中心层上的上部覆盖层,其特征在于,该下部覆盖层、该中心层以及该上部覆盖层中的至少一层是由玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜而构成的,且该柔性光波导的波导损失为0.24dB/cm以下。
在该柔性光波导中,优选所述下部覆盖层、所述中心层以及所述上部覆盖层是由玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜而构成的。
在这些柔性光波导中,优选所述环氧薄膜是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。更优选所述多缩水甘油基化合物为聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
本发明还提供了第一种实施方式中的柔性光波导的制备方法,该制备方法包括形成下部覆盖层的工序、在该下部覆盖层上形成中心层的工序、以及以包埋该中心层的方式在该下部覆盖层和该中心层上形成上部覆盖层的工序,该下部覆盖层、该中心层以及该上部覆盖层中的至少一层是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
本发明还提供了一种用于柔性光波导的环氧树脂组合物,其特征在于,该组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,该组合物固化后的折射率为1.45-1.65。
在该环氧树脂组合物中,优选所述多缩水甘油基化合物为聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
本发明的柔性光波导,由于下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层由使用含有特定的环氧树脂的环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜、或者玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜构成,因此柔性良好,弯曲性强,以半径为10mm弯曲到90度后、或者以半径为1mm弯曲到180度后,在恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
另外,本发明的柔性光波导,在具有由聚酰亚胺形成的基板的情况下,构成基板的聚酰亚胺薄膜的柔性良好,而且由于形成于基板上的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层是使用含有特定的环氧树脂的环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,因此柔性良好,弯曲性强。尤其是在下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层是由使用含有特定的环氧树脂的环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的情况下,以半径为1mm能弯曲到180度。另外,本发明的柔性光波导即使在高温高湿的环境下长时间静置后,基板与光波导薄膜之间的粘接性也良好,显示出高的耐湿热性。而且本发明的柔性光波导,由于构成基板的聚酰亚胺薄膜的耐热性良好,因此能够实现光电子混载模块。
本发明涉及的柔性光波导的制备方法,由于在不具有基板的情况下不需要形成构成基板的薄膜的工序,因此能够简便地形成光波导,能够实现制造成本地大幅度降低。另外,在具有基板的情况下,没必要在基板和下部覆盖层之间设置粘接层等的工序,而且由于只是依次在基板上形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层,因此能够简便地在基板上形成光波导薄膜,而且能够实现制造成本的大幅度降低。
本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物,由于含有特定的环氧树脂,因此能够得到柔性良好、弯曲性强的环氧薄膜,而且由于通过调节环氧树脂的掺合量,可以在规定的范围内任意调节环氧薄膜的折射率,因此对于制备柔性光波导有用。
附图说明
图1为示意性地表示本发明的柔性光波导的代表例的截面图;
图2为示意性地表示本发明的柔性光波导的另一个代表例的截面图;
图3为示意性地说明图1所示的柔性光波导的一个制备方法的工序图;
图4为示意性地说明图2所示的柔性光波导的一个制备方法的工序图;
图5为示意性地说明图2所示的柔性光波导的另一个制备方法的工序图;
图6为表示用于覆盖层的树脂组合物(1)固化后的13C-固体NMR图谱的图表;
图7为表示聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚的固化物的13C-固体NMR图谱的图表。
具体实施方式
《柔性光波导》
在第一种实施方式中,本发明的柔性光波导具有下部覆盖层、形成于该下部覆盖层上的中心层、以及以包埋该中心层的方式形成于该下部覆盖层和该中心层上的上部覆盖层,其特征在于,该下部覆盖层、该中心层以及该上部覆盖层中的至少一层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
在该柔性光波导中,优选所述下部覆盖层、所述中心层以及所述上部覆盖层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
或者,在该柔性光波导中,优选所述下部覆盖层是由环氧薄膜而构成的,该环氧薄膜是在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。在该柔性光波导中,更优选所述中心层以及所述上部覆盖层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
在这些柔性光波导中,所述多缩水甘油基化合物优选为聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
另外,在第二种实施方式中,本发明的柔性光波导具有下部覆盖层、形成于该下部覆盖层上的中心层、以及以包埋该中心层的方式形成于该下部覆盖层和该中心层上的上部覆盖层,其特征在于,该下部覆盖层、该中心层以及该上部覆盖层中的至少一层是由玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜而构成的,且该柔性光波导的波导损失为0.24dB/cm以下。
在该柔性光波导中,优选所述下部覆盖层、所述中心层以及所述上部覆盖层是由玻璃化温度(Tg)为100℃以下的环氧薄膜而构成的。
在这些柔性光波导中,环氧薄膜的玻璃化温度(Tg)一般为100℃以下,优选为80℃以下,更优选为60℃以下,进一步优选为50℃以下。玻璃化温度(Tg)的下限没有特别的限定,为-60℃左右。另外,所谓环氧薄膜的玻璃化温度(Tg),意思是固化后的环氧树脂组合物的玻璃化温度(Tg),是使用差示扫描热量计(例如产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定的值。
这些柔性光波导的波导损失通常为0.24dB/cm以下,优选为0.22dB/cm以下,更优选为0.20dB/cm以下,进一步优选为0.18dB/cm以下。波导损失的下限没有特别的限定,为0.05dB/cm左右。另外,波导损失是通过下述实施例中说明的剪断法(カツトバツク法)测定的值。
在这些柔性光波导中,环氧薄膜的减少5%质量的温度优选为200℃以上,更优选为250℃以上,进一步优选为300℃以上。减少5%质量的温度的上限没有特别的限定,为500℃左右。另外,所谓环氧薄膜的减少5%质量的温度,意思是固化后的环氧树脂组合物的减少5%质量的温度,是使用TG/DTA同时测定装置(例如产品名称为DTG-50、(株)岛津制作所制)在氮气氛围下,在10℃/min的升温条件下测定的值。
在这些柔性光波导中,优选所述环氧薄膜是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。在这些柔性光波导中,更优选所述多缩水甘油基化合物为聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
本发明的柔性光波导的代表例如图1所示。本发明的柔性光波导并不限定于该代表例,可以适当改变其构成。如图1所示,以包埋中心层13的方式在下部覆盖层12上形成上部覆盖层15。中心层13以及上部覆盖层15不经由粘接剂层而直接粘接在下部覆盖层12上。下部覆盖层12、中心层13以及上部覆盖层15中的至少一层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。优选下部覆盖层12、中心层13以及上部覆盖层15是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。另外,在图1中,只形成有一个中心层13,但是根据柔性光波导的用途等,也可以形成两个或两个以上中心层13。另外,中心层13形成为向与纸面垂直的方向延伸的直线形,但是根据柔性光波导的用途等,也可以形成为规定的图案。而且本发明的柔性光波导,只要不损害其柔性,也可以根据需要在上部覆盖层15的上侧具有例如保护薄膜、剥离薄膜等。
本发明的柔性光波导的另一个代表例如图2所示。本发明的柔性光波导并不限定于该代表例,可以适当改变其结构。如图2所示,首先在基板21上形成下部覆盖层22。下部覆盖层22不经由粘着剂层等而直接粘着在基板21上。然后,以包埋中心层23的方式在下部覆盖层22上形成上部覆盖层25。中心层23以及上部覆盖层25也不经由粘着剂层等而直接粘着在下部覆盖层22上。基板21由聚酰亚胺薄膜构成。下部覆盖层22、中心层23以及上部覆盖层25中的至少一层是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。优选情况下,下部覆盖层22是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。更优选的情况下,更进一步,中心层23以及上部覆盖层25是由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。另外,在图2中,只形成了一个中心层23,根据柔性光波导的用途等,也可以形成两个或两个以上中心层23。另外,中心层23形成为向与纸面垂直的方向延伸的直线形,但是根据柔性光波导的用途等,也可以形成为规定的模型状。而且本发明的柔性光波导,只要不损害其柔性,也可以根据需要在上部覆盖层25的上侧具有例如保护薄膜、剥离薄膜等。
<环氧树脂组合物>
在本发明的柔性光波导中,构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层的环氧薄膜是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。因而,构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层的环氧薄膜的柔性良好,弯曲性强。
另外,在本发明的柔性光波导中,在下部覆盖层是由环氧薄膜而构成的情况下,构成下部覆盖层的环氧薄膜不仅柔性良好、弯曲性强,而且对于构成基板的聚酰亚胺薄膜的粘接性也良好,其中,该环氧薄膜是在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
另外,使用含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物的环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜,具体来说,是由具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、与含有胺系固化剂或阳离子聚合引发剂的环氧树脂组合物而得到的。该环氧树脂组合物中也可以根据需要掺合双酚型环氧树脂或脂环式环氧树脂。以下对该环氧树脂组合物的各成分进行详细说明。
(具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物)
如上所述,在本发明的柔性光波导中,构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层的环氧薄膜是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
在具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物中,构成聚亚烷基二醇链的羟基亚烷基优选为碳原子数为2-12、更优选碳原子数为2-8、进一步优选碳原子数为3-6、最优选碳原子数为4的羟基亚烷基。这些羟基亚烷基可以为直链状或支链状的,也可以具有取代基。而且这些羟基亚烷基可以全部为相同的羟基亚烷基,或者为不同种类的羟基亚烷基的组合。构成聚亚烷基二醇链的羟基亚烷基的重复数优选为1-100,更优选为1-50,进一步优选为1-30。
作为具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,具体可以列举出例如:聚亚乙基醚二醇、聚亚丙基醚二醇、聚四亚甲基醚二醇、聚五亚甲基醚二醇等聚醚多元醇的二缩水甘油醚;共聚(四亚甲基·亚新戊基)醚二醇、共聚(四亚甲基·2-甲基亚丁基)醚二醇、共聚(四亚甲基·2,2-二甲基亚丁基)醚二醇、共聚(四亚甲基·2,3-二甲基亚丁基)醚二醇等共聚醚多元醇的二缩水甘油醚;三羟甲基丙烷三缩水甘油基醚等脂肪族多元醇的三缩水甘油基醚等。这些多缩水甘油基化合物中,优选聚醚多元醇的二缩水甘油醚,特别优选聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
上述多缩水甘油基化合物可以通过按照以往公知的方法并根据需要使脂肪族二元醇脱水缩合后,使环氧氯丙烷与末端的羟基反应来制备,该脂肪族二元醇可以为乙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,6-己二醇等。
聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚如下述式(1)所示,聚四亚甲基醚二醇的数均分子量优选为200-2000,更优选为250-1500,进一步优选为500-1000的范围内。这样的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚可以通过以往公知的制备方法而得到。更详细地说,可以通过在硫酸、三氟化硼乙醚、四氯化锡等酸性催化剂的存在下,或者在季铵盐类、季鏻盐类、冠醚类等相转移催化剂的存在下,使数均分子量优选为200-2000、更优选为250-1500、进一步优选为500-1000范围内的聚四亚甲基醚二醇与环氧氯丙烷反应而得到氯乙醇醚体,然后使该氯乙醇醚体与氢氧化钠等脱卤化氢剂发生反应并闭环的两级法而得到。此时,聚四亚甲基醚二醇的数均分子量小于200时,环氧薄膜的柔性有时会降低。相反,聚四亚甲基醚二醇的数均分子量超过2000时,有时聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚会变为固体状,从而使得操作性变差。另外,聚四亚甲基醚二醇的数均分子量可以通过凝胶渗透色谱(GPC)法用标准聚苯乙烯换算而求得。
[化学式1]
Figure BSA00000560353100121
[式中,n为1-30的整数]
聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚也可以通过上述制备方法来合成,但是也可以利用市售品。作为市售品,可以列举出例如ジヤパンエポキシレジン(株)制的jER(注册商标)YL7217或YL7410等。
相对于100质量份的环氧树脂组合物,具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物的掺合量优选为1-95质量份,更优选为2-90质量份,进一步优选为5-85质量份的范围内。在这种情况下,具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物的掺合量少于1质量份时,存在由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜的柔性降低的情况。相反,具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物的掺合量超过95质量份时,在由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜的折射率和强度方面存在问题。
(双酚型环氧树脂)
为了调节环氧薄膜的折射率,优选在环氧树脂组合物中掺合双酚型环氧树脂。
作为双酚型环氧树脂,可举出例如双酚A型环氧树脂、双酚A-环氧化物加合物的二缩水甘油醚、双酚F型环氧树脂、双酚F的环氧化物加合物的二缩水甘油醚、双酚AD型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、四甲基双酚A型环氧树脂、四甲基双酚F型环氧树脂、这些的卤代双酚型环氧树脂(例如氟代双酚型环氧树脂、氯代双酚型环氧树脂、溴代双酚型环氧树脂)等。这些双酚型环氧树脂可以单独使用也可以两种以上并用。这些双酚型树脂中,从容易获得和操作性方面考虑,优选双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、溴代双酚A型环氧树脂、溴代双酚F型环氧树脂。
可以适当调节双酚型环氧树脂的掺合量,使得由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜具有所希望的折射率即可,没有特别的限定,但是相对于100质量份的环氧树脂组合物,优选为10-90质量份、更优选为15-85质量份、进一步优选为20-80质量份的范围内。这种情况下,当双酚型环氧树脂的掺合量小于10质量份时,变得难以将由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜的折射率调节为较高的值,而且由于固化变得极其慢会导致变得难以得到环氧薄膜。相反,双酚型环氧树脂的掺合量超过90质量份时,存在由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜的柔性降低的情况。
(脂环式环氧树脂)
为了调节环氧薄膜的硬度,也可以根据需要在环氧树脂组合物中掺合脂环式环氧树脂。
作为脂环式环氧树脂,可以列举出例如:通过将3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷羧酸酯、ε-己内酯改性3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷羧酸酯、1,2-环氧-乙烯基环己烯、双(3,4-环氧环己基甲基)己二酸酯、1-环氧乙基-3,4-环氧环己烷、柠檬烯二环氧化物、3,4-环氧环己基甲醇、二环戊二烯二环氧化物、低聚物型脂环式环氧树脂(商品名称为エポリ一ド(注册商标)GT300、エポリ一ド(注册商标)GT400、EHPE-3150;ダイセル化学工业(株)制)等的链烯烃氧化而得到的环氧树脂;将氢化双酚A型环氧树脂、氢化双酚F型环氧树脂、氢化双酚型环氧树脂、氢化双酚酚醛型环氧树脂、氢化甲酚酚醛型环氧树脂、氢化萘型环氧树脂等的芳香族环氧树脂直接氢化后的环氧树脂、或者通过将多元酚类氢化后与环氧氯丙烷反应而得到的环氧树脂等。这些脂环式环氧树脂可以单独使用也可以两种以上并用。这些脂环式环氧树脂中,从容易获得、低粘度下操作性良好、柔性、与基材的粘接性方面来看,优选为3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷羧酸酯、ε-己内酯改性3,4-环氧环己基甲基-3’,4’-环氧环己烷羧酸酯、氢化双酚A型环氧树脂、氢化双酚F型环氧树脂。
可以适当调节脂环式环氧树脂的掺合量,使得由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜具有所希望的硬度即可,没有特别的限定,但是相对于100质量份的环氧树脂组合物,优选为10-90质量份、更优选为15-85质量份、进一步优选为20-80质量份的范围。在这种情况下,脂环式环氧树脂的掺合量小于10质量份时,变得难以将由环氧树脂组合物得到的环氧薄膜的折射率调节为较低的值,而且由于固化变得极其慢会导致变得难以得到薄膜。相反,脂环式环氧树脂的掺合量超过90质量份时,存在由环氧树脂组合物得到环氧薄膜变硬变脆的情况。
通过适当选择作为原料的具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式树脂的分子量,可以不使用溶剂而将环氧树脂组合物的粘度在温度为23℃下调节到10-100000mPa·S的范围内。
(胺系固化剂)
为了使环氧树脂组合物固化以形成环氧薄膜,可以在环氧树脂组合物中掺合例如胺系固化剂。
作为胺系固化剂,可以列举出例如邻苯二甲胺、间苯二甲胺、对苯二甲胺等的具有一个芳香环的脂肪族二胺;异佛尔酮二胺;1,3-双(氨甲基)环己烷、1,4-双(氨甲基)环己烷、1,2-环己基二胺、1,3-环己基二胺、1,4-环己基二胺、降冰片烷二胺、双(氨甲基)三环癸烷、4,4’-亚甲基双(环己胺)、4,4’-亚甲基双(2-甲基环己胺)、4,4’-亚甲基双(2-乙基-6-甲基环己胺)等的具有1-2个脂环式结构的脂肪族二胺;使间苯二甲胺、异佛尔酮二胺、1,3-双(氨甲基)环己烷或4,4’-亚甲基双(环己胺)与酚类(甲醛)、(甲基)丙烯酸酯类、单环氧类、苯乙烯类或丙烯腈反应而得到的改性二胺等。这些胺系固化剂可以单独使用也可以两种以上并用。这些胺系固化剂中,从与环氧树脂的反应性良好方面来看,优选为间苯二甲胺、异佛尔酮二胺、1,3-双(氨甲基)环己烷以及它们的改性体。
在环氧树脂组合物中,相对于具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物与根据需要掺合的双酚型环氧树脂或脂环式环氧树脂的100质量份的合计量,胺系固化剂的掺合量优选为10-150质量份,更优选为20-120质量份,进一步优选为30-100质量份的范围内。
(阳离子聚合引发剂)
为了使环氧树脂组合物固化以形成环氧薄膜,可以在环氧树脂组合物中掺合例如阳离子聚合引发剂。
作为阳离子聚合引发剂,可以使用通过紫外线等而产生阳离子种或路易斯酸的光阳离子聚合引发剂、和/或通过热而产生阳离子种或路易斯酸的热阳离子聚合引发剂。
作为光阳离子聚合引发剂,可以列举出例如:如美国专利第3379653号中所记载的金属氟硼络合物盐以及三氟化硼络合物;如美国专利第3586616号中所记载的双(全氟烷基磺酰基)甲烷金属盐;如美国专利第3708296号中所记载的芳基重氮化合物;如美国专利第4058400号中所记载的VIA族元素的芳香族鎓盐;如美国专利第4069055号中所记载的VA族元素的芳香族鎓盐;如美国专利第4068091号中所记载的IIIA-VA族元素的二羰基螯合物(ジカルボニルキレ一ト);如美国专利第4139655号中所记载的硫代吡喃鎓盐(チオピリリウム塩);如美国专利第4161478号中所记载的MF6-阴离子(在此,M选自磷、锑以及砷)与VIB元素所形成的盐:如美国专利第4231951号中所记载的芳基锍络合物盐;美国专利第4256828号中所记载的芳香族碘鎓络合物盐以及芳香族锍络合物盐;如W.R.Watt等在“ジヤ一ナル·オブ·ポリマ一·サイエンス(Journal of Polymer Science)、ポリマ一·ケミストリ一(Polymer Chemistry)版”第22卷1789页(1984年)中所记载的双[4-(二苯基磺酸基)苯基]硫醚-双-六氟代金属盐(例如磷酸盐、砷酸盐、锑酸盐等);铁化合物的混合配体金属盐;硅烷醇-铝配位化合物等。这些紫外线聚合引发剂可以单独使用也可以两种以上并用。这些紫外线聚合引发剂中,优选芳基锍络合物盐、含有卤素的配位离子的芳香族碘鎓络合物盐或者芳香族锍络合物盐、II族、V族以及VI族元素的芳香族鎓盐。这些盐中的一部分能够通过商购得到,例如市售品UVI-6976、UVI-6992(以上为ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制);FX-512(3M制);UVR-6990、UVR-6974(以上为ユニオン·カ一バイド制);UVE-1014、UVE-1016(以上为ジエネラル·エレクトリツク制);KI-85(デグツサ·アクチエンゲゼルシヤフト制);SP-150、SP-170(以上为(株)ADEKA制);サンエイド(注册商标)SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-180L(以上为三新化学工业(株)制)等。
作为热阳离子聚合引发剂,可以列举出例如:三氟甲磺酸盐、三氟化硼醚配位化合物、三氟化硼等的阳离子系或质子酸催化剂。这些热阳离子聚合引发剂可以单独使用也可以两种以上并用。这些热阳离子聚合引发剂中,优选三氟甲磺酸盐,具体地说,可以列举出例如:作为FC-520能够从3M公司获得的三氟甲磺酸二乙基铵、三氟甲磺酸三乙基铵、三氟甲磺酸二异丙基铵、三氟甲磺酸乙基二异丙基铵等(其中多数已在R.R.Alm于1980年10月发行的モダン·コ一テイングス(Modern Coatings)中公开)。另外,用作光阳离子聚合引发剂的芳香族鎓盐中,有些会因热而产生阳离子种,这些光阳离子聚合引发剂也可以用作热阳离子聚合引发剂。具体地说可以列举出サンエイド(注册商标)SI-60L、SI-80L、SI-100L、SI-110L、SI-180L(以上均为三新化学工业(株)制)。
这些光和热阳离子聚合引发剂中,从操作性良好、潜在性与固化性之间的平衡性良好的方面考虑,优选鎓盐,特别优选重氮盐、碘鎓盐、锍盐、鏻盐。
在环氧树脂组合物中,相对于具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、与根据需要掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的100质量份的合计量,阳离子聚合引发剂的掺合量优选为0.1-10质量份,更优选为0.5-8质量份,进一步优选为1-5质量份的范围内。
<环氧薄膜>
构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层的环氧薄膜,可以通过以下的方法而得到:将适量的上述环氧树脂组合物(常温下为液态)涂布到基材上后,在掺合胺系固化剂的情况下,例如,在20-150℃的温度下进行0.5-24小时的热固化;或者在掺合光阳离子聚合引发剂的情况下,照射照射累计光亮为0.01-10J/cm2的紫外线来使环氧树脂组合物固化;或者在掺合热阳离子聚合引发剂的情况下,例如,在50-250℃的温度下进行0.5-24小时的热固化。
只要下部覆盖层以及上部覆盖层的折射率比中心层的折射率低,或者只要中心层的折射率比下部覆盖层以及上部覆盖层的折射率高,就没有特别的限定,但是构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层中的至少一层的环氧薄膜的折射率可以在1.45-1.65的范围内,通过调节具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物与根据需要而掺合的双酚型环氧树脂或脂环式环氧树脂的掺合比而进行任意调节。在此,折射率的意思是使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在温度为23℃下测定的波长为830nm时的折射率。
构成下部覆盖层和/或上部覆盖层的环氧树脂的厚度根据柔性光波导的用途等进行适当选择即可,没有特别的限定,具体来说优选为5-1000μm、更优选为10-500μm、进一步优选为20-100μm的范围内。构成下部覆盖层和/或上部覆盖层的环氧薄膜的厚度小于5μm时,存在柔性光波导的强度降低的情况。相反,构成下部覆盖层和/或上部覆盖层的环氧薄膜的厚度超过1000μm时,存在柔性光波导的柔性降低的情况。
构成中心层的环氧树脂的厚度和宽度根据所使用的光的波长等适当选择即可,只要能包在上部覆盖层中就没有特别的限定,具体来说优选为5-1000μm,更优选为10-500μm,进一步优选为20-100μm的范围内。构成中心层的环氧薄膜的厚度和宽度小于5μm时,存在在中心层中传播的光的量降低的情况。相反,构成中心层的环氧薄膜的厚度和宽度超过1000μm时,存在光波导薄膜的柔性降低的情况。
使用上述环氧树脂组合物时,能够得到柔性良好、弯曲性强的环氧薄膜。
<基板>
在本发明的柔性光波导具有基板的情况下,只要构成基板的聚酰亚胺薄膜具有柔性;或者在用柔性光波导制备光电子混载柔性模块的情况下,只要进一步具有耐热性(尤其是假定锡焊时的耐热性、具体为200-250℃的耐热性),就没有特别的限定,可以使用以往公知的聚酰亚胺薄膜。
聚酰亚胺薄膜可以由含有聚酰胺酸的用于基板的聚酰胺酸组合物而得到,该聚酰胺酸是通过在有机溶剂中使二胺化合物和四羧酸类反应而得到的。用于基板的聚酰胺酸组合物也可以根据需要掺合含有氟的烷氧基硅烷。
作为二胺化合物,可以列举出例如:对苯二胺、4,4’-二氨基二苯醚、3,4’-二氨基二苯醚、4,4’-二氨基二苯甲烷、2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联苯、2,2’-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、1,4-双(4-氨基苯氧基)苯、9,9-双(4-氨基苯基)芴、5-氯-1,3-二氨基-2,4,6-三氯代苯、2,4,5,6-四氟-1,3-二氨基苯、2,4,5,6-四氟-1,3-二氨基苯、4,5,6-三氯-1,3-二氨基-2-氟代苯、5-溴-1,3-二氨基-2,4,6-三氟代苯、2,4,5,6-四溴-1,3-二氨基苯等。这些二胺化合物可以单独使用,也可以两种以上并用。这些二胺化合物中,优选对苯二胺、4,4’-二氨基二苯醚、3,4,-二氨基二苯醚、4,4’-二氨基二苯甲烷、2,4,5,6-四氟-1,3-二氨基苯、5-氯-1,3-二氨基-2,4,6-三氟代苯。
作为四羧酸类,可以列举出例如:四羧酸,如均苯四甲酸、3,3’,4,4’-联苯四甲酸、3,3’,4,4’-联苯醚四甲酸、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸、1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯、双(3,4-二羧基苯氧基)硫醚、六氟-3,3’,4,4’-联苯四甲酸、六氯-3,3’,4,4’-联苯四甲酸、六氟-3,3’,4,4’-联苯醚四甲酸、六氯-3,3’,4,4’-联苯醚四甲酸、双(3,4-二羧基三氟苯基)硫醚、双(3,4-二羧基三氯代苯基)硫醚、1,4-双(3,4-二羧基三氟苯氧基)四氟代苯、1,4-双(3,4-二羧基三氯代苯氧基)四氟代苯、1,4-双(3,4-二羧基三氟苯氧基)四氯代苯、1,4-双(3,4-二羧基三氯代苯氧基)四氯代苯、3,6-二氟均苯四甲酸、3,6-二氯代均苯四甲酸、3-氯-6-氟均苯四甲酸等;对应的酸二酐;对应的酰氯;对应的酯化物,如甲酯、乙酯等。这些四羧酸类可以单独使用也可以两种以上并用。这些四羧酸类中,优选均苯四甲酸、3,3’,4,4’-联苯四甲酸、3,3’,4,4’-联苯醚四甲酸、3,3’,4,4’-二苯甲酮四甲酸、六氟-3,3’,4,4’-联苯四甲酸、六氟-3,3’,4,4’-联苯醚四甲酸、1,4-双(3,4-二羧基三氟苯氧基)四氟代苯、1,4-双(3,4-二羧基三氟苯氧基)四氯代苯、以及它们所对应的酸二酐以及酰氯。
二胺化合物的添加量,只要是能够有效地与四羧酸类反应的量即可,没有特别的限制。具体地说,二胺化合物的添加量,其化学计量,与四羧酸类为等摩尔,但是在四羧酸类等的总摩尔数为1摩尔的情况下,优选为0.8-1.2摩尔,更优选为0.9-1.1摩尔。此时,二胺化合物的添加量小于0.8摩尔时,会残留较多的四羧酸类而使精制工序变得复杂,或者聚合度不会变大。相反,二胺化合物的添加量超过1.2摩尔时,会残留较多的二胺化合物而使精制工序会变得复杂,或者聚合度不会变大。
反应可以在有机溶剂中进行。有机溶剂只要是能够使二胺化合物与四羧酸类有效地进行反应、且对这些原料为惰性,就没有特别的限定。作为能够使用的有机溶剂,可以列举出例如极性有机溶剂,如N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、环丁砜、甲基异丁基甲酮、乙腈、苯腈等。这些有机溶剂可以单独使用也可以两种以上并用。另外,有机溶剂的量,只要是能使二胺化合物与四羧酸类的反应有效进行的量就没有特别的限定,优选为使有机溶剂中的二胺化合物的浓度为1-80质量%、更优选为5-50质量%的量。
二胺化合物与四羧酸类的反应条件,只要是能够使这些的反应充分进行的条件就没有特别的限定。例如,反应温度优选为0-100℃,更优选为20-50℃。另外,反应时间通常为1-144小时,优选为2-120小时。另外,反应可以在加压下、常压下或减压下的任意一种的压力下进行,但是优选在常压下进行。另外,二胺化合物与四羧酸类的反应,考虑到反应效率与聚合度等,优选在干燥后的惰性气体氛围下进行。此时的反应氛围的相对湿度优选为10%RH以下,更优选为1%RH以下。作为惰性气体可以使用氮气、氦气、氩气等。
由于用于基板的聚酰胺酸组合物在常温下是液体,可以通过在基材上适量涂布后,进行加热处理或减压干燥等处理,使组合物中的聚酰胺酸闭环从而得到构成基板的聚酰亚胺薄膜。
进行加热处理或减压干燥等处理的方法和条件,只要采用能使组合物中的聚酰胺酸有效闭环以制备所希望的聚酰亚胺薄膜的方法和条件即可,没有特别的限定。具体来说,加热处理可以在通常为空气中、优选在氮气、氦气、氩气等的惰性气体氛围中,优选在70-350℃左右的温度下,优选进行2-5小时。加热处理可以连续进行,也可以阶段性地进行。另外,减压处理通常在常温、冷却或者加热下,优选在1.33×10-1Pa(1×10-3Torr)~小于1.01×105Pa(760Torr)左右的减压下优选进行2-24小时左右。减压干燥可以连续进行也可以阶段性地进行。
用于基板的聚酰胺酸组合物,为了降低构成基板的聚酰亚胺薄膜的相对介电常数,也可以根据需要掺合含有氟的烷氧基硅烷。
作为含有氟的烷氧基硅烷的具体例子,可以列举出例如:(3,3,3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、(1H、1H、2H、2H-全氟辛基)三甲氧基硅烷、一氟三乙氧基硅烷、(1H、1H、2H、2H-全氟辛基)三甲乙基硅烷、(1H、1H、2H、2H-全氟癸基)三乙氧基硅烷、{3-(七氟异丙氧基)丙基}三乙氧基硅烷、(3,3,3-三氟丙基)甲基二甲氧基硅烷、(1H、1H、2H、2H-全氟辛基)甲基二甲氧基硅烷等。这些含有氟的烷氧基硅烷可以单独使用也可以两种以上并用。这些含有氟的烷氧基硅烷中,优选(3,3,3-三氟丙基)三甲氧基硅烷。
相对于组合物中的聚酰胺酸,含有氟的烷氧基硅烷的掺合量为1-90质量%、优选为5-80质量%、更优选为10-70质量%的范围内。含有氟的烷氧基硅烷的掺合量小于1质量%时,存在不能充分降低得到的聚酰亚胺薄膜的相对介电常数的情况。相反,含有氟的烷氧基硅烷的掺合量超过90质量%时,存在得到的聚酰亚胺薄膜的外观较差的情况。
构成基板的聚酰亚胺薄膜的厚度根据柔性光波导的用途和使用的光的波长等适当选择即可,没有特别的限定,但是具体来说优选为5-100μm、更优选为10-50μm的范围内。构成基板的聚酰亚胺薄膜的厚度小于5μm时,存在基板的强度降低的情况。相反,构成基板的聚酰亚胺薄膜的厚度超过100μm时,存在基板的柔性降低,或在由柔性光波导制备光电子混载模块的情况下,基板的光透明性降低的情况。
构成基板的聚酰亚胺薄膜的折射率没有特别的限定,例如可以通过在聚酰胺酸(或者卤代聚酰胺酸)、以及用于基板的聚酰胺酸组合物中掺合金属氧化物前驱体、用于由该前驱体生成金属氧化物的反应的催化剂、和/或具有反应性基团的偶联剂来进行调节。
作为金属氧化物前驱体,可以列举出例如:烷氧基硅烷及其缩合物,如四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、三甲氧基甲基硅烷、三乙氧基甲基硅烷、三丁氧基甲基硅烷、四苯氧基硅烷等;烷氧基钛化合物,如四甲氧基钛、四乙氧基钛、四异丙氧基钛、四正丁氧基钛等;烷氧基锆化合物,如四甲氧基锆、四乙氧基锆、四正丙氧基锆、四正丁基锆等。这些金属氧化物前驱体可以单独使用也可以两种以上并用。这些金属氧化物前驱体中,优选四甲氧基硅烷及其缩合物。
相对于组合物中的聚酰胺酸(或者卤代聚酰胺酸),金属氧化物前驱体的掺合量优选为5-60质量%,更优选为10-50质量%,进一步优选为15-40质量%。金属氧化物前驱体的掺合量小于5质量%时,存在不能充分控制聚酰亚胺薄膜的折射率的情况。相反,金属氧化物前驱体的掺合量超过60质量%时,存在聚酰亚胺薄膜的外观较差的情况。
作为金属氧化物前驱体,可以使用金属螯合物。作为金属螯合物可以列举出例如四乙酰丙酮钛、四乙酰丙酮锆、三丁氧基乙酰基丙酮锆、二丁氧基双(乙酰基丙酮)锆、丁氧基乙酰基丙酮(乙基丙酮)锆等。这些金属螯合物可以单独使用也可以两种以上并用。
作为催化剂,只要具有促进用于由金属氧化物前驱体生成金属氧化物的反应的作用就没有特别的限定,例如除盐酸、乙酸、乙二酸等的酸类,氨、有机胺等的碱类以外,还可以列举出硼酸三甲酯、亚磷酸三甲酯等。这些催化剂可以单独使用也可以两种以上并用。这些催化剂中优选硼酸三甲酯。
在组合物中掺合催化剂的情况下,相对于组合物中的聚酰胺酸(或者卤代聚酰胺酸),催化剂的掺合量优选为0.02-15质量%、更优选为0.1-10质量%、进一步优选为0.2-5质量%。催化剂的掺合量小于0.02质量%时,存在不能由金属氧化物前驱体充分地生成金属氧化物的情况。相反,催化剂的掺合量超过15质量%时,存在催化剂的作用饱和,同时使用必要量以上的催化剂而使制造成本上升的情况。
作为具有反应性基团的偶联剂,可以列举出例如:含有氨基的硅烷偶联剂,如γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷等;含有氨烷基氨基的偶联剂,如γ-(2-氨乙基)氨丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨乙基)氨丙基三乙氧基硅烷、γ-(3-氨丙基)氨丙基三甲氧基硅烷、γ-(3-氨丙基)氨丙基三乙氧基硅烷等;含有环氧丙氧基的硅烷偶联剂,如γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷等;含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂,如γ-异氰酸酯丙基三甲氧基硅烷等;含有乙烯基的硅烷偶联剂,如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等;含有丙烯酰氧基的硅烷偶联剂,如γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等;含有异丁烯基的硅烷偶联剂,如γ-异丁烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-异丁烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-异丁烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-异丁烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷等;含有巯基的硅烷偶联剂,如γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷等;含有卤代基的硅烷偶联剂,如γ-氯丙基三甲氧基硅烷等;含有氨基的钛酸酯系偶联剂,如异丙基三(5-氨戊基)钛酸酯、异丙基三(6-氨己基)钛酸酯、异丙基三(7-氨庚基)钛酸酯、异丙基三(8-氨辛基)钛酸酯等;含有氨烷基氨基的钛酸酯系偶联剂,如异丙基三(2-氨乙基-氨乙基)钛酸酯、异丙基三(2-氨乙基-氨丙基)钛酸酯、异丙基三(3-氨丙基-氨乙基)钛酸酯、异丙基三(3-氨丙基-氨丙基)钛酸酯等。这些偶联剂可以单独使用也可以两种以上并用。这些偶联剂中,优选硅烷偶联剂,特别优选含有氨基的硅烷偶联剂,如γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷等。
在组合物中掺合偶联剂的情况下,相对于组合物中的聚酰胺酸(或者为卤代聚酰胺酸),偶联剂的掺合量优选为1-20质量%,更优选为1.5-18质量%,进一步优选为2-15质量%。偶联剂的掺合量不足1质量%时,加热处理、减压干燥等的处理后,存在发生聚酰亚胺与金属氧化物相分离,聚酰亚胺薄膜的外观、透明性乙基表面平滑性降低的情况。相反,偶联剂的掺合量超过20质量%时,存在在聚酰胺酸组合物的制备时发生凝胶化的情况。
由于使用上述用于基板的聚酰胺酸组合物时,得到的聚酰亚胺薄膜的柔性以及耐热性良好,因此,作为柔性光波导的基板能发挥出很好的性能。另外,由于构成基板的聚酰亚胺薄膜的耐热性良好,因此能够由柔性光波导制备光电子混载模板。
<下部覆盖层>
在本发明的柔性光波导中,作为构成下部覆盖层的树脂薄膜,只要具有柔性,而且在具有基板的情况下具有相对于构成基板的聚酰亚胺薄膜的粘接性、相对于构成中心层的树脂薄膜的粘接性以及相对于构成上部覆盖层的树脂薄膜的粘接性,就没有特别的限定,可以使用以往公知的用作光波导的材料,例如使用由环氧树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、环烯烃树脂、聚醚砜树脂、聚醚酮树脂、聚醚腈树脂、硅烷系树脂、硅树脂等构成的薄膜。这些树脂薄膜中,从粘接性方面来看,优选由环氧树脂构成的薄膜、即环氧薄膜,更优选使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,进一步优选使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜,该环氧树脂组合物含有聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。另外,从耐热性方面来看,优选由聚酰亚胺树脂构成的薄膜、即聚酰亚胺薄膜(包括卤代聚酰亚胺薄膜),在具有基板的情况下,在与构成基板的聚酰亚胺薄膜相同的聚酰亚胺薄膜中,进一步从防止吸水方面来看,更优选卤代聚酰亚胺薄膜,进一步优选氟代聚酰亚胺薄膜。
例如,在由环氧薄膜构成下部覆盖层的情况下,该环氧薄膜由用于下部覆盖层的环氧树脂组合物而形成,用于下部覆盖层的环氧树脂组合物优选与上述说明过的环氧树脂组合物同样地进行制备。用于下部覆盖层的环氧树脂组合物,例如通过适当选择作为原料的具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的分子量,可以不用溶剂而在温度为23℃下将粘度调节到10-100000mPa·s的范围内。另外,构成下部覆盖层的环氧薄膜,例如可以通过在基材或基板上涂布用于下部覆盖层的环氧树脂组合物并固化而形成。另外,构成下部覆盖层的环氧薄膜的形成条件与上述说明过的环氧薄膜相同。
例如,在由聚酰亚胺薄膜构成下部覆盖层的情况下,该聚酰亚胺薄膜由用于下部覆盖层的聚酰胺酸组合物而形成,用于下部覆盖层的聚酰胺酸组合物优选与用于基板的聚酰胺酸组合物同样地进行制备。另外,构成下部覆盖层的聚酰亚胺薄膜,优选可以通过在基材或基板上涂布用于下部覆盖层的聚酰胺酸组合物并固化而形成。另外,构成下部覆盖层的聚酰亚胺薄膜的形成条件与构成基板的聚酰亚胺薄膜相同。
构成下部覆盖层的树脂薄膜的厚度,根据柔性光波导的用途和使用的光的波长等适当选择即可,没有特别的限定,具体来说,优选为5-1000μm,更优选为10-500μm,进一步优选为20-100μm的范围内。构成下部覆盖层的树脂薄膜的厚度小于5μm时,存在柔性光波导的强度降低的情况。相反,构成下部覆盖层的树脂薄膜的厚度超过1000μm时,存在柔性光波导的柔性降低的情况。
另外,在具有基板的情况下,为了同时实现相对于基板的下部覆盖层的粘接性和光波导薄膜的强度,构成下部覆盖层的环氧薄膜也可以具有两层或两层以上的多层结构。例如,对于形成两层结构的下部覆盖层,在基板上形成不掺合脂环式环氧树脂的第1层,在该第1层上形成掺合有脂环式环氧树脂的第2层即可。
构成下部覆盖层的树脂薄膜的折射率只要比构成中心层的树脂薄膜的折射率低,就没有特别的限定,例如可以根据用于下部覆盖层的环氧树脂组合物的组成(例如具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的掺合比)或者用于下部覆盖层的聚酰胺酸组合物的组成(例如制备聚酰胺酸时所使用的二胺化合物以及四羧酸类的种类;在聚酰胺酸具有卤素原子的情况下,卤素原子的种类和数量;或者在用于下部覆盖层的聚酰胺酸组合物中掺合金属氧化物前驱体等的情况下,金属氧化物前驱体的种类和掺合量)在1.45-1.65的范围内任意调节。在此,所谓折射率,意思是使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在温度为23℃下测定的波长为830nm时的折射率。
由于使用上述优选的用于下部覆盖层的环氧树脂组合物时,得到的环氧薄膜相对于构成中心层和上部覆盖层的树脂薄膜的粘接性良好,因此可以使用以往公知的用作光波导的树脂薄膜来作为构成中心层和上部覆盖层的树脂薄膜。另外,由于使用上述说明过的环氧树脂组合物来作为用于下部覆盖层的环氧树脂组合物时,得到的环氧薄膜不仅柔性、弯曲性良好,而且在具有基板的情况下,相对于构成基板的聚酰亚胺薄膜的粘接性也良好,因此没必要象以往的技术那样在基板上用粘接剂粘贴光波导薄膜,而能直接在基板上粘接下部覆盖层而形成。
<中心层>
在本发明的柔性光波导中,作为构成中心层的树脂薄膜,只要波导损失低而且图案成形性良好就没有特别的限定,可以使用以往公知的用于柔性光波导的材料,例如可以使用由环氧树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、环烯烃树脂、聚醚砜树脂、聚醚酮树脂、聚醚腈树脂、硅烷系树脂、硅树脂等构成的薄膜。这些树脂薄膜中,从粘接性方面来看,优选由环氧树脂构成的薄膜、即环氧薄膜,更优选使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,进一步优选使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜,该环氧树脂组合物含有聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。另外,从耐热性方面来看,优选由聚酰亚胺树脂构成的薄膜、即聚酰亚胺薄膜(包括卤代聚酰亚胺薄膜),在具有基板的情况下,在与构成基板的聚酰亚胺薄膜相同的聚酰亚胺薄膜中,更优选卤代聚酰亚胺薄膜,进一步优选部分氟代聚酰亚胺薄膜。
例如,在由环氧薄膜构成中心层的情况下,该环氧薄膜由用于中心层的环氧树脂组合物而形成,优选情况下,用于中心层的环氧树脂组合物,除为了调节所得到的环氧薄膜的折射率而改变组成(例如掺合成分的种类和掺合量)以外,与用于下部覆盖层的环氧树脂组合物同样地进行制备。用于中心层的环氧树脂组合物,例如通过适当选择作为原料的具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的分子量,可以不用溶剂而在温度为23℃下将粘度调节到10-100000mPa·s的范围内。另外,构成中心层的环氧薄膜,优选通过在下部覆盖层上涂布用于中心层的环氧树脂组合物后,覆盖掩模并固化,然后除去未固化部分而形成。另外,构成中心层的环氧薄膜的形成条件与上述说明过的环氧薄膜相同。
例如,在由聚酰亚胺薄膜构成中心层的情况下,该聚酰亚胺薄膜由用于中心层的聚酰胺酸组合物而形成,优选情况下,用于中心层的聚酰胺酸组合物,除为了调节所得到的聚酰亚胺薄膜的折射率而改变组成(例如掺合成分的种类和掺合量)以外,与用于基板的聚酰胺酸组合物同样地进行制备。另外,构成中心层的聚酰亚胺薄膜,优选可以通过在下部覆盖层上涂布用于中心层的聚酰胺酸组合物后,固化并形成带有图案的保护层,然后除去未覆盖部分而形成。另外,构成中心层的聚酰亚胺薄膜的形成条件与构成基板的聚酰亚胺薄膜相同。
构成中心层的树脂薄膜的厚度和宽度,根据柔性光波导的用途和使用的光的波长等适当选择即可,没有特别的限定,具体来说,优选为5-1000μm,更优选为10-500μm,进一步优选为20-100μm的范围内。构成中心层的树脂薄膜的厚度和宽度小于5μm时,存在在中心层中传播的光的量降低的情况。相反,构成中心层的树脂薄膜的厚度和宽度超过1000μm时,存在柔性光波导的柔性降低的情况。
构成中心层的树脂薄膜的折射率只要比构成下部覆盖层的环氧薄膜的折射率以及构成上部覆盖层的树脂薄膜的折射率高,就没有特别的限定,例如可以根据用于中心层的环氧树脂组合物的组成(例如具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的掺合比)或者用于中心层的聚酰胺酸组合物的组成(例如制备聚酰胺酸时所使用的二胺化合物以及四羧酸类的种类;在聚酰胺酸具有卤素原子的情况下,卤素原子的种类和数量;或者在用于中心层的聚酰胺酸组合物中掺合金属氧化物前驱体等的情况下,金属氧化物前驱体的种类和掺合量)在1.45-1.65的范围内任意调节。在此,所谓折射率,意思是使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRONTECHNOLOGY,INC.制)在温度为23℃下测定的波长为830nm时的折射率。
另外,包埋在上部覆盖层中的中心层的数量,根据柔性光波导的用途等适当设定即可,没有特别的限定,可以为一个或一个以上。另外,中心层也可以根据柔性光波导的用途等形成为所规定的图案形状。
<上部覆盖层>
在本发明的柔性光波导中,作为构成上部覆盖层的树脂薄膜,只要具有柔性,而且具有相对于构成下部覆盖层的树脂薄膜的粘接性、以及相对于构成中心层的树脂薄膜的粘接性,就没有特别的限定,可以使用以往公知的用于光波导的材料,例如可以使用由环氧树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、环烯烃树脂、聚醚砜树脂、聚醚酮树脂、聚醚腈树脂、硅烷系树脂、硅树脂等构成的薄膜。这些树脂薄膜中,从粘接性方面来看,优选由环氧树脂构成的薄膜、即环氧薄膜,更优选含有多缩水甘油基化合物的环氧薄膜,该多缩水甘油基化合物具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基,进一步优选含有聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚的环氧薄膜。另外,从耐热性方面来看,优选由聚酰亚胺树脂构成的薄膜、即聚酰亚胺薄膜(包括卤代聚酰亚胺薄膜),在与构成基板的聚酰亚胺薄膜相同的聚酰亚胺薄膜中,从防止吸水方面来看,更优选卤代聚酰亚胺薄膜,进一步优选氟代聚酰亚胺薄膜。
例如,在由环氧薄膜构成上部覆盖层的情况下,该环氧薄膜由用于上部覆盖层的环氧树脂组合物而形成,用于上部覆盖层的环氧树脂组合物优选与用于下部覆盖层的环氧树脂组合物同样地进行制备。用于上部覆盖层的环氧树脂组合物,例如通过适当选择作为原料的具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的分子量,可以不用溶剂而在温度为23℃下将粘度调节到10-100000mPa·s的范围内。另外,构成上部覆盖层的环氧薄膜,例如可以通过在下部覆盖层包括中心层上涂布用于上部覆盖层的环氧树脂组合物并固化而形成。另外,构成上部覆盖层的环氧薄膜的形成条件与上述说明过的环氧薄膜相同。
例如,在由聚酰亚胺薄膜构成上部覆盖层的情况下,该聚酰亚胺薄膜由用于上部覆盖层的聚酰胺酸组合物而形成,用于上部覆盖层的聚酰胺酸组合物优选与用于基板的聚酰胺酸组合物同样地进行制备。另外,构成上部覆盖层的聚酰亚胺薄膜,优选可以通过在下部覆盖层包括中心层上涂布用于上部覆盖层的聚酰胺酸组合物并固化后而形成。另外,构成上部覆盖层的聚酰亚胺薄膜的形成条件与构成基板的聚酰亚胺薄膜相同。
构成上部覆盖层的树脂薄膜的厚度,根据柔性光波导的用途和使用的光的波长等适当选择即可,没有特别的限定,具体来说,优选为5-1000μm,更优选为10-500μm,进一步优选为20-100μm的范围内。构成上部覆盖层的树脂薄膜的厚度小于5μm时,存在不能形成充分的厚度的中心层的情况。相反,构成上部覆盖层的树脂薄膜的厚度超过1000μm时,存在柔性光波导的柔性降低的情况。
构成上部覆盖层的树脂薄膜的折射率只要比构成中心层的树脂薄膜的折射率低,就没有特别的限定,例如可以根据用于上部覆盖层的环氧树脂组合物的组成(例如具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的掺合比)或者用于上部覆盖层的聚酰胺酸组合物的组成(例如制备聚酰胺酸时所使用的二胺化合物以及四羧酸类的种类;在聚酰胺酸具有卤素原子的情况下,卤素原子的种类和数量;或者在用于上部覆盖层的聚酰胺酸组合物中掺合金属氧化物前驱体等的情况下,金属氧化物前驱体的种类和掺合量)在1.45-1.65的范围内任意调节。在此,所谓折射率,意思是使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在温度为23℃下测定的波长为830nm时的折射率。
由于使用上述说明过的环氧树脂组合物作为用于上部覆盖层的环氧树脂组合物时,得到的环氧薄膜相对于构成下部覆盖层和中心层的树脂薄膜的粘接性良好,因此可以使用以往公知的用作光波导的树脂薄膜来作为构成下部覆盖层和中心层的树脂薄膜。另外,使用上述说明过的环氧树脂组合物来作为用于上部覆盖层的环氧树脂组合物时,得到的环氧薄膜的柔性、弯曲性良好。
《柔性光波导的用途》
与通常的光波导一样,本发明的柔性光波导用于各种光波导装置中。在此,所谓光波导装置,意思是具备光波导的装置,例如可以举出光合波器和光分波器、分离器、光电转换元件、波长过滤器、AWG等。本发明的柔性光波导柔性良好、弯曲性强,以半径为1mm可以弯曲180度,另外,以半径为10mm弯曲90度后,或者以半径为1mm弯曲180度后,在恢复到原来的状态下测定波导损失的情况下,显示出与弯曲前不变的波导损失的值,因此可以实现光波导装置的小型化。另外,本发明的柔性光波导也可以用于光配线中。
本发明的柔性光波导,由于在由聚酰亚胺形成的基板上形成光波导薄膜的情况下,即使在高温高湿的环境下长时间静置后,基板与光波导薄膜之间的粘接性也良好,显示出高的耐湿热性,因此可以得到能在苛刻的条件下使用的光波导装置。另外,本发明的柔性光波导,由于构成基板的聚酰亚胺薄膜的耐热性良好,因此可以制备光电子混载模块。这样的光电子混载模块具有弯曲性强的特性,适合用于电子设备中要求柔性的部位(例如铰链部分),该电子设备包括移动电话、数码相机、数码摄像机、家庭用以及携带用游戏机、笔记本电脑、高速打印机等。
《柔性光波导的制备方法》
本发明的制备方法的特征在于,该制备方法包括形成下部覆盖层的工序、在该下部覆盖层上形成中心层的工序、以及以包埋该中心层的方式在该下部覆盖层和该中心层上形成上部覆盖层的工序,构成该下部覆盖层、该中心层以及该上部覆盖层中的至少一层的环氧薄膜是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
在该制备方法中,下部覆盖层由用于下部覆盖层的树脂组合物而形成,中心层由用于中心层的树脂组合物而形成,上部覆盖层由用于上部覆盖层的树脂组合物而形成。用于下部覆盖层的树脂组合物、用于中心层的树脂组合物以及用于上部覆盖层的树脂组合物中的至少一个为含有多缩水甘油基化合物的环氧树脂组合物,该多缩水甘油基化合物具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基。另外,在用于下部覆盖层的树脂组合物、和/或用于中心层的树脂组合物、和/或用于上部覆盖层的树脂组合物含有溶剂的情况下,由含有溶剂的树脂组合物形成涂膜后,有必要设置将涂膜干燥的工序。
作为形成基板、下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的方法,采用以往公知的方法即可,没有特别的限制,例如可以列举出如下的方法:用旋涂法、刮条涂布法、辊涂法、凹版涂布法、刮板涂布法等以往公知的涂布法,在基板的情况下,将用于基板的聚酰胺酸组合物涂布到基材上;在下部覆盖层的情况下,将用于下部覆盖层的树脂组合物涂布到基材或基板上;在中心层的情况下,将用于中心层的树脂组合物涂布到下部覆盖层上;在上部覆盖层的情况下,将用于上部覆盖层的树脂组合物涂布到下部覆盖层包括中心层上后,进行固化。另外,中心层的情况下,将用于中心层的树脂组合物涂布到下部覆盖层上后,有必要覆盖掩模并固化,然后除去未固化部分;或者将用于中心层的树脂组合物涂布到下部覆盖层上后,有必要固化并形成带有图案的保护层,然后除去未覆盖部分。另外,作为形成中心层的方法,除上述方法以外,也可以使用凸版印刷、凹版印刷、金属模成型法、分配器法(デイスペンサ法)、喷墨法等。另外,也可以不使用基材,由构成下部覆盖层的环氧薄膜或其它树脂薄膜出发,构成中心层以及上部覆盖层;或者由构成基板的聚酰亚胺薄膜出发,形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层。
或者,如特开2007-139898号公报或特开2007-139900号公报中所公开的那样,也可以使用下述方法:将基材划片来制作表面上形成有沟的凹型,由该凹型来制作硅材料制或镀Ni制的凸型,使用该凸型来形成具有中心沟的下部覆盖层,使用微分配器在该中心沟上填充用于中心层的树脂组合物并固化以形成中心层,在包括该中心层的下部覆盖层上形成上部覆盖层。另外,凹型也可以用以往公知的方法来制作,可以列举出例如:使用感光性树脂等的抗蚀剂和具有所希望的光波导图案的光掩模,利用光刻法而形成的方法;使用用于加工金属的工具,将金属切割成所希望的光波导图案的方法等。或者,也可以在制成凸型后,由该凸型来制作凹型,使用该凹型来在下部覆盖层上形成具有所希望的中心图案的中心层。
以下参照图3对图1所示的柔性光波导的制备方法的代表例进行详细说明,但是本发明的制备方法并不限定于下述代表例,可以适当改变并实施。在此,图3为下部覆盖层由光固化或热固化树脂薄膜、中心层由光固化树脂薄膜、上部覆盖层由光固化或热固化树脂薄膜而构成的情况。在图3中,符号12、13以及15与图1中具有相同的意思,11的意思是基材,14的意思是光掩模。另外,在图3的(f)中,只形成有一个中心层13,根据柔性光波导的用途,也可以形成两个或两个以上中心层。另外,中心层13形成为相对于纸面向垂直方向延伸的直线状,但是根据柔性光波导的用途等,也可以形成为所规定的图案形状。
首先,如图3的(a)所示,在硅基板或石英玻璃等基材11上滴加用于下部覆盖层的光固性或热固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜,对该涂膜进行紫外线照射或加热处理等,形成由光固化或热固化树脂薄膜形成的下部覆盖层12。进一步如图3的(b)所示,在下部覆盖层12上滴加用于中心层的光固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜;进一步如图3的(c)所示,在中心层13上覆盖光掩模14,进行紫外线照射,用适当的溶剂来冲洗未固化部分;如图3的(d)所示,形成带有图案的中心层13。然后,如图3的(e)所示,在中心层13上以及未被中心层13覆盖的下部覆盖层12上滴加用于上部覆盖层的光固性或热固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜,对该涂膜进行紫外线照射或加热处理等,形成由光固化或热固化树脂薄膜形成的上部覆盖层15。最后,通过从基材11上剥离光波导薄膜,得到如图3的(f)所示的下部覆盖层12、中心层13以及上部覆盖层15为由光固化或热固化树脂薄膜构成的柔性光波导。另外,下部覆盖层12、中心层13以及上部覆盖层15中的至少一层由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
以下参照图4以及图5,对图2所示的柔性光波导的制备方法的代表例进行详细的说明,但是本发明的制备方法并不限定于下述代表例,可以适当改变并实施。图4为基板由聚酰亚胺薄膜、下部覆盖层由光固化或热固化树脂薄膜、中心层由光固化薄膜、上部覆盖层由光固化或热固化树脂薄膜而构成的情况,图5为基板由聚酰亚胺薄膜、下部覆盖层由光固化或热固化树脂薄膜、中心层由热固化树脂薄膜、上部覆盖层由光固化或热固化树脂薄膜而构成的情况。在图4以及图5中,符号21-23以及25与图2中具有相同的意思,24的意思是光掩模,26的意思是保护层。另外,在图4的(e)以及图5的(e)中,只形成有一个中心层23,根据柔性光波导的用途等,也可以形成两个或两个以上中心层。另外,中心层23形成为相对于纸面向垂直方向延伸的直线状,但是根据柔性光波导的用途等,也可以形成为所规定的图案形状。
首先,在硅基板或石英玻璃等基材(未图示)上滴加用于基板的聚酰胺酸组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行加热处理、减压干燥等处理,形成由聚酰亚胺薄膜形成的基板21。然后,如图2的(a)所示,在基板21上滴加用于下部覆盖层的光固性或热固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行紫外线照射或加热处理等,形成由光固化或热固化树脂薄膜形成的下部覆盖层22。进一步如图4的(b)所示,在下部覆盖层22上滴加用于中心层的光固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜;进一步如图4的(c)所示,在中心层23上覆盖光掩模24,进行紫外线照射,用适当的溶剂来冲洗未固化部分;如图4的(d)所示,形成带有图案的中心层23。然后,如图4的(e)所示,在中心层23上以及未被中心层23覆盖的下部覆盖层22上滴加用于上部覆盖层的光固性或热固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行紫外线照射或加热处理等,形成由光固化或热固化树脂薄膜形成的上部覆盖层25。最后,通过从基材(未图示)上剥离包括基板21在内的光波导薄膜,得到如图4的(e)所示的基板21由聚酰亚胺薄膜构成,下部覆盖层22、中心层23以及上部覆盖层25由光固化或热固化树脂薄膜构成的柔性光波导。另外,下部覆盖层22、中心层23以及上部覆盖层25中的至少一层由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
或者,首先,在硅基板或石英玻璃等基材(未图示)上滴加用于基板的聚酰胺酸组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行加热处理、减压干燥等处理,形成由聚酰亚胺薄膜形成的基板21。然后,如图5的(a)所示,在基板21上滴加用于下部覆盖层的热固性或光固性组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行紫外线照射或加热处理等,形成由光固化或热固化树脂薄膜形成的下部覆盖层22。进一步如图5的(b)所示,在下部覆盖层22上滴加用于中心层的热固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行加热处理等,形成由热固化树脂薄膜形成的中心层23。进一步如图5的(c)所示,在中心层23上涂布光致抗蚀剂,进行预焙、曝光、显影、二次焙烧,形成带有图案的保护层26。接着,如图5的(d)所示,通过干法刻蚀除去中心层中未被保护层26覆盖的部分后,剥离保护层26,在下部覆盖层22上形成带有图案的中心层23。然后,如图5的(e)所示,在中心层23上和未被中心层23覆盖的下部覆盖层22上滴加用于上部覆盖层的光固性或热固性树脂组合物,用旋涂法等进行制膜,对该覆膜进行紫外线照射或加热处理等,形成由光固化或热固化树脂薄膜形成的上部覆盖层25。最后,通过从基材(未图示)上剥离包括基板21在内的光波导薄膜,得到如图5的(e)所示的基板21由聚酰亚胺薄膜构成、下部覆盖层22、中心层23以及上部覆盖层25由光固化或热固化树脂薄膜构成的柔性光波导。另外,下部覆盖层22、中心层23以及上部覆盖层25中的至少一层由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物。
另外,本发明的柔性光波导的制备方法,如上述说明过的制备方法,不限于单个地制备柔性光波导的单晶圆工艺,也可以采用如下所述的两种能够连续地得到柔性光波导的连续工艺:预先使用用于下部覆盖层的光固性或热固性树脂组合物来制备构成下部覆盖层的光固化或热固化树脂薄膜的辊,一边拉出该辊,一边依次在构成下部覆盖层的光固化或热固化树脂薄膜上形成中心层以及上部覆盖层,从而连续地得到柔性光波导;或者在具有由聚酰亚胺薄膜形成的基板的情况下,预先使用用于基板的聚酰胺酸组合物来制备构成基板的聚酰亚胺薄膜的辊,一边拉出该辊,一边依次在构成基板的聚酰亚胺薄膜上形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层,从而连续地得到柔性光波导。
本发明的柔性光波导的制备方法,在不具有基板的情况下,不形成构成基板的薄膜,而是采用通过依次形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层从而制备光波导薄膜的方法。由于采用该方法时,不需要特别形成构成基板的薄膜的工序,因此能简便地制备柔性光波导,能够实现制造成分的大幅度降低。
本发明的柔性光波导的制备方法,在具有基板的情况下,不用如以往的技术那样,用粘接剂将预先制备的光波导薄膜粘接在基板上,或者将预先制备的环氧树脂薄膜真空层压在基板上后进行固化,而是采用通常在基板上依次形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层从而制备光波导薄膜的方法。由于采用该方法时,不需要特别在基板与下部覆盖层之间设置粘接剂层等的工序,而且依次在基板上形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层,因此能在基板上简便地形成柔性光波导,能够实现制造成分的大幅度降低。
《用于柔性光波导的环氧树脂组合物》
本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物的特征在于,该组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,该组合物固化后的折射率为1.45-1.65。另外,作为具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,特别优选聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
在此,所谓固化后的折射率,意思是由该树脂组合物得到的环氧薄膜的折射率。另外,所谓折射率,意思是使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在温度为23℃下测定的波长为830nm时的折射率。
本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物,除作为必须成分的具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物以外,还可以含有胺系固化剂或阳离子聚合引发剂、以及根据需要而含有的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂。在此,关于具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、双酚型环氧树脂、脂环式环氧树脂、胺系固化剂以及阳离子聚合引发剂的具体例和掺合量,如上述说明。另外,本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物还可以含有溶剂。作为溶剂只要能够溶解上述环氧树脂就没有特别的限定。
本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物,通过适当选择作为原料的具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的分子量,可以不用溶剂而在温度为23℃下将粘度调节到10-100000mPa·s的范围内。
由本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物来制备构成下部覆盖层和/或上部覆盖层的环氧薄膜时,可以通过调节具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的掺合比,使得其固化后的折射率在1.45-1.65的范围内,且该折射率比构成中心层的环氧薄膜或其它树脂薄膜的折射率低优选为0.01以上,更优选为0.03以上,进一步优选为0.05以上。
另外,由本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物制备构成中心层的环氧薄膜时,可以通过调节具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物、以及根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的掺合比,使得其固化后的折射率在1.45-1.65的范围内,且该折射率比构成下部覆盖层和/或上部覆盖层的环氧薄膜或其它树脂薄膜的折射率高优选为0.01以上,更优选为0.03以上,进一步优选为0.05以上。
本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物可以制成柔性良好、弯曲性强的环氧薄膜。因而,具有由这样的环氧薄膜构成的下部覆盖层和/或中心层和/或上部覆盖层的柔性光波导,柔性良好,弯曲性强,以半径为1mm能弯曲180度,另外,以半径为10mm弯曲90度后,或者以半径为1mm弯曲180度后,在恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
实施例
以下列举实施例对本发明进行更具体的说明,但是本发明当然并不限制于下述实施例,可以在能适合前、后述的宗旨的范围内适当地进行改变并实施,这些全部包括在本发明的技术范围内。
首先,作为实施例以及比较例制备的柔性光波导的评价方法,对波导损失以及耐湿热性的测定方法进行说明。
《波导损失的测定》
对于得到的柔性光波导,使用切割锯(ダイシングン一)(产品名称为DAD321、(株)デイスコ制),切割端面使得光波导的长度为5cm,形成光入射口以及光出射口。在波长为850nm的发光二极管上连接中心径为50μm的石英光纤,将光纤的另一端作为入射光纤端。另外,在光功率计(产品名称为MT9810A、アンリツ(株)制)上连接中心径为50μm的石英光纤,将光纤的另一端作为出射光纤端。将入射光纤端和出射光纤端对接后,用自动调芯机(河精機(株)制)进行对位,使得光功率计(产品名称为MT9810A、アンリツ(株)制)的强度变为最大光量,将此时的光强度记为Ref(dBm)。接着,分别将入射光纤端和出射光纤端与光波导的端面对接,用自动调芯机(河精機(株)制)进行各自的光纤的对位,使得光功率计(产品名称为MT9810A、アンリツ(株)制)的强度变为最大光量,将此时的光强度记为OBS(dBm)。光波导为5cm的插入损耗INT(dB)用式:Ref(dBm)-OBS(dBm)算出。接着,用切割锯(产品名称为DAD321、(株)デイスコ制),通过从光波导的一个端面切割内侧1cm,得到长度为4cm的光波导后,与上述同样地,算出光波导为4cm的插入损耗INT(dB)。同样地,每次切割1cm光波导,直到光波导为1cm,重复进行插入损耗INT(dB)的计算。以光波导的长度(cm)为横轴、以插入损耗INT(dB)为纵轴,将各数据作图,从得到的直线的倾斜度得到光波导的波导损失(dB/cm)。该方法为一般称之为剪断法的方法。
《耐湿热性的评价》
将包括得到的柔性光波导的基板的光波导薄膜放入恒温恒湿机(产品名称为SH-221、エスペツク(株)制),在温度为85℃、相对湿度为85%RH的环境下,静置2000小时后,观察外观。
然后,对用于制备柔性光波导的用于覆盖层的环氧树脂组合物、用于中心层的环氧树脂组合物、用于基板的聚酰胺酸组合物、以及用于覆盖层的聚酰胺酸组合物的制备进行说明。
《用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり
Figure BSA00000560353100401
太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将41质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、55质量份的双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)828EL、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、4质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)的粘度,为540mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)的折射率,为1.53。用差示扫描热量计(产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)的玻璃化温度(Tg),为-2℃。用TG/DTA同时测定装置(产品名称为DTG-50、(株)岛津制作所制)在氮气氛围下在10℃/min的升温条件下测定固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)减少5%质量的温度,为333℃。
另外,将固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)粉碎,将得到的粉末填充到直径为4mm的氧化锆制样品管中。在12000Hz下对样品管进行纺丝(スピニング),进行13C-固体NMR测定。测定装置为核磁共振装置(产品名称为AVANCE400、ブルカ一·バイオスピン(株)制),使用用于固体测定的4mm探针。在如下测定条件下进行:共振频率为100.63MHz下通过CP/MAS(交叉极化/魔角旋转)法,在90°脉冲宽度为4.5μsec、接触时间为2msec下进行。化学位移,用外标法测得甘氨酸的羰基波峰在176.03ppm处。
这样测定的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)的固化后的13C-固体NMR图谱如图6所示。在图6中,28.8ppm的特征峰来自于夹在醚键中的四亚甲基链的内侧的两个碳原子。这通过比较图6中所示的13C-固体NMR图谱与图7中所示的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)的固化物的13C-固体NMR图谱是很明显的。
如上所述,进行13C-固体NMR测定来分析环氧树脂组合物的固化物时,可以确认固化物中的聚亚烷基二醇链、聚四亚甲基醚二醇链的存在。
《用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将8质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、55质量份的双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)828EL、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、33质量份的氢化双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)YX8000、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、4质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)的粘度,为3000mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)的折射率,为1.53。用差示扫描热量计(产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)的玻璃化温度(Tg),为75℃。
《用于覆盖层的环氧树脂组合物(3)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将64质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、32质量份的双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)828EL、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、4质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于覆盖层的环氧树脂组合物(3)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于覆盖层的环氧树脂组合物(3)的粘度,为180mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(3)的折射率,为1.50。用差示扫描热量计(产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(3)的玻璃化温度(Tg),为-21℃。
《用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり
Figure BSA00000560353100431
太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将38质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、58质量份的脂环式环氧树脂(商品名称为セロキサイド(注册商标)2081、ダイセル化学(株)制)、4质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)的粘度,为110mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)的折射率,为1.50。用差示扫描热量计(产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定固化后的用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)的玻璃化温度(Tg),为13℃。
《用于中心层的环氧树脂组合物(1)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり
Figure BSA00000560353100441
太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将9质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、45质量份的双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)828EL、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、45质量份的溴代双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)5050、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、1质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于中心层的环氧树脂组合物(1)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于中心层的环氧树脂组合物(1)的粘度,为83680mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于中心层的环氧树脂组合物(1)的折射率,为1.58。用差示扫描热量计(产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定固化后的用于中心层的环氧树脂组合物(1)的玻璃化温度(Tg),为49℃。
《用于中心层的环氧树脂组合物(2)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり
Figure BSA00000560353100442
太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将28质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、71质量份的双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)828EL、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、1质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于中心层的环氧树脂组合物(2)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于中心层的环氧树脂组合物(2)的粘度,为1210mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于中心层的环氧树脂组合物(2)的折射率,为1.55。用差示扫描热量计(产品名称为DSC220、セイコ一電子工業(株)制)在氮气氛围下在20℃/min的升温条件下测定固化后的用于中心层的环氧树脂组合物(2)的玻璃化温度(Tg),为25℃。
《用于中心层的环氧树脂组合物(3)的制备》
用自转·公转式离心混合装置(产品名称为あわとり太郎(注册商标)、(株)シンキ一制)将28质量份的聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚(商品名称为jER(注册商标)YL7217、ジヤパンエポキシレジン(株)制;数均分子量为700-800)、71质量份的双酚A型环氧树脂(商品名称为jER(注册商标)YL6810、ジヤパンエポキシレジン(株)制)、1质量份的六氟化磷酸芳基锍盐(商品名称为UVI-6992、ザ·ダウ·ケミカル·カンパニ一制)进行混合,从而配制得到用于中心层的环氧树脂组合物(3)。
用流变计(产品名称为RC20-CPS、(株)レオテツク制)在温度为23℃下测定用于中心层的环氧树脂组合物(3)的粘度,为690mPa·s。另外,用棱镜耦合器(产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定在与后述的实施例1同样的固化条件下得到的固化后的用于中心层的环氧树脂组合物(3)的折射率,为1.55。
《用于基板的聚酰胺酸组合物(1)的制备》
在容量为50mL的三口烧瓶中加入1.80g(10.0mmol)的2,4,5,6-四氟-1,3-二氨基苯,5.82g(10.0mmol)的下述式(2)所示的4,4’-[(2,3,5,6-四氟-1,4-亚苯基)双氧]双(3,5,6-三氟苯二甲酸酐)(即1,4-双(3,4-羧基三氟苯氧基)四氟苯的酸二酐)、12.4g的N,N-二甲基乙酰胺。通过在氮气氛围下在室温下将该混合液搅拌6天,得到固体成分为38.0质量%的用于基板的聚酰胺酸组合物(1)。
[化学式2]
Figure BSA00000560353100461
《用于基板的聚酰胺酸组合物(2)的制备》
在容量为50mL的三口烧瓶中加入2.00g(10.0mmol)的4,4’-二氨基二苯醚,2.18g(10.0mmol)的均苯四甲酸酐、9.75g的N-甲基-2-吡咯烷酮。通过在氮气氛围下在50℃下将该混合液搅拌6小时,得到固体成分为30.0质量%的用于基板的聚酰胺酸组合物(2)。
《用于覆盖层的聚酰胺酸组合物的制备》
在容量为50mL的三口烧瓶中加入1.80g(10.0mmol)的2,4,5,6-四氟-1,3-二氨基苯,5.82g(10.0mmol)的上述式(2)所示的4,4’-[(2,3,5,6-四氟-1,4-亚苯基)双氧]双(3,5,6-三氟苯二甲酸酐)(即1,4-双(3,4-羧基三氟苯氧基)四氟苯的酸二酐)、12.4g的N,N-二甲基乙酰胺。通过在氮气氛围下在室温下将该混合液搅拌6天,得到固体成分为38.0质量%的用于覆盖层的聚酰胺酸组合物。
然后,对实际制备具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导的实施例进行说明。另外,预先由旋涂的转速与固化后的膜厚来制作校正曲线,在成为所规定的厚度的转速下旋涂,由此来调节下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的厚度。
《柔性光波导的制备》
<实施例1>
首先,在硅基板上,旋涂用于覆盖层的环氧树脂组合物(1),使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成厚度为50μm的由环氧薄膜形成的下部覆盖层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定下部覆盖层的折射率为1.53。
在得到的下部覆盖层上旋涂用于中心层的环氧树脂组合物(1),经由光掩模,使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成图案后,通过用丙酮冲洗未固化部分,形成50μm厚(角)的由环氧薄膜形成的中心层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定中心层的折射率为1.58。
在得到的下部覆盖层包括中心层上,旋涂用于覆盖层的环氧树脂组合物(1),使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/em2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成厚度为70μm(中心层上厚度为20μm)的由环氧薄膜形成的上部覆盖层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定上部覆盖层的折射率为1.53。
将得到的三层薄膜从硅基板上剥离,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(1)。
测定未弯曲得到的柔性光波导(1)时的波导损失,为0.12dB/cm。另外,基于日本プリント回路工業会发表的高分子波导的试验方法(7.1.1弯曲试验JPCA-PE02-05-01S),使用得到的柔性光波导(1),测定以半径为10mm弯曲90度时的波导损失,为与未弯曲时测定的波导损失时相同的值,未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
<实施例2>
除在形成上部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例1同样地,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(2)。
测定不弯曲所得到的柔性光波导(2)时的波导损失,为0.13dB/cm。另外,基于日本プリント回路工業会发表的高分子波导的试验方法(7.1.1弯曲试验JPCA-PE02-05-01S),使用得到的柔性光波导(2),测定以半径为10mm弯曲90度时的波导损失,为与未弯曲时测定的波导损失时相同的值,未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
<实施例3>
除在形成下部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例1同样地,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(3)。
测定不弯曲所得到的柔性光波导(3)时的波导损失,为0.13dB/cm。另外,基于日本プリント回路工業会发表的高分子波导的试验方法(7.1.1弯曲试验JPCA-PE02-05-01S),使用得到的柔性光波导(3),测定以半径为10mm弯曲90度时的波导损失,为与未弯曲时测定的波导损失时相同的值,未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
<实施例4>
除在形成上部覆盖层以及下部覆盖层时均使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例1同样地,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(4)。
测定不弯曲所得到的柔性光波导(4)时的波导损失,为0.11dB/cm。另外,基于日本プリント回路工業会发表的高分子波导的试验方法(7.1.1弯曲试验JPCA-PE02-05-01S),使用得到的柔性光波导(4),测定以半径为10mm弯曲90度时的波导损失,为与未弯曲时测定的波导损失时相同的值,未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
<实施例5>
除在形成下部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例1同样地,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(5)。
测定不弯曲所得到的柔性光波导(5)时的波导损失,为0.11dB/cm。另外,基于日本プリント回路工業会发表的高分子波导的试验方法(7.1.1弯曲试验JPCA-PE02-05-01S),使用得到的柔性光波导(5),测定以半径为10mm弯曲90度时的波导损失,为与未弯曲时测定的波导损失时相同的值,未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
<实施例6>
将硅基板(宽度5cm、长度5cm)的表面划片,形成40个以1mm间隔开的宽度为50μm、深度为50μm的沟,制成第一铸型。划片的条件如以下所示。
划片的条件:
(株)デイスコ制的DAD321自动切割锯;
刀片:NBC-Z 2030;
进给速度:1mm/min;
刀片转速:30000rpm;
切削水:刀片/通量=1/1(L/min)
然后,在第一铸型上涂布二液混合型硅树脂(信越シリコ一ン(株)制),并在室温下放置24小时进行固化,成型为用于覆盖成型的硅橡胶的第二铸型。此时,通过旋涂在第一铸型上涂布剥离剂(将商品名称为TEFLON(注册商标)AF1600(アルドリツチ制)的产品溶解于商品名称为フロリナ一ト(注册商标)(3M制)的产品中后的0.2质量%的溶液),然后容易地进行所得到的第二铸型与第一铸型之间的离型,由此在第二铸型上复制精细的沟状图案。
接着,经由隔板在基板上设置第二铸型,并浇注适量的用于覆盖的环氧树脂组合物(3),从第二铸型上面进行紫外线照射进行固化。然后,除去第二铸型以及隔板,在基板上得到由环氧薄膜形成的带有沟的下部覆盖层。除用于中心层的沟以外的部分中的下部覆盖层的厚度为70μm。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定下部覆盖层的折射率为1.50。
通过在得到的带有沟的下部覆盖层上浇注用于中心层的环氧树脂组合物(2),填充在下部覆盖层的沟部,然后进行由紫外线照射而进行的固化,制得50μm厚的由环氧薄膜形成的中心层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定中心层的折射率为1.55。
最后,在下部覆盖层上形成有中心层的一侧,旋涂用于覆盖层的环氧树脂组合物(3),并进行由紫外线照射而进行的固化,形成厚度为10μm的由环氧薄膜形成的上部覆盖层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定上部覆盖层的折射率为1.50。
另外,环氧树脂组合物的固化,使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2
将得到的三层薄膜从基板上剥离,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(6)。
测定不弯曲所得到的柔性光波导(6)时的波导损失,为0.08dB/cm。另外,基于日本プリント回路工業会发表的高分子波导的试验方法(7.1.1弯曲试验JPCA-PE02-05-01S),使用得到的柔性光波导(6),测定以半径为10mm弯曲90度时的波导损失,为与未弯曲时测定的波导损失时相同的值,未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。
《评价》
如上所述,实施例1-6的柔性光波导,均具有如下特征:柔性良好,弯曲性强,即使以半径为10mm弯曲90度,与未弯曲的情况相比较,也未确认波导损失的增大。另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。而且,构成下部覆盖层以及上部覆盖层的环氧薄膜与构成中心层的环氧薄膜,虽然具有作为光波导的功能却具有足够的折射率差,而且形成波导端面并测定的波导损失足够低,为实用性的柔性光波导。
因而可以看出,只要由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层,其中该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物,就能够得到具有如下特征的柔性光波导:柔性良好,弯曲性强,即使以半径为10mm弯曲90度,与未弯曲的情况相比较,波导损失也未增大;另外,以半径为10mm弯曲90度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,显示出与弯曲前不变的波导损失的值。另外还可以看出,在基材上形成光波导薄膜后,采用从基材上剥离光波导的方法时,能够简便地制备柔性光波导。而且还可以看出,通过改变具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物与根据需要而掺合的双酚型环氧树脂和/或脂环式环氧树脂的掺合比,能够得到用于柔性光波导的环氧树脂组合物,所述用于柔性光波导的环氧树脂组合物提供在所规定的范围内任意调节了折射率的环氧薄膜。
然后,对实际制备在由聚酰亚胺形成的基板上具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导的实施例以及比较例进行说明。另外,通过预先由旋涂的转速与固化后的膜厚来制作标准曲线,在成为所规定的厚度的转速下旋涂,由此来调节基板、下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的厚度。
《柔性光波导的制备》
<实施例7>
首先,在硅基板上,滴加用于基板的聚酰胺酸组合物(1),用旋涂法进行制膜。用氮气置换后的320℃的焙烧炉对该覆膜进行连续的加热处理,形成作为基板的厚度为50μm的聚酰亚胺薄膜。
接着,在得到的聚酰亚胺薄膜上,旋涂用于覆盖层的环氧树脂组合物(1),使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成厚度为50μm的由环氧薄膜形成的下部覆盖层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定下部覆盖层的折射率为1.53。
在该阶段,通过画格法(碁盤目テ一プ法、旧JIS K5400),评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性。即,在形成于聚酰亚胺薄膜上的环氧薄膜上用刀具刻100个大小为1mm×1mm的棋盘格,在这些棋盘格上粘贴市售的胶带(ニチバン(株)制、セロテ一プ(注册商标))后,用手用力剥离胶带,以未剥离的格数进行判定。结果为100/100,说明了粘接性良好。
在得到的下部覆盖层上旋涂用于中心层的环氧树脂组合物(1),经由光掩模,使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成图案后,通过用丙酮冲洗未固化部分,形成50μm厚的由环氧薄膜形成的中心层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定中心层的折射率为1.58。
在得到的下部覆盖层包括中心层上,旋涂用于覆盖层的环氧树脂组合物(1),使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成厚度为70μm(中心层上厚度为20μm)的由环氧薄膜形成的上部覆盖层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定上部覆盖层的折射率为1.53。
将得到的四层树脂薄膜从硅基板上剥离,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(7)。
测定所得到的柔性光波导(7)的波导损失,为0.13dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(7)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(7)的耐湿热性的结果,未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例8>
除在形成上部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(8)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(8)的波导损失,为0.14dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(8)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(8)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例9>
除在形成下部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(9)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(9)的波导损失,为0.15dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(9)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(9)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例10>
除在形成下部覆盖层以及上部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(10)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(10)的波导损失,为0.13dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(10)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(10)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例11>
除在形成下部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(4)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(11)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定得到的柔性光波导(11)的波导损失,为0.11dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(11)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(11)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例12>
除在形成作为基板的聚酰亚胺薄膜时使用用于基板的聚酰胺酸组合物(2)代替用于基板的聚酰胺酸组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(12)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(12)的波导损失,为0.15dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(12)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(12)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例13>
除在形成作为基板的聚酰亚胺薄膜时使用用于基板的聚酰胺酸组合物(2)代替用于基板的聚酰胺酸组合物(1)、并且在形成上部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(13)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(13)的波导损失,为0.19dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(13)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(13)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例14>
除在形成作为基板的聚酰亚胺薄膜时使用用于基板的聚酰胺酸组合物(2)代替用于基板的聚酰胺酸组合物(1)、并且在形成下部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(14)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(14)的波导损失,为0.18dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(14)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(14)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例15>
除在形成作为基板的聚酰亚胺薄膜时使用用于基板的聚酰胺酸组合物(2)代替用于基板的聚酰胺酸组合物(1)、并且在形成下部覆盖层时使用用于覆盖层的环氧树脂组合物(2)代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(15)。
另外,在基板(聚酰亚胺薄膜)上形成下部覆盖层(环氧薄膜)的阶段,通过画格法(旧JIS K5400),与实施例7同样地评价基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间的粘接性,结果为100/100,粘接性良好。
测定所得到的柔性光波导(15)的波导损失,为0.16dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(15)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(15)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例16>
除在形成上部覆盖层时使用用于覆盖层的聚酰胺酸组合物代替用于覆盖层的环氧树脂组合物(1)、并且用氮气置换后的250℃的焙烧炉对该覆膜进行连续的加热处理以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(16)。
测定得到的柔性光波导(16)的波导损失,为0.22dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(16)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(16)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例17>
将硅基板(宽度5cm、长度5cm)的表面划片,形成40个以1mm间隔开的宽度为50μm、深度为50μm的沟,制成第一铸型。划片的条件如以下所示。
划片的条件:
(株)デイスコ制的DAD321自动切割锯;
刀片:NBC-Z 2030;
进给速度:1mm/min;
刀片转速:30000rpm;
切削水:刀片/通量=1/1(L/min)
然后,在第一铸型上涂布二液混合型硅树脂(信越シリコ一ン(株)制),并在室温下放置24小时进行固化,成型为用于覆盖成型的硅橡胶的第二铸型。此时,通过旋涂在第一铸型上涂布剥离剂(将商品名称为TEFLON(注册商标)AF1600(アルドリツチ制)的产品溶解于商品名称为フロリナ一ト(注册商标)(3M制)的产品中后的0.2质量%的溶液),然后容易地进行得到的第二铸型与第一铸型之间的离型,由此在第二铸型上复制精细的沟状图案。
另一方面,在另一个硅基板(宽度为5cm、长度为5cm)上,滴加用于基板的聚酰胺酸组合物(2),用旋涂法进行制膜。用氮气置换后的320℃的焙烧炉对该覆膜进行连续的加热处理,形成作为基板的厚度为50μm的聚酰亚胺薄膜。
接着,经由隔板在形成于该另一个硅基板上的聚酰亚胺薄膜上设置第二铸型,并烧注适量的用于覆盖的环氧树脂组合物(3),从第二铸型进行紫外线照射进行固化。然后,除去第二铸型以及隔板,在基板上得到由环氧薄膜形成的带有沟的下部覆盖层。除用于中心层的沟以外的部分中的下部覆盖层的厚度为70μm。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRONTECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定下部覆盖层的折射率为1.50。
通过在得到的带有沟的下部覆盖层上烧注用于中心层的环氧树脂组合物(2),填充在下部覆盖层的沟部,然后进行由紫外线照射而进行的固化,制得50μm厚的由环氧薄膜形成的中心层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定中心层的折射率为1.55。
最后,在下部覆盖层上形成有中心层的一侧,旋涂用于覆盖层的环氧树脂组合物(3),并进行由紫外线照射而进行的固化,形成厚度为10μm的由环氧薄膜形成的上部覆盖层。使用棱镜耦合器(例如产品名称为SPA-4000、SAIRON TECHNOLOGY,INC.制)在波长为830nm下测定上部覆盖层的折射率为1.50。
另外,环氧树脂组合物的固化,使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2
将得到的四层薄膜从基板上剥离,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上得到由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层而形成的柔性光波导(17)。
未弯曲所得到的柔性光波导(17)测定波导损失,为0.12dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(17)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。而且,评价得到的柔性光波导(17)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<实施例18>
在作为基板的厚度为25μm、长度为100mm、宽度为100mm的聚酰亚胺薄膜(产品名称为カプトン(注册商标)、東レ·デユポン(株)制),旋涂在波长为830nm下折射率为1.53的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1),使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,得到厚度为25μm的由环氧薄膜形成的下部覆盖层。
在得到的下部覆盖层上旋涂在波长为830nm下折射率为1.58的用于中心层的环氧树脂组合物(1),通过具有多个线宽为50μm的光透过的直线图案、且在除此以外的区域被Cr覆盖的光掩模,使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成图案后,通过用丙酮来冲洗相当于光掩模的被Cr覆盖的部分的未固化部分,得到宽度为50μm、高度为50μm、长度为100mm的直线图案的由环氧薄膜形成的中心层。
在得到的下部覆盖层包括得到的中心层上,旋涂在波长为830nm下折射率为1.53的用于覆盖层的环氧树脂组合物(1),使用将高压水银灯作为光源(波长为365nm)的曝光机(产品名称为MA-60F、ミカサ(株)制),在照度为10mW/cm2下进行紫外线照射15分钟即曝光能量为9J/cm2,形成厚度为70μm(中心层上厚度为20μm)的由环氧薄膜形成的上部覆盖层。
由此,从由聚酰亚胺薄膜形成的基板上,得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(18)。
测定所得到的柔性光波导(18)的波导损失,为0.25dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(18)弯曲180度,结果四层均未产生裂纹,弯曲前后光波导薄膜的外观完全没有发生变化。另外,以半径为1mm弯曲180度后,恢复到原来的状态下测定波导损失时,为0.25dB/cm,显示出与弯曲前相同的值。而且,评价得到的柔性光波导(18)的耐湿热性,结果未发现剥离等的外观变化,基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,显示出高的耐湿热性。
<比较例1>
除在基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间形成使用了环氧系粘接剂(NTTアドバンステクノロジ(株)制、折射率为1.53850nm)的厚度为10μm的粘接层以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上通过粘接层得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(C1)。
测定所得到的柔性光波导(C1)的波导损失,为0.25dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(C1)弯曲180度,结果基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间产生了剥离。而且,评价与上述同样地得到的柔性光波导(C1)的耐湿热性,结果发现由于基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间一部分产生了剥离而混入了气泡,由于能够容易地剥离,因而基板与光波导薄膜之间的粘接性不好,显示出低的耐湿热性。
<比较例2>
除在形成作为基板的聚酰亚胺薄膜时使用用于基板的聚酰胺酸组合物(2)代替用于基板的聚酰胺酸组合物(1)、而且在基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间形成使用了环氧系粘接剂(NTT アドバンステクノロジ(株)制、折射率为1.53850nm)的厚度为10μm的粘接层以外,与实施例7同样地,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上通过粘接层得到具有由环氧薄膜形成的下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层的柔性光波导(C2)。
测定所得到的柔性光波导(C2)的波导损失,为0.26dB/cm。另外,以半径为1mm将得到的柔性光波导(C2)弯曲180度,结果基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间产生了剥离。而且,评价与上述同样地得到的柔性光波导(C2)的耐湿热性,结果发现由于基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间一部分产生了剥离而混入了气泡,由于能够容易地剥离,因而基板与光波导薄膜之间的粘接性不好,显示出低的耐湿热性。
《评价》
如上所述,实施例7-18的柔性光波导,均具有如下特征:柔性良好,弯曲性强,能以半径为1mm弯曲180度。另外,形成波导端面并测定的波导损失足够低,为实用性的柔性光波导。而且即使在高温高湿的环境下长时间静置后,基板与光波导薄膜之间的粘接性也良好,显示出高的耐湿热性。
与此相对,比较例1以及2的柔性光波导,均具有如下特征:柔性差,弯曲性弱,以半径为1mm弯曲180度时基板(聚酰亚胺薄膜)与下部覆盖层(环氧薄膜)之间产生了剥离。另外,形成波导端面并测定的波导损失比较高,为非实用性的柔性光波导。而且在高温高湿的环境下长时间静置后,基板与光波导薄膜之间的粘接性也不良,显示出低的耐湿热性。
因而可以看出,由使用环氧树脂组合物而形成的环氧薄膜而构成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层,其中该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物时,能够得到具有如下特征的柔性光波导:柔性良好,弯曲性强,能以半径为1mm弯曲180度,而且具有高的耐湿热性。另外还可以看出,不需要在基板与下部覆盖层之间设置粘接剂层等的工序,而且由于在基材上依次形成下部覆盖层、中心层以及上部覆盖层,因此能够简便地制备柔性光波导。
工业实用性
本发明的柔性光波导,可以与通常的光波导同样地使用于各种光波导装置中,而且由于柔性良好、弯曲性强,因此可以实现光波导装置的小型化。另外,本发明的柔性光波导,在由聚酰亚胺薄膜形成的基板上形成光波导薄膜的情况下,制作光电子混载模块时,能使用于各种电子设备中,由于包括基板在内的光波导薄膜的柔性以及基板与光波导薄膜之间的粘接性良好,因此适合使用于电子设备中要求柔性的部位(例如铰链部分),所述电子设备包括移动电话、数码相机、数码摄像机、家庭用以及携带用游戏机、笔记本电脑、高速打印机等。而且,本发明的柔性光波导还能使用于光配线中。本发明的柔性光波导的制备方法,由于能简便地制备这样的柔性光波导,因此能够实现制造成本的大幅度降低。本发明的用于柔性光波导的环氧树脂组合物,由于提供柔性良好、弯曲性强的环氧薄膜,因此在制备这样的柔性光波导中有用。因而,本发明在期待柔性光波导的适用的各个光学相关领域和电子设备领域中具有极大的贡献。

Claims (2)

1.一种柔性光波导,该柔性光波导具有下部覆盖层、形成于该下部覆盖层上的中心层、以及以包埋该中心层的方式形成于该下部覆盖层和该中心层上的上部覆盖层,其特征在于,该下部覆盖层以及该上部覆盖层是由玻璃化温度Tg为100℃以下的环氧薄膜而构成的,且该柔性光波导的波导损失为0.24dB/cm以下,所述环氧薄膜是使用环氧树脂组合物而形成的,该环氧树脂组合物含有具有聚亚烷基二醇链和至少两个缩水甘油基的多缩水甘油基化合物且固化后的折射率为1.45-1.65。
2.根据权利要求1所述的柔性光波导,其中,所述多缩水甘油基化合物为聚四亚甲基醚二醇的二缩水甘油醚。
CN2011102413293A 2006-10-31 2007-10-30 一种柔性光波导 Pending CN102393548A (zh)

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006-296522 2006-10-31
JP2006296522 2006-10-31
JP2006-314785 2006-11-21
JP2006314785 2006-11-21
JP2007116091 2007-04-25
JP2007-116091 2007-04-25
JP2007-119202 2007-04-27
JP2007119202 2007-04-27

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800401664A Division CN101529293B (zh) 2006-10-31 2007-10-30 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102393548A true CN102393548A (zh) 2012-03-28

Family

ID=39344230

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011102413293A Pending CN102393548A (zh) 2006-10-31 2007-10-30 一种柔性光波导
CN2007800401664A Expired - Fee Related CN101529293B (zh) 2006-10-31 2007-10-30 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800401664A Expired - Fee Related CN101529293B (zh) 2006-10-31 2007-10-30 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20100150510A1 (zh)
JP (1) JP5294869B2 (zh)
CN (2) CN102393548A (zh)
WO (1) WO2008053888A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103823332A (zh) * 2012-11-19 2014-05-28 日东电工株式会社 光波导形成用树脂组合物及使用其的光波导、以及光传输用挠性印刷基板及光波导的制法
CN111615655A (zh) * 2018-01-08 2020-09-01 迪吉伦斯公司 用于制造波导单元的系统和方法
CN112350772A (zh) * 2020-10-23 2021-02-09 西安空间无线电技术研究所 一种应用插入损耗值检验波导的方法
US11402801B2 (en) 2018-07-25 2022-08-02 Digilens Inc. Systems and methods for fabricating a multilayer optical structure
US11703799B2 (en) 2018-01-08 2023-07-18 Digilens Inc. Systems and methods for high-throughput recording of holographic gratings in waveguide cells

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8999492B2 (en) 2008-02-05 2015-04-07 Micron Technology, Inc. Method to produce nanometer-sized features with directed assembly of block copolymers
US8426313B2 (en) 2008-03-21 2013-04-23 Micron Technology, Inc. Thermal anneal of block copolymer films with top interface constrained to wet both blocks with equal preference
JP2009265519A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Hitachi Cable Ltd フレキシブル光導波路およびその製造方法
JP2009288614A (ja) * 2008-05-30 2009-12-10 Hitachi Ltd 平面型光導波路アレイモジュールとその製造方法
JP5465453B2 (ja) 2009-03-26 2014-04-09 パナソニック株式会社 光導波路形成用エポキシ樹脂組成物、光導波路形成用硬化性フィルム、光伝送用フレキシブルプリント配線板、及び電子情報機器
JP5321899B2 (ja) * 2009-07-23 2013-10-23 日立化成株式会社 クラッド層形成用樹脂組成物、光導波路及び光モジュール
JP2011154107A (ja) * 2010-01-26 2011-08-11 Sumitomo Electric Ind Ltd プラスチッククラッド光ファイバ
CN102436029A (zh) * 2011-12-27 2012-05-02 东南大学 一种柔性超长表面等离子体激元波导
JP5964143B2 (ja) * 2012-05-31 2016-08-03 日本メクトロン株式会社 光電気混載フレキシブルプリント配線板の製造方法
JP6026346B2 (ja) * 2013-03-06 2016-11-16 日東電工株式会社 位置センサ
US9177795B2 (en) * 2013-09-27 2015-11-03 Micron Technology, Inc. Methods of forming nanostructures including metal oxides
JP6566417B2 (ja) * 2015-06-18 2019-08-28 日東電工株式会社 光導波路形成用感光性エポキシ樹脂組成物および光導波路形成用感光性フィルム、ならびにそれを用いた光導波路、光・電気伝送用混載フレキシブルプリント配線板
US10852479B1 (en) * 2017-09-21 2020-12-01 University Of South Florida Digital fabrication of a small diameter polymer optical waveguide
US20220128735A1 (en) * 2019-02-21 2022-04-28 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Optical-waveguide-clad composition, optical-waveguide-clad dry film, and optical waveguide
CN111965826B (zh) * 2020-08-27 2022-11-15 Oppo广东移动通信有限公司 智能眼镜的控制方法、装置、存储介质及智能眼镜
CN112375336A (zh) * 2020-11-26 2021-02-19 张惠珍 一种高强度增韧光缆及其制备工艺

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES305034A1 (es) * 1963-10-18 1965-04-01 Ciba Geigy Procedimiento para endurecer compuestos poliepoxidos cicloalifaticos
US3708296A (en) * 1968-08-20 1973-01-02 American Can Co Photopolymerization of epoxy monomers
US3586616A (en) * 1969-03-14 1971-06-22 Minnesota Mining & Mfg Bis(perfluoroalkylsulfonyl)methane metal salts in cationic polymerization
US4058400A (en) * 1974-05-02 1977-11-15 General Electric Company Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts
GB1512981A (en) * 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
US4161478A (en) * 1974-05-02 1979-07-17 General Electric Company Photoinitiators
JPS604640B2 (ja) * 1975-07-30 1985-02-05 ソニー株式会社 擬似頭
US4256828A (en) * 1975-09-02 1981-03-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
US4231951A (en) * 1978-02-08 1980-11-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
US4139655A (en) * 1978-05-09 1979-02-13 W. R. Grace & Co. Photocurable epoxy compositions containing thiopyrylium salts
JPH06174956A (ja) * 1992-12-08 1994-06-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光導波路
JPH06228274A (ja) * 1993-02-04 1994-08-16 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 耐熱性光学樹脂
US6555288B1 (en) * 1999-06-21 2003-04-29 Corning Incorporated Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
US6306563B1 (en) * 1999-06-21 2001-10-23 Corning Inc. Optical devices made from radiation curable fluorinated compositions
JP2002071987A (ja) * 2000-08-24 2002-03-12 Ntt Advanced Technology Corp 光導波路の作製方法
JP2003098658A (ja) * 2001-09-25 2003-04-04 Tamura Kaken Co Ltd 感光性樹脂組成物及びプリント配線板
MY139328A (en) * 2002-05-20 2009-09-30 Nitto Denko Corp Thermosetting resin composition and semiconductor device obtained with the same
US7037637B2 (en) * 2002-07-17 2006-05-02 Nitto Denko Corporation Photosensitive polyimide resin precursor composition, optical polyimide obtained from the composition, optical waveguide using the polyimide, and process for producing the optical waveguide
JP2006023376A (ja) * 2004-07-06 2006-01-26 Bridgestone Corp 光デバイスの製造方法
JP4923400B2 (ja) * 2004-11-02 2012-04-25 三菱化学株式会社 エポキシ樹脂組成物およびエポキシ樹脂硬化体
US7551811B2 (en) * 2005-01-19 2009-06-23 Bridgestone Corporation Optical device and method for producing the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103823332A (zh) * 2012-11-19 2014-05-28 日东电工株式会社 光波导形成用树脂组合物及使用其的光波导、以及光传输用挠性印刷基板及光波导的制法
CN111615655A (zh) * 2018-01-08 2020-09-01 迪吉伦斯公司 用于制造波导单元的系统和方法
CN111615655B (zh) * 2018-01-08 2023-03-21 迪吉伦斯公司 用于制造波导单元的系统和方法
US11703799B2 (en) 2018-01-08 2023-07-18 Digilens Inc. Systems and methods for high-throughput recording of holographic gratings in waveguide cells
US11402801B2 (en) 2018-07-25 2022-08-02 Digilens Inc. Systems and methods for fabricating a multilayer optical structure
CN112350772A (zh) * 2020-10-23 2021-02-09 西安空间无线电技术研究所 一种应用插入损耗值检验波导的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN101529293B (zh) 2012-02-22
US20100150510A1 (en) 2010-06-17
WO2008053888A1 (fr) 2008-05-08
JP5294869B2 (ja) 2013-09-18
CN101529293A (zh) 2009-09-09
JPWO2008053888A1 (ja) 2010-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101529293B (zh) 柔性光波导及其制备方法以及用于柔性光波导的环氧树脂组合物
EP2411469B1 (en) Optical waveguide-forming epoxy resin composition, optical waveguide-forming curable film, optical-transmitting flexible printed circuit, and electronic information device
TWI518391B (zh) 使用烷基官能性倍半矽氧烷樹脂製造撓性波導器的方法及由其製得之平面光學波導器總成
EP1564565A2 (en) Optical waveguide and production method thereof
KR20090032078A (ko) 광전기혼재기판
JP2014516101A (ja) エポキシ官能性シロキサンオリゴマーを含有するエポキシ官能性の放射線硬化性組成物
AU2007223454A1 (en) Flexible optical waveguide, method for manufacturing such flexible optical waveguide, and optical module
WO2014006878A1 (ja) 光導波路および光導波路作製用のドライフィルム
CN102016666B (zh) 制造光波导的方法
JP2007084765A (ja) 硬化性エポキシ樹脂フィルム、これを用いた光導波路及び光電気複合基板
CN102027400B (zh) 光波导的制造方法及光波导
JP2011202097A (ja) 光導波路用樹脂組成物の製造方法
WO2018159746A1 (ja) 光導波路コア形成用感光性エポキシ樹脂組成物、光導波路コア形成用感光性フィルム、光導波路、光電気混載基板および光導波路の製造方法
JP2011221226A (ja) 光導波路の製造方法
KR101190530B1 (ko) 활성 에너지선 경화성 오가노폴리실록산 수지 조성물, 광전송 부재 및 이의 제조방법
JP2006126680A (ja) 光導波路およびその製造方法
JP2017151295A (ja) 光導波路の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
AD01 Patent right deemed abandoned

Effective date of abandoning: 20120328

C20 Patent right or utility model deemed to be abandoned or is abandoned