CN102336895A - 含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物、其制备方法和应用 - Google Patents
含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物、其制备方法和应用 Download PDFInfo
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- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 149
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 title claims abstract description 70
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 65
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 7
- TXWZXHMHQXSBMG-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole-2,3-dione thiophene Chemical group O=C1C(NC=C1)=O.S1C=CC=C1 TXWZXHMHQXSBMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 83
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims abstract description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 46
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 41
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 18
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 15
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 13
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000000950 dibromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 10
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 9
- OMFXVFTZEKFJBZ-HJTSIMOOSA-N corticosterone Chemical compound O=C1CC[C@]2(C)[C@H]3[C@@H](O)C[C@](C)([C@H](CC4)C(=O)CO)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 OMFXVFTZEKFJBZ-HJTSIMOOSA-N 0.000 claims description 9
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 8
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 7
- 230000031709 bromination Effects 0.000 claims description 7
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- BFRDBSBKJUVSNP-UHFFFAOYSA-N 9h-fluorene;silicon Chemical class [Si].C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 BFRDBSBKJUVSNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 4
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 26
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 26
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 25
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 25
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 25
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 24
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 21
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000002585 base Substances 0.000 description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- -1 bromo-5-octyl group Chemical group 0.000 description 11
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000002220 fluorenes Chemical group 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- AIGRXSNSLVJMEA-FQEVSTJZSA-N ethoxy-(4-nitrophenoxy)-phenyl-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound O([P@@](=S)(OCC)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 AIGRXSNSLVJMEA-FQEVSTJZSA-N 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 7
- ZMKHBZTYKKUSTB-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydrothiophen-5-yl)thiophene Chemical compound S1CCC=C1C1=CC=CS1 ZMKHBZTYKKUSTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CKKZYPGAWNYEAJ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-5-(2,3-dihydrothiophen-5-yl)thiophene Chemical compound C1CSC(=C1)C2=CC=C(S2)Br CKKZYPGAWNYEAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000003810 ethyl acetate extraction Methods 0.000 description 5
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 5
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 5
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 5
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 5
- PMZBHPUNQNKBOA-UHFFFAOYSA-N 5-methylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 PMZBHPUNQNKBOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARWCCPHQGMCDRJ-UHFFFAOYSA-N CCC(C)[Sn]C1=CC=CS1 Chemical compound CCC(C)[Sn]C1=CC=CS1 ARWCCPHQGMCDRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- RABBMOYULJIAFU-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrole;thiophene Chemical compound C=1C=CNC=1.C=1C=CSC=1 RABBMOYULJIAFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPSATKPOWYMAJ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-5-icosylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C(Br)S1 FBPSATKPOWYMAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOTHKCARNFTUSW-UHFFFAOYSA-N 2-decylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CS1 GOTHKCARNFTUSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDJGNCNOJAAZAW-UHFFFAOYSA-N 2-icosylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CS1 GDJGNCNOJAAZAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LUGYNFVLAFAIIA-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=C(SC(=C1)C2=CCCS2)Br Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=C(SC(=C1)C2=CCCS2)Br LUGYNFVLAFAIIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXRRAIFUHJQQTO-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CSC(=C1)C2=CCCS2 Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CSC(=C1)C2=CCCS2 PXRRAIFUHJQQTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- OHZAHWOAMVVGEL-UHFFFAOYSA-N 2,2'-bithiophene Chemical group C1=CSC(C=2SC=CC=2)=C1 OHZAHWOAMVVGEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLGUNQPKOOEOHU-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-5-decylthiophene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=C(Br)S1 BLGUNQPKOOEOHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHRMVMJOGSKEEC-UHFFFAOYSA-N BrC=1SC=C(C1CCCCCCCC)CCCCCCCC Chemical compound BrC=1SC=C(C1CCCCCCCC)CCCCCCCC NHRMVMJOGSKEEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQQNYZHUMCMUEL-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CSC(=C1)[Sn]C(C)CC Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CSC(=C1)[Sn]C(C)CC AQQNYZHUMCMUEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXBLVDILNAQZJW-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCN(C(c1c(-c2ccc[s]2)[s]c(-c2ccc[s]2)c11)=O)C1=O Chemical compound CCCCCCCCN(C(c1c(-c2ccc[s]2)[s]c(-c2ccc[s]2)c11)=O)C1=O UXBLVDILNAQZJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCc(cc1C2(*)*)ccc1-c1c2cc(*(C)S*=C(*)C*)cc1 Chemical compound CCc(cc1C2(*)*)ccc1-c1c2cc(*(C)S*=C(*)C*)cc1 0.000 description 1
- GDLVZVSBCXPZND-UHFFFAOYSA-N CN(C(c1c(-c([s]2)ccc2Br)[s]c(-c([s]2)ccc2Br)c11)=O)C1=O Chemical compound CN(C(c1c(-c([s]2)ccc2Br)[s]c(-c([s]2)ccc2Br)c11)=O)C1=O GDLVZVSBCXPZND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000790917 Dioxys <bee> Species 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- BUHXFUSLEBPCEB-UHFFFAOYSA-N icosan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCN BUHXFUSLEBPCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Substances [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
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- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
本发明涉及有机材料技术领域，提供一种含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，为结构式(I)表示的聚合物，式中：R1、R2、R3选自C1-C20的烷基；R4、R5、R6、R7、R8、R9选自H或C1-C20的烷基；x+y＝1，x≠0，y≠0；m为1-5的整数；n为1-100的整数。本发明还提供该含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的制备方法和该含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的应用。该共聚物将芴单元、噻吩单元和噻吩吡咯二酮单元有机结合在一起，形成很强的给体-受体结构，有利于提高了共聚物材料的稳定性，并有利地降低材料的能带隙，扩大太阳光吸收范围，提高光电转化效率。
Description
技术领域
本发明属于有机材料技术领域，具体涉及一种含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物、其制备方法和应用。
背景技术
当今世界经济主要是建立在以化石能源，如煤炭、石油和天然气等基础之上的经济。然而，这些不可再生的化石能源都在不断的枯竭。进入21世纪以来，全球性的能源问题以及随之而来的环境污染和气候变暖等问题日益凸现和逐渐加剧。由于太阳能具有分布普遍和广阔，资源数量多，无污染，清洁，安全以及获取方便等突出优点，被认为是最有希望的可再生能源之一。
为充分利用太阳光照射的能量，人们不断开发出能够吸收太阳光的新型材料，其中无机半导体材料获得较为广泛的发展和应用，例如目前用于地面的硅晶电池，然而由于其生产工艺复杂、成本高，使其应用受到限制。为了降低成本，拓展应用范围，长期以来人们一直在寻找新型的替代的有机光电材料。
近年来，越来越多的研究集中在有机太阳能电池等光电器件上应用的有机光电材料。有机太阳能电池是一种新型的太阳能电池，有机太阳能电池将太阳光能转化成电能，相对于无机半导体材料来源有限、价格昂贵、有毒、制备工艺复杂、成本太高等而言，它具有无机太阳能电池无法比拟的一些优点，如材料来源广泛、结构多样性和可调控性、成本低廉、安全环保、制作工艺简单、产品重量轻、可大面积柔性制备等等，可以广泛应用在建筑、照明和发电等多种领域，具有重要的发展和应用前景。因此，国内外众多的研究机构和企业等都给予了相当的关注和投入。然而，到目前为止，有机太阳能电池的光电转换效率比无机太阳能电池还是要低很多。因此，开发新型的有机光电材料对于提高有机太阳能电池及其它半导体器件的效率具有重要意义。
发明内容
有鉴于此，提供一种光谱响应宽、光电转换效率高的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，以及一种合成路线简单、产率高的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法。
本发明实施例还提供上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的应用。
一种含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，为如下结构式(I)表示的聚合物：
式中：R1、R2、R3选自C1-C20的烷基；R4、R5、R6、R7、R8、R9选自H或C1-C20的烷基；x+y＝1，x≠0，y≠0；m为1-5的整数；n为1-100的整数。
一种含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其包括如下步骤：
提供如下结构式表示的化合物A、B、C、D、E，
在催化剂和有机溶剂中，将化合物B、C、D进行如下式所示的耦合反应，得到耦合产物；
在有机溶剂中，将耦合产物和溴化剂进行溴化取代反应，得到二溴产物；
在催化剂、碱溶液和有机溶剂中，将化合物A、化合物E与二溴产物进行Suzuki反应，获得如下结构式(I)表示的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物：
式中n为1-100的整数。
以及，上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物在有机光电材料、太阳能电池器件、有机场效应晶体管、有机电致发光器件、有机光存储器件或有机激光器件中的应用。
在上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物中，具有芴单元、噻吩单元以及噻吩吡咯二酮类单元，芴单元、噻吩单元具备优异的给体材料特性，而且具有多个(三个以上)噻吩单元，大大增强共聚物的给体性能；噻吩吡咯二酮单元具有结构简单、对称，电子离域性能好的优点，且具有平面结构，具备非常优异的受体材料特性。通过将芴单元、噻吩单元和噻吩吡咯二酮单元有机结合在一起，构成的聚合物能够形成很强的给体-受体结构，一方面有利于提高了共聚物材料的稳定性，另一方面，两者结合能将共聚物的吸收带边沿推向红光及近红外区，以更好的匹配太阳光的发射光谱，并有利地降低材料的能带隙，扩大太阳光吸收范围，提高光电转化效率。在上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法中，采用较简单的合成路线，可简化工艺，且Suzuki反应产率高、易于控制，易通过引入烷基提高产物的溶解性和分子量，以实现可旋涂的聚合物或可旋涂的寡聚物。上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物应用于有机光电材料、太阳能电池器件、有机场效应晶体管、有机电致发光器件、有机光存储器件或有机激光器件中时，可提高其光电或半导体相关性能，并能减轻器件的质量，且便于大批量的制备。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：
图1是本发明实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法流程图；
图2是采用本发明实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的太阳能电池器件结构示意图；
图3是采用本发明实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的有机电致发光器件的结构示意图；
图4是采用本发明实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的有机场效应晶体管的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实施例提供的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，具有如下所示的结构式(I)：
式中：R1、R2、R3选自C1-C20的烷基；R4、R5、R6、R7、R8、R9选自H或C1-C20的烷基；x+y＝1，x≠0，y≠0；m为1-5的整数；n为1-100的整数。
在本发明的一些实施例中，R1、R2可以为相同的C1-C20烷基，并可采用碳数较多的烷基，例如选自C8-C20的烷基，以提高分子量，利于成膜加工。同样地，R3可采用碳数较多的烷基，例如选自C8-C20的烷基。R4、R5、R6、R7、R8、R9也可采用碳数较多的烷基，例如选自C8-C20的烷基。进一步地，R4、R5可以为相同的C1-C20烷基，R6、R7可以为相同的C1-C20烷基，R8、R9可以为相同的C1-C20烷基。更进一步地，R4、R5、R6、R7、R8、R9为相同的C1-C20烷基，还可以为相同的C8-C20的烷基。优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9均选自C8-C20的烷基。n优选为10-80的整数，以便共聚物具有较高分子量，便于成膜加工，又避免过高分子量而增加材料应用时器件的质量。
在上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物中，具有芴单元、噻吩单元以及噻吩吡咯二酮类单元，芴单元、噻吩单元具备优异的给体材料特性，而且具有多个(三个以上)噻吩单元，大大增强共聚物的给体性能；噻吩吡咯二酮单元具有结构简单、对称，电子离域性能好的优点，且具有平面结构，具备非常优异的受体材料特性。通过将芴单元、噻吩单元和噻吩吡咯二酮单元有机结合在一起，构成的聚合物能够形成很强的给体-受体结构，一方面有利于提高了共聚物材料的稳定性，另一方面，两者结合能将共聚物的吸收带边沿推向红光及近红外区，以更好的匹配太阳光的发射光谱，并有利地降低材料的能带隙，扩大太阳光吸收范围，提高光电转化效率。本实施例的共聚物的吸收光谱波段大约在280-750nm，基本涵盖可见光波段。
另外，通过引入烷基R1、R2、R3，以及R4、R5、R6、R7、R8、R9也选用烷基，可提高共聚物材料的溶解性，增加材料的分子量，并有利于成膜加工，扩大其应用范围。在上述结构式(I)表示的聚合物中，芴单元也起到一定的连接作用，即将噻吩吡咯二酮单元及噻吩单元链接，形成较大的共轭结构，从而加宽光谱响应范围，提高共聚物的光电性能。另外，在共聚物中，x+y＝1，x≠0，y≠0，从而赋予共聚物灵活性，例如，通过适当变更x和y的比例，以调节其给体-受体性能以及共轭性和能带隙等。
请参阅图1，上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的制备方法包括如下步骤：
S10：提供如下结构式表示的化合物A、B、C、D、E，
式中：R1、R2、R3选自C1-C20的烷基；R4、R5、R6、R7、R8、R9选自H或C1-C20的烷基；m为1-5的整数；
S20：在催化剂和有机溶剂中，将化合物B、C、D进行如下式所示的耦合反应，得到耦合产物；
S30：在有机溶剂中，将耦合产物和溴化剂进行溴化取代反应，得到二溴产物；
S40：在催化剂、碱溶液和有机溶剂中，将化合物A、化合物E与二溴产物进行Suzuki反应，获得如下结构式(I)表示的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物：
式中n为1-100的整数。
在步骤S10中，化合物A、B、C、D、E可直接从市场上购得或者通过现有的合成方法制备。其中，化合物A、B、C、D、E的结构与上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的描述基本一致，在此不再赘述。
化合物A可通过以下步骤获得：在有机溶剂中，将2，7-二溴-9，9-二烷基硅芴和烷基锂在-100℃～-25℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶4.0混合，加入2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷，反应24～48小时，得到该化合物A；其中，有机溶剂可以是但不限于四氢呋喃、乙醚、二氯甲烷、三氯甲烷或乙酸乙酯，2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷的用量为2，7-二溴-9，9-二烷基硅芴摩尔用量的2.0～4.0倍，烷基锂可以是C2-C4的烷基锂，例如正丁基锂。上述反应的较佳温度为-78℃，其反应如下式所示：
化合物B可通过以下步骤获得：
1)将噻吩-3，4-二羧酸加入至乙酸酐中，搅拌反应12-24小时，将反应液中的溶剂(如乙酸酐)减压蒸干，加入至有机溶剂中，随后加入烷基胺，加热至100-120℃反应24-32小时，然后冷却，减压除去溶剂，加入二氯亚砜，加热至80-100℃回流1-12小时后，得到5-烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮；
2)将5-烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮和溴化剂在10℃～30℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶4.0加入至有机溶剂中，反应12～48小时，得到1，3-二溴-5-烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮。
其中，步骤1)中的有机溶剂可以是但不限于苯、甲苯、四氢呋喃、乙醚、二氯甲烷、三氯甲烷或乙酸乙酯等，步骤1)获得的反应液可进一步进行分离提纯：将反应产物进行旋蒸，用硅胶柱层析分离得到产物。烷基胺中的烷基对应是化合物B的N上取代基，即为R3。步骤2)中的有机溶剂可以是但不限于硫酸与三氟乙酸的混合溶剂、N，N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃、乙醚、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯或醋酸，优选为硫酸与三氟乙酸的混合溶剂。当然，步骤1)和2)中的有机溶剂可采用同一种溶剂，或者不同的溶剂。溴化剂可采用但不限于N-溴代丁二酰亚胺(NBS)、Br2、HBr或PBr3等，优选为NBS。溴化取代反应式如下：
化合物C和D可以是相同或不同的，即R4、R5和R6、R7为两组相同的取代基。
化合物E可通过以下步骤获得：将多噻吩原料(E0)和溴化剂在0℃～30℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶2.5加入至有机溶剂中，反应12～48小时，得到产物，即E0的二溴产物E。其中，有机溶剂可以是但不限于二甲基甲酰胺(DMF)、四氢呋喃、乙醚、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯或醋酸等，溴化剂可采用但不限于N-溴代丁二酰亚胺(NBS)、Br2、HBr或PBr3等，优选为NBS。其反应式如下：
步骤S20的耦合反应可按照以下步骤进行：在催化剂和有机溶剂中，将摩尔比为2.0∶a∶b的化合物B、C、D在60℃～120℃下反应12～24小时，得到耦合产物；其中，催化剂可以是但不限于有机钯催化剂或有机钯催化剂与有机膦配体的混合物，例如Pd(PPh3)4、Pd2(dba)3/P(o-Tol)3或Pd(PPh3)2Cl2等，催化剂的用量为化合物A摩尔用量的0.005-0.10倍。当耦合反应采用的催化剂是有机钯催化剂与有机膦配体的混合物时，混合物中有机钯催化剂与有机膦配体的摩尔比为1∶2～20。有机溶剂可以是但不限于甲苯、四氢呋喃、乙醚或乙酸乙酯等，a＞0，b＞0，2.0≤a+b≤4.0。进一步，在反应结束后进行如下提纯：室温(20-25℃)下，向反应液加入饱和氯化钠水溶液，用乙酸乙酯萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物，即为耦合产物。
步骤S30的溴化取代反应可按照以下步骤进行：将耦合产物和溴化剂在0℃～30℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶2.5加入至有机溶剂中，反应12～48小时，得到二溴产物。其中，所述有机溶剂可以是但不限于为DMF、四氢呋喃、乙醚、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯或醋酸，溴化剂可采用但不限于N-溴代丁二酰亚胺(NBS)、Br2、HBr或PBr3等，优选为NBS。其反应式如下：
步骤S40中，Suzuki反应可按照以下步骤进行：在无氧环境中，在催化剂、碱溶液和有机溶剂中，将化合物A、化合物E与二溴产物按摩尔比1.0∶c∶d在65℃～120℃下进行反应24～72小时，得到所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物。反应结束后进一步进行提纯：用甲醇沉降三次，抽滤，真空干燥得到固体共聚物。其中，c＞0，d＞0，0.9≤c+d≤1.1。Suzuki反应式如下所示：
其中，无氧环境中主要是在氮气或惰性氧化保护环境下，惰性气体如氖、氩等气体保护下进行反应，并不限于此，在此环境下，反应产率高，反应进行较快。可以理解的是，为简便起见，在一些实施例也可在有氧条件如空气气氛中进行反应。
在Suzuki反应中，催化剂可以是但不限于有机钯催化剂或有机钯催化剂与有机膦配体的混合物，例如Pd(PPh3)4、Pd2(dba)3/P(o-Tol)3或Pd(PPh3)2Cl2等，催化剂的用量为化合物A摩尔用量的0.005-0.10倍。当Suzuki反应采用的催化剂是有机钯催化剂与有机膦配体的混合物时，混合物中有机钯催化剂与有机膦配体的摩尔比为1∶2～20。碱溶液可以是无机碱溶液或有机碱溶液，无机碱溶液可以是碱金属氢氧化物或碱金属碳酸盐的水溶液，例如可以是但不限于氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、碳酸钠溶液、碳酸钾溶液等，优选为碳酸钠溶液；有机碱溶液可以是四烷基氢氧化铵水溶液，例如可以是但不限于四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵等水溶液。上述碱溶液中的碱用量为化合物A摩尔用量的2-20倍。有机溶剂为弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂，例如可以是但不限于氯仿、二氯甲烷、乙醚、N，N-二甲基甲酰胺、三氯甲烷、乙二醇二甲醚、二甲基亚砜(DMSO)、四氢呋喃(THF)、甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、醋酸或其类似化合物，Suzuki反应的有机溶剂优选为甲苯。有机溶剂的用量足量，以使各反应物溶解并充分反应。可以理解的是，上述各反应中使用的有机溶剂，例如，在化合物A、B、E的制备方法中、耦合反应、溴化取代反应等采用的有机溶剂都可以是这种弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂，并不限于以上示例的溶剂种类。
在上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的制备方法中，各单体的合成路线简单且成熟，从而减少工艺流程，降低制备成本。而且Suzuki反应是一种成熟的聚合反应，产率高、条件温和，易于控制。另外，上述制备过程中易于引入烷基，以提高产物的溶解性，有利于扩大材料的成膜加工性能。
本实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物可用作有机光电材料，应用于各种光电或半导体器件中，例如，可用于太阳能电池器件、有机场效应晶体管、有机电致发光器件、有机光存储器件和有机激光器件等。下面以太阳能电池器件、有机场效应晶体管、有机电致发光器件为例进行说明。其它如有机光存储器件、有机激光器件与下面类似，都是以本实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物作为对应器件的光存储材料、激光材料等。
请参阅图2，显示采用上述实施例中含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的太阳能电池器件，其包括依次层叠的玻璃基层11、透明阳极12、中间辅助层13、活性层14、阴极15，中间辅助层13采用聚乙烯二氧基噻吩:聚苯乙烯-磺酸复合材料(简称为PEDOT:PSS)，活性层14包括电子给体材料和电子受体材料，电子给体材料采用上述含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，电子受体材料可以是[6，6]苯基-C61-丁酸甲酯(简称为PCBM)。透明阳极12可采用氧化铟锡(简称为ITO)，优选为方块电阻为10-20Ω/□的氧化铟锡。阴极15可采用铝电极。其中，玻璃基层11可作为底层，制作时，先将ITO电极沉积于玻璃基层11，再用氧-等离子喷涂(氧-Plasma)处理工艺，将中间辅助层13形成于ITO电极上，以及将含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物和电子受体材料通过旋涂技术沉积于中间辅助层13上，形成活性层14，然后再通过真空蒸镀技术在活性层14上沉积阴极15，获得上述太阳能电池器件。
如图所示，在光照下，光透过玻璃基层11和ITO电极12，活性层14中的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物吸收光能，并产生激子，这些激子再迁移到电子给体/受体材料的界面处，并将电子转移给电子受体材料，如PCBM，实现电荷的分离，从而形成自由的载流子，即自由的电子和空穴。这些自由的电子沿电子受体材料向金属阴极传递并被阴极所收集，自由的空穴沿电子给体材料向ITO阳极传递并被阳极所收集，从而形成光电流和光电压，实现光电转换，外接负载16时，可对其进行供电。在此过程中，含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物由于其具有很宽的光谱响应范围，能够更充分地利用光能，以获得更高的光电转换效率，增加太阳能电池器件的产电能力。而且这种有机材料还能减轻太阳能电池器件的质量，并通过旋涂等技术即可制作，便于大批量的制备。
请参阅图3，显示采用上述实施例中的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的有机电致发光器件，其包括依次层叠设置的玻璃基层21、透明阳极22、发光层23、缓冲层24、阴极25。透明阳极22可采用氧化铟锡(简称为ITO)，优选为方块电阻为10-20Ω/□的氧化铟锡。发光层23包含上述实施例中的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物。缓冲层24可采用LiF等，但不限于此。阴极25可以是但不限于金属Al或Ba等，但不限于此。因而，在一个具体实施例中，有机电致发光器件结构表示为：ITO/含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物/LiF/Al。各层可采用现有方法形成，而含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物可通过旋涂技术形成于ITO上。
请参阅图4，显示采用上述实施例中的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物的有机场效应晶体管，其包括依次层叠设置的衬底31、绝缘层32、修饰层33、有机半导体层34以及设于有机半导体层34上的源电极35和漏电极36。其中，衬底31可以是但不限于高掺杂的硅片(Si)，绝缘层32可以是但不限于微纳米(如450nm)厚的SiO2。有机半导体层34采用上述描述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物。源电极35和漏电极36均可采用但不限于金。修饰层33可以是但不限于十八烷基三氯硅烷。衬底31、绝缘层32、修饰层33以及源电极35和漏电极36都可采用现有的方法形成。有机半导体层34可以是在真空度接近10-4Pa下，将上述实施例中的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物旋涂于由修饰层33修饰的绝缘层32上。
以下通过具体共聚物来举例说明其制备方法以及其性能等方面。
实施例1
本实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物(I1)中，R1、R2、R3均为甲基，R4、R5、R6、R7均为H，R8、R9均为甲基，x＝1/3，y＝2/3，m＝1，n＝10，其结构式如下：
在上述结构式表示的共聚物(I1)中，R4、R5、R6、R7均为H，表明化合物C和D是相同结构，这样只需要提供一种原料，而且使得反应产率提高。
本实施例的共聚物(I1)的制备包括如下具体步骤：
一、2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-二甲基硅芴的制备，即化合物A的一个具体实例，其结构式如下：
具体制备过程如下：在-100℃、氮气条件下，将20.00mL(1.00mol/L)正丁基锂溶液加入至盛有3.52g的2，7-二溴-9，9-二甲基硅芴和100mL四氢呋喃的反应器中，搅拌2小时后慢慢滴加4.17mL的2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷，恢复至室温，继续搅拌24小时。反应结束后，将反应液倒入水中，乙醚萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：446.3(M+)。
二、2，5-二溴-3，4-二甲基噻吩的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在0℃条件下，将4.45g NBS分批加入至盛有1.12g的3，4-二甲基噻吩和100mL DMF的反应器中，搅拌48小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：270.0(M+)。
三、5-甲基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：
1)将5.97g噻吩-3，4-二羧酸加入至150mL乙酸酐中，搅拌24小时后，将反应液中的溶剂减压蒸干，加入至150mL甲苯中，随后加入1.62g甲基胺，加热至120℃反应24小时。将反应液冷却至室温，减压除去溶剂，加入270mL二氯亚砜，加热至90℃回流4小时。反应结束后，旋蒸反应产物，柱层析分离得到5-甲基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：167.2(M+)。
2)将1.67g 5-甲基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮加入至15.3mL硫酸和50mL三氟乙酸的混合溶剂中，在10℃下搅拌1小时后分批加入5.34g NBS，继续反应24小时。反应结束后，去离子水洗涤，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。MALDI-TOF-MS(m/z)：325.0(M+)
四、5-甲基-1，3-二(噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：将50mL THF加入至耐压管中，快速加入4.03g 3-丁基-(噻吩-2-基)锡、1.63g 1，3-二溴-5-甲基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮、0.335gPd2(dba)3，氮气通至液面以下除氧30分钟，升温至80℃，反应24小时。反应结束后，恢复至室温，加入饱和氯化钠水溶液，乙酸乙酯萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：331.4(M+)。
五、5-甲基-1，3-二(5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在0℃条件下，将0.98g NBS分批加入至盛有0.66g 5-甲基-1，3-二(噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮和50mL DMF的反应器中，搅拌20小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：489.2(M+)。
六、本实施例共聚物的制备
具体制备过程如下：在氮气保护下，往含有0.446g 2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-二甲基芴、0.136g 2，5-二溴-3，4-二甲基噻吩、0.164g 5-甲基-1，3-二(5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮、0.093g Pd(PPh3)4的反应器中加入6mL 20％Wt四乙基氢氧化铵水溶液和甲苯(20mL)。氮气置换1小时后，加热至65℃，反应72小时。反应结束后，甲醇沉降三次，抽滤，真空干燥得到固体产物，产率为55％。
测试结果为：GPC:Mn＝4486，PDI＝1.8。
实施例2
本实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物(I2)中，R1、R2、R3均为C8H17，R4、R5、R6、R7均为H，R8、R9均为C8H17，x＝1/2，y＝1/2，m＝1，n＝39，其结构式如下：
与实施例1类似，在上述结构式表示的共聚物(I2)中，R4、R5、R6、R7均为H，表明化合物C和D是相同结构，这样只需要提供一种原料，而且使得反应产率提高。而且，R1、R2、R3及R8、R9均为C8H17，这样有利于提高共聚物(I2)的分子量，有利于加工成膜，例如便于采用旋涂技术成膜。
本实施例的共聚物(I2)的制备包括如下具体步骤：
一、2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-二辛基芴的制备，即化合物A的一个具体实例，其结构式如下：
具体制备过程如下：在-78℃、氮气条件下，用注射器将23.00mL(2.00M)正丁基锂溶液加入至盛有11.00g 2，7-二溴-9，9-二辛基芴和100.00mL四氢呋喃的两口烧瓶中，搅拌2小时后慢慢滴加9.80mL 2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷，恢复至室温，继续搅拌25小时。反应结束后，将反应液倒入水中，乙醚萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：642.6(M+)。
二、2，5-二溴-3，4-二辛基噻吩的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在10℃条件下，将3.56g NBS分批加入至盛有3.09g3，4-二辛基噻吩和100mL DMF的反应器中，搅拌12小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：466.4(M+)。
三、1，3-二溴-5-辛基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：
1)将5.97g噻吩-3，4-二羧酸加入至150mL乙酸酐中，搅拌24小时后，将反应液中的溶剂减压蒸干，加入至150mL甲苯中，随后加入6.74g辛基胺，加热至120℃反应24小时。将反应液冷却至室温，减压除去溶剂，加入270mL二氯亚砜，加热至90℃回流4小时。反应结束后，旋蒸反应产物，柱层析分离得到5-辛基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：265.2(M+)。
2)将2.65g 5-辛基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮加入至16.0mL硫酸和50mL三氟乙酸的混合溶剂中，在20℃下搅拌1小时后分批加入5.88g NBS，继续反应16小时。反应结束后，去离子水洗涤，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：423.2(M+)。
四、5-辛基-1，3-二(噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：将100mL THF加入至耐压管中，快速加入7.92g 3-丁基-(噻吩-2-基)锡、4.23g 1，3-二溴-5-辛基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮、0.398g Pd2(dba)3，氮气通至液面以下除氧30分钟，升温至90℃，反应24小时。反应结束后，恢复至室温，加入饱和氯化钠水溶液，乙酸乙酯萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：429.6(M+)。
五、5-辛基-1，3-二(5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在10℃条件下，将2.00g NBS分批加入至盛有2.15g 5-辛基-1，3-二(噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮和100mL DMF的反应器中，搅拌18小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：587.4(M+)。
六、本实施例共聚物的制备
具体制备过程如下：在氮气保护下，往含有0.642g 2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-二辛基芴、0.234g 2，5-二溴-3，4-二辛基噻吩、0.394g 5-辛基-1，3-二(5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮、0.100g Pd(PPh3)4的反应器中加入9mL 2M碳酸钠水溶液、0.082g季铵盐336和甲苯(30mL)。氮气置换1小时后，加热至80℃，反应68小时。反应结束后，甲醇沉降三次，抽滤，真空干燥得到固体产物，产率为51％。测试结果为：GPC:Mn＝29472，PDI＝1.7。
实施例3
本实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物(I3)中，R1、R2、R3均为C10H21，R4、R5、R6、R7、R8、R9均为H，x＝2/3，y＝1/3，m＝2，n＝80，其结构式如下：
与实施例1类似，在上述结构式表示的共聚物(I3)中，R4、R5、R6、R7均为H，表明化合物C和D是相同结构，这样只需要提供一种原料，而且使得反应产率提高。而且，R1、R2、R3及R8、R9均为C10H21，更有利于提高共聚物(I2)的分子量，有利于加工成膜，例如便于采用旋涂技术成膜。进一步，m为2时相当于增加了噻吩单元，从而增强了共聚物(I3)的共轭性能，更有利于改善其光电转换性能。
本实施例的共聚物(I3)的制备包括如下具体步骤：
一、2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-二癸基芴的制备，即化合物A的一个具体实例，其结构式如下：
具体制备过程如下：在-45℃、氮气条件下，用注射器将25.00mL(2.00M)正丁基锂溶液加入至盛有12.08g 2，7-二溴-9，9-二癸基芴和150.00mL四氢呋喃的两口烧瓶中，搅拌1小时后慢慢滴加9.90mL 2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷，恢复至室温，继续搅拌28小时。反应结束后，将反应液倒入水中，乙醚萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：698.7(M+)。
二、5，5’-二溴-2，2’-二噻吩的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在30℃条件下，将4.02g NBS分批加入至盛有1.66g2，2’-二噻吩和80mL DMF的反应器中，搅拌25小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：324.1(M+)。
三、5-癸基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：
1)室温下将5.86g噻吩-3，4-二羧酸加入至140mL乙酸酐中，搅拌28小时。将反应液中的溶剂减压蒸干，加入至150mL甲苯中，随后加入6.98g癸基胺，加热至120℃反应24小时。将反应液冷却至室温，减压蒸干溶剂，加热至90℃回流10小时。反应结束后，旋蒸，柱层析分离得到产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：293.4(M+)。
2)将2.93g 5-癸基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮加入至18.0mL硫酸和58mL三氟乙酸的混合溶剂中，在25℃下搅拌1小时后分批加入5.96g NBS，继续反应20小时。反应结束后，去离子水洗涤，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。MALDI-TOF-MS(m/z)：451.2(M+)。
四、5-癸基-1，3-二(噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：将100mL THF加入至耐压管中，快速加入7.99g 3-丁基-(噻吩-2-基)锡、4.51g 1，3-二溴-5-癸基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮、0.304gPd2(dba)3，氮气通至液面以下除氧30分钟，升温至100℃，反应47小时。反应结束后，恢复至室温，加入饱和氯化钠水溶液，乙酸乙酯萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：457.7(M+)。
五、5-癸基-1，3-二(5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在20℃条件下，将2.05g NBS分批加入至盛有2.29g 5-癸基-1，3-二(噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮和100mL DMF的反应器中，搅拌16小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：615.5(M+)。
六、本实施例共聚物的制备
具体制备过程如下：在氮气保护下，往含有0.642g 2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-二辛基芴、0.216g 5，5’-二溴-2，2’-二噻吩、0.205g 5-癸基-1，3-二(5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮、0.128g Pd(PPh3)4的反应器中加入10mL 20％Wt四乙基氢氧化铵水溶液和甲苯(30mL)。氮气置换1小时后，加热至95℃，反应57小时。反应结束后，甲醇沉降三次，抽滤，真空干燥得到固体产物，产率为42％。
测试结果为：GPC:Mn＝56491，PDI＝1.5。
实施例4
本实施例的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物(I4)中，R1、R2、R3均为C20H41，R4、R6、R5、R7、R8、R9的结构如下式所示，x＝1/2，y＝1/2，m＝2，n＝100，其结构式如下：
除了具有实施例3类似效果外，本实施例还进一步采用C20H41，更加有利于提高共聚物(I4)的分子量，有利于加工成膜。进一步，m为2且联噻吩单元上也有C20H41取代基，从而更加增强了共聚物(I4)的共轭性能，有利于改善其光电转换性能。
本实施例的共聚物(I4)的制备包括如下具体步骤：
一、2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-双二十烷基芴的制备，即化合物A的一个具体实例，其结构式如下：
具体制备过程如下：在-78℃、氮气条件下，将16.50mL(2.00M)正丁基锂溶液加入至盛有8.87g 2，7-二溴-9，9-双二十烷基芴和150mL四氢呋喃的反应器中，搅拌2小时后慢慢滴加5.50mL 2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷，恢复至室温，继续搅拌44小时。反应结束后，将反应液倒入水中，乙醚萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：979.2(M+)。
二、5，5’-二溴-4，4’-双二十基-2，2’-二噻吩的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在15℃条件下，将3.92g NBS分批加入至盛有7.27g4，4’-双二十基-2，2’-二噻吩和120mL DMF的反应器中，搅拌16小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：885.1(M+)。
三、1，3-二溴-5-二十烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：
1)将5.97g噻吩-3，4-二羧酸加入至150mL乙酸酐中，搅拌24小时后，将反应液中的溶剂减压蒸干，加入至150mL甲苯中，随后加入14.68g二十烷基胺，加热至120℃反应24小时。将反应液冷却至室温，减压除去溶剂，加入270mL二氯亚砜，加热至90℃回流4小时。反应结束后，旋蒸反应产物，柱层析分离得到5-二十烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：433.2(M+)。
2)将4.89g 5-二十烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮加入至18.0mL硫酸和55mL三氟乙酸的混合溶剂中，在30℃下搅拌1小时后分批加入6.21g NBS，继续反应12小时。反应结束后，去离子水洗涤，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。MALDI-TOF-MS(m/z)：591.5(M+)。
四、5-二十烷基-1，3-双(4-二十烷基噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：将100mL THF加入至耐压管中，快速加入7.10g 3-丁基-(4-二十烷基噻吩-2-基)锡、5.92g 1，3-二溴-5-二十烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮、0.308g Pd2(dba)3，氮气通至液面以下除氧30分钟，升温至90℃，反应27小时。反应结束后，恢复至室温，加入饱和氯化钠水溶液，乙酸乙酯萃取，无水硫酸镁干燥，抽虑，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：1159.0(M+)。
五、5-二十烷基-1，3-二(4-二十烷基-5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮的制备，其结构式如下：
具体制备过程如下：在30℃条件下，将2.07g NBS分批加入至盛有5.80g 5-二十烷基-1，3-双(4-二十烷基噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮和80mL DMF的反应器中，搅拌16小时。反应结束后，将反应液倒入冰水中淬灭，二氯甲烷萃取，无水硫酸镁干燥，旋蒸，柱层析分离得到固体产物。测试结果为：MALDI-TOF-MS(m/z)：1316.8(M+)。
六、本实施例共聚物的制备
具体制备过程如下：在氮气保护下，往含有0.979g 2，7-双(4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷基)-9，9-双二十烷基芴、0.443g 5，5’-二溴-4，4’-双二十基-2，2’-二噻吩、0.657g 5-二十烷基-1，3-二(4-二十烷基-5-溴噻吩-2-基)-4H-噻吩[3，4-c]吡咯-4，6(5H)-二酮、0.112g Pd(PPh3)4的反应器中加入6mL 2M碳酸钠水溶液、0.069g季铵盐336和甲苯(30mL)。氮气置换1小时后，加热至85℃，反应67小时。反应结束后，甲醇沉降三次，抽滤，真空干燥得到固体产物，产率为48％。测试结果为：GPC:Mn＝166742，PDI＝2.0。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，为如下结构式(I)表示的聚合物：
式中：R1、R2、R3选自C1-C20的烷基；R4、R5、R6、R7、R8、R9选自H或C1-C20的烷基；x+y＝1，x≠0，y≠0；m为1-5的整数；n为1-100的整数。
2.如权利要求1所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，其特征在于，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9选自C8-C20的烷基。
3.如权利要求1所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，其特征在于，所述n为10-80的整数。
4.一种含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其包括如下步骤：
提供如下结构式表示的化合物A、B、C、D、E，
在催化剂和有机溶剂中，将化合物B、C、D进行如下式所示的耦合反应，得到耦合产物；
在有机溶剂中，将耦合产物和溴化剂进行溴化取代反应，得到二溴产物；
在催化剂、碱溶液和有机溶剂中，将化合物A、化合物E与二溴产物进行Suzuki反应，获得如下结构式(I)表示的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物：
式中n为1-100的整数。
5.如权利要求4所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其特征在于，所述耦合反应按照以下步骤进行：在催化剂和有机溶剂中，将摩尔比为2.0∶a∶b的化合物B、C、D在60℃～120℃下反应12～24小时，得到耦合产物；a＞0，b＞0，2.0≤a+b≤4.0，所述催化剂为有机钯催化剂或有机钯催化剂与有机膦配体的混合物，所述催化剂用量为化合物B摩尔用量的0.005-0.10倍，所述有机溶剂为弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂。
6.如权利要求4所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其特征在于，所述溴化取代反应按照以下步骤进行：将耦合产物和溴化剂在0℃～30℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶2.5加入至有机溶剂中，反应12～48小时，得到二溴产物，所述有机溶剂为弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂。
7.如权利要求4所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其特征在于，所述Suzuki反应按照以下步骤进行：在无氧环境中，在催化剂、碱溶液和有机溶剂中，将化合物A、化合物E与二溴产物按摩尔比1.0∶c∶d在65℃～120℃下进行反应24～72小时，得到所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物，其中，c＞0，d＞0，0.9≤c+d≤1.1，所述催化剂为有机钯催化剂或有机钯催化剂与有机膦配体的混合物，所述催化剂的用量为化合物A摩尔用量的0.005-0.10倍，所述碱溶液为碱金属氢氧化物或碱金属碳酸盐的水溶液或四烷基氢氧化铵水溶液，所述碱溶液中的碱用量为化合物A摩尔用量的2-20倍，所述有机溶剂为弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂。
8.如权利要求4所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其特征在于，所述化合物A通过以下步骤获得：在有机溶剂中，将2，7-二溴-9，9-二烷基硅芴和烷基锂在-100℃～-25℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶4.0混合，再加入2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷，反应24～48小时，得到所述化合物A，所述有机溶剂为弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂，所述2-异丙氧基-4，4，5，5-四甲基-1，3，2-二杂氧戊硼烷的用量为2，7-二溴-9，9-二烷基硅芴摩尔用量的2.0～4.0倍。
9.如权利要求4所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物制备方法，其特征在于，所述化合物B通过以下步骤获得：
将噻吩-3，4-二羧酸加入至乙酸酐中，搅拌反应12-24小时，将反应液中的溶剂减压蒸干，加入至有机溶剂中，随后加入烷基胺，加热至100-120℃反应24-32小时，然后冷却，减压除去溶剂，加入二氯亚砜，加热至80-100℃回流1-12小时后，得到5-烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮，所述烷基胺中的烷基为R3；
将5-烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮和溴化剂在10℃～30℃下以摩尔比1.0∶2.0～1.0∶4.0加入至有机溶剂中，反应12～48小时，得到1，3-二溴-5-烷基噻吩[3，4-c]-吡咯-4，6-二酮；
所述有机溶剂为弱极性或极性非质子性有机溶剂或其混合溶剂。
10.如权利要求1-3任一项所述的含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物在有机光电材料、太阳能电池器件、有机场效应晶体管、有机电致发光器件、有机光存储器件或有机激光器件中的应用。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201010233475.7A CN102336895B (zh) | 2010-07-21 | 2010-07-21 | 含噻吩和噻吩吡咯二酮单元的芴基共聚物、其制备方法和应用 |
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|---|---|---|---|---|
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