CN101994210A - 一种经编三维结构的织物 - Google Patents

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蒋高明
夏风林
丛洪莲
吴志明
张琦
张爱军
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Abstract

本发明涉及一种经编三维结构的织物,包括上表层、下表层和连接上表层与下表层的连接线,织物的上表层和下表层由经编形成的若干连接在一起的线圈组成;其特征是,所述织物的连接线通过线圈与上表层和下表层交叉连接。所述上表层的线圈以设定的间隔与下表层的线圈通过连接线连接。所述设定的间隔为3~6个线圈。所述连接线与上表层和下表层上的所有的线圈均进行连接。所述上表层和下表层由线密度为222~889dtex的聚乙烯或芳纶纤维经编而成。所述连接线采用线密度为33~167dtex的涤纶或锦纶纤维。所述的经编三维结构的织物用于防刺面料。本发明为柔性轻质的防刺面料,穿着舒适、防刺效果好,具有优良的服用性能和防刺性能。

Description

一种经编三维结构的织物
技术领域
本发明涉及一种织物,尤其是一种具有三重防刺效果的经编三维结构的织物,属于针织领域和防护领域。
背景技术
由于暴力的增加及枪械的使用在某种程度上受到严格的限制,且频繁的表现为利用刺刀或匕首攻击人体,因此采用防刺材料进行必要的防护变得越来越重要。
目前市场上的防刺服分为硬质、半硬质、软质防刺服三种。硬质防刺产品是一种由一定形状和曲面的硬质防刺板作为防刺插板而得到的,含有金属丝、金属网、陶瓷片等刚性材料,存在重量重、灵活性差、穿着不舒适等特点;半硬质防刺产品具有一定柔韧性,由几层复合而成,中间有一层或几层特殊的金属片或钢丝圈夹层,服用性能不佳;软质防刺产品的防刺层或防刺板是由叠层高性能防刺纤维织物或高性能纤维柔性单向复合材料构成。
防刺个体装甲要求能够保护人体免受刺刀、匕首等尖锐物体的伤害,同时要求保证穿戴者的活动不受太大限制。硬质和半硬质防刺产品虽然防刺穿性能优异,但其重量和刚性对使用者的活动和穿着舒适性有较大的限制和影响。软质防刺产品柔韧性好,基本上可以日常穿着,而且隐蔽性较好,是最近几年研发的重点。
市场化的软质防刺服主要采用芳纶和超高分子量聚乙烯(UHMWPE)等高强高模纤维为原料。现有的软质防刺织物多为机织结构或非织造结构或它们的复合,尽管有人对纬编针织防刺结构进行研究,但市场未见针织物防刺产品。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种穿着舒适、三重防刺效果的经编三维结构的织物。
按照本发明提供的技术方案,所述经编三维结构的织物,包括上表层、下表层和连接上表层与下表层的连接线,织物的上表层和下表层由经编形成的若干串套在一起的线圈组成;特征是,所述串套在一起的线圈之间由多根延展线连接;所述织物的连接线通过线圈与上表层和下表层交叉连接形成弯曲竖立具有防刺缓冲作用的中间层。
所述上表层和下表层的每个线圈上均有两根反向设置的延展线与相邻线圈连接。
所述上表层和下表层的每个线圈上均有2根或4连接线与下表层和上表层的线圈交叉连接。
所述上表层的线圈以设定的线圈间隔与下表层的线圈通过连接线连接。所述线圈间隔为3~6个线圈。
所述连接线与上表层和下表层上的所有的线圈均进行连接。
所述上表层和下表层由分子量为100~600万的聚乙烯或芳纶纤维经编而成,所述聚乙烯或芳纶纤维的线密度为222~889dtex。
所述连接线采用线密度为33~167dtex的涤纶或锦纶单丝。
所述上表层和下表层之间的厚度为4~10mm。
所述的经编三维结构的织物用作防刺面料。
本发明为柔性轻质的防刺面料,穿着舒适、防刺效果好,具有优良的服用性能和防刺性能。
附图说明
图1为本发明所述的织物的截面示意图。
具体实施方式
下面结合具体附图对本发明作进一步说明。
如图1所示,经编三维结构的织物,包括上表层1、下表层2和连接上表层1与下表层2的连接线3,织物的上表层1和下表层2由经编形成的若干串套在一起的线圈组成;所述串套在一起的线圈之间由多根延展线连接;所述织物的连接线3通过线圈与上表层1和下表层2交叉连接形成弯曲竖立具有防刺缓冲作用的中间层;所述上表层1和下表层2的每个线圈上均有两根反向设置的延展线与相邻线圈连接;所述上表层1和下表层2的每个线圈上均有2根或4连接线与下表层2和上表层1的线圈交叉连接;
所述上表层1的线圈以3~6个的线圈间隔与下表层2的线圈通过连接线3连接;所述连接线3与上表层1和下表层2上的所有的线圈均进行连接;所述连接线3采用线密度为33~167dtex的涤纶或锦纶单丝;所述上表层1和下表层2之间的厚度为4~10mm;
所述的经编三维结构的织物用作防刺面料。
本发明所述的经编三维结构的织物通过与高聚物复合或其他纺织结构进行复合,可以形成一种复合的防刺材料。
本发明中上、下表层采用的纤维为具有高拉伸强度、高模量的超高分子量聚乙烯。高性能纤维在两个表层形成致密的经编线圈结构,能够有效的阻止刀具匕首等的刺入,经编结构具有线圈自锁特点,在线圈抽紧滑移的过程中及自锁时都会大幅度的消耗冲击能;在间隔层中,高强涤纶单丝以交叉型的结构连接上下两个表层,这种间隔层以其良好的压弹性,具有优良的缓冲作用;整个经编间隔织物对刀具的刺入起到了三重防护作用,刀具4刺入时,与刀具接触的上表层1线圈抽紧滑移,并在刀口处聚集纱线,形成对刀具的包裹作用,消耗冲击能,有效的阻止刀具、匕首等的刺入;在刀对上表层进行穿刺的过程中,间隔层3中的单丝对表层不仅起到支撑作用,而且通过单丝的弯曲大量消耗刀具的刺入能量;在刀具通过间隔层,头端到达下表层时,密实的下表层2再次对刀具的穿刺形成阻碍。
实施例一:
本发明所述的织物在机号为E18的双针床拉舍尔经编机上生产,上表层1由梳栉GB1和GB2编织而成,采用的下表层2由梳栉GB5和梳栉GB6编织而成,形成结构密实的上、下两个表层织物;梳栉GB1、GB2、GB5和GB6均满穿线密度为666dtex的超高分子量聚乙烯长丝纱;梳栉GB3和GB4形成上下表层之间的连接丝3,梳栉GB3和GB4满穿线密度为111dtex的涤纶单丝;脱圈板距离为12mm,织造牵拉密度为每厘米7个线圈。
所述织物采用的梳栉垫纱组织为:
GB1:1-0-1-1/3-4-3-3//;
GB2:1-2-1-1/1-0-1-1//;
GB3:1-0-2-3/4-5-3-2//;
GB4:4-5-3-2/1-0-2-3//;
GB5:1-1-1-2/1-1-1-0//;
GB6:1-1-1-0/3-3-3-4//。
上下层织物中分别采用两把梳栉编织二层,一把梳栉编织经平组织,另一把梳栉编织经斜组织;上、下两个表层形成紧密的套圈结构,具有线圈自锁特点;
采用两把对称垫纱的梳栉满穿具有良好抗弯刚度的涤纶单丝,在前、后两个针床上交替成圈编织形成连接线,将上、下两个表层织物连接成一个整体,在上、下两个表层间形成中间层,中间层的间隔结构具有良好的压弹性和缓冲作用。
实施例二:
本发明所述织物在机号为E22的双针床拉舍尔经编机上生产,上表层1由梳栉GB1和GB2编织而成,下表层2由梳栉GB5和梳栉GB6编织而成,形成结构密实的上、下两个表层织物;梳栉GB1、GB2、GB5和GB6均满穿线密度为333dtex的芳纶纱;梳栉GB3满穿线密度为44dtex的涤纶单丝,采用连接线呈交叉配置的组织;脱圈板距离为6mm,织造牵拉密度为每厘米10个线圈。
所述织物采用的梳栉垫纱组织为:
GB1:1-0-1-1/3-4-3-3//;
GB2:1-2-1-1/1-0-1-1//;
GB3:1-0-1-2/2-3-2-1//;
GB5:1-1-1-2/1-1-1-0//;
GB6:1-1-1-0/3-3-3-4//。
本实施例采用的机号高,脱圈板距离小,采用的原料线密度特别是中间连接线层的涤纶单丝均比实施例一小,织物密度较实施例一高。

Claims (10)

1.一种经编三维结构的织物,包括上表层(1)、下表层(2)和连接上表层(1)与下表层(2)的连接线(3),织物的上表层(1)和下表层(2)由经编形成的若干串套在一起的线圈组成;其特征是,所述串套在一起的线圈之间由多根延展线连接;所述织物的连接线(3)通过线圈与上表层(1)和下表层(2)交叉连接形成弯曲竖立具有防刺缓冲作用的中间层。
2.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述上表层(1)和下表层(2)的每个线圈上均有两根反向设置的延展线与相邻线圈连接。
3.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述上表层(1)和下表层(2)的每个线圈上均有2根或4连接线(3)与下表层(2)和上表层(1)的线圈交叉连接。
4.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述上表层(1)的线圈以设定的线圈间隔与下表层(2)的线圈通过连接线(3)连接。
5.如权利要求2所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述线圈间隔为3~6个线圈。
6.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述连接线(3)与上表层(1)和下表层(2)上的所有的线圈均进行连接。
7.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述上表层(1)和下表层(2)由分子量为100~600万的聚乙烯或芳纶纤维经编而成,所述聚乙烯或芳纶纤维的线密度为222~889dtex。
8.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述连接线(3)采用线密度为33~167dtex的涤纶或锦纶单丝。
9.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述上表层(1)和下表层(2)之间的厚度为4~10mm。
10.如权利要求1所述的经编三维结构的织物,其特征是:所述的经编三维结构的织物用作防刺面料。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20110330