CN102315092B - 湿蚀刻装置及方法 - Google Patents

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    • H05K3/068—Apparatus for etching printed circuits

Abstract

本发明公开一种玻璃基板的湿蚀刻装置及方法，该湿蚀刻装置包括传动装置、承载平台、振动装置及基板固定架，所述基板固定架上部固定有玻璃基板，底部与所述振动装置连接；所述振动装置固定在所述承载平台上，驱动所述基板固定架往复运动；所述承载平台设置在所述传动装置上，随着所述传动装置的运动而移动。本发明通过控制振动装置驱动玻璃基板在欲加快蚀刻速度的方向上进行往复运动，从而可以使得被蚀刻的材料增加与蚀刻液碰撞的机率，加快其侧蚀刻率，由此可增大蚀刻后玻璃基板中导线的侧向曲度，进而提高下一道镀膜制程的贴合率，减少玻璃基板的镀膜异常。

Description

湿蚀刻装置及方法
技术领域
本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种湿蚀刻装置及方法。
背景技术
液晶显示器（Liquid Crystal Display，LCD）是利用液晶材料的特性来显示图像的一种平板显示装置（Flat Panel Display，FPD），其相较于其他显示装置而言具轻薄、低驱动电压及低功耗等优点，已经成为整个消费市场上的主流产品。现今液晶显示面板的制作过程中，大致可分为前段矩阵（Array）工艺、中段成盒（Cell）工艺及后段模块化（Module）工艺。前段的矩阵工艺为生产薄膜式晶体管（TFT）阵列基板及彩色滤光片（CF）基板；中段成盒工艺则将TFT基板与CF板组合，并两者之间注入液晶并切割符合产品尺寸的面板；后段模块化工艺则为组装的面板与背光模块、面板驱动电路、外框等的工艺。
在矩阵工艺中，包括在玻璃基板上沉积金属层，并通过湿蚀刻的方式将其蚀刻成导线。在湿蚀刻技术中，一般包括正向向下蚀刻与侧蚀刻两种特性，这两种蚀刻的速率将决定蚀刻完成后导线的侧向曲度，侧向曲度为导线的侧面与玻璃基板之间的夹角，夹角越小，侧向曲度越大。而导线的侧向曲度会影响下一道镀膜制程的膜覆盖贴合程度。蚀刻后的导线一般要求侧向曲度大，这样下一道的覆盖率会比较好，即导线的侧面与玻璃基板的夹角小，下一道镀膜制程的覆盖率比较好。
但是，在蚀刻液喷洒到玻璃基板上后，蚀刻液对玻璃基板上沉积的金属层进行蚀刻，由于蚀刻液的蚀刻为等向性，即蚀刻液对与之接触的金属层各个方向的蚀刻率基本相同，因此现有技术中无法实现蚀刻液对金属层不同位置的蚀刻率不同，也就无法增大蚀刻后的导线的侧向曲度。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种玻璃基板的湿蚀刻装置，旨在增大蚀刻后的导线的侧向曲度。
本发明提供了一种玻璃基板的湿蚀刻装置，包括传动装置、承载平台、振动装置及基板固定架；其中，
所述基板固定架与所述振动装置连接；
所述振动装置固定在所述承载平台上，驱动所述基板固定架相对于水平面内做往复运动，且该往复运动的方向与欲加速蚀刻速度的方向一致；
所述承载平台设置在所述传动装置上，随着所述传动装置的运动而移动。
优选地，所述振动装置为线性马达或者螺旋式马达。
优选地，所述振动装置包括电磁装置，其与所述基板固定架连接，所述电磁装置根据外部电路的控制而产生磁性或磁性消失，驱动基板固定架向靠近或者远离电磁装置的方向运动。
优选地，所述振动装置为多个，间隔分布在所述承载平台上。
优选地，所述基板固定架包括连动杆及固定部，所述连动杆与振动装置的转轴枢接，所述固定部与连动杆连接。
优选地，所述固定部为吸盘或夹子。
优选地，所述承载平台上还设有气浮装置或滚珠。
优选地，所述传动装置为滚轮或传动皮带。
本发明还提供了一种湿蚀刻方法，包括以下步骤：
将玻璃基板固定在基板固定架上；
控制传动装置运动，带动设置于其上的承载平台移动；
控制振动装置工作，驱动固定在承载平台上的基板固定架相对于水平平面内做往复运动，且该往复运动的方向与欲加速蚀刻速度的方向一致。
优选地，执行控制振动装置工作的步骤的同时，还包括：
启动气浮装置。
本发明通过控制振动装置驱动玻璃基板在欲加快蚀刻速度的方向上进行往复运动，从而可以使得被蚀刻的材料增加与蚀刻液碰撞的机率，加快其侧蚀刻率，由此可增大蚀刻后玻璃基板中导线的侧向曲度，进而提高下一道镀膜制程的贴合率，减少玻璃基板的镀膜异常。
附图说明
图1是本发明湿蚀刻装置一实施例的结构示意图；
图2是图1中玻璃基板的俯视结构示意图；
图3是本发明湿蚀刻装置另一实施例的结构示意图；
图4是本发明湿蚀刻方法一实施例的流程示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
以下结合说明书附图及具体实施例进一步说明本发明的技术方案。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
参照图1，本发明湿蚀刻装置包括传动装置、承载平台120、振动装置130及基板固定架140。该基板固定架140的上部固定有玻璃基板2，其底部与振动装置130连接。振动装置130固定在所述承载平台120上，驱动基板固定架120往复运动。在本实施例中，所述传动装置为滚轮110，该承载平台120设置在滚轮110上，可随着滚轮110的运动而移动。当然，在其他实施方式中，所述传动装置也可为传动皮带，由传动皮带带动承载平台120移动。
在滚轮110带动承载平台120沿图1中箭头方向移动的同时，振动装置130驱动基板固定架140做往复运动，从而带动玻璃基板2相对于承载平台120在水平面内做往复运动，该往复运动的方向与欲加速玻璃基板2的蚀刻速度的方向一致。如图2所示，如果欲加快蚀刻速度的方向为玻璃基板2的x方向，则振动装置130驱动玻璃基板2在其平面内沿x方向往复运动；如果欲加快蚀刻速度的方向为玻璃基板2的y方向，则振动装置130驱动玻璃基板2在其平面内沿y方向往复运动。当然，欲加快蚀刻速度的方向也可以为其他方向，则振动装置130驱动玻璃基板2在其平面内沿欲加快蚀刻速度的方向往复运动。
本发明通过振动装置130驱动玻璃基板2在欲加快蚀刻速度的方向上进行往复运动，从而可以使得被蚀刻的材料增加与蚀刻液碰撞的机率，加快其侧蚀刻率，由此可增大蚀刻后玻璃基板2中导线的侧向曲度，进而提高下一道镀膜制程的贴合率，减少玻璃基板2的镀膜异常。
上述振动装置130可以包括马达，该马达设有一转轴（图未示），而基板固定架140则包括连动杆141及固定部142，连动杆141与转轴枢接，固定部142的一端与连动杆141连接，固定部的另一端固定玻璃基板2。因此，通过马达的转动可以驱动基板固定架140往复运动，从而带动玻璃基板2做往复运动。该马达可以是线性马达，也可以是螺旋式马达。该固定部142可以为吸盘，支撑并固定玻璃基板2，也可以为夹子，从玻璃基板2的侧面将其固定。
如图3所示，上述振动装置130也可以包括电磁装置，由外部电路控制电磁装置进行工作，电磁装置与连动杆141通过弹性元件143连接，固定部142用于固定玻璃基板2。而且电磁装置可以通过外部电路的控制而产生磁性，驱动连动杆141挤压弹性元件143向靠近电磁装置的方向运动，当电磁装置通过外部电路的控制而磁性消失后，弹性元件143将恢复弹性而驱动连动杆141向远离电磁装置的方向运动，因此，通过外部电路的控制可以实现玻璃基板2的往复运动。
上述振动装置130可以为一个，仅设置在承载平台120的中心位置。该振动装置130也可以为两个，设置在承载平台120的相对的两端。该振动装置130也可以为4个，其中两个设置在承载平台的一相对两端，另外两个设置在承载平台的另一相对两端。当然，为了可以更好地控制玻璃基板2的往复运动，可以在不同的位置设置多个振动装置130。例如，振动装置为多个，均匀设置在承载平台120的相对两端。
上述承载平台120上还设置有气浮装置（图未示），该气浮装置设置在承载平台120上，该气浮装置向玻璃基板2的吹出气体，用于减少玻璃基板2的运动阻力；此外，对于大尺寸玻璃基板，气浮装置吹出的气体可支撑玻璃棒基板为避免其中央位置下陷。当然，在其他实施方式中，也可在承载平台120上设置多个滚珠，玻璃基板2设置在滚珠上，同样能够达到支撑玻璃基板2并减小其运动阻力的效果。
图4是本发明湿蚀刻方法一实施例的流程示意图。
参照图4，本发明湿蚀刻方法包括以下步骤：
步骤S101、将玻璃基板固定在基板固定架上；通过固定部142将玻璃基板2固定在基板固定架140上。
步骤S102、控制传动装置110运动，带动设置于其上的承载平台120移动；
控制传动装置110运动，从而设置于传动装置上的承载平台120将随着传动装置110的运动而移动。
步骤S103、控制振动装置130工作，驱动固定在承载平台120上的基板固定架进行往复运动。
执行上述步骤S103的同时，还包括步骤：启动气浮装置。该气浮装置设置在承载平台120上，在振动装置130驱动基板固定架做往复运动的过程中，启动气浮装置，用于支撑玻璃基板2并减少其运动阻力。
本发明通过控制振动装置130的工作，从而驱动玻璃基板2在欲加快蚀刻速度的方向上进行往复运动，从而可以使得被蚀刻的材料增加与蚀刻液碰撞的机率，加快其侧蚀刻率，由此可增大蚀刻后玻璃基板2中导线的侧向曲度，进而提高下一道镀膜制程的贴合率，减少玻璃基板2的镀膜异常。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制其专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种湿蚀刻装置，其特征在于，包括传动装置、承载平台、振动装置及基板固定架；
所述基板固定架与所述振动装置连接；
所述振动装置固定在所述承载平台上，驱动所述基板固定架相对于水平面内做往复运动，且该往复运动的方向与欲加速蚀刻速度的方向一致；
所述承载平台设置在所述传动装置上，随着所述传动装置的运动而移动。
2.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述振动装置为线性马达或者螺旋式马达。
3.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述振动装置包括电磁装置，其与所述基板固定架连接，所述电磁装置根据外部电路的控制而产生磁性或磁性消失，驱动基板固定架向靠近或者远离电磁装置的方向运动。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述振动装置为多个，间隔分布在所述承载平台上。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述基板固定架包括连动杆及固定部，所述连动杆与振动装置的转轴枢接，所述固定部与连动杆连接。
6.根据权利要求5所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述固定部为吸盘或夹子。
7.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述承载平台上还设有气浮装置或滚珠。
8.根据权利要求1所述的湿蚀刻装置，其特征在于，所述传动装置为滚轮或传动皮带。
9.一种湿蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：
将玻璃基板固定在基板固定架上；
控制传动装置运动，带动设置于其上的承载平台移动；
控制振动装置工作，驱动固定在承载平台上的基板固定架相对于水平平面内做往复运动，且该往复运动的方向与欲加速蚀刻速度的方向一致。
10.根据权利要求9所述的湿蚀刻方法，其特征在于，执行控制振动装置工作的步骤的同时，还包括：
启动气浮装置。
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