CN102194638A

CN102194638A - 处理装置

Info

Publication number: CN102194638A
Application number: CN2011100420019A
Authority: CN
Inventors: 笠原稔大
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2010-02-24
Filing date: 2011-02-18
Publication date: 2011-09-21
Also published as: TW201203349A; CN105957791B; TWI508165B; JP5582819B2; JP2011176066A; KR20110097679A; CN105957791A; KR101302788B1

Abstract

本发明提供一种处理装置，具备使操作容易且不成为产生微粒的原因，能够适用于大型处理容器的防止散热构造。抑制散热单元(105)以覆盖处理容器(101)的各侧壁(101b)的外壁面的一部分或大致全部面的方式沿着侧壁(101b)配置。抑制散热单元(105)由多个板材(106)构成，各板材(106)安装在隔离件(107)上，该隔离件(107)配设于处理容器(101)的侧壁(101b)的外壁面。各板材(106)通过插装隔离件(107)而与处理容器(101)隔开间隔地安装，从而在中间形成空气隔热部(180)。

Description

处理装置

技术领域

本发明涉及处理装置，详细地说是涉及用于进行等离子处理等的处理装置中的处理容器的抑制散热构造。

背景技术

在FPD(平板显示)的制造工序中，对FPD用的玻璃基板进行等离子蚀刻、等离子灰化(plasma ashing)、等离子成膜等各种等离子处理。作为进行这样的等离子处理的装置，已知有平行平板型的等离子处理装置和电感耦合等离子体(ICP：Inductively Coupled Plasma)处理装置等。

在此，虽然在各种等离子处理装置中因产生等离子而使处理室内的温度上升，但是通常情况下由于处理室内壁附近的等离子密度较低，因此在处理室内产生温度分布。由于该温度分布有时会在处理容器的内表面堆积反应生成物。特别是在处理大型基板这样的大型装置中，由于处理容器的热容量大，并且处理容器的表面积较大容易散热，因此除了在处理室内容易产生温度分布使反应生成物的堆积增多以外，还有可能对等离子处理的面内均匀性带来恶劣影响。

因此，在等离子处理装置中，在处理容器的壁上设置流通热介质的流路，或安装加热器等进行处理容器的温度调节。

然而，近年为了处理大型基板，处理容器也大型化，因此向外部的散热量增加在处理室内的均匀的温度控制变得越来越困难，从能量效率的观点看浪费也很大。因此，为了实现处理室内的温度控制的有效化和节能化，以及作为防止烧伤等的安全对策，而使用在耐热性的防尘布内装填有隔热材料的构造的布制罩件从外侧覆盖处理容器。然而，上述布制罩件。除了拆装等作业花费时间以外，还存在加工成本高这样的问题。

为了抑制从处理容器散热提高能量效率，在专利文献1中提出了在真空热处理装置中，用框体覆盖真空容器及高频诱导加热用线圈的方案。

专利文献1：日本特开平8-134533号公报(图1等)

FPD用的玻璃基板，近年有一条边超过三米的基板，处理该基板的容器的大小也成为小建筑物那样。将这样大型的处理容器从外侧用更大的框体进行覆盖是不现实的。因此，专利文献1的防止散热对策不能适用于大型的处理容器。

发明内容

本发明是鉴于上述问题点所做出的，目的在于提供一种具备操作容易且能够适用于大型的处理容器的防止散热构造的处理装置。

本发明的处理装置具备：处理容器，其形成处理被处理体的处理室；抑制散热组合体，其是将对上述处理容器的外壁面从外侧覆盖的多个板材组合而成的。通过将上述板材相对于上述处理容器的外壁面隔开间隔配置，由此在上述处理容器与上述抑制散热组合体之间具有空气隔热部。

上述板材可以由金属或树脂构成。

另外，本发明的处理装置，上述板材的与上述处理容器相对置的面可以进行镜面加工。

本发明的处理装置，在上述板材的与上述处理容器相对置的面上可以具有红外线反射层。

另外，本发明的处理装置，上述板材的至少一部分可以由可见光透过性的材质形成。

另外，本发明的处理装置，可以在上述处理容器的外壁面上设置隔离部件，在该隔离部件上固定有上述板材。在这种情况下，也可以利用上述隔离部件来密封上述空气隔热部。另外，上述隔离部件也可以由隔热性的材质形成。

本发明的处理装置，上述空气隔热部的厚度可以是在5mm至20mm的范围内。另外，由于上述板材部分地或全体地多重配置，由此上述空气隔热部的部分或全体设置为多层。另外，被处理体可以是长边超过2m的矩形的基板。

根据本发明的处理装置，由于设置将对处理容器的外壁面从外侧覆盖的多个板材组合而成的抑制散热组合体，并在处理容器与抑制散热组合体之间具有空气隔热部，因此能够抑制从处理容器散热，能够提高处理容器的温度调节效率。另外，由于抑制散热组合体是将多个板材组合构成的，因此也能够适用于大型的处理容器，操作、拆卸容易且能够以低成本设置。另外，几乎没有成为产生微粒的担心。

因此，本发明的处理装置，由于具备抑制散热组合体，因此处理容器内的温度控制效率良好，其结果能够起到以高信赖度进行目的处理的效果。

附图说明

图1是示意地表示本发明的第一实施方式涉及的离子蚀刻装置的构成的剖视图。

图2是图1的离子蚀刻装置的主要部分剖视图。

图3是表示图1的离子蚀刻装置中的隔离件的配设例的侧视图。

图4是表示在图1的离子蚀刻装置中安装了板材的状态下的侧视图。

图5是图4中的5-5线箭头的主要部分剖视图。

图6是图4中的6-6线箭头的主要部分剖视图。

图7是表示图1的离子蚀刻装置中的隔离件的其他配设例的侧视图。

图8是表示板材的变形例的剖视图。

图9是表示板材的另一变形例的剖视图。

图10是本发明的第二实施方式涉及的离子蚀刻装置的主要部分剖视图。

附图标记说明：

101...处理装置；101a...底壁；101b...侧壁；101c...盖体；101d...热介质流路；105...抑制散热单元；106...板材；107...隔离件；108...螺栓；109...螺栓；111...基座(susceptor)；112...基材；113、114...密封部件；115...绝缘部件；131...喷头；133...气体扩散空间；135...气体喷出口；137...气体导入口；139...处理气体供给管；141...阀；143...质量流量控制器；145...气体供给源；151...排气用开口；153...排气管；153a...凸缘部；155...排气装置；171...供电线；173...匹配箱(M.B)；175...高频电源；180...空气隔热部；200...等离子蚀刻装置。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行详细地说明。

(第一实施方式)

图1是表示作为本发明的处理装置的第一实施方式的等离子蚀刻装置的概略构成的剖视图。图2是放大表示图1的主要部分的剖视图。如图1所示，等离子蚀刻装置200构成为，对作为被处理体的例如FPD用的玻璃基板(以下，简单地记作“基板’”)S进行蚀刻的容量结合型的平行平板等离子蚀刻装置。另外，作为FPD可例示出液晶显示器(LCD)、电致发光(Electro Luminescence；EL)显示器、等离子显示面板(PDP)等。

该等离子蚀刻装置200，具有内侧被阳极氧化处理(铝阳极化处理)的由铝构成的成形为方筒形状的处理容器101。处理容器101的主体(容器主体)由底壁101a、四个侧壁101b(仅图示两个)构成。另外，在处理容器101的主体的上部连接有盖体101c。

另外，在四个侧壁101b的内部形成有热介质流路101d。在该热介质流路101d上连接有导入管102和排出管103。而且，经由这些导入管102和排出管103与设置在处理容器101的外部、作为热介质循环装置的冷却单元104连接。冷却单元104，具备例如未图示的热交换器和循环泵等。热介质通过未图示的循环泵的动作，一边在热介质流路101d与设置在装置外部的冷却单元104之间循环一边对侧壁101b进行升温或冷却。热介质流路101d、上述导入管102、排出管103以及冷却单元104构成调节处理容器101的温度的温度调节单元。

在处理容器101的侧壁101b的外侧，以包围处理容器101周围的方式设置有作为“抑制散热组合体”的抑制散热单元105。抑制散热单元105将多个板材106组合而构成。抑制散热单元105的各板材106被安装在配设于处理容器101的侧壁101b的隔离件107上。关于抑制散热单元105的详细的构造详见后述。

盖体101c构成为，通过未图示的开闭装置能够相对于侧壁101b开闭。在盖体101c闭合的状态下，盖体101c与各侧壁101b的接合部分被O型环120密封，从而保持处理容器101内的气密性。在盖体101c的外侧以包围盖体101c的周围的方式，设置有作为“抑制散热组合体”的抑制散热单元121。抑制散热单元121将多个板材122组合而构成。抑制散热单元121的各板材122被安装在配置于盖体101c的隔离件123上。另外，也可以不设置盖体101c外侧的抑制散热单元121。另外，由于抑制散热单元121的基本的构成与抑制散热单元105同样，故省略其详细的说明。

在处理容器101内的底部配置有框形状的绝缘部件110。在绝缘部件110上设置有作为能载置基板S的载置台的基座111。也作为下部电极的基座111具备基材112。基材112例如由铝或不锈钢(SUS)等导电性材料形成。基材112配置在绝缘部件110上，在两个部件的接合部分配置有O型环等密封部件113来保持气密性。在绝缘部件110与处理容器101的底壁101a之间也利用O型环等密封部件114来保持气密性。基材112的侧部外周被绝缘部件115包围。由此，确保基座111侧面的绝缘性，防止等离子处理时的异常放电。

在基座111的上方，与该基座111平行且相对置地设置有作为上部电极发挥作用的喷头131。喷头131被支承于处理容器101的上部盖体101c。喷头131形成中空状，在其内部设置有气体扩散空间133。另外，在喷头131的下表面(与基座111相对的面)形成有喷出处理气体的多个气体喷出孔135。该喷头131接地并与基座111一起构成一对平行平板电极。

在喷头131的上部中央附近设置有气体导入口137。在该气体导入口137上连接有处理气体供给管139。在该处理气体供给管139上经由两个阀141、141以及质量流量控制器143而连接有供给用于蚀刻的处理气体的气体供给源145。作为处理气体，除了卤素系气体和O₂气之外，例如还能够使用Ar气等稀有气体等。

在上述处理容器101内的四个角附近的位置，在四个位置形成贯通底壁101a的排气用开口151。各排气用开口151与排气管153连接。排气管153，在其端部具有凸缘部153a，在使O型环(省略图示)介于该凸缘部153a与底壁101a之间的状态下被固定。排气管153与排气装置155连接。排气装置155例如具备涡轮分子泵等真空泵，由此构成为能够将处理容器101内吸真空到规定的减压环境为止。

另外，虽省略图示但在处理容器101的侧壁101b上设置有：通过闸阀进行开闭的基板S的输送用开口部、和能够观察处理容器101内部的透过窗。

在基座111的基材112上连接有供电线171。在该供电线171上经由匹配箱(M.B.)173而连接有高频电源175。由此，从高频电源175例如将13.56MHz的高频电力供给到作为下部电极的基座111。另外，供电线171经由作为形成于底壁101a的贯通开口部的供电用开口177被导入到处理容器101内。

下面，详细说明抑制散热单元105。抑制散热单元105以覆盖处理容器101的各侧壁101b的外壁面的一部分或大致全部面的方式沿着侧壁101b配置。在本实施方式中，抑制散热单元105的板材106配置成：从处理容器101的侧壁101b的上端(与盖体101c的交界)稍下方的位置起覆盖到侧壁101b的下端附近。在处理容器101的侧壁101b上配置有闸阀或基板S的输送用开口部、用于确认等离子的状态的透过窗等的情况下，只要避开该部分配置抑制散热单元105即可，而则无需覆盖侧壁101b的全部面。

抑制散热单元105构成为包括多个板材106和支承它们的隔离件107。构成抑制散热单元105的板材106例如能够使用不锈钢、或与处理容器101同样地使用铝、铝合金等金属材料，或具有耐热性的树脂材料。

各板材106的形状是任意的，例如能够做成矩形的板状。在本实施方式中，各板材106是具有面积比处理容器101的一个侧壁101b的面积小的平面的板状部件。另外，各板材106的大小可以相同也可以不同。另外各板材106的形状，可以统一成相同的形状，也可以是不同的形状。另外，在将处理容器101做成圆筒形状的情况下，抑制散热单元105也可以做成直径大于处理容器101的圆筒形状的围栅。在这种情况下，板材106可以做成将圆筒分隔成任意数而成的曲面形状。

如图2所示，在本实施方式中，板材106的上端附近折弯成L字形，该折弯部106a被挂在排列于最上部的隔离件107的上表面上。折弯部106a在板材106的上端与隔离件107之间产生缝隙，起到防止空气隔热部180的空气排出到上方的作用。另外，通过设置折弯部106a而在将板材106安装于隔离件107时，容易进行安装作业和定位。另外，板材106也可以不具有折弯部106a。

由于板材106还具有装饰处理容器101外观的美观的效果，因而成为装饰板的替代。即，通过配置板材106而无需在处理容器101上配置装饰板。

各板材106被安装在隔离件107上，该隔离件107配设于处理容器101的侧壁101b的外壁面。各板材106通过插装有隔离件107而与处理容器101隔开间隔地安装。在处理容器101的侧壁101b与板材106之间形成的空间，形成空气隔热部180。处理容器101的侧壁101b与板材106的距离(即，空气隔热部180的厚度)，可以考虑所需的隔热效果和对大型处理容器的适用来决定。在本实施方式中，例如优选为5mm至20mm左右，更优选为7mm到12mm左右。另外，空气隔热部180的厚度，只要是所需的厚度以上即可，不一定是不变的厚度，例如，可以是侧壁101b的上侧部分比下侧部分厚。

由于本实施方式的抑制散热单元105是将多枚比处理容器101的侧壁101b小的板材106进行组合而使用，因此即使处理容器101是以大型的基板S为处理对象的大型的容器，也能够没有任何障碍地进行安装和拆卸。另外，由于抑制散热单元105是将比侧壁101b小的多枚板材106进行组合而构成，因此能够根据处理容器101的形状而改变板材106的大小和形状来配置。因此能够使用隔离件107一边将空气隔热部180的厚度保持为所需的厚度一边配置板材106，从而能够得到优越的隔热效率。假设在采用了用较大的框体覆盖处理容器101全体的构造(例如专利文献1)的情况下，由于难以适用于大型的处理容器，并且处理容器与框体的间隔不是一定的，因此空气隔热的效果会因部位而异，因而有时不能得到充分的抑制散热的效果。

另外，由于避免从处理容器101直接向板材106的热传导，因此各板材106优选为相对于处理容器101的侧壁101b不具有面接触的部分，更优选为使板材106与处理容器101处于完全的非接触状态。

另外，板材106的内表面(与处理容器101的侧壁101b的外壁面相对置的面)优选实施镜面加工等从而预先处于反射率高的状态。通过预先将板材106的内表面进行镜面加工，由此能够反射从处理容器101放射的红外线，抑制向外部散热，从而提高空气隔热部180的隔热性能。

隔离件107具有相对于处理容器101的侧壁101b留有一定的间隔地固定板材106的功能。即，隔离件107具有支承、固定板材106的功能，和插装于板材106与侧壁101b之间来确保空气隔热部180的厚度的功能。隔离件107能够耐受处理容器101的温度，能够用热传导率小的隔热材料形成。由于用隔热材料形成隔离件107，因此能够抑制经由隔离件107从处理容器101向板材106的热传导。作为隔热材料，例如能够使用聚碳酸酯、氟化树脂、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚苯硫醚、聚醚砜、聚砜、环氧玻璃等树脂材料、氟橡胶、硅橡胶、氟硅橡胶、全氟聚醚类橡胶、丙烯橡胶、乙烯丙烯橡胶等橡胶材料。

图3是表示处理容器101任意的侧壁101b的外壁面上的隔离件107的配置例的侧视图。在图3表示的例子中，在一个侧壁101b的外壁面上纵横各配置三个合计九个隔离件107。另外，隔离件107的配置位置、配置个数只要能够固定多个板材106则可以是任意的。另外，在本实施方式中，虽然将隔离件107做成长尺寸的棱柱形状，但其形状不做特殊限定。隔离件107例如俯视观察时可以是L字形或十字形、或者也可以是四边形等框形状或“コ”字形(U字形)。

图4是表示在以图3的状态设置的隔离件107上安装板材106，在处理容器101上配置有抑制散热单元105的状态。在图4中用虚线表示隔离件107的位置。在该例中是在一个侧壁101b的外侧安装三枚板材106A、106B、106C。另外，配置在一个侧壁101b上的板材106的枚数不限定于三枚，可以根据处理容器101的大小选择任意枚数。

隔离件107利用螺栓108固定在处理容器101上。另外，为了将板材106经由螺栓108从处理容器101向板材106的热传导减小到极小，因此利用与固定隔离件107的螺栓108不同的螺栓109将板材106固定在隔离件107上。另外，如果是热传导小的螺栓则可以将隔离件107和板材106一起固定在处理容器101上。另外，固定隔离件107和板材106的单元不限于螺栓108、109。例如，采用在隔离件107和板材106上设置通过阳模、阴模进行的嵌合构造，或将板材106挂到隔离件107上的方法，也能够将板材106更容易拆装地安装于隔离件107。

板材106A与板材106B的接合部、板材106B与板材106C的接合部构成为，分别以微小的宽度(例如2～10cm)重叠，从而极力防止空气隔热部180的空气向外部泄漏。具体而言，例如如图5所示，以板材106B的端部附近向外侧弯曲，对板材106A的端部从外侧覆盖的方式重叠。图6表示抑制散热单元105的拐角部的截面。在抑制散热单元105的拐角部，沿着处理容器101的拐角形状将板材106A折弯成大致直角。而且，板材106A的端部以从外侧覆盖板材106D(在图4中省略图示)的方式重叠接合，其中板材106D覆盖与图3、4表示的侧壁101b正交的相邻的侧壁101b。另外，抑制散热单元105的拐角部的形状考虑安全等因素可以是圆弧状或由多个钝角折弯的形状。

这样，通过使板材106的端部彼此重叠来组合抑制散热单元105，由此使板材106的接合部分无间隙，从而能够抑制空气隔热部180的空气向外部泄漏。相邻的板材106彼此重叠的部分，例如可以用未图示的螺栓进行固定。另外，也可以不使板材106的端部彼此重叠，而用其他部件来覆盖板材106端部间的间隙。

另外，可以利用隔离件107密封空气隔热部180。图7表示为了在侧壁101b的上部和下部固定板材106的上端和下端，而配置有与侧壁101b的横方向的长度大致相等长度的长尺寸的隔离件107A的构成例。在侧壁101b的上下方向的大致中间位置配置与图3相同形状的隔离件107。通过使用长尺寸的隔离件107A，能够在板材106的上端和下端附近密封空气隔热部180。即，空气隔热部180的上下被隔离件107A密封，从而抑制空气隔热部180的空气排出到外部，因此能够提高隔热效率。代替图7的长尺寸的隔离件107A，而无间隙地在横方向上连续地配置更短的隔离件107，也能够得到同样的效果。另外，在图7表示的例子中，虽然在侧壁101b的上部和下部两方设置了长尺寸的隔离件107A，但也可以在侧壁101b的左右端部沿着该端部设置隔离件107A，将空气隔热部180的上下左右由隔离件107A密封。另一方面，例如也可以只在侧壁101b的上部设置长尺寸的隔离件107A，只密封空气隔热部180的上部。

接下来，对以上那样构成的等离子蚀刻装置200的处理动作进行说明。首先，在未图示的闸阀开放的状态下经由基板输送用开口，通过未图示的输送装置的叉部将作为被处理体的基板S向处理容器101内搬入，并转移到基座111。之后，关闭闸阀，通过排气装置155将处理容器101内抽真空到规定的真空度为止。

然后，开放阀141，将处理气体从气体供给源145经由处理气体供给管139、气体导入口137，导入到喷头131的气体扩散空间133。此时，由质量流量控制器143进行处理气体的流量控制。被导入到气体扩散空间133的处理气体，再经由多个喷出孔135对载置在基座111上的基板S均匀地喷出，将处理容器101内的压力保持为规定的值。

在该状态下从高频电源175将高频电力经由匹配箱173施加到基座111。由此，在作为下部电极的基座111与作为上部电极的喷头131之间产生高频电场，将处理气体分解进行等离子化。利用该等离子对基板S实施蚀刻处理。

在实施蚀刻处理后，停止从高频电源175施加高频电力，在停止气体导入后，将处理容器101内减压到规定的压力。然后，开放闸阀，将基板S从基座111转移到未图示的输送装置的叉部，从处理容器101的输送用开口部送出基板S。通过以上的操作，结束对基板S的等离子蚀刻处理。

在以上的处理过程中，在等离子蚀刻装置200中，由抑制散热单元105包围处理容器101的周围，通过形成空气隔热部180，能够提高由设置于处理容器101的热介质流路101d进行的温度调节效率。因此，能够获得抑制处理容器101内的堆积物的附着，或提高等离子蚀刻处理的基板面内均匀性的效果。另外，由于抑制散热单元105是将多个板材106组合装配的构造，因此安装、拆卸容易，也是适合大型的处理容器101的构造。另外，因为抑制散热单元105由板材106构成，因此几乎没有成为产生微粒的原因。

另外，板材106也能够由金属材料以外的材质构成。图8表示由可见光透过性的透明材料形成板材106的变形例。作为可用于板材106的透明材料，例如能够列举出丙烯树脂、聚碳酸酯等。通过用透明材料作为板材106材质，由此能够改进等离子蚀刻装置200的目视识别性。例如，在处理容器101的侧壁101b上设置有用于确认其内部(处理室)的透过窗(省略图示)的情况下，即使不避开该透过窗的配置位置，从其外侧用抑制散热单元105进行覆盖，也能够通过透明的板材106和透过窗来确认处理室内的状态。在这种情况下，可以只将与透过窗的配置位置对应的部分置换成透明的板材106。

图9表示在板材106的内表面(与处理容器101的侧壁101b的外壁面相对置的面)上设置有红外线反射层190的变形例。红外线反射层190能够通过在板材106的表面涂覆红外线反射涂料，或层积红外线反射膜而形成。作为红外线反射涂料，例如可以利用ATTSU-9(商品名：日本油漆株式会社制)。作为红外线反射膜，例如可以利用Nano70S(商品名：住友3M公司制)等。另外，如图8所例示的那样，在由透明材料形成板材106的情况下，优选用可见光透过性的红外线反射涂料或可见光透过性的红外线反射膜形成红外线反射层190。作为可见光透过性的红外线反射膜，例如，可以利用Nano80S(商品名：住友3M公司制)等。

第二实施方式

接下来，参照图10说明本发明的处理装置的第二实施方式涉及的等离子蚀刻装置。图10是放大表示第一实施方式的与图2对应的处理容器101的主要部分截面的附图。另外，在以下的说明中，以与第一实施方式的不同点为中心进行说明，而省略对第二实施方式中与第一实施方式相同的构成的说明。

如图10所示，本实施方式的等离子蚀刻装置的抑制散热单元201具备：接近侧壁101b的内侧板材202、和配置在该内侧板材202外侧的外侧板材203。由此，空气隔热部成为内侧隔热部180a和外侧隔热部180b的双重隔热构造。内侧隔热部180a是通过插装第一隔离件204而划分开的侧壁101b的外壁与内侧板材202之间的空间。外侧隔热部180b是通过插装第二隔离件205而划分开的内侧板材202与外侧板材203之间的空间。

在处理容器101的外壁上例如通过螺栓固定有第一隔离件204，在该第一隔离件204上固定内侧板材202。经由该内侧板材202将第二隔离件205固定于第一隔离件204，此外外侧板材203被固定于该第二隔离件205。内侧板材202、外侧板材203以及第二隔离件205的固定例如能够通过螺栓进行。

另外，在处理容器101的外壁上例如通过螺栓固定有第一隔离件204，第二隔离件205与内侧板材202过贯通它们的螺栓而被固定于第一隔离件204，此外，外侧板材203和第二隔离件205以及内侧的板材202，也可以通过贯通它们的螺栓而被固定于第一隔离件204。

另外，在处理容器101的外壁上例如通过螺栓固定有第一隔离件204，第二隔离件205和内侧板材202以及第一隔离件204，通过贯通它们的螺栓被固定于处理容器101的外壁，此外，外侧的板材203和第二隔离件205以及内侧的板材202，也可以通过贯通它们的螺栓被固定于第一隔离件204。

此外，例如，也可以在内侧板材202与外侧板材203之间，预先组装配置有第二隔离件205的部件，并将其固定于第一隔离件204。

这样通过将空气隔热部作成双重构造，能够进一步提高抑制从处理容器101散热的效果。

本实施方式的抑制散热单元201的内侧板材202彼此，以及外侧板材203彼此的接合部分的构造与第一实施方式相同。另外，与第一实施方式的板材106相同，内侧板材202和外侧板材203均可由透明材料构成，另外，可以在内侧板材202和外侧板材203的内壁面(处理容器101侧的面)上实施镜面加工，或设置红外线反射层。

另外，在一个处理容器101中，可以根据部位，将设置一层空气隔热部(参照第一实施方式)的部分与设置双重空气隔热部的部分进行组合。例如，通过在处理容器101中配置以下的抑制散热单元，即：在散热特别大的部位设置双重空气隔热部而在其他部位设置一层空气隔热部，从而能够实现有效的散热抑制。另外，空气隔热部不限于双重，也可以三重以上。这样，通过将板材部分或全体地多重配置，能够部分或全体地设置多层空气隔热部。

由于第二实施方式的其他构成和效果与第一实施方式相同，因此省略说明。

以上，虽然以例示为目的详细地说明了本发明的实施方式，但本发明不限定于上述实施方式。本领域技术人员能够完成不脱离本发明的思想和范围的诸多改变，它们也都包含在本发明的范围内。例如，在上述实施方式中，虽然列举平行平板等离子处理装置为例，但本发明也能够适用于电感耦合等离子体处理装置、表面波等离子处理装置、ECR(ElectronCyclotron Resonance：电子回旋共振)等离子处理装置、螺旋波等离子处理装置等其他方式的等离子处理装置。另外，只要是容器内的温度调节所需的装置，则不限于干蚀刻装置，也同样能够适用于成膜装置或灰化装置等。

另外，本发明不限于将FPD用基板作为被处理体，也能够适用于将半导体晶片或太阳电池用基板作为被处理体的情况。

另外，上述各实施方式的抑制散热单元，也能够适用于不具有温度调节单元的处理容器。

Claims

1.一种处理装置，其特征在于，具备：

处理容器，其形成处理被处理体的处理室；

抑制散热组合体，其是将对上述处理容器的外壁面从外侧覆盖的多个板材组合而成的，

通过将上述板材相对于上述处理容器的外壁面隔开间隔配置，由此在上述处理容器与上述抑制散热组合体之间具有空气隔热部。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，

上述板材由金属或树脂构成。

3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，

上述板材的与上述处理容器相对置的面被进行镜面加工。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的处理装置，其特征在于，在上述板材的与上述处理容器相对置的面上具有红外线反射层。

5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的处理装置，其特征在于，上述板材的至少一部分由可见光透过性的材质形成。

6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的处理装置，其特征在于，在上述处理容器的外壁面上设置隔离部件，在该隔离部件上固定有上述板材。

7.根据权利要求6所述的处理装置，其特征在于，

利用上述隔离部件来密封上述空气隔热部。

8.根据权利要求6或7所述的处理装置，其特征在于，

上述隔离部件由隔热性的材质形成。

9.根据权利要求1至8中的任意一项所述的处理装置，其特征在于，上述空气隔热部的厚度是在5mm至20mm的范围内。

10.根据权利要求1至9中的任意一项所述的处理装置，其特征在于，上述板材部分地或全体地多重配置，由此上述空气隔热部的部分或全体设置为多层。

11.根据权利要求1至10中的任意一项所述的处理装置，其特征在于，上述被处理体是长边超过2m的矩形的基板。