CN102034900A - 一种准单晶硅片的制绒方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种准单晶硅片的制绒方法,对以(100)晶粒为主的准单晶硅片进行先酸制绒后碱制绒的制绒工艺,并根据准单晶硅片中(100)晶粒的所占面积的比例,调节酸、碱制绒的程度,以达到最好的综合制绒效果。该方法工艺简单,整体制绒效果好。
Description
技术领域
本发明属于太阳能电池领域,具体涉及一种准单晶硅片的制绒方法。
背景技术
制绒是制备具有减少反射功能的硅表面的方法,在硅太阳能电池的制作过程中,一般都采用制绒的方式将硅片表面织构化,利用表面的陷光作用促进太阳光的吸收,提高电池的转换效率。
单晶硅具有低缺陷、高转换效率等特点,特别是碱制绒方法的广泛应用使得单晶硅电池片更具优势,该制绒方法形成的金字塔型织构化表面使入射光多次反射,大大加强了光的吸收,提高了转换效率。早在上世纪70年代,各向异性碱腐蚀法就已经被成功应用,并一直沿用至今天,通过该方法形成的绒面,可以将硅片表面的反射率大大降低,且工艺成本很低,在工业上有成熟的应用。
相对于单晶硅,多晶硅具有低成本的突出优势,在近年来的太阳能电池市场中占有着较大的比例。但是多晶硅中晶粒取向具有随机性,且存在大量晶界及缺陷,作为电池的基体材料,质量不及单晶硅。另一方面,由于多晶硅片中各晶粒的取向不一,在后续电池片制作过程中,不能使用综合效益很好的碱制绒方法。在生产中,对于多晶硅一般采用各向同性的酸制绒方式,通过改进已经能起到较好的织构化效果,但是跟以上的碱制绒相比,还是存在较大差距。目前,多晶硅太阳能电池的转换效率较单晶硅电池约低1.5~2%。
在太阳能电池产业当中,单晶、多晶硅各自存在着其明显的优势及劣势,用多晶铸锭的方法生产准单晶硅是一种能将单晶、多晶优势相结合的方法。近年来,已经陆续出现相关的报道。通过上述铸锭方法制作的准单晶硅片,由于长晶控制及切割位置等的影响,在硅片中除了(100)晶面,通常还会不可避免地出现部分其他晶向的晶粒,即为随机生长的多晶晶粒。对于这类硅片的电池片制作,制绒工艺需结合单晶、多晶制绒的优势。
发明内容
本发明的目的在于提供一种准单晶硅片的制绒方法,该方法工艺简单,制绒效果好。
为达到上述目的,本发明提供的一种准单晶硅的制绒方法,对以(100)晶粒为主的准单晶硅片进行先酸制绒后碱制绒的制绒工艺,并根据准单晶硅片中(100)晶粒的所占面积的比例,调节酸、碱制绒的程度,以达到最好的综合制绒效果。
本发明所述的酸优选为HF和HNO3的混合酸溶液,其体积百分含量优选为50%-80%。
上述HF和HNO3的体积比优选为1∶1-4。
本发明酸制绒时的温度优选为2-15℃。
本发明经上述酸制绒后的准单晶硅片的腐蚀深度为1-15μm。
本发明所述的碱优选为NaOH或KOH溶液,其重量百分含量为1-5%。
本发明上述碱制绒时的温度为70-90℃。
本发明经酸、碱制绒后的准单晶硅的腐蚀深度为2-30μm。
本发明的优点是:对于含(100)晶粒的硅片,可根据(100)晶粒在硅片中的面积比例调整酸碱制绒的程度,使得整体制绒效果最佳。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步的说明,以下试剂如无特殊说明均为市售。
实施例1
实验所采用的硅片为156×156的P型准单晶硅片,(100)晶粒面积约占整个硅片面积的2/3。
酸制绒:选择HF、HNO3与水配制混合溶液,混合酸的体积百分含量为68%,HF与HNO3的体积比为1∶3,制绒温度为7℃,调节制绒时间使硅片的腐蚀深度为7.5-8.5μm,清洗后吹干。
碱制绒:将经过以上酸制绒的硅片放入NaOH碱溶液中进行进一步碱制绒,溶液中碱的重量百分含量2%,还可以在碱溶液中加入添加剂,以改善制绒效果;加热至80℃,通过时间控制调节碱制绒的腐蚀深度为6.5-7μm。
经以上制绒工艺得到的硅片,(100)晶粒的平均反射率约为11-14%,其它晶粒的反射率约为22-25%。最终电池片的转换效率为17.2%-17.5%。
实施例2
实验所采用的硅片为156×156的P型准单晶硅片,(100)晶粒面积基本占据整个硅片3/4。
酸制绒:选择HF、HNO3与水配制混合溶液,混合酸的体积百分含量为70%,HF与HNO3的体积比为1∶2.5,制绒温度为8℃,通过时间控制使腐蚀深度为5-6μm,清洗后吹干。
碱制绒:将经过以上酸制绒的硅片放入KOH碱溶液中进行进一步碱制绒,溶液中碱的重量百分含量为2%,加入添加剂以改善制绒效果,加热至80℃,通过时间控制使腐蚀深度为8-9μm。
经以上制绒工艺得到的硅片,(100)晶粒的反射率小于11-13%,其它晶粒的反射率约为23-26%。最终电池片的转换效率为17.3%-17.7%,与生产线中单晶的效率相当。
实施例3
实验所采用的硅片为156×156的P型准单晶硅片,(100)晶粒面积基本占据整个硅片,小面积其它晶粒(少于1/5)。
酸制绒:选择HF、HNO3与水配制混合溶液,混合酸溶液的体积百分含量为75%,HF与HNO3的体积比为1∶3,制绒温度为8℃,通过时间控制使腐蚀深度为3-4μm,清洗后吹干。
碱制绒:将经过以上酸制绒的硅片放入KOH碱溶液中进行进一步碱制绒,溶液中碱的重量百分含量为2%,并加入添加剂以达到较好的制绒效果,加热至80℃,通过时间控制使腐蚀深度为8-9μm。
经以上制绒工艺得到的硅片,(100)晶粒的反射率小于12%,其它晶粒的反射率约为23-26%。最终电池片的转换效率为17.5%-17.9%,与生产线中单晶的效率相当。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围。
Claims (8)
1.一种准单晶硅片的制绒方法,其特征是:对以(100)晶粒为主的准单晶硅片采用先酸制绒后碱制绒的制绒工艺,并根据准单晶硅片中(100)晶粒所占面积比例,调节酸、碱制绒的程度进行综合制绒。
2.根据权利要求1所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:所述酸为HF和HNO3的混合酸溶液,其体积百分含量为50%-80%。
3.根据权利要求2所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:所述混合酸溶液中HF和HNO3的体积比为1∶1-4。
4.根据权利要求1-3任一项所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:酸制绒时的温度为2-15℃。
5.根据权利要求4所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:经酸制绒后的准单晶硅片的腐蚀深度为1-15μm。
6.根据权利要求1所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:所述碱为NaOH或KOH溶液,其重量百分含量为1-5%。
7.根据权利要求6所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:碱液制绒时的温度为70-90℃。
8.根据权利要求1或6或7所述的准单晶硅片的制绒方法,其特征是:经酸、碱制绒后的准单晶硅的腐蚀深度为2-30μm。
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