CN102312263A - 铝件的瓷质氧化方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种铝件的瓷质氧化方法,将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫(50℃)、压缩空气吹干、烘干后,即可在铝材表面成瓷质膜。化学氧化步骤氧化液成分如下:铬酐 1-10g/L、草酸 10-15g/L、柠檬酸 1-5g/L、硫酸镍5-10g/L;化学氧化步骤的工艺参数如下:电流强度 0.5-1A/dm2、温度:15-20℃、时间:50-60min、电压:25-45V。本发明适用于一般铝材,获得的膜呈银灰色,膜厚度为20-30微米,膜层的结合力良好,硬度和耐磨性高,绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好,能够达到硬质氧化的各项技术指标。
Description
技术领域
本发明涉及一种铝件的瓷质氧化方法,属于铝材的表面处理领域。
背景技术
在大气中铝及铝合金表面与氧气作用形成氧化膜,该氧化膜为非晶态、且不均匀、不连续,不能作为可靠的防护、装饰性膜层,为了提高铝合金的表面硬度、耐磨性和耐蚀性,通常采用阳极氧化法在铝及铝合金表面形成三氧化二铝的钝化层,瓷质阳极氧化是利用铝合金在电解液中生成阳极氧化膜的同时,一些灰色物质被吸附在生长的氧化膜中,从而获得厚度约6-20微米均匀、光滑、有光泽的氧化膜。传统一般采用以下两种方法:1、草酸加入钛、钴、钍系的工艺,该工艺价格较贵,工艺不稳定;2、以铬酸为基础的混合液,价廉,但膜的硬度较低,对人和环境的影响太大。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种铝件的瓷质氧化方法,是以铬酸为基础,但膜的硬度更高。
为解决上述技术问题,本发明是这样实现的
一种铝件的瓷质氧化方法,将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫(50℃)、压缩空气吹干、烘干后,即可在铝材表面成瓷质膜。
化学氧化步骤氧化液成分如下:
铬酐 1-10g/L、草酸 10-15g/L、柠檬酸 1-5 g/L 、硫酸镍 5-10g/L
化学氧化步骤的工艺参数如下:电流强度 0.5-1A/dm2、温度:15-20℃、时间:50-60min、电压:25-45v。
本发明有以下积极的效果:本发明适用于一般铝材,获得的膜呈银灰色,膜厚度为20-30微米,膜层的结合力良好,硬度和耐磨性高,绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好,能够达到硬质氧化的各项技术指标。
铬酐是氧化剂,能促使氧化膜形成,如不含有铬酐,则溶液的腐蚀性加强,难以成膜。
柠檬酸、草酸:控制溶液的氧化反应速度和改善膜层的外观、是膜层致密。
硫酸镍是溶液中的活化剂,与铬酸共同作用,形成致密的氧化膜层。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明做进一步的详细说明。
实施例1
将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫(50℃)、压缩空气吹干、烘干后,即可在铝材表面成瓷质膜。
化学氧化步骤氧化液成分如下:铬酐 10g/L、草酸 15g/L、柠檬酸 5 g/L 、硫酸镍 10g/L;
化学氧化步骤的工艺参数如下:电流强度 1A/dm2、温度:15℃、时间:60min、电压:45v。
获得的膜呈银灰色,膜厚度为30微米,膜层的结合力良好,硬度和耐磨性高,绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好,能够达到硬质氧化的各项技术指标。
实施例2
将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫(50℃)、压缩空气吹干、烘干后,即可在铝材表面成瓷质膜。
化学氧化步骤氧化液成分如下:铬酐 5g/L、草酸 10g/L、柠檬酸 3 g/L 、硫酸镍 8g/L;
化学氧化步骤的工艺参数如下:电流强度 0.5A/dm2、温度:18℃、时间:55min、电压:40v。
获得的膜呈银灰色,膜厚度为25微米,膜层的结合力良好,硬度和耐磨性高,绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好,能够达到硬质氧化的各项技术指标。
实施例3
将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫(50℃)、压缩空气吹干、烘干后,即可在铝材表面成瓷质膜。
化学氧化步骤氧化液成分如下:铬酐 1g/L、草酸 12g/L、柠檬酸 1 g/L 、硫酸镍 5g/L;
化学氧化步骤的工艺参数如下:电流强度 0.8A/dm2、温度:20℃、时间:50min、电压:25v。
获得的膜呈银灰色,膜厚度为20微米,膜层的结合力良好,硬度和耐磨性高,绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好,能够达到硬质氧化的各项技术指标。
上述具体实施方式不以任何形式限制本发明的技术方案,凡是采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案均落在本发明的保护范围。
Claims (1)
1.铝件的瓷质氧化方法,将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫(50℃)、压缩空气吹干、烘干后,即可在铝材表面成瓷质膜;
化学氧化步骤氧化液成分如下:
铬酐 1-10g/L、草酸 10-15g/L、柠檬酸 1-5 g/L 、硫酸镍 5-10g/L
化学氧化步骤的工艺参数如下:电流强度 0.5-1A/dm2、温度:15-20℃、时间:50-60min、电压:25-45v。
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