CN102137629A - 使用多放电施予器的皮肤治疗 - Google Patents
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Abstract
一种用于医学治疗的方法,包括将其上置有突出物(56)的阵列的施予器(24、60、73)携带到患者(32)的皮肤表面(64)附近,从而维持多个突出物与皮肤表面之间的空间(76)。对施予器施加射频(RF)电功率,从而引起经由空间中的流体介质在多个突出物与皮肤表面上的相应点之间产生响应于RF电功率的放电(72)。
Description
相关申请的交叉参考
本发明要求2007年1月31日提交于的美国临时专利申请60/887,352的权益,该临时专利申请在本文中引用作为参考。
技术领域
本发明一般地涉及用于医学治疗的装置和方法,并且特别地涉及使用射频(RF)电能用于组织治疗的设备。
背景技术
在通过应用电磁能量特别是射频(RF)能量进行皮肤层的医学治疗的领域里,已知各种技术和设备。在本专利申请和权利要求书中广泛地使用“RF”来指代处于几千赫兹至几十万兆赫范围内的任何频率下的电磁波。
例如,PCT国际公开WO 2006/077567描述了使用RF能量加热生物组织的系统和方法,其公开内容在本文中引用作为参考。所述系统包括RF源、移相器、阻抗匹配网络和连接到施予器的谐振器,其可以用于选择性加热身体上的脂肪团。
一些治疗技术使用RF等离子放电来向皮肤传送能量。例如,美国专利申请公开2006/0189976描述了一种系统,其中形成从电极到待治疗的生物组织的表面的电流路径,由此点燃气流并形成等离子体气体放电,该公开的内容在本文中引用作为参考。治疗的生物组织与横穿电磁相互作用间隙的等离子体气体放电之间的电磁相互作用确定等离子体气体放电的外形。使用RF等离子体产生的其他治疗系统在美国专利6,105,581、6,518,538、6,629,974和6,723,091中公开,这些专利的公开内容同样在本文中引用作为参考。
用于治疗皮肤层的一些技术和设备使用多电极配置以同时在多个点向皮肤施加电能量。例如,美国专利6,277,166描述了使用带有电极阵列的载体收缩真皮中的胶原质的系统和方法,其公开内容在本文中引用作为参考。覆盖电极的载体上的多微孔衬垫接触患者的皮肤并以离子形式传输所施加的电磁能量以便欧姆加热(ohmically heat)表皮之下的真皮组织。美国专利申请公开2002/0120260同样描述了一种组织表面治疗装置,其中组织接触表面具有多个开孔,该申请公开内容在本文中引用作为参考。电极向前穿过开孔并穿透皮肤,以便使用RF能量消融组织。
作为另一个示例,美国专利6,148,232描述了用于消融对象的角质层表皮素(stratum corneum epidermidis)的设备,其公开内容在本文中引用作为参考。该设备包括多个电极,将这些电极施加到对象的皮肤的相应点。功率源在两个或更多个电极之间施加电能,以便引起角质层的消融,实现经皮给药或分析物提取的目的。类似地,PCT国际公开WO 2005/096980使用具有多个电极的设备来生成一个或多个组织层中的穿孔图案,其公开内容在本文中引用作为参考。
发明内容
下面描述的本发明的实施例提供了用于治疗生物组织的设备和方法。在这些方法中,在施予器与诸如皮肤表面的组织表面之间生成多个RF等离子体放电。这些放电通常是沟道类型放电,具有光柱、电弧或火花的形式。可以控制放电参数,从而将每次放电中的RF能量传送到组织表面下相应的治疗区域,由此生成治疗区域的图案。这类图案在例如为了美容治疗的目的而进行的次表面皮肤组织的消融中是特别有用的。
在一些实施例中,利用带有施予器的设备来生成RF放电,该施予器包括施予器主体,且带有用于接收RF电功率的终端。将突出物的阵列置于施予器主体的前侧。将该前侧携带到皮肤附近,同时保持至少大部分突出物与皮肤表面之间的空间。结果,经由突出物与皮肤之间的空间内的流体介质(气体或液体)在大部分突出物与皮肤上相应点之间产生RF放电。当使用气态介质时,它可以包括环境空气或引入到该空间内的另一种气体。施予器能够在单极模式下操作的同时生成放电,而不需要专用的接地电极。
因此,根据本发明的实施例,提供一种医学设备,其包括:
施予器主体,其包括用于接收射频(RF)电功率的终端;和
突出物的阵列,将其置于所述施予器主体的前侧,并将其配置为当将所述施予器主体携带到皮肤表面附近时保持所述突出物的至少大部分与患者的所述皮肤表面之间的空间,从而引起经由所述空间中的流体介质在所述突出物的所述大部分与所述皮肤表面上的对应点之间产生响应于所述RF电功率的放电。
在一个实施例中,所述施予器主体的所述前侧是凸起的。所述突出物通常是尖角的。
可选地或者另外地,所述施予器主体包括用于接合所述皮肤表面的隔离物,从而保持突出物与皮肤表面之间的空间。将所述隔离物配置为相对环境空气密封所述空间,并且所述设备可以包括与所述空间连通的流体端口,用于执行排空所述空间和将流体引入所述空间二者至少之一。
进一步可选地或者另外地,将突出物阵列配置为经由环境空气产生放电。
根据本发明的实施例,还提供一种用于医学治疗的装置,其包括:
射频(RF)功率源,将其配置为产生RF电功率;和
皮肤治疗设备,将其耦合以接收RF电功率并包括施予器,所述施予器包括施予器主体和置于所述施予器主体的前侧的突出物的阵列,
其中,将所述皮肤治疗设备配置为当将所述施予器携带到皮肤表面附近时保持所述突出物的至少大部分与患者的皮肤表面之间的空间,从而引起经由所述空间中的流体介质在突出物的大部分与皮肤表面上的相应点之间产生响应于所述RF电功率的放电。
在一些实施例中,将皮肤治疗设备配置为由操作者手持并由所述操作者在皮肤表面之上移动,并且其中所述装置包括将RF功率源连接到皮肤治疗设备上的缆线。通常,将所述RF功率源配置为以预先确定的频率产生RF电功率,所述缆线具有与所述预先确定的频率下的半波的整数倍相等的长度。所述皮肤治疗设备可以包括谐振电路,将所述谐振电路调谐到所述预先确定的频率。
在公开的实施例中,RF功率源具有预先确定的阻抗,所述预先确定的阻抗不同于突出物与皮肤上的相应点之间的放电的放电阻抗,并且所述装置包括阻抗匹配电路,用于匹配所述预先确定的阻抗与所述放电阻抗。可选地或者另外地,所述RF功率源包括:RF发生器,将所述RF发生器配置为以恒定幅度产生所述RF电功率;脉宽调制(PWM)控制器,将所述脉宽调制控制器耦合以便以可变占空比切换所述RF发生器,从而调整供应给所述皮肤治疗设备的RF电功率的功率水平。进一步可选地或者另外地,所述RF功率源包括相位控制器,该相位控制器可操作以调整在施予器的前侧处的RF电功率的相位。
在一个实施例中,将所述RF功率源和所述皮肤治疗设备配置为在单极模式下操作时产生所述放电。
根据本发明的实施例,另外还提供一种用于医学治疗的方法,其包括:
将其上置有突出物的阵列的施予器携带到患者的皮肤表面附近,从而保持多个突出物与皮肤表面之间的空间;以及
对所述施予器施加射频(RF)电功率,从而引起经由空间中的流体介质在多个突出物与皮肤表面上的相应点之间产生响应于所述RF电功率的放电。
在一个实施例中,所述方法包括相对环境空气密封所述空间,并执行排空所述空间和将流体引入所述空间二者至少之一,其中引入所述流体可以包括利用从包括了惰性气体和反应气体的气体群组中选择的气体填充所述空间。或者,施加所述RF电功率包括经由环境空气产生所述放电。
通常,施加所述RF电功率包括在所述患者的皮肤组织上的相应点处生成多个穿孔。生成所述多个穿孔可以引起所述皮肤组织在所述穿孔痊愈后拉紧。
根据本发明的实施例,还提供一种医学设备,其包括:
施予器主体,其包括用于接收射频(RF)电功率的终端;
滚筒,其具有与所述施予器主体耦合的轴线并具有用于接触患者的皮肤表面的径向表面,并且将所述滚筒配置为当滚筒在皮肤表面之上前进时其围绕所述轴线旋转;和
突出物的阵列,将其置于所述滚筒的径向表面上,并且将其配置为当滚筒在皮肤表面之上前进时引起在所述突出物与所述皮肤上的相应点之间的空间中产生响应于所述RF电功率的多个放电。
在公开的实施例中,所述滚筒具有从包括了圆柱形、球形、椭球形和桶形的形状群组中选择的形状。
此外,根据本发明的实施例,还提供一种用于医学治疗的装置,其包括:
射频(RF)功率源,将其配置为产生RF电功率;和
皮肤治疗设备,将其耦合以接收所述RF电功率,并且其包括:
滚筒,其具有轴线并具有用于接触患者的皮肤表面的径向表面,并且将所述滚筒配置为当其在所述皮肤表面之上前进时围绕所述轴线旋转;和
突出物的阵列,将其置于在所述滚筒的径向表面上,并且将其配置为当滚筒在皮肤表面之上前进时引起在所述突出物与所述皮肤上的相应点之间的空间中产生响应于所述RF电功率的多个放电。
附图说明
通过以下实施例的详细描述并结合附图可以更完整地理解本发明,其中在附图中:
图1是根据本发明的实施例的用于皮肤治疗的系统的示意性图示;
图2是根据本发明的实施例的用于皮肤治疗的设备的示意性剖面视图:
图3A和图3B分别是根据本发明的实施例的用于图2的设备中的施予器的示意性图示和截面视图;
图4A是根据本发明的实施例的用于治疗皮肤区域的施予器的示意性截面图;
图4B是根据本发明的另一个实施例的用于治疗皮肤区域的施予器的示意性图示;
图5是根据本发明的实施例示意性示出用于皮肤治疗的系统的电部件的框图;
图6是根据本发明的实施例示出针对皮肤治疗的系统的随时间变化的RF能量应用类型的示意性图表;
图7是根据本发明的实施例的阻抗匹配电路的电学示意图。
具体实施方式
图1是根据本发明的实施例的用于皮肤治疗的系统20的示意性图示。操作者30(如医师)将皮肤治疗设备22的施予器24携带到患者32的皮肤附近。控制台26经由缆线28向设备22供应RF电能量。该RF能量引起在施予器的前侧与患者的皮肤之间的空间中生成沟道类型的电等离子气体放电。这些放电将能量传递到皮肤表面(stratum comeum),特别是皮肤的次表面层,特别是表皮和真皮。通过参考下面的附图在下面展示设备22和施予器24的设计和操作的细节。
在系统20中施加RF能量到身体组织对于各种医学应用来说是有用的。例如,对于美容应用(诸如皮肤拉紧和重修表面,包括细纹、皱纹和痤疮疤痕的治疗),设备22可以用于消融皮下组织(真皮)的局部区域。可选地或者另外地,由设备22实现的外部皮肤层消融可以结合施加药物制剂到皮肤上来执行以增强药物传送。进一步可选地,尽管将系统20和本文所述的实施例配置为用于皮肤治疗,但设备22和施予器24可以适于其他生物组织的表面层的基于等离子体的治疗。
图2是根据本发明的实施例的设备22的示意性剖面视图。当操作者按下触发器42时,将由缆线28承载的RF能量馈送给设备22中的RF传送电路40。电路40通常包括调谐到RF能量的频率的谐振电路。这些电路的细节在图5中示出,并且通过参考该图在下面描述。
针对放电的频率和阻抗特性仔细设计电路40能够增强RF能量到患者皮肤的传送效率并降低热耗散。然而,为了将电路40和设备22保持在稳定的温度,该设备可以包括冷却器44,该冷却器通过冷却剂流经适当的管线系统来带走热量。可以将该冷却器可以连接到外部泵和热交换器,二者由设备22中的适当的温度传感器(图中未示出)控制。发明人已经发现具有大约10-15℃的水温的水冷却系统表现出良好的结果。或者,为了这一目的可以使用热电冷却器(TEC)。可以通过附连到设备22的接地板的热敏电阻来向该冷却系统提供温度反馈。
图3A和图3B分别是根据本发明的实施例的施予器24的示意性图示和截面视图。通常,设备22可以与各种不同的可交换的施予器一起使用,这些施予器具有不同的几何特性、电学特性和功能特性。下面描述很多可替代的施予器设计。
施予器24包括主体50,该主体具有连接到电路40(图2)的终端,以便接收RF能量。突出物56的阵列在施予器的前侧54上形成,即当使用设备22时接近患者皮肤的一侧。通常,这些突出物是如图3A和图3B所示的带有尖端的圆锥形或锥体形。前侧54的尺寸和突出物56的密度可以根据患者的皮肤类型和治疗需求发生变化。例如,在典型的皮肤病学应用中,前侧54可以具有在4mm至20mm之间的直径,而突出物56以在0.5mm至2.0mm之间的距离间隔开。然而,这些尺寸仅以示例的方式给出,并且可以可选地使用更大或更小的尺寸。
突出物56尖端处的点聚集电场并因此有助于在突出物与患者的皮肤之间点燃放电。为了这一目的,突出物可以可选地具有针(pin)或线(wire)的形式,诸如上述PCT国际公开WO 2005/096980或以上背景技术部分中所引用的其他公开物中所描述的那些。进一步可选地,突出物可以具有其他形状,诸如圆形的或矩形的形状。尽管施予器24在图3A和图3B中显示为单一的部件,但施予器可以可选地包括诸如电容器和/或电阻器(图中未显示)的内部电路,将内部电路布置为引起突出物起到独立电极的作用,从而帮助维持多个独立放电,所用的方式类似于在一些气体放电快流激光器中使用的多段电极类型。
从图3A和图3B可以看出,前侧54是凸起的,其曲率半径通常在20-30mm范围内。因此,当操作者30使施予器24轻轻地接触患者的皮肤(而不对皮肤施加压力)时,突出物56将仅在前侧54的一小部分区域上接触皮肤。因此,突出物的大部分将与皮肤以小距离间隔开,并且将不与皮肤电接触。或者,操作者可以保持施予器在皮肤之上,以便没有任何突出物接触皮肤。当施加RF能量到施予器时,不与皮肤电接触的突出物将通过突出物与皮肤之间的流体(气体或液体)介质点燃进入皮肤的电弧放电或火花放电。
通常,主体50和突出物56是由诸如不锈钢的适当的生物兼容材料制成的。为了增强放电质量,突出物可以覆盖有额外的导电层和/或不导电层,诸如陶瓷材料或聚合物或玻璃。任选地,可以预加热施予器24以有助于点燃放电。
图4A是根据本发明的另一个实施例的施予器60的示意性截面图,该施予器可在设备22中用于替换施予器24。该图示出施予器60与患者32的皮肤70的表面64接触。与在施予器24中一样,该施予器包括在施予器主体50前侧上的突出物56。然而,在这一实施例中,施予器60包括隔离物62以便维持突出物56与皮肤表面64之间的预期的间隔。这一实施例中的隔离物包围整个突出物56的阵列,并且包括诸如O形环的密封体66,其禁止了由隔离物包围的空间76与外部环境之间的空气流动。或者,可以将隔离物配置为仅用于维持突出物与皮肤表面之间的预期的距离,同时允许空气流动经过突出物与皮肤表面之间的空间。在任何一种情况下,均将隔离物62配置为保持皮肤表面与突出物56的尖端之间的一定距离。通常,这一距离在大约0.1mm至5mm之间。
任选地,突出物56与皮肤表面64之间的空间76可以经由流体端口74填充选定的流体(气体或液体)至预期的压力。例如,该空间可以填充具有适当维持放电特性的惰性气体,诸如稀有气体(如He、Ar、Ne、kr或Xe)或氮气。该气体可以填充到等于或高于大气压力的压力,或者该空间可以可选地排空或保持在低于大气压力的压力。可选地或者另外地,可以将反应气体(如氧气、水蒸气、氮或碳的氧化物或挥发性有机或无机气体)注射到空间76内用于治疗皮肤70。不管气体成分如何,在放电期间该气体可以是静止的或可以流动经过空间76。进一步可选地,空间76可以填充有液体,特别是电解液,如生理盐水。
当将RF能量施加到施予器60上(或者类似地,施加到本文所述的其他类型的施予器)时,在每个突出物56处产生火花,击穿空间76中的气体并产生延伸进入皮肤70内的等离子放电68。该放电消融皮肤,生成延伸进入皮肤的次表面层(通常为表皮和真皮)内的穿孔72。为了实现有效的有规则的消融,期望由施予器转移到皮肤的大部分能量是由放电传送的,而不是通过热的或导电的能量转移实现的(就像当突出物56与皮肤表面接触时将会发生的)。
可以通过适当选择RF放电参数(诸如幅度、功率、频率、相位和持续时间以及突出物56与皮肤之间的距离)来控制穿孔的深度和形状(例如,圆形或平底)。如下面参考图6所述,可以使用脉宽调制(PWM)方案来控制传送RF功率到皮肤。在典型的美容治疗应用中,将穿孔制成深度为大约100-150μm且直径为大约80-120μm,但是发明人已经发现可以以上述方式生成深度至少为300μm的清洁的、良好控制的穿孔。可选地,穿孔可以制作得更宽、更浅。
在系统20的操作中,操作者30通常移动设备22,从而施予器在将待治疗的皮肤区域之上扫描。在区域的每个位置,操作者短时间启动设备,通常在30至80W之间的RF功率水平下大约100-200ms。可选地,更低的功率下的更长的暴露时间也是可以利用的,反之亦然。根据皮肤类型和正在治疗的情况,操作者可以在该区域之上仅进行一轮或进行多轮。
图4B是根据本发明的另一个实施例的施予器73的示意性图示。施予器73包括滚筒78,该滚筒在其径向表面具有多个突出物56。该滚筒可以是如图4B所示的圆柱形,或者可以具有任何其他适当的形状,诸如球形、椭球形或桶形。将滚筒78安装成绕轴线79旋转,从而在接受治疗的区域上滚动。通常,滚筒以1mm/sec至10mm/sec之间的速度在皮肤上向前滚动。随着滚筒前进,突出物56交替地接触皮肤和移动远离皮肤。当给定的突出物靠近皮肤但是不直接接触时,在突出物与皮肤之间点燃放电。
图5是根据本发明的实施例示意性示出系统20的电部件的框图。控制台26包括RF发生器82,该RF发生器以预期的频率产生RF能量。对于皮肤治疗,发明人已经发现处于大约40MHz(通常为40.68MHz)下的RF能量表现出好的结果。或者,系统20的部件可以适于在更高或更低的频率下操作,从几千赫兹到几千兆赫兹。RF发生器82通常包括振荡器和放大器,其可以是任何适当类型的,诸如带有Pierce类型振荡器的级联放大器,其在例如美国专利4,626,767中有所描述,该专利的公开内容在本文中引用作为参考。为了表现出完美的正弦输出,RF发生器的最后一级可以包括推/拉构造的一对匹配的晶体管。
在一个实施例中,RF发生器82利用最小的反射RF功率将大约300-400W的功率输出到50Ω的电阻负载中。为了维持良好的阻抗匹配,由RF发生器输出的RF波的幅度应该保持为大致恒定。然而,如上所述,经常需要将传送给患者的皮肤的RF功率的量调整到相当低的水平。为了这一目的,通过脉宽调制(PWM)控制器80来切换RF发生器,并且因此在RF脉冲期间保持恒定的RF幅度的同时,通过调制占空比来控制RF发生器的平均功率输出。
图6是根据本发明的实施例示出RF发生器82的RF能量输出随时间变化的类型90的示意性图表。PWM控制器80以处于某一频率下的矩形脉冲调制RF发生器打开和关闭,该频率远小于RF频率,由此产生RF脉冲92的序列。PWM控制器可以用于产生基本上任何预期的占空比(以及因此来自RF发生器的任何预期的平均功率输出,在100%占空比下高达全部输出功率)。发明人已经发现当调制频率在10Hz至100Hz之间且占空比在5%至30%之间时操作PWM控制器80可以在典型的皮肤治疗应用中表现出好的结果。例如,可以在20-25Hz的频率下操作PWM控制器,并且控制PWM占空比,从而将大约30W至70W之间的平均RF功率施加到皮肤上。已经发现45W至55W之间的功率设置,且在每个治疗位置处施加大约0.1秒的RF能量,可以在美容皮肤治疗中表现出好的结果。
现在返回到图5,控制台26任选地包括相位控制器84,用于向输出的RF能量施加可变相移。例如,该相位控制器可以包括长号线(tromboneline),该长号线是可以机械延长和缩短以改变输出相位的传输线。该相位控制器可以用于确定施予器24的输出处的RF波的相位,并因此改变患者皮肤下面RF电场被最大化的深度。结果,有可能在最小化对外部皮肤层的伤害的同时,在皮肤表面以下的多个点处选择性地使胶原蛋白中的组织消融、变性或凝结。胶原蛋白中随后的痊愈拉紧皮肤并使皮肤变平滑。
可选地或者另外地,可以校准缆线28的长度以给出在RF发生器82的输出处的RF波的相位与在设备22处的缆线上接收到的波的相位之间的已知、固定的关系。例如,可以将缆线切割成长度等于RF频率下的半波的整数倍,即L=nλ/2,其中L是缆线的长度,λ是RF波长,且n是整数。
控制台26经由阻抗匹配电路86输出RF能量到缆线28。如较早指出,施予器24(连同谐振电路88和接近施予器的身体组织)的特征阻抗通常在260-320Ω的范围内。因此将电路86设计为使RF发生器的50Ω的输出阻抗与300Ω的负载阻抗匹配,从而以最小的反射将RF能量有效地传送到患者的皮肤。
图7是根据本发明的一个实施例的阻抗匹配电路86的电学示意图。在这个示例中,电路86包括布置在同轴的输入终端100和输出终端102之间的电容器(C)和可变电感器(L)的网络104。为了使50Ω的输入阻抗与300Ω的负载阻抗在系统20的40.68MHz的操作频率下匹配,对于所有四个电容器均有C=33pF,且L=400nH。或者,根据应用的需要可以使用其他网络类型和部件数值。
当将缆线28切割成长度等于半波的整数倍(如上所述,L=nλ/2)时,缆线是“阻抗透明的”且阻抗匹配电路86的输出有效地直接耦合到设备22上,就好像不存在介入缆线一样。缆线在40.68MHz下的实际阻抗(有效电阻)通常为大约2kΩ,其显著高于皮肤组织的阻抗(260-320Ω)。缆线因此起到镇流电阻器的作用,损耗从RF发生器传送的能量的5-8%。
返回图5,将来自缆线28的RF能量经由并行谐振电路88传递给施予器24,将该并行谐振电路88调谐到RF发生器82的频率。谐振电路包括可变电感器,该可变电感器具有典型的2200nH的电感,并与设备22的结构的寄生电容耦合,该寄生电容大约为7pF。谐振电路88的实际阻抗通常在5-15kΩ的范围内。该电容(且因此电路88的谐振频率)随温度的变化而变化。如上所述,因此,设备22中的电路冷却在防止使用该设备期间的谐振频率变化方面很有用。
如较早指出的,系统20的治疗效果取决于由施予器24生成的放电特性,而这些特性又取决于诸如RF功率、相位、照射持续时间和施予器与皮肤之间的距离的参数。这些参数可以由操作者30直接控制。可选地或者另外地,控制台26可以包括计算机化的控制器(未示出),该控制器基于操作者提供的治疗信息自动地设置参数。任选地,该计算机化的控制器可以接收来自治疗部位的反馈,诸如在患者皮肤中生成的穿孔深度的激光器测量结果,并且可以相应地调整治疗参数。
任选地,由设备22产生的多点放电可以和其他治疗形式结合起来使用。例如,上述基于放电的方法可以和光学治疗和/或超声治疗结合起来使用以便增强治疗效果。
因此应认识到上述实施例是通过示例的方式被引用的,本发明并不局限于上面特别示出和描述的那些内容。而是,本发明的范围包括上述各种特征的组合和子组合,以及本领域技术人员在阅读前面的说明书后想到的且现有技术未公开的变型和修改。
Claims (33)
1.一种医学设备,包括:
施予器主体,其包括用于接收射频(RF)电功率的终端;和
突出物的阵列,将其置于所述施予器主体的前侧,并且将其配置为当将所述施予器主体携带到皮肤表面附近时保持所述突出物的至少大部分与患者的所述皮肤表面之间的空间,从而引起经由所述空间中的流体介质在所述突出物的所述大部分与所述皮肤表面上的相应点之间产生响应于所述RF电功率的放电。
2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述施予器主体的所述前侧是凸起的。
3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述施予器主体包括用于接合所述皮肤表面的隔离物,从而保持所述突出物与所述皮肤表面之间的所述空间。
4.根据权利要求3所述的设备,其中,将所述隔离物配置为相对环境空气密封所述空间。
5.根据权利要求4所述的设备,其包括与所述空间连通的流体端口,以便执行排空所述空间和将流体引入所述空间二者至少之一。
6.根据权利要求1所述的设备,其中,将所述突出物的阵列配置为经由环境空气产生所述放电。
7.根据权利要求1-7中任一项所述的设备,其中,所述突出物是尖角的。
8.一种用于医学治疗的装置,包括:
射频(RF)功率源,将其配置为产生RF电功率;和
皮肤治疗设备,将其耦合以接收所述RF电功率并包括施予器,所述施予器包括施予器主体和置于所述施予器主体的前侧的突出物的阵列,
其中,将所述皮肤治疗设备配置为当将所述施予器携带到皮肤表面附近时保持所述突出物的至少大部分与患者的所述皮肤表面之间的空间,从而引起经由所述空间中的流体介质在所述突出物的所述大部分与所述皮肤表面上的相应点之间产生响应于所述RF电功率的放电。
9.根据权利要求8所述的装置,其中,将所述皮肤治疗设备配置为由操作者手持并由所述操作者在所述皮肤表面之上移动,并且其中,所述装置包括将所述RF功率源连接到所述皮肤治疗设备上的缆线。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,将所述RF功率源配置为以预先确定的频率产生所述RF电功率,并且其中,所述缆线具有与所述预先确定的频率下的半波的整数倍相等的长度。
11.根据权利要求10所述的装置,其中,所述皮肤治疗设备包括谐振电路,将所述谐振电路调谐到所述预先确定的频率。
12.根据权利要求8-11中任一项所述的装置,其中,所述RF功率源具有预先确定的阻抗,所述预先确定的阻抗不同于所述突出物与所述皮肤上的所述相应点之间的所述放电的放电阻抗,并且其中,所述装置包括阻抗匹配电路,用于匹配所述预先确定的阻抗与所述放电阻抗。
13.根据权利要求8-11中任一项所述的装置,其中,所述RF功率源包括:RF发生器,将所述RF发生器配置为以恒定幅度产生所述RF电功率;以及脉宽调制(PWM)控制器,将所述脉宽调制控制器耦合以便以可变占空比切换所述RF发生器,从而调整供应给所述皮肤治疗设备的所述RF电功率的功率水平。
22.根据权利要求21所述的方法,其中,引入所述流体包括利用从包括了惰性气体和反应气体的气体群组中选择的气体填充所述空间。
23.根据权利要求16所述的方法,其中,施加所述RF电功率包括经由环境空气产生所述放电。
24.根据权利要求16-23中任一项所述的方法,其中,施加所述RF电功率包括在所述患者的皮肤组织上的所述相应点处生成多个穿孔。
25.根据权利要求24所述的方法,其中,生成所述多个穿孔引起所述皮肤组织在所述穿孔痊愈后拉紧。
26.根据权利要求16-23中任一项所述的方法,其中,所述RF电功率具有预先确定的频率,并且其中,施加所述RF电功率包括经由缆线从RF功率源提供所述RF电功率到所述施予器,所述缆线具有与所述预先确定的频率下的半波的整数倍相等的长度。
27.根据权利要求16-23中任一项所述的方法,其中,所述RF功率源具有预先确定的阻抗,所述预先确定的阻抗不同于所述突出物与所述皮肤上的所述相应点之间的所述放电的放电阻抗,并且其中,提供所述RF电功率包括利用所述RF功率源与所述施予器之间的阻抗匹配电路来匹配所述预先确定的阻抗与所述放电阻抗。
28.根据权利要求16-23中任一项所述的方法,其中,施加所述RF电功率包括以可变占空比切换RF发生器,从而调整供应给所述施予器的所述RF电功率的功率水平。
29.根据权利要求16-23中任一项所述的方法,其中,施加所述RF电功率包括调整所述施予器的所述前侧处的所述RF电功率的相位。
30.一种医学设备,包括:
施予器主体,其包括用于接收射频(RF)电功率的终端;
滚筒,其具有与所述施予器主体耦合的轴线并具有用于接触患者的皮肤表面的径向表面,并且将其配置为当所述滚筒在所述皮肤表面之上前进时围绕所述轴线旋转;和
突出物的阵列,将其置于所述滚筒的所述径向表面上并将其配置为当所述滚筒在所述皮肤表面之上前进时引起在所述突出物与所述皮肤上的相应点之间的空间中产生响应于所述RF电功率的多个放电。
31.根据权利要求30所述的设备,其中,所述滚筒具有从包括了圆柱形、球形、椭球形和桶形的形状群组中选择的形状。
32.根据权利要求30或31所述的设备,其中,将所述突出物的阵列配置为经由环境空气产生所述放电。
33.根据权利要求30或31所述的设备,其中,所述突出物是尖角的。
34.一种用于医学治疗的装置,包括:
射频(RF)功率源,将其配置为产生RF电功率;和
皮肤治疗设备,将其耦合以接收所述RF电功率,并且包括:
滚筒,其具有轴线并具有用于接触患者的皮肤表面的径向表面,并且将其配置为当所述滚筒在所述皮肤表面之上前进时围绕所述轴线旋转;和
突出物的阵列,将其置于所述滚筒的所述径向表面上并将其配置为当所述滚筒在所述皮肤表面之上前进时引起在所述突出物与所述皮肤上的相应点之间的空间中产生响应于所述RF电功率的多个放电。
35.根据权利要求34所述的装置,其中,将所述皮肤治疗设备配置为由操作者手持并由所述操作者在所述皮肤表面之上移动,并且其中,所述装置包括将所述RF功率源连接到所述皮肤治疗设备上的缆线。
36.根据权利要求35所述的装置,其中,将所述RF功率源配置为以预先确定的频率产生所述RF电功率,并且其中,所述缆线具有与所述预先确定的频率下的半波的整数倍相等的长度。
37.根据权利要求36所述的装置,其中,所述皮肤治疗设备包括谐振电路,将所述谐振电路调谐到所述预先确定的频率。
38.根据权利要求34-37中任一项所述的装置,其中,所述RF功率源具有预先确定的阻抗,所述预先确定的阻抗不同于所述突出物与所述皮肤上的所述相应点之间的所述放电的放电阻抗,并且其中,所述装置包括阻抗匹配电路,用于匹配所述预先确定的阻抗与所述放电阻抗。
39.根据权利要求34-37中任一项所述的装置,其中,所述RF功率源包括:RF发生器,将所述RF发生器配置为以恒定幅度产生所述RF电功率;以及脉宽调制(PWM)控制器,将所述脉宽调制控制器耦合以便以可变占空比切换所述RF发生器,从而调整供应给所述皮肤治疗设备的所述RF电功率的功率水平。
40.根据权利要求34-37中任一项所述的装置,其中,所述RF功率源包括相位控制器,所述相位控制器用于调整所述施予器的所述前侧处的所述RF电功率的相位。
41.根据权利要求34-37中任一项所述的装置,其中,将所述RF功率源和所述皮肤治疗设备配置为在单极模式下操作的同时产生所述放电。
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