CN101943215A - 聚酰胺轴承保持架 - Google Patents

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殷晓文
吴林强
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WUXI HUAYANG ROILING BEARING CO Ltd
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Abstract

本发明涉及一种轴承，特别涉及一种聚酰胺(PA46)轴承保持架。按照本发明的技术方案，所述聚酰胺轴承保持架，包括一个环状本体，以及沿环状本体的周向均匀布置的若干个用于定位滚动体的结构；其特征是：所述轴承保持架用聚己二酰丁二胺作为制作所述轴承保持架的材料；所述聚己二酰丁二胺是由丁二胺和己二酸缩聚而成的脂肪族聚酰胺，结晶度为70%，熔点295℃，在163℃的温度下正常使用5000小时。本发明的优点是：由于采用注塑或挤压成型的方法制作，加工工艺性好；利用玻璃纤维或碳纤维为增强剂，提高轴承的耐热性能、耐磨性能、耐腐蚀性能和阻燃性，适用于航空航天、军工、电子电气和医疗等领域和恶劣环境。

Description

聚酰胺轴承保持架
技术领域
本发明属于材料技术领域，特别涉及一种聚酰胺（PA46）轴承保持架。
背景技术
轴承是机床及其机械的重要传动部件，是支承轴和承受轴传来的载荷。轴承中滚动轴承由外圈、内圈、滚珠和保持架组成。保持架是保持滚珠在轴承中的相对位置的一个关键零件。传统的保持架采用金属板冲压成型，由于其材质相接近，容易造成亲和现象，随着非金属工业的发展，人们采用非金属材料制作保持架，这些材料的使用解决了金属保持架相同金属之间的亲和性问题，但其耐磨性、耐水解性和阻燃性等方面存在一定问题，而且加工性能等指标不如钢铁。因此，不能够完全适用于航空航天、军工、电子电气和医疗等领域。
发明内容
本发明的目的是提供一种耐磨性、耐水解性和阻燃性好，易加工的轴承保持架。
按照本发明的技术方案，所述聚酰胺轴承保持架包括一个环状本体，以及沿环状本体的周向均匀布置的若干个用于定位滚动体的结构；其特征是：所述轴承保持架利用聚己二酰丁二胺作为制作所述轴承保持架的材料；所述聚己二酰丁二胺是由丁二胺和己二酸缩聚而成的脂肪族聚酰胺，结晶度为70%，熔点295℃，在163℃的温度下正常使用5000小时。
所述轴承保持架采用注塑或挤压成型的方法制作。
利用玻璃纤维或碳纤维作为增强剂。
由于采用注塑或挤压成型的方法制作，加工工艺性好；利用玻璃纤维或碳纤维为增强剂，提高轴承的耐热性能、耐磨性能、耐腐蚀性能和阻燃性，适用于航空航天、军工、电子电气和医疗等领域和恶劣环境。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
本实施例采用了由二氨基丁烷和己二醇缩聚而成的脂肪族聚酰胺，添加玻璃纤维作为增强剂，采用注塑成型的方法制备轴承保持架，与钢制的轴承外圈、轴承内圈和滚珠一起组成轴承。与本发明一起组成的轴承具有耐高温、高速、耐磨、耐腐蚀、阻燃性好等特点，是当前理想的适用于航空航天、军工、电子电气和医疗等领域和恶劣环境的轴承之一。
本发明所使用的聚酰胺PA46(聚己二酰丁二胺)是一种具有高熔点和高结晶度的新型聚酰胺树脂。荷兰皇家企业DSM（帝斯曼）工程塑料公司在世界上最早成功地确立了工业上生产PA46的方法，商品名称Stanyl,并在全球推广的耐热及耐磨型的世界级领先的聚酰胺46品牌号。聚酰胺PA46是由丁二胺和己二酸缩聚而成的脂肪族聚酰胺，虽然有尼龙66相似的分子结构，但Stanyl PA46的每个给定长度的链上的酰胺组数更多，链结构更对称；而高度对称的链结构致使其结晶度高（约为70%），而且结晶速度快，因而熔点更高（295℃），热变形温度也高，而长期使用温度(CUT 5000hours)可达163℃。这些特性使Stanyl PA46比其它工程塑料如PA6、PA66、PPA和聚酯在耐热、高温下的机械强度、耐磨等方面具有技术优势，并且成型周期短，加工更经济。除此之外，PA46还有其他许多突出的优点，例如加工周期短、生产成本低、使用寿命长及可靠性高等，客户不仅可以降低生产成本，而且可以提高生产安全性。

Claims (3)

1.聚酰胺轴承保持架，包括一个环状本体，以及沿环状本体的周向均匀布置的若干个用于定位滚动体的结构；其特征是：所述轴承保持架用聚己二酰丁二胺作为制作所述轴承保持架的材料；所述聚己二酰丁二胺是由丁二胺和己二酸缩聚而成的脂肪族聚酰胺，结晶度为70%，熔点295℃，在163℃的温度下正常使用5000小时。
2.如权利要求1所述的聚酰胺轴承保持架，其特征是：所述轴承保持架采用注塑或挤压成型的方法制作。
3.如权利要求1所述的聚酰胺轴承保持架，其特征是：所述轴承保持架利用玻璃纤维或碳纤维作为增强剂。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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