CN102271825B - 涂敷膜的宽度的检查方法以及用于该检查方法的检查装置 - Google Patents
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Abstract
本发明的涂敷膜的宽度的检查方法是检测在片状基材(10)上跨越长度方向形成的涂敷膜(20)的与该长度方向交叉的横方向的宽度W1的方法，包括以下工序：计测涂敷膜(20)在横方向上的厚度轮廓的工序；基于计测出的厚度轮廓，在涂敷膜(20)的横方向的两个端部附近区域(24a、24b)作成距离X与厚度Y的函数的近似曲线L1、L2的工序；以及基于所得到的近似曲线L1、L2和距离预先设定的基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域(24a)的近似曲线L1求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域(24b)的近似曲线L2求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为预定的计测点的涂敷膜(20)的横方向的宽度W1的工序。
Description
技术领域
本发明涉及检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度的方法、以及用于该检查方法的检查装置。
背景技术
近年锂离子电池、镍氢电池以及其他二次电池，作为车辆搭载用电源、或计算机以及移动终端的电源重要性日益提高。特别是轻质且能获得高能量密度的锂离子电池被期待作为车辆搭载用高输出电源而优选使用。
在锂离子电池的一个典型的构成中，公知有包括具有螺旋状结构的卷绕电极体的电池结构。该卷绕电极体由片状电极(片状正极和片状负极)和片状隔板构成，且通过将各片重叠进行卷绕来制造。锂离子电池用的片状电极具有在金属制的片状基材的一面或两面形成了包括电极活性物质的电极活性物质层的构成。而且，片状电极形成为：在其一部分设置非涂敷部分(不形成电极活性物质层而使片状基材的表面露出的部分)，且在该非涂敷部分安装有电极的引线(集电箔等)。
作为在片状电极上设置非涂敷部分的涂敷方法，例如有在片状基材的长度方向上将电极活性物质层以预定的间隔进行连续带状(条纹)涂敷的方法。对于这样的涂敷用途，优选采用利用金属型涂料机等进行的涂敷手段，例如，采用在片状基材的输送路中配置模具来涂敷电极活性物质层的方法。另外，作为测定这种涂敷膜的厚度(高度)的现有技术公开有专利文献1、2等。
专利文献1：日本特开2002-257506号公报
专利文献2：日本特开2006-71625号公报
发明内容
然而，在由上述那样的金属型涂料机等所涂敷的片状电极中存在以下问题：在电极活性物质层与非涂敷部分的边界上，电极活性物质层的厚度容易变得不均匀。即，在基材上涂敷了电极活性物质层时，由于在电极活性物质层的涂敷端部分产生涂液的流淌(泪珠)，因此即使进行模具形状或涂液的粘度调整，横方向的厚度也不会变均匀，电极活性物质层的涂敷端部分的厚度与涂敷中央部分相比存在变薄的倾向。厚度变薄了的电极活性物质层的涂敷端部分，由于每单位面积的涂敷重量(单位面积重量)减小，因此会成为不满足所需的涂敷重量的不适合的涂敷部。在锂离子二次电池中，通过在有限的电池内空间中，有效地填入尽可能多的电极活性物质来实现高容量化。因此，在电极活性物质层的涂敷工序中，尽量排除上述那样的不满足所需的涂敷重量的不适宜的涂敷部分，对电极活性物质层的涂敷宽度(电极活性物质的产额)进行管理变得非常重要。
本发明是鉴于该点所做出的，其主要目的在于提供一种检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度的方法，是考虑了涂敷膜的涂敷重量(单位面积重量)的涂敷膜的宽度的检查方法。并且，本发明的另一目的在于提供一种能够较好地实现上述涂敷膜的宽度的检查方法的涂敷膜的宽度的检查装置。
根据本发明所提供的方法，是检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度的方法，其中，包括以下工序：a).在上述长度方向上的预定的计测点，计测上述涂敷膜在上述横方向上的厚度轮廓的工序，其中上述厚度轮廓被规定为：相对于距离关于上述宽度的基准点X0的上述横方向的距离X的、距离关于上述厚度的基准点Y0的涂敷膜的厚度Y；b).基于上述计测出的厚度轮廓，在上述涂敷膜的上述横方向的两个端部的各个端部附近区域作成上述距离X与上述厚度Y的函数的近似曲线的工序；以及c).基于就上述横方向的两个端部的各个端部附近区域所得到的近似曲线、和距离预先设定的上述基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作上述横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为上述预定的计测点的上述涂敷膜的横方向的宽度的工序。
根据该检查方法，在检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度时，能够对横方向的两个端部的各个端部附近区域，排除不满足所希望的涂敷重量的不适合的涂敷部分，计算出涂敷膜的横方向的宽度。因此，能够获得考虑了涂敷重量的涂敷膜的横方向的宽度。其结果，能够将该涂敷宽度的形状值优选用于例如涂敷膜的品质管理、涂敷工序评价等。
其中在所公开的方法的某一优选方式中，在用预定的辊对跨越上述长度方向形成有涂敷膜的上述长片状基材进行输送的途中的预定的计测点，计测上述厚度轮廓，其中将上述辊上的与上述片状基材抵接的表面设定为关于上述厚度的基准点Y0。根据该检查方法，由于能够将计测时位置变动较少的辊的表面设定为关于厚度的基准点Y0，因此即使在基材的表面产生了皱折或扭歪的情况下，也不会对此产生影响，从而能够高精度地(稳定地)计算出涂敷膜的宽度。
其中在所公开的方法的某一优选方式中，上述厚度轮廓的计测是在形成于上述基材上的涂敷膜干燥之前的湿润状态时进行的。根据该检查方法，能够高精度地(稳定地)计算出考虑了涂敷重量的涂敷膜的横方向的宽度。
其中在所公开的方法的某一优选方式中，上述厚度轮廓的计测是在上述预定的计测点一边沿着上述涂敷膜的横方向照射激光，一边使用激光位移传感器进行的。根据该检查方法，能够非接触地进行上述厚度轮廓的计测。
另外，本发明提供一种涂敷膜的宽度的检查装置，能够较好地实现上述涂敷膜的宽度的检查方法。该装置是检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度的装置，其中，包括：厚度轮廓计测部，该厚度轮廓计测部在上述长度方向上的预定的计测点计测上述涂敷膜在上述横方向上的厚度轮廓；和控制部，该控制部与上述厚度轮廓计测部连接。上述控制部构成为：基于从上述厚度轮廓计测部输入的上述预定的计测点的厚度轮廓，在上述涂敷膜的上述横方向的两个端部的各个端部附近区域作成上述距离X与上述厚度Y的函数的近似曲线，并且，基于就上述横方向的两个端部的各个端部附近区域所得到的近似曲线、和距离预先设定的上述基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作上述横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为上述预定的计测点的上述涂敷膜的横方向的宽度。根据该检查装置，能够较好地实现上述涂敷膜的宽度的检查方法。
其中在所公开的装置的某一优选方式中，包括对跨越上述长度方向形成有涂敷膜的上述长片状基材进行输送的辊。在这种情况下，上述厚度轮廓计测部可以配置成：在用上述辊输送的途中的预定的计测点，计测上述厚度轮廓。在那种情况下，上述辊上的与上述片状基材抵接的表面优选被设定为关于上述厚度的基准点Y0。
另外，上述厚度轮廓计测部可以构成为：计测在形成于上述基材上的涂敷膜干燥之前的湿润状态下的上述厚度轮廓。该厚度轮廓计测部可以是在上述预定的计测点沿着上述涂敷膜的横方向照射激光的激光位移传感器。在这种情况下，能够非接触地进行上述厚度轮廓的计测。
附图说明
图1是示意地表示本发明的一个实施方式涉及的涂敷膜形成装置的构成的外观示意图；
图2是表示本发明的一个实施方式涉及的厚度轮廓(プロファィル)的计测结果的图；
图3是表示本发明的一个实施方式涉及的厚度轮廓的计测结果的主要部分的图；
图4是用于说明本发明的一个实施方式涉及的涂敷膜的宽度计算方法的图；
图5是用于说明本发明的一个实施方式涉及的涂敷膜的宽度计算方法的图；
图6是示意地表示本发明的另一实施方式涉及的电极片的上表面示意图。
具体实施方式
下面，一边参照附图一边说明本发明的实施方式。在以下的附图中，对起到相同作用的部件、部位标记相同的符号进行说明。另外，本发明不限定于以下的实施方式。并且，各图中的尺寸关系(长度、宽度、厚度等)不是反映实际的尺寸关系。
(实施方式1)
一边参照图1一边对本实施方式涉及的涂敷膜的宽度的检查方法所使用的涂敷膜形成装置100进行说明。涂敷膜形成装置100包括：辊30、涂敷部50以及检测涂敷膜的宽度的装置(涂敷膜宽度检查装置)40。
如图1所示，辊30是将长片状基材10在长度方向上进行输送的装置。在该实施方式中，片状基材10顺次架设在多个辊30上，对该片状基材10上作用一定的张力。对一部分辊30安装有使该辊转动的驱动装置。涂敷膜形成装置100通过使辊30向一个方向转动，由此输送片状基材10。
涂敷部50是在长片状基材10上跨越该基材的长度方向形成涂敷膜20的装置。在该实施方式中，涂敷部50包括：模具50，该模具50具有将形成涂敷膜20的材料(在此为湿状的涂液)排出的狭缝孔；涂液供给部(未图示)，该涂液供给部以预定的压力将涂液供给到该模具50。模具50被配置成与用辊30输送的片状基材10的表面相对置，以便将涂液排出到该基材10的表面形成涂敷膜20。在该实施方式中，模具50在与片状基材10的长度方向交叉的横方向上以预定间隔设置三个，在用辊30输送的途中的片状基材10的长度方向上形成三列涂敷膜20。
涂敷膜宽度检查装置40是测定这样形成的涂敷膜20的涂敷宽度的装置。即，涂敷膜宽度检查装置40检测在长片状基材10上跨越该基材10的长度方向形成的涂敷膜20的与该长度方向交叉的横方向的宽度。具体而言，涂敷膜宽度检查装置40包括：厚度轮廓计测部42，该厚度轮廓计测部42在片状基材10的长度方向上的预定的计测点计测涂敷膜20在横方向上的厚度轮廓；控制部46，该控制部46与该厚度轮廓计测部42电气连接。
厚度轮廓计测部42在该实施方式中是在上述预定的计测点沿着涂敷膜20的横方向照射激光的激光位移传感器。激光位移传感器42对基材10的表面照射激光，并计测与该基材10的表面垂直的厚度(截面)上的基材10的厚度轮廓。激光位移传感器42形成为：被安装于与片状基材10的横方向平行地排列的扫描机构44，以便通过该扫描机构44在片状基材10的横方向上扫描。另外，激光位移传感器42构成为：在用辊30输送的途中的预定的计测点计测片状基材10的厚度轮廓。
控制部46与激光位移传感器42以及扫描机构44电气连接。控制部46驱动扫描机构44，一边将激光位移传感器42在片状基材10的横方向上移动，一边每隔一定间距计测片状基材10的厚度轮廓。由该激光位移传感器42进行的计测，是遍布片状基材10的全宽进行的，由此即使对于形成于基材10上的涂敷膜20的厚度轮廓，也能够沿着基材10的横方向进行计测。在该实施方式中，控制部46通过激光位移传感器42来计测在形成于基材10上的涂敷膜20干燥之前的湿润状态下的厚度轮廓。
作为表示这样进行计测的厚度轮廓的一个例子，如图2和图3所示。图2中，在大致平坦的基材10的表面12上，以预定间隔并排形成有三个涂敷膜20，在各涂敷膜20之间、以及基材10的横方向的两个端部，分别形成有未形成涂敷膜20的非涂敷部分(基材10的表面12露出的部分)60。
厚度轮廓的计测是在形成于基材10上的涂敷膜干燥之前的湿润状态时进行的。因此，在该涂敷膜20与非涂敷部分60的边界部分会产生涂液流淌等，从而使横方向的厚度变得不均匀。例如图3所示，涂敷膜20的厚度轮廓形成大致梯形形状，涂敷膜20的横方向的两个端部附近区域24a、24b的厚度相比宽度中央部分28薄。这样与中央部分28相比厚度变薄的涂敷膜20的横方向的两个端部附近区域24a、24b的一部分，每单位面积的涂敷重量(单位面积重量)减小。因此，有时会成为不满足所需的涂敷重量的不适合的涂敷部分26a、26b。
在本实施方式中，控制部46构成为：对图3那样横方向的厚度成为不均匀的涂敷膜20的厚度轮廓进行运算处理，并排除不满足所希望的涂敷重量的不适合的涂敷部分26a、26b，计算出考虑了涂敷重量的横方向上的宽度。考虑了涂敷重量的横方向上的宽度的计算，具体地采用以下方式即可。
如图4所示，计测出的厚度轮廓被规定为：相对于距离关于宽度的基准点X0的横方向的距离X的、距离关于厚度的基准点Y0的涂敷膜的厚度Y。在该实施方式中，将形成涂敷膜20的片状基材10的表面12设定为关于宽度的基准点X0以及关于厚度的基准点Y0。即，基于计测出的厚度轮廓，将与片状基材10的表面12对应的任意的点设定为基准点(X0，Y0)。
首先，控制部46基于从厚度轮廓计测部(激光位移传感器)42输入的预定的计测点上的厚度轮廓，在涂敷膜20的横方向的两个端部的各个端部附近区域24a、24b作成距离X与厚度Y的函数的近似曲线。具体而言，通过对一个端部附近区域24a的各点计测距离X和厚度Y的坐标，并对所得到的各点的距离X和厚度Y的坐标适用线性(一次)回归分析法(典型的是最小二乘法)进行直线逼近，求出近似直线L1即可。另外，通过对另一个端部附近区域24b的各点计测距离X和厚度Y的坐标，并对所得到的各点的距离X和厚度Y的坐标适用线性回归分析法(典型的是最小二乘法)进行直线逼近，求出近似直线L2即可。
然后，控制部46基于就横方向的两个端部的各个端部附近区域24a、24b所得到的近似曲线L1、L2、和距离预先设定的基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域24a的近似曲线L1求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域24b的近似曲线L2求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为预定的计测点的涂敷膜20的横方向的宽度W1。
根据该方法，在检测在长片状基材10上跨越该基材10的长度方向形成的涂敷膜20的与该长度方向交叉的横方向的宽度时，能够对横方向的两个端部的各个端部附近区域24a、24b排除不满足所希望的涂敷重量的不适合的涂敷部分26a、26b，计算涂敷膜20的横方向的宽度W1。因此，能够得到考虑了涂敷重量的涂敷膜20的横方向的宽度。其结果，例如能够将该涂敷宽度20的形状值优选用于涂敷膜的品质管理、涂敷工序评价等。
另外，控制部46与未图示的存储部电气连接。控制部46按照保存于存储部的宽度计算处理程序，来执行上述的宽度计算处理。另外，距离基准点Y0的厚度阈值Yt可以预先保存于与控制部46连接的存储部。
在这种情况下，控制部46构成为基于从厚度轮廓计测部输入的厚度轮廓，在涂敷膜20的横方向的两个端部的各个端部附近区域24a、24b作成距离X与厚度Y的函数的近似曲线L1、L2即可。并且，控制部46构成为：基于就横方向的两个端部的各个端部附近区域24a、24b所得到的近似曲线L1、L2、和保存于存储部的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域24a的近似曲线L1求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域24b的近似曲线L2求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为预定的计测点的涂敷膜20的横方向的宽度W1即可。所得到的涂敷膜20的横方向的宽度W1，根据需要能够存储于存储部。
(实施方式2)
本实施方式具有与实施方式1涉及的涂敷膜的宽度检查装置大致同样的构成，但是与上述实施方式1的不同点在于：将辊30上的与片状基材10抵接的表面32设定为关于厚度的基准点Y0。即，在该实施方式中，如图5所示，基于计测出的厚度轮廓，将与辊30的表面32对应的任意的点设定为基准点(X0，Y0)。
在这种情况下，控制部46构成为：基于就横方向的两个端部的各个端部附近区域24a、24b所得到的近似曲线L1、L2、和将辊30上的与片状基材10抵接的表面32作为关于厚度的基准点Y0的距离该基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域24a的近似曲线L3求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域24b的近似曲线L4求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为预定的计测点的涂敷膜20的横方向的宽度W2即可。
当将片状基材10的表面12设定为关于厚度的基准点Y0时，在片状基材10用铝箔等易产生皱折的材料形成的情况下，宽度测定的基准因基材10表面的皱折状态不同而变动。因此，宽度的计算结果往往产生偏差。与此相对，根据上述构成，由于将计测时位置变动较少的辊30的表面32设定为关于厚度的基准点Y0，因此即使在基材10的表面12上产生了皱折或扭歪的情况下，也不会对此产生影响，因此能够高精度地(稳定地)计算出涂敷宽度W2。
以上，通过优选实施方式对本发明进行了说明，然而上述的记述不是限定事项，当然能够进行各种改变。
例如，在图5表示的实施方式中，是将辊30上的与片状基材10抵接的表面32设定为关于厚度的基准点Y0，然而不限定于此。不限于辊30的表面32，只要是计测时位置变动较少的部件，就可以作为关于厚度的基准点Y0优选地设定，即使是在基材10的表面12上产生了皱折或扭歪的情况下，也不会对此产生影响，因此能够高精度地(稳定地)计算出涂敷宽度。
另外，在上述的例子中，厚度轮廓的计测是在预定的计测点一边沿着涂敷膜20的横方向照射激光一边使用激光位移传感器42进行的，然而本发明不限定于此。也可以用激光位移传感器42以外的计测装置进行厚度轮廓的计测。
包括上述的涂敷宽度检查装置40的涂敷膜形成装置100，例如，能够优选适用于在锂离子二次电池等电池的成为卷绕电极体的构成要素的带状(片状)电极(正极和负极均能够适用)上形成包括电极活性物质的涂敷膜(电极活性物质层)的工序。此时，通过使用上述的涂敷膜的宽度的检查装置，由此能够进行考虑了涂敷重量(单位面积重量)的电极活性物质层的横方向的宽度测定，能够较好地进行电极活性物质的单位面积重量的管理和评价。
例如，在锂离子二次电池中，涂敷膜(电极活性物质层)20的涂敷图案如图6所示，能够形成为带状，该带状包括用于确保电极的引线(集电箔等)安装部分的非涂敷部分60。此时，在电极活性物质层20和非涂敷部分60的边界处，横方向的厚度变得不均匀，如图2所示，电极活性物质层20的横方向的两个端部附近区域24a、24b的厚度，相比宽度中央部分28变薄，单位面积重量减少。
在该情况下，如果使用本实施方式涉及的涂敷膜的宽度检查装置40，就能够排除不满足所希望的涂敷重量的不适合的涂敷部分，计算出考虑了涂敷重量的电极活性物质层20的涂敷宽度，并能够将所得到的电极活性物质层20的宽度的形状值优选适用于例如电极活性物质层20的品质管理、涂敷工序评价等。
另外，本发明涉及的涂敷宽度测定装置40和涂敷宽度测定方法，不限于制造上述的锂二次电池等电池的成为卷绕电极体的构成要素的带状电极的工序(详细而言是在片状基材上涂敷电极活性物质层的工序)，而是能够在基材上形成涂敷膜的用途中广泛地适用。
产业上的利用可能性
根据本发明能够提供考虑了涂敷膜的涂敷重量的涂敷膜的宽度的检查方法。另外，根据本发明能够提供能够较好地实现上述涂敷膜的宽度的检查方法的涂敷膜的宽度的检查装置。
Claims (10)
1.一种涂敷膜的宽度的检查方法，是检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度的方法，其中，包括以下工序：
a）.在所述长度方向上的预定的计测点，计测所述涂敷膜在所述横方向上的厚度轮廓的工序，其中所述厚度轮廓被规定为：相对于距离关于所述宽度的基准点X0的所述横方向的距离X的、距离关于所述厚度的基准点Y0的涂敷膜的厚度Y；
b）.基于所述计测出的厚度轮廓，在所述涂敷膜的所述横方向的两个端部的各个端部附近区域作成所述距离X与所述厚度Y的函数的近似曲线的工序；以及
c）.基于就所述横方向的两个端部的各个端部附近区域所得到的近似曲线、和距离预先设定的所述基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作所述横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为所述预定的计测点的所述涂敷膜的横方向的宽度的工序。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，
在用预定的辊对跨越所述长度方向形成有涂敷膜的所述长片状基材进行输送的途中的预定的计测点，计测所述厚度轮廓，
其中将所述辊上的与所述片状基材抵接的表面设定为关于所述厚度的基准点Y0。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述厚度轮廓的计测是在形成于所述基材上的涂敷膜干燥之前的湿润状态时进行的。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述厚度轮廓的计测是在所述预定的计测点一边沿着所述涂敷膜的横方向照射激光，一边使用激光位移传感器进行的。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述厚度轮廓的计测是在所述预定的计测点一边沿着所述涂敷膜的横方向照射激光，一边使用激光位移传感器进行的。
6.一种涂敷膜的宽度的检查装置，是检测在长片状基材上跨越该基材的长度方向形成的涂敷膜的与该长度方向交叉的横方向的宽度的装置，其中，包括：
厚度轮廓计测部，该厚度轮廓计测部在所述长度方向上的预定的计测点计测所述涂敷膜在所述横方向上的厚度轮廓，其中所述厚度轮廓被规定为：相对于距离关于所述宽度的基准点X0的所述横方向的距离X的、距离关于所述厚度的基准点Y0的涂敷膜的厚度Y；和
控制部，该控制部与所述厚度轮廓计测部连接，
所述控制部构成为：基于从所述厚度轮廓计测部输入的所述预定的计测点的厚度轮廓，在所述涂敷膜的所述横方向的两个端部的各个端部附近区域作成所述距离X与所述厚度Y的函数的近似曲线，并且，基于就所述横方向的两个端部的各个端部附近区域所得到的近似曲线、和距离预先设定的所述基准点Y0的厚度阈值Yt，将根据一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域的近似曲线求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作所述横方向的两个端部，并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为所述预定的计测点的所述涂敷膜的横方向的宽度。
7.根据权利要求6所述的装置，其中，
包括对跨越所述长度方向形成有涂敷膜的所述长片状基材进行输送的辊，
所述厚度轮廓计测部被配置成：在用所述辊输送的途中的预定的计测点，计测所述厚度轮廓，
其中所述辊上的与所述片状基材抵接的表面被设定为关于所述厚度的基准点Y0。
8.根据权利要求6或7所述的装置，其中，所述厚度轮廓计测部计测在形成于所述基材上的涂敷膜干燥之前的湿润状态下的所述厚度轮廓。
9.根据权利要求6或7所述的装置，其中，所述厚度轮廓计测部是在所述预定的计测点沿着所述涂敷膜的横方向照射激光的激光位移传感器。
10.根据权利要求8所述的装置，其中，所述厚度轮廓计测部是在所述预定的计测点沿着所述涂敷膜的横方向照射激光的激光位移传感器。
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