JP2016059703A - 剤浸透性向上方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、特許文献1のような、不織布に化粧水、美容液等の化粧液を含浸した化粧用マスクが知られている。これは、顔型のシートに化粧液をしみこませ、そのシートを顔の上に所定時間おいておくことで有効剤を肌に浸透させる方法である。この方法では、実際にすべての剤が肌に浸透するわけではなく、シート内に液が残留してしまうという課題がある。また、剤としても、シートに含ませることのできる水溶性の液に限られる。さらに、人の顔は平坦ではないため、鼻の周り、目の周り等に隙間が生じてしまうという課題もある。
また、帯電微粒子とともにラジカルを放出することが好ましい。
また、帯電微粒子として、ラジカルおよび酸性成分の少なくとも一方を含有した液滴を生成して放出することが好ましい。
まず、帯電微粒子発生装置1により帯電微粒子水を生成する。次に、帯電微粒子水を、保湿や美白等のための有効剤を含む化粧液が塗られた人体の対象部位に対して噴霧する。このとき、帯電微粒子水の発生量や噴霧時間は予め設定しておいてもよいし、複数のパターンを設定して使用者がモード選択できるようにしてもよい。なお、噴霧手段は、放電によるイオン風を利用してもよいし、別途送風手段を利用してもよい。
有効剤として、グリセリン、アスコルビルグルコシド(ビタミンC)、アルブチンを使用した際の剤浸透量増加結果を図2に示す。化粧液は、有効剤を水に溶かした水溶液とした。このとき、有効剤塗布後の肌に対して帯電微粒子発生装置1を使用しない場合に比して、帯電微粒子発生装置1を使用した場合の方が、有効剤浸透量が増加しており、その点では、第1の実施形態と同様の効果を奏することができる。
2 放電電極
3 対向電極
4 ペルチェユニット
5 電圧印加部
6 冷却部
7 放熱部
Claims (6)
- 大気中で放電によって帯電微粒子を生成し、肌の上に塗った剤に対して帯電微粒子を放出することで、剤の浸透量を増加させることを特徴とする剤浸透性向上方法。
- 前記帯電微粒子とともに酸性成分を放出することを特徴とする請求項1に記載の剤浸透性向上方法。
- 前記帯電微粒子とともにラジカルを放出することを特徴とする請求項1または2に記載の剤浸透性向上方法。
- 前記帯電微粒子として、ラジカルおよび酸性成分の少なくとも一方を含有した液滴を生成して放出することを特徴とする請求項1に記載の剤浸透性向上方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の剤浸透性向上方法に使用される装置であって、電極と、前記電極に高電圧を印加する電圧印加部と、を有して帯電微粒子を生成、放出することを特徴とする剤浸透性向上装置。
- 請求項4に記載の剤浸透性向上方法に使用される装置であって、電極と、前記電極に水を供給する供給手段と、前記電極に高電圧を印加する電圧印加部と、を有して微小な液滴を生成、放出することを特徴とする剤浸透性向上装置。
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JP2014191634A JP2016059703A (ja) | 2014-09-19 | 2014-09-19 | 剤浸透性向上方法及び装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023048130A1 (ja) | 2021-09-21 | 2023-03-30 | 株式会社アイシン | 皮膚用または毛髪用の外用剤、美容施術方法および微細水供給装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10286316A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Mecs:Kk | プラズマ化したガスを照射する皮膚組織改善装置 |
JP2006000826A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 静電霧化装置 |
US20080183167A1 (en) * | 2007-01-31 | 2008-07-31 | Alma Lasers Ltd. | Skin treatment using a multi-discharge applicator |
JP2011000224A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | プラズマ照射装置 |
JP2013504347A (ja) * | 2009-09-11 | 2013-02-07 | エルベ エレクトロメディジン ゲーエムベーハー | 炭化防止装置 |
-
2014
- 2014-09-19 JP JP2014191634A patent/JP2016059703A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10286316A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Mecs:Kk | プラズマ化したガスを照射する皮膚組織改善装置 |
JP2006000826A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 静電霧化装置 |
US20080183167A1 (en) * | 2007-01-31 | 2008-07-31 | Alma Lasers Ltd. | Skin treatment using a multi-discharge applicator |
JP2011000224A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology | プラズマ照射装置 |
JP2013504347A (ja) * | 2009-09-11 | 2013-02-07 | エルベ エレクトロメディジン ゲーエムベーハー | 炭化防止装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023048130A1 (ja) | 2021-09-21 | 2023-03-30 | 株式会社アイシン | 皮膚用または毛髪用の外用剤、美容施術方法および微細水供給装置 |
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