CN102072614A - 吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用 - Google Patents
吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102072614A CN102072614A CN 201010617347 CN201010617347A CN102072614A CN 102072614 A CN102072614 A CN 102072614A CN 201010617347 CN201010617347 CN 201010617347 CN 201010617347 A CN201010617347 A CN 201010617347A CN 102072614 A CN102072614 A CN 102072614A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- drying
- frequency chip
- dry
- engineering
- application
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
本发明提供了一种应用于频率片加工领域的频率片的清洗干燥工艺。一种吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：将吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程。吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程的步骤为：A、用纯水将频率片进行清洗；B、将清洗后的频率片放入吸引干燥机中，干燥5-15分钟，温度条件为40-70度，压强条件为10-30KPa；C、频率片干燥完成，进行下一工序。本发明优点在于：将普通的酒精脱水的方式进行干燥替换为吸引干燥，提高了清洗效率，同时将脏污发生率从0.5％降为0；避免了酒精脱水干燥过程中，上下回旋摇动对频率片产生的损毁。
Description
技术领域
本发明涉及频率片的加工领域，特别是一种吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用。
背景技术
随着超大规模集成电路的迅速发展，芯片的集成度越来越高，元器件的尺寸越来越小，因器件的高密度、小尺寸引发的各种效应对各步工艺制作结果的影响日益突出，对各步工艺的要求也随之越来越严格，如对生产频率片中的清洗要求就越来越高。目前，频率片清洗后使用酒精脱水，再放入100度左右的烘箱中干燥。酒精脱水时需要上下回旋摇动清洗10分钟，浸泡10分钟，干燥10分钟。这种频率片的清洗干燥方式耗费时间长，生产效率低，同时在摇动清洗时容易造成缺损的产生，而且酒精脱水不彻底还容易造成脏污。普通的清洗干燥方式已经不能满足现代快速高效生产的需要。因此，如何进行快速高效的进行频率片清洗干燥工作，降低频率片脏污的发生率成为该技术领域亟待解决的问题。
发明内容
为了提高频率片清洗干燥的生产速度，降低频率片脏污发生率，本发明提供以下技术方案：一种吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：将吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程。
作为本发明的一种优选方案，吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程的步骤为：
A、用纯水将频率片进行清洗；
B、将清洗后的频率片放入吸引干燥机中，干燥10分钟，温度条件为60度，压强条件为20KPa；
C、频率片干燥完成，进行下一工序。
作为本发明的另一种优选方案，所述纯水的电阻率小于18.3MΩ·cm。
作为本发明的又一种优选方案，所述吸引干燥机可同时干燥500片频率片。
本发明与现有技术相比，其优点在于：
1.本发明吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，将普通的酒精脱水的方式进行干燥替换为吸引干燥，省去了酒精使用的环节，同时避免了酒精储存和回收工作；
2.本发明吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，将原来酒精脱水干燥的30分钟工作时间降低到10分钟，提高了清洗效率，同时将脏污发生率从0.5％降为0；
3.本发明吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，通过吸引干燥对清洗后的频率片进行干燥，避免了酒精脱水干燥过程中，上下回旋摇动对频率片产生的损毁。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
本发明吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，主要特征在于：将吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程。
其中，吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程的步骤为：
A、用纯水将频率片进行清洗；
B、将清洗后的频率片放入吸引干燥机中，干燥10分钟，温度条件为60度，压强条件为20KPa；
C、频率片干燥完成，进行下一工序。
此外，所述纯水的电阻率小于18.3MΩ·cm。所述吸引干燥机可同时干燥500片频率片。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (4)
1.一种吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：将吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程。
2.根据权利要求1所述的吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：吸引干燥的方式应用于频率片清洗干燥工程的步骤为：
A、用纯水将频率片进行清洗；
B、将清洗后的频率片放入吸引干燥机中，干燥10分钟，温度条件为60度，压强条件为20KPa；
C、频率片干燥完成，进行下一工序。
3.根据权利要求2所述的吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：所述纯水的电阻率小于18.3MΩ·cm。
4.根据权利要求3所述的吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用，其特征在于：所述吸引干燥机可同时干燥500片频率片。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201010617347 CN102072614A (zh) | 2010-12-31 | 2010-12-31 | 吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201010617347 CN102072614A (zh) | 2010-12-31 | 2010-12-31 | 吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN102072614A true CN102072614A (zh) | 2011-05-25 |
Family
ID=44031255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201010617347 Pending CN102072614A (zh) | 2010-12-31 | 2010-12-31 | 吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102072614A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106190030A (zh) * | 2016-07-13 | 2016-12-07 | 苏州普锐晶科技有限公司 | 频率片的研磨清洗方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02103933A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Supiide Fuamu Clean Syst Kk | エアによるワークの乾燥方法及び装置 |
| US5548905A (en) * | 1994-04-30 | 1996-08-27 | Kabushiki Kaisha Seibu Giken | Rapid dehydrating and drying method and device usable in low temperature |
| EP1231442A2 (fr) * | 2001-02-09 | 2002-08-14 | Beltrame, Giovanni | Procédé, dispositif et installation de dessiccation de produits conditionnés tels que des balles de fourrage |
| CN201149410Y (zh) * | 2007-12-18 | 2008-11-12 | 唐江明 | 吸引式干燥机 |
| JP2008292041A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Shimatani Giken:Kk | 吸引乾燥装置及びその制御方法 |
| CN101829647A (zh) * | 2009-03-11 | 2010-09-15 | 东丽工程株式会社 | 减压干燥装置 |
-
2010
- 2010-12-31 CN CN 201010617347 patent/CN102072614A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02103933A (ja) * | 1988-10-13 | 1990-04-17 | Supiide Fuamu Clean Syst Kk | エアによるワークの乾燥方法及び装置 |
| US5548905A (en) * | 1994-04-30 | 1996-08-27 | Kabushiki Kaisha Seibu Giken | Rapid dehydrating and drying method and device usable in low temperature |
| EP1231442A2 (fr) * | 2001-02-09 | 2002-08-14 | Beltrame, Giovanni | Procédé, dispositif et installation de dessiccation de produits conditionnés tels que des balles de fourrage |
| JP2008292041A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Shimatani Giken:Kk | 吸引乾燥装置及びその制御方法 |
| CN201149410Y (zh) * | 2007-12-18 | 2008-11-12 | 唐江明 | 吸引式干燥机 |
| CN101829647A (zh) * | 2009-03-11 | 2010-09-15 | 东丽工程株式会社 | 减压干燥装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106190030A (zh) * | 2016-07-13 | 2016-12-07 | 苏州普锐晶科技有限公司 | 频率片的研磨清洗方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN204159598U (zh) | 一种有蜡陶瓷盘的自动清洗装置 | |
| CN204544849U (zh) | 一种矿石高效清洗设备 | |
| CN104324922A (zh) | 一种清除触摸屏残胶的方法 | |
| CN102694074A (zh) | 硅片处理过程中产生的废硅料的清洗方法 | |
| CN109290279A (zh) | 一种玻璃导光板霉斑清洗工艺 | |
| CN102225406A (zh) | 一种金刚线切割硅片的清洗方法 | |
| CN103938391B (zh) | 一种针织丝光机的去碱装置及其去碱方法 | |
| CN102072614A (zh) | 吸引干燥在频率片清洗干燥工程的应用 | |
| CN108493270A (zh) | 一种碱清洗干法制绒工艺 | |
| JP5667092B2 (ja) | シリコンウエハを織地化する方法、その方法のための処理液及びその使用 | |
| CN108565208A (zh) | 一种石英晶体谐振器晶片分离回收方法 | |
| CN103367211B (zh) | 一种led芯片清洗提篮 | |
| CN207615255U (zh) | 一种节水型smt贴片专用清洗装置 | |
| CN107552481A (zh) | 一种硅片清洗工艺 | |
| CN208728166U (zh) | 一种线路板清洗装置 | |
| CN104454997A (zh) | 一种轴承清洗工艺 | |
| CN202356343U (zh) | 一种玻璃清洗干燥机 | |
| CN106694497B (zh) | 一种用于干膜/阻焊油墨的显影槽的清洗工艺 | |
| CN103878133A (zh) | 一种有效去除陶瓷盘杂质的清洁方法 | |
| CN113441463A (zh) | 一种清洗方法 | |
| CN105198227A (zh) | 一种蒙砂玻璃的生产工艺 | |
| CN102983220A (zh) | 印刷不合格光伏电池的处理方法 | |
| CN110517975A (zh) | 一种cmp后清洗装置及其清洗方法 | |
| CN103295881A (zh) | 去除硅片表面低介电材料的方法 | |
| CN205052790U (zh) | 一种循环冲刷式大蒜清洗机 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110525 |