CN102140666A - 一种粘接钕铁硼磁体涂覆方法及其制备得到的多层结构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种粘接钕铁硼磁体涂覆方法及其制备得到的多层结构，所述方法包括如下步骤：首先，使用环氧涂料在粘接钕铁硼磁体表面涂覆形成环氧层；其次，在环氧层的表面涂覆聚对二甲苯聚合物层。该种涂覆方法不仅提高了粘接钕铁硼磁体的抗腐蚀能力；而且以同样的耐腐蚀性能衡量，可以降低涂层厚度，提高磁体的厚度，从而提升粘接钕铁硼磁体的性能。
Description
技术领域
本发明属于多孔磁体的表面防护技术领域，特别涉及一种粘接钕铁硼磁体涂覆方法及其制备得到的多层结构。
背景技术
钕铁硼作为第三代稀土永磁材料，具有优异的磁性能和高的性价比，因此近几年在科研、生产、应用方面都得到了高速的发展。广泛应用于电子电器、机械和医疗器械、汽车、航空等高科技领域，随着其性能的不断提高，新的应用增长点不断涌现，特别是以信息产业为代表的知识经济的发展，给稀土永磁体等功能材料不断带来新的用途。
但是钕铁硼磁体中的钕、铁化学活性强，易被氧化生锈，且磁体由多相结构组成，很容易产生晶界腐蚀，且其结构疏松，孔隙率高，外界腐蚀性气体、液体易进入，造成对磁体的长期腐蚀。所以需要采取相应的措施对磁体进行保护。
目前，钕铁硼磁体的主要防护方法有：金属镀层法和有机涂层法、对于金属镀层法，由于磁体的多孔性，孔隙内易残留镀液，造成对永磁体的长期腐蚀。特别对于粘接磁体，由于表面导电的不均匀性，造成镀层的不均匀性，甚至部分地方出现未镀现象。
有机涂层法，目前主要采用的方法是单一环氧涂层法，这种方法由于粘接钕铁硼磁体本身疏松多孔的特点和环氧涂料流动性以及涂料颗粒粒度的局限，磁体的成品涂层往往存在孔洞，导致粘接钕铁硼磁体的耐腐蚀性能有一定的局限性，一般5%NaCl×35℃×24小时盐雾试验就会出现锈点。
发明内容
本发明的目的在于提供一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，该涂覆方法弥补了环氧层的缺陷，具有更强的耐腐蚀性能，用5%NaCl×35℃的条件试验，72小时仍然没有锈点出现。
本发明的目的还在于提供通过上述方法制备得到的一种粘接钕铁硼磁体表面的多层结构。
本发明的目的通过下述技术方案实现：一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，包括如下步骤：首先，使用环氧涂料在粘接钕铁硼磁体表面涂覆形成环氧层；其次，在环氧层的表面涂覆聚对二甲苯聚合物层。
所述环氧层的涂层厚度为20.0~25.0μm。
所述聚对二甲苯聚合物层的涂层厚度为5.0~10.0μm。
所述环氧层采用电泳或喷涂方式涂覆。
所述聚对二甲苯聚合物层是由聚对二甲苯单体在环氧层表面沉积形成的层。
本发明还涉及一种粘接钕铁硼磁体表面的多层结构，包括粘接钕铁硼磁体表面构成的基层、设在基层表面上由环氧涂料形成的环氧层、以及设于环氧层上由聚对二甲苯单体形成的聚对二甲苯聚合物层。
本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
（1）、在粘接钕铁硼磁体表面涂覆环氧层后，再涂覆聚对二甲苯聚合物层。聚对二甲苯聚合物层的涂覆采用气相沉积法，由于聚对二甲苯单体是以分子形式均匀的覆盖到物体表面后再发生聚合反应，形成均匀、连续的透明涂层，涂覆时可以达到完全致密的程度，这样最大程度地弥补了环氧层的缺陷，可以使粘接钕铁硼磁体具有更强的耐腐蚀性能，用5%NaCl×35℃的条件试验，72小时仍然没有锈点出现。
（2）、由于聚对二甲苯是以连续的薄膜形式覆盖物体表面和缝隙，与以粉粒形成涂层的常规涂层相比，它不存在颗粒脱落的情况，所以这种涂覆方法也适用于对洁净度要求非常高的零配件使用。
（3）、采用该种涂覆方法，以同样的耐腐蚀性能衡量，可以降低涂层厚度，提高磁体的厚度，从而提升磁体性能。
附图说明
图1为本发明一种粘接钕铁硼磁体表面的多层结构一种实施例的截面示意图。
图中各部件对应的名称为：1-基层；2-环氧层；3-聚对二甲苯聚合物层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细的说明，但本发明的实施方式不限于此。
实施例1
图1描述了本发明一种粘接钕铁硼磁体表面的多层结构一种实施例的截面示意图。该多层结构包括粘接钕铁硼磁体表面构成的基层1、设在基层表面上由环氧涂料形成的环氧层2、以及设于环氧层上由聚对二甲苯单体形成的聚对二甲苯聚合物层3。
本发明一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，包括如下步骤：首先，使用环氧涂料在粘接钕铁硼磁体表面涂覆形成环氧层；其次，在环氧层的表面涂覆聚对二甲苯聚合物层。
所述环氧涂料为本领域公知的材料，具体实施时，将环氧涂料通过喷涂或者电泳的方式涂覆在粘接钕铁硼磁体的外表面。
所述环氧层的涂层厚度为20.0~25.0μm。
所述聚对二甲苯聚合物层的涂层厚度为5.0~10.0μm。
所述聚对二甲苯聚合物层的涂覆采用气相沉积法，聚对二甲苯单体以气体分子形式沉积到环氧层涂层的表面后，发生聚合反应，形成了聚对二甲苯聚合物层。
优选的是，在聚对二甲苯单体形成层的过程中，还可以添加除聚对二甲苯单体之外的其他化学物质；并且这些化学物质是用于改善聚对二甲苯聚合物层的强度或粘附性。
按照本发明，聚对二甲苯聚合物层的气相沉积时，优选的是，在聚对二甲苯聚合物单体在沉积到环氧层上之前还进行纯化处理。
实施例2
本发明与现有技术单一环氧涂层技术的防护试验检测结果对比。
表1显示：本发明采用在粘接钕铁硼磁体表面涂覆环氧层后，再涂覆聚对二甲苯聚合物层，具有比现有技术单一环氧涂层技术更强的耐腐蚀性能。
如上，便可以很好的实现本发明。
Claims (6)
1.一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，其特征在于，包括如下步骤：首先，使用环氧涂料在粘接钕铁硼磁体表面涂覆形成环氧层；其次，在环氧层的表面涂覆聚对二甲苯聚合物层。
2.根据权利要求1所述的一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，其特征在于，所述环氧层的涂层厚度为20.0~25.0μm。
3.根据权利要求1所述的一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，其特征在于，所述聚对二甲苯聚合物层的涂层厚度为5.0~10.0μm。
4.根据权利要求1所述的一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，其特征在于，所述环氧层采用电泳或喷涂方式涂覆。
5.根据权利要求1所述的一种粘接钕铁硼磁体的涂覆方法，其特征在于，所述聚对二甲苯聚合物层是由聚对二甲苯单体在环氧层表面沉积形成的层。
6.一种粘接钕铁硼磁体表面的多层结构，其特征在于，包括粘接钕铁硼磁体表面构成的基层（1）、设在基层表面上由环氧涂料形成的环氧层（2）、以及设于环氧层上由聚对二甲苯单体形成的聚对二甲苯聚合物层（3）。
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