CN102189647A - 一种注塑成型模具定位结构 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及的是一种注塑成型模具定位结构，包括母模结构、公模结构、设置在母模结构的母模仁和设置在公模结构上的公模仁，其特征在于，在所述的公模仁上还设有用于定位模内贴附薄膜的模仁定位入子，在公模结构内部还设有的用于配合公模仁射出压力的压力装置。本发明通过模仁定位入子以及压力装置，用于定位模内贴附薄膜而改善模内注塑贴膜无结构靠位时的定位，精准有效定位贴附薄膜的加工位置，可以应用在不同产品机构的定位功能，具高精度定位产品外观装饰位置，有效提升产品价值。

Description

一种注塑成型模具定位结构
技术领域
本发明涉及的是一种模具定位结构，具体涉及的是一种薄膜定位贴附应用在现有IML制程贴膜上，即注塑成型模具定位结构。
背景技术
现有注塑成型模具在模内定位方式只能利用产品外型定位，这种定位方式，使其模内贴附薄膜定位不稳定性，精度低，影响注塑产品的质量。而且在现有技术中无法在表面无靠破结构的产品作模内定位，因此不能更好的提高模内贴附薄膜定位稳定性以及产品质量。
发明内容
针对现有技术上存在的模内贴附薄膜定位不稳定性的缺陷，本发明目的是在于提供一种有效提高表面装饰位置精确可靠度的注塑成型模具定位结构，提高注塑产品的质量。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：
一种注塑成型模具定位结构，包括母模结构、公模结构、设置在母模结构的母模仁和设置在公模结构上的公模仁，其特征在于，在所述的公模仁上还设有用于定位模内贴附薄膜的模仁定位入子，在公模结构内部还设有的用于配合公模仁射出压力的压力装置。
前述的一种注塑成型模具定位结构，其中，所述压力装置包括一压力弹簧，所述压力弹簧的一端顶至在公模结构上，其另一端顶至在模仁定位入子上，其配合模具公模仁并设置在公模结构内；注塑成型时配合射出压力及公模仁内部的压力装置可作动模仁定位入子。
所述模仁定位入子是一种依产品3D形体加工制成的结构，并安装设置在模具公模仁上。
本发明通过模仁定位入子以及压力装置，用于定位模内贴附薄膜而改善模内注塑贴膜无结构靠位时的定位，精准有效定位贴附薄膜的加工位置，可以应用在不同产品机构的定位功能，具高精度定位产品外观装饰位置，有效提升产品价值。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式来详细说明本发明；
图1为本发明的结构示意简图。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
实施例：
参见图1，本实施例提供的是一种注塑成型模具定位结构，其包括母模结构1、公模结构4、安装在母模结构1的母模仁2和安装在公模结构4上的公模仁3。
在公模仁3上还设有用于定位模内贴附薄膜的模仁定位入子5，该模仁定位入子5是一种依产品3D形体加工制成的结构，并安装公模仁上。
抓公模结构4的内部安装有的用于配合公模仁射出压力的压力装置。该压力装置包括一压力弹簧6，该压力弹簧6一端顶至在公模结构1上，其另一端顶至在模仁定位入子5上，其用于配合模具公模仁3，并设置在公模结构4内，在注塑成型时配合射出压力及公模仁3内部的压力装置可作动模仁定位入子5。
本实施例中，模仁定位入子5安装有2个，并起下端对应安装压力弹簧6，该模仁定位入子5没有作动时高于公模仁3表面，用于定位模内贴附薄膜而改善模内注塑贴膜无结构靠位时的定位方式，改变了现有技术上应用在IML制程贴膜上的定位，改进后具有高稳定性的定位的技术。
在注塑时，通过模仁定位入子5将定位模内贴附薄膜进行定位，精准有效定位贴附薄膜的加工位置；当注塑成型时，模仁定位入子5配合射出压力及公模仁3内部的压力装置，即作动模仁定位入子，具有高精度定位产品外观装饰位置，有效提升产品价值。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (2)

1.  一种注塑成型模具定位结构，包括母模结构、公模结构、设置在母模结构的母模仁和设置在公模结构上的公模仁，其特征在于，在所述的公模仁上还设有用于定位模内贴附薄膜的模仁定位入子，在公模结构内部还设有的用于配合公模仁射出压力的压力装置。
2.根据权利要求1所述的一种注塑成型模具定位结构，其特征在于，所述压力装置包括一压力弹簧，所述压力弹簧的一端顶至在公模结构上，其另一端顶至在模仁定位入子上。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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