CN102062115A - 负压式潜水泵机械密封室 - Google Patents
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Abstract
本发明属于干式电机潜水泵技术领域。解决潜水泵工作时，机械密封在压力液体的作用下容易渗液的难题。本负压式潜水泵机械密封室，包括电机端盖，电机转轴穿过电机端盖至泵室内与叶轮紧固配置，叶轮进水口正对电机端盖，电机端盖至叶轮之间的电机转轴外围是管状的潜水泵进水口，潜水泵进水口与电机端盖之间形成狭窄的环形进水口，电机端盖、电机转轴、叶轮与潜水泵进水口共同形成环形空间，即所述的机械密封室，机械密封设置在机械密封室内的电机端盖外端面的轴孔和电机转轴上，是电机端盖与电机转轴之间的动态密封。
Description
技术领域
本发明属于干式电机潜水泵技术领域。
背景技术
现有技术的干式电机潜水泵，工作时机械密封受压力液体的作用，密封性能不稳定，造成液体容易渗入，从而导致电机绕组及轴承的损坏。
发明内容
本发明的目的在于提供一种在潜水泵工作时，使机械密封处于负压环境中工作的潜水泵机械密封室。
本发明不改变机械密封的自身结构及材质，机械密封的结构及材质均为现有公开技术。本发明只改变机械密封室的结构，从而实现机械密封在负压环境中工作，避免了机械密封因为受压力液体的作用而渗液。
为实现本发明的目的，所述的负压式潜水泵机械密封室包括电机端盖，电机转轴穿过电机端盖至泵室内与叶轮紧固配置，叶轮进水口正对电机端盖，电机端盖至叶轮之间的电机转轴外围是管状的潜水泵进水口，潜水泵进水口与电机端盖之间形成狭窄的环形进水口，电机端盖、电机转轴、叶轮与潜水泵进水口共同形成环形空间，即所述的机械密封室，机械密封设置在机械密封室内的电机端盖外端面的轴孔和电机转轴上，是电机端盖与电机转轴之间的动态密封。
当潜水泵工作时，机械密封室内受吸力作用而成为负压区，机械密封处于负压环境中工作，避免了机械密封因为受到压力液体的作用而导致渗液。
附图说明
附图的图面说明如下：
图1为本发明负压式潜水泵机械密封室的示意图。
图2为本发明负压式潜水泵机械密封室的立体局部剖视图。
图3为本发明负压式潜水泵机械密封室的平面局部剖视图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明负压式潜水泵机械密封室的具体实施例作进一步详述：
本发明负压式潜水泵机械密封室，包括电机端盖(1)，电机转轴(2)穿过电机端盖(1)至泵室(6)内与叶轮(4)紧固配置。所述的叶轮进水口(9)正对电机端盖(1)，电机端盖(1)至叶轮(4)之间的电机转轴(2)外围是管状的潜水泵进水口(5)，潜水泵进水口(5)与电机端盖(1)之间形成狭窄的环形进水口(8)。电机端盖(1)、电机转轴(2)、叶轮(4)与潜水泵进水口(5)共同形成环形空间，即所述的机械密封室(7)。机械密封(3)设置在机械密封室(7)内的电机端盖(1)外端面的轴孔和电机转轴(2)上，是电机端盖(1)与电机转轴(2)之间的动态密封。
当潜水泵工作时，机械密封室(7)内受吸力作用而成为负压区，机械密封(3)处于负压环境中工作，避免了机械密封(3)因为受到压力液体的作用而导致渗液。
环形进水口的过水截面大小由潜水泵的流量大小所确定，根据实际试验，每小时1m3的流量进水口截面积取约0.5cm2为佳。
现有技术的干式电机潜水泵工作时，机械密封在压力液体的作用下容易渗液的难题，至今无法解决，电机的使用寿命都因此而受到影响。现有技术的干式电机潜水泵都需要充注机油，因机械密封的渗液，必然导致机油的外漏，因而对环境产生污染。
本负压式潜水泵机械密封室结构简单，节约成本，容易生产，在彻底防止机械密封渗液的同时，还缩短了轴承至叶轮之间的距离，大幅减小了轴承的径向受力，大大延长了轴承的使用寿命，同时大大延长了电机的使用寿命。使用了本技术的潜水泵不需要充注机油，所以比现有技术的环保。
Claims (1)
1.一种负压式潜水泵机械密封室，包括电机端盖(1)，电机转轴(2)穿过电机端盖(1)至泵室(6)内与叶轮(4)紧固配置，叶轮进水口(9)正对电机端盖(1)，其特征是所述的电机端盖(1)至叶轮(4)之间的电机转轴(2)外围是管状的潜水泵进水口(5)，潜水泵进水口(5)与电机端盖(1)之间形成狭窄的环形进水口(8)，电机端盖(1)、电机转轴(2)、叶轮(4)与潜水泵进水口(5)共同形成环形空间，即所述的机械密封室(7)，机械密封(3)设置在机械密封室(7)内的电机端盖(1)外端面的轴孔和电机转轴(2)上，是电机端盖(1)与电机转轴(2)之间的动态密封。
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| CN (1) | CN102062115A (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2011
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| PB01 | Publication | ||
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110518 |