CN101949005A - 一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法，金靶材成份按质量百分比为：Y0.1%～1.3%,Fe1.2%～3%,Cr0.5%～2.5%,In0.5%～2%,Al0.2%～1%，其余为Au。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬放入坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀，然后依次加入铟、铝及钇，将炉温控制为1150～1250℃，精炼3～5分钟，将合金浇入预热的铸铁模中，冷凝后取出，自然冷却至室温，通过铣面、冷轧、矫直和剪切操作，获得香槟色金靶材。本发明的金靶材各项技术指标均满足国际标准，用于真空磁控溅射工艺，可以避免水电镀工艺带来的环境污染并保证膜层的色度稳定。

Description

一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法
技术领域
本发明属于冶金技术领域，涉及贵金属合金的加工技术，具体涉及香槟色金靶材及其制备方法。
背景技术
香槟金的色度相当于标准色度ISO 8654:1987的0.5N。其色彩清淡高雅，深受欧美市场的欢迎。由于颜色独特，以往生产工艺都是采用水电镀的工艺来调色，既污染环境，成本高又不耐磨。采用真空炉内磁控溅射香槟色金镀膜，在金中添加稀土元素及其它贱金属，使其色泽光亮淡雅、色度均衡，抗氧化性能好且显著提高其硬度及耐磨性。
发明内容
针对现有香槟色金靶材生产工艺存在的不足之处，本发明提供一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法。
本发明的用于真空磁控溅射的香槟色金靶材成份按质量百分比为： 钇（Y）0.1%～1.3%, 铁(Fe)1.2%～3%, 铬（Cr）0.5%～2.5%, 铟（In）0.5%～2%, 铝（Al）0.2%～1%，其余为金（Au）。
本发明的用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为： 钇（Y）0.1%～1.3%, 铁(Fe)1.2%～3%, 铬（Cr）0.5%～2.5%, 铟（In）0.5%～2%, 铝（Al）0.2%～1%，其余为金（Au）。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇，将炉温控制为1150～1250℃，在该温度条件下精炼3～5分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为300～400℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭，在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切操作，最终获得香槟色金靶材。圆柱形靶材需要将金合金拉伸成无缝管后镶嵌入铜靶基中。
本发明的香槟色金靶材主要应用于真空炉内镀膜手表、手机壳、首饰及装饰产品领域。采用本发明的香槟色金靶材应用于真空磁控溅射镀膜技术中，可以获得色泽鲜艳的香槟色金合金镀膜。膜层色泽光亮柔和，清淡高雅，膜层表面硬度高、耐磨性好且具有及佳的抗氧化性能，可以避免水电镀工艺带来的环境污染并保证膜层的色度稳定。本发明的香槟色金靶材产品的各项技术指标均满足国际标准，市场应用的效果极佳。
具体实施方式
实施例1
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为： 钇（Y）0.7%, 铁(Fe)2.1%, 铬（Cr）1.5%, 铟（In）1.3%, 铝（Al）0.6%，其余为金（Au）。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为：钇（Y）0.7%, 铁(Fe)2.1%, 铬（Cr）1.5%, 铟（In）1.3%, 铝（Al）0.6%，其余为金（Au）。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇，将炉温控制为1200℃，在该温度条件下精炼4分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为350℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭，在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切等操作，最终获得香槟色金靶材。
实施例2
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为： 钇（Y）1.3%, 铁(Fe) 3%, 铬（Cr）0.5%, 铟（In）0.5%, 铝（Al）0.2%，其余为金（Au）。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为：钇（Y）1.3%, 铁(Fe) 3%, 铬（Cr）0.5%, 铟（In）0.5%, 铝（Al）0.2%，其余为金（Au）。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇，将炉温控制为1250℃，在该温度条件下精炼3分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为400℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭，在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切等操作，最终获得香槟色金靶材。
实施例3
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为： 钇（Y）0.1%, 铁(Fe)1.2%, 铬（Cr）2.5%, 铟（In）2%, 铝（Al）1%，其余为金（Au）。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为：钇（Y）0.1%, 铁(Fe)1.2%, 铬（Cr）2.5%, 铟（In）2%, 铝（Al）1%，其余为金（Au）。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇，将炉温控制为1150℃，在该温度条件下精炼5分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为300℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭，在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切等操作，最终获得香槟色金靶材。
实施例4
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为： 钇（Y）1.0%, 铁(Fe)1.5%, 铬（Cr）1.0%, 铟（In）0.8%, 铝（Al）0.4%，其余为金（Au）。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为：钇（Y）1.0%, 铁(Fe)1.5%, 铬（Cr）1.0%, 铟（In）0.8%, 铝（Al）0.4%，其余为金（Au）。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇，将炉温控制为1150～1250℃，在该温度条件下精炼3～5分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为300～400℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭，在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切等操作，最终获得香槟色金靶材。

Claims (2)

1.一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材，其成份按质量百分比为： Y 0.1%～1.3%, Fe 1.2%～3%, Cr 0.5%～2.5%, In 0.5%～2%, Al 0.2%～1%，其余为Au。
2.权利要求1所述的用于真空磁控溅射的香槟色金靶材制备方法，其特征在于：原料配比按质量百分比为：Y 0.1%～1.3%, Fe 1.2%～3%, Cr 0.5%～2.5%, In 0.5%～2%, Al 0.2%～1%，其余为Au；采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀，然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇，将炉温控制为1150～1250℃，在该温度条件下精炼3～5分钟，精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为300～400℃的铸铁模中，冷凝后取出金合金锭，在空气气氛中自然冷却至室温，通过铣面、冷轧、矫直和剪切操作，获得香槟色金靶材。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103726024A (zh) * 2014-01-02 2014-04-16 昆山全亚冠环保科技有限公司 一种溅射镀膜用金靶材的生产方法
CN103938174A (zh) * 2014-05-14 2014-07-23 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法
CN107794397A (zh) * 2017-11-15 2018-03-13 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种柠檬黄色金靶材及其制备方法
CN113215431A (zh) * 2021-05-18 2021-08-06 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种白k金靶材及其制备方法和应用
US11319613B2 (en) 2020-08-18 2022-05-03 Enviro Metals, LLC Metal refinement
CN115852327A (zh) * 2023-02-17 2023-03-28 广州市尤特新材料有限公司 一种香槟色薄膜用靶材及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19525361A1 (de) * 1995-02-16 1996-08-22 Herbst Bremer Goldschlaegerei Edelmetall-Legierung und Verwendung derselben
US20020004018A1 (en) * 2000-01-26 2002-01-10 Arun Prasad Dental alloys
CN101255508A (zh) * 2008-02-29 2008-09-03 深圳大学 一种含稀土多元黄色金合金及其制备方法
CN101358331A (zh) * 2008-09-27 2009-02-04 东北大学黄金学院贵金属材料厂 一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19525361A1 (de) * 1995-02-16 1996-08-22 Herbst Bremer Goldschlaegerei Edelmetall-Legierung und Verwendung derselben
US20020004018A1 (en) * 2000-01-26 2002-01-10 Arun Prasad Dental alloys
CN101255508A (zh) * 2008-02-29 2008-09-03 深圳大学 一种含稀土多元黄色金合金及其制备方法
CN101358331A (zh) * 2008-09-27 2009-02-04 东北大学黄金学院贵金属材料厂 一种磁控溅射玫瑰金靶材及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
《黄金学报》 20000930 高科等 真空离子镀金靶材成分和性能的研究 第170-172页 1-2 第2卷, 第3期 2 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103726024A (zh) * 2014-01-02 2014-04-16 昆山全亚冠环保科技有限公司 一种溅射镀膜用金靶材的生产方法
CN103726024B (zh) * 2014-01-02 2016-08-17 昆山全亚冠环保科技有限公司 一种溅射镀膜用金靶材的生产方法
CN103938174A (zh) * 2014-05-14 2014-07-23 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法
CN103938174B (zh) * 2014-05-14 2016-04-13 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种用于真空磁控溅射粉红色金靶材及其制备方法
CN107794397A (zh) * 2017-11-15 2018-03-13 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种柠檬黄色金靶材及其制备方法
US11319613B2 (en) 2020-08-18 2022-05-03 Enviro Metals, LLC Metal refinement
US11578386B2 (en) 2020-08-18 2023-02-14 Enviro Metals, LLC Metal refinement
CN113215431A (zh) * 2021-05-18 2021-08-06 沈阳东创贵金属材料有限公司 一种白k金靶材及其制备方法和应用
CN115852327A (zh) * 2023-02-17 2023-03-28 广州市尤特新材料有限公司 一种香槟色薄膜用靶材及其制备方法
CN115852327B (zh) * 2023-02-17 2023-06-02 广州市尤特新材料有限公司 一种香槟色薄膜用靶材及其制备方法

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