CN101942645A - 镀膜机 - Google Patents

镀膜机 Download PDF

Info

Publication number
CN101942645A
CN101942645A CN2009103040531A CN200910304053A CN101942645A CN 101942645 A CN101942645 A CN 101942645A CN 2009103040531 A CN2009103040531 A CN 2009103040531A CN 200910304053 A CN200910304053 A CN 200910304053A CN 101942645 A CN101942645 A CN 101942645A
Authority
CN
China
Prior art keywords
load plate
coating
tray
coating equipment
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2009103040531A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101942645B (zh
Inventor
裴绍凯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
XU SHENGYING
Original Assignee
Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd, Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Priority to CN200910304053.1A priority Critical patent/CN101942645B/zh
Priority to US12/632,945 priority patent/US8316793B2/en
Publication of CN101942645A publication Critical patent/CN101942645A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101942645B publication Critical patent/CN101942645B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种镀膜机,其包括外壳、多个镀膜室、第一载盘、第二载盘、第三载盘、第一驱动装置及传输装置,外壳底部设置一装卸口,各镀膜室从上到下依次垂直排列于外壳内,各镀膜室均包括入料口及出料口,各镀膜室的入料口及出料口的朝向彼此相反,第一载盘及第二载盘相对设置于各镀膜室两侧,第一驱动装置与第一载盘及第二载盘相连接,以驱动第一载盘及第二载盘做升降运动,且能够将第一载盘及第二载盘对应镀膜室的入料口和出料口,第三载盘设置于装卸口处,且能够相对装卸口运动,传输装置设置于外壳底部,用于在第一载盘、第二载盘与第三载盘之间进行传输作业。本发明提供的镀膜机垂直整合多个镀膜室,从而利用垂直空间,提高空间利用率。

Description

镀膜机
技术领域
本发明涉及一种镀膜机。
背景技术
现有技术中,当需要对工件镀多层膜时,为了流水作业,提高生产效率。往往将多个镀膜机串联,从而完成工件的镀膜作业。
然而这种镀膜方法虽然比一个镀膜机进行多次镀膜的效率高,但是由于多个镀膜机串联将需要更多的生产空间,从而需要更大的厂房,占据更多的土地。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种体积小、空间利用率高的镀膜机。
一种镀膜机,该镀膜机包括外壳、多个镀膜室、第一载盘、第二载盘、第三载盘、第一驱动装置及传输装置,所述外壳底部设置一装卸口,所述各镀膜室从上到下依次垂直排列于所述外壳内,所述各镀膜室均包括入料口及出料口,所述各镀膜室的入料口及出料口的朝向彼此相反,所述第一载盘及第二载盘相对设置于所述各镀膜室两侧,所述第一驱动装置与所述第一载盘及第二载盘相连接,驱动所述第一载盘及第二载盘做升降运动,且能够将所述第一载盘及第二载盘对应镀膜室的入料口和出料口,所述第三载盘设置于所述装卸口处,且能够相对所述装卸口移动,所述传输装置设置于所述外壳底部,用于在所述第一载盘、第二载盘与所述第三载盘之间进行传输作业。
本发明提供的镀膜机由于垂直整合了多个镀膜室进行多层镀膜作业,从而可以充分利用垂直空间,节省大量制造空间,提高空间的利用率。
附图说明
图1为本发明提供的镀膜机的示意图。
图2至图5为图1中镀膜机运行的状态示意图。
具体实施方式
请参阅图1,为本发明提供的镀膜机100、装载装置200及卸载装置300。所述镀膜机100用于对装有工件的基板400进行镀膜作业。所述镀膜机100包括外壳10、第一镀膜室21、第二镀膜室22、第三镀膜室23、第一载盘30、第二载盘40、第一驱动装置50、第三载盘60、第二驱动装置70及第一传输装置80。当然,所述镀膜机100还可以根据需要镀膜的层数增加或减少镀膜室的数量。
所述外壳10包括侧壁11及底板12。所述底板12开设有第一通孔120、第二通孔121及装卸口122。本实施方式中,所述第一通孔120及第二通孔121均是圆形孔。所述装卸口122是矩形孔。
所述第一镀膜室21、第二镀膜室22及第三镀膜室23均是等离子增强气相沉积镀膜室。所述第一镀膜室21、第二镀膜室22及第三镀膜室23结构相同。所述第一镀膜室21、第二镀膜室22及第三镀膜室23从上到下依次垂直排列于所述外壳10内。本实施方式中,通过将所述外壳10分隔成三个独立的腔室作为所述第一镀膜室21、第二镀膜室22及第三镀膜室23。当然,所述第一镀膜室21、第二镀膜室22及第三镀膜室23也可以是与所述外壳10独立的结构。所述第一镀膜室21包括反应室210、喷口211、固定板212、多个准直管213、多个冷凝管214、入料口215、出料口216及第二传输装置217。
待镀材料在所述反应室210内进行化学反应,并通过所述喷口211射出。所述固定板212固定在所述喷口211上,所述多个准直管213按矩阵等间距排列于所述固定板212上。本实施方式中,所述准直管213采用钛合金材料制成。所述多个准直管213中出射角小的离子可以通过,而一些大角度的离子将被排除,从而使得所述喷口211射出的离子具有较小的出射角,可以使得膜层获得更好的方向性,并可以对小孔孔径内表面进行镀膜。所述多个冷凝管214成螺旋状盘绕在所述准直管213上,防止准直管213过热,造成离子在通过准直管213时发生变质。为了加快离子通过所述准直管213的速度,在准直管213上加一电场。本实施方式中,在所述准直管213出射端213a接一负电极(图中未标示)。
所述第二传输装置217固定于所述第一镀膜室21内,且位于所述入料口215及出料口216之间。所述第二传输装置217用于将工件从所述入料口215传输到所述出料口216。本实施方式中,所述第二传输装置217用于将装有工件的所述基板400从所述入料口215传输到所述出料口216。
所述第二镀膜室22包括入料口225、出料口226及第二传输装置227。所述第三镀膜室23包括入料口235、出料口236及第二传输装置237。所述各镀膜室的入料口及出料口的朝向彼此相反。所述第二镀膜室22及第三镀膜室23内部结构与所述第一镀膜室21相同,在此不再赘述。
所述第一载盘30设置于所述外壳10一侧,所述第二载盘40设置于所述外壳10的另一侧。本实施方式中,所述第一载盘30设置于所述外壳10左侧,所述第二载盘40设置于所述外壳10的右侧。所述第一载盘30包括第一子传输装置31,所述第一子传输装置31用于将所述基板400在所述第一载盘30上传输。本实施方式中,所述第一子传输装置31利用辊子进行传输。当所述第一载盘30装载时,所述第一子传输装置31将所述基板400完全传到所述第一载盘30上。当所述第一载盘30卸载时,所述第一子传输装置31将所述基板400从所述第一载盘30上传出。所述第二载盘40采用与所述第一载盘30相同的结构。所述第二载盘40具有第二子传输装置41,所述第二子传输装置41与所述第一子传输装置31的结构及运行方式相同。所述第一载盘30及第二载盘40也可以做成一体结构,在所述第一载盘30及第二载盘40之间开设可以使所述第一镀膜室21、第二镀膜室22及第三镀膜室23通过的槽,从而使得所述第一载盘30及第二载盘40可以做上下运动。
所述第一驱动装置50用于驱动所述第一载盘30及第二载盘40同时对应一个镀膜室的入料口及出料口。本实施方式中,本实施方式中,所述第一驱动装置50包括子驱动装置51、52。所述子驱动装置51穿过所述第一通孔120与所述第一载盘30相连接,所述子驱动装置51驱动所述第一载盘30做上下运动,所述子驱动装置52穿过所述第二通孔121,与所述子驱动装置51同步驱动所述第二载盘40做上下运动。当然,所述第一驱动装置50也可以只采用一个驱动装置,与所述第一载盘30及第二载盘40均连接,带动所述第一载盘30及第二载盘40一起运动。
所述第三载盘60设置于所述装卸口122处。所述第三载盘60包括第三子传输装置61,所述第三子传输装置61与所述第一子传输装置31的结构及运行方式相同。所述第二驱动装置70穿过所述装卸口122与所述第三载盘60连接,所述第二驱动装置70驱动所述第三载盘60相对所述装卸口122移动。
所述第一传输装置80用于在所述第一载盘30、第二载盘40及第三载盘60之间进行传输作业。本实施方式中,所述第一传输装置80传动方向是从左到右。
所述装载装置200用于将基板400装载到所述第三载盘60上。本实施方式中,所述装载装置200采用传输带。用于将基板400传输到所述第三载盘60上。
所述卸载装置300用于将完成镀膜的基板400从所述第三载盘60上传输出去。本实施方式中,所述卸载装置300采用传输带把所述基板400从所述第三载盘60上传输出去。
请参阅图2及图3,所述镀膜机100工作时,所述装载装置200将基板400传输到所述第三载盘60上,所述第三子传输装置61将所述基板400装载到位。所述第二驱动装置70驱动所述第三载盘60上升到所述镀膜机100内。所述第三子传输装置61将所述基板400传输到所述第一传输装置80上。所述第一传输装置80将所述基板400传输到所述第二载盘40上,所述第二子传输装置41将所述基板400装载到位。所述子驱动装置52驱动所述第二载盘40上升到所述第一镀膜室21上,并对准所述第一镀膜室21的入料口215,同时所述子驱动装置51驱动所述第一载盘30上升,并对准所述第一镀膜室21的出料口216。所述第二子传输装置41将所述基板400传送到所述第一镀膜室21内进行镀膜。所述第一镀膜室21内的所述第二传输装置217将所述基板400从所述入料口215传输到所述出料口216,同时离子通过所述准直管213对所述基板400进行镀膜作业。当镀膜完成后,所述基板400由所述第二传输装置217从所述出料口216传送到所述第一载盘30上。所述第一子传输装置31将所述基板400装载到位。根据箭头方向,所述基板400依次经过所述第二镀膜室22及第三镀膜室23完成镀膜作业。
请参阅图4及图5,当所述基板400从所述第三镀膜室23出来后装载到所述第一载盘30上时,所述第一载盘30及第二载盘40下降到所述第一传输装置80处。所述第一子传输装置31将所述基板400传输到所述第一传输装置80上,所述第一传输装置80再将所述基板400传输到所述第三载盘60上,所述第三载盘60下降到所述卸载装置300处,所述第三子传输装置61将所述基板400传输到所述卸载装置300上,所述卸载装置300将所述基板400传送出去,进行后续工艺。
本发明提供的镀膜机由于包括多个镀膜室,所以一次装载,就可以对工件进行多次镀膜,形成多层膜结构,从而提高生产效率。
可以理解的是,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形,而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种镀膜机,该镀膜机包括外壳、多个镀膜室、第一载盘、第二载盘、第三载盘、第一驱动装置及传输装置,所述外壳底部设置一装卸口,所述各镀膜室从上到下依次垂直排列于所述外壳内,所述各镀膜室均包括入料口及出料口,所述各镀膜室的入料口及出料口的朝向彼此相反,所述第一载盘及第二载盘相对设置于所述各镀膜室两侧,所述第一驱动装置与所述第一载盘及第二载盘相连接,驱动所述第一载盘及第二载盘做升降运动,且能够将所述第一载盘及第二载盘对应镀膜室的入料口和出料口,所述第三载盘设置于所述装卸口处,且能够相对所述装卸口移动,所述传输装置设置于所述外壳底部,用于在所述第一载盘、第二载盘与所述第三载盘之间进行传输作业。
2.如权利要求1所述的镀膜机,其特征在于,所述镀膜机还包括第二驱动装置,所述第二驱动装置用于驱动所述第三载盘运动。
3.如权利要求1所述的镀膜机,其特征在于,所述第一驱动装置能够将所述第一载盘及第二载盘同时对应一个镀膜室的入料口和出料口。
4.如权利要求1所述的镀膜机,其特征在于,所述第一载盘及第二载盘采用一体结构。
5.如权利要求1所述的镀膜机,其特征在于,所述第一驱动装置包括两个子驱动装置,分别用于驱动所述第一载盘及第二载盘。
6.如权利要求1所述的镀膜机,其特征在于,所述多个镀膜室均包括反应室,所述反应室包括喷口,所述喷口处设置多个准直管,所述多个准直管用于减小喷口出射的成膜物质的出射角度。
7.如权利要求6所述的镀膜机,其特征在于,所述准直管采用钛合金制成。
8.如权利要求6所述的镀膜机,其特征在于,所述准直管外侧设置冷凝系统。
9.如权利要求6所述的镀膜机,其特征在于,所述准直管加有沿成膜物质出射方向的电场。
CN200910304053.1A 2009-07-06 2009-07-06 镀膜机 Active CN101942645B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200910304053.1A CN101942645B (zh) 2009-07-06 2009-07-06 镀膜机
US12/632,945 US8316793B2 (en) 2009-07-06 2009-12-08 Film coating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200910304053.1A CN101942645B (zh) 2009-07-06 2009-07-06 镀膜机

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101942645A true CN101942645A (zh) 2011-01-12
CN101942645B CN101942645B (zh) 2013-10-09

Family

ID=43411942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200910304053.1A Active CN101942645B (zh) 2009-07-06 2009-07-06 镀膜机

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8316793B2 (zh)
CN (1) CN101942645B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103014678A (zh) * 2011-09-20 2013-04-03 吉富新能源科技(上海)有限公司 独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜
CN112705415A (zh) * 2020-12-11 2021-04-27 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 用于空气成像玻璃高透率低反射镀膜生产线

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60160139A (ja) * 1984-01-30 1985-08-21 Fujitsu Ltd 移送方法
CN1854898A (zh) * 2005-03-11 2006-11-01 东京毅力科创株式会社 涂敷、显影装置
US20070117400A1 (en) * 2003-12-12 2007-05-24 Tokyo Electron Limited Substrate treating apparatus

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4768147B2 (ja) * 2001-04-27 2011-09-07 Nec液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置の製造装置
US7267497B2 (en) * 2005-01-21 2007-09-11 Tokyo Electron Limited Coating and developing system and coating and developing method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60160139A (ja) * 1984-01-30 1985-08-21 Fujitsu Ltd 移送方法
US20070117400A1 (en) * 2003-12-12 2007-05-24 Tokyo Electron Limited Substrate treating apparatus
CN1854898A (zh) * 2005-03-11 2006-11-01 东京毅力科创株式会社 涂敷、显影装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103014678A (zh) * 2011-09-20 2013-04-03 吉富新能源科技(上海)有限公司 独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜
CN112705415A (zh) * 2020-12-11 2021-04-27 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 用于空气成像玻璃高透率低反射镀膜生产线

Also Published As

Publication number Publication date
CN101942645B (zh) 2013-10-09
US8316793B2 (en) 2012-11-27
US20110000429A1 (en) 2011-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9211563B2 (en) Coating apparatus and method
CN201648512U (zh) 连续真空镀膜装置
TW201533263A (zh) 叢集型批量式基板處理系統
US9115425B2 (en) Thin film depositing apparatus
CN101942645B (zh) 镀膜机
CN109921099A (zh) 一种叠片设备
CN105026611A (zh) 具有相邻溅射阴极的装置及其操作方法
JP6937549B2 (ja) 発光素子の製造装置
CN101567311B (zh) 真空处理设备、真空处理方法、电子装置及其制造方法
CN110699658A (zh) 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机
CN107099773A (zh) 一种多功能连续溅射镀膜线及其镀膜方法与镀膜控制方法
CN210886216U (zh) 可镀多层膜可往返多室多功能卷对卷镀膜机
CN218642821U (zh) 旋转移载式立式镀膜设备
CN203021646U (zh) 一种哑铃式柔性材料磁控溅射镀膜设备
CN109468611B (zh) 真空镀膜装置
CN105887030B (zh) 堆栈式溅射镀膜装置及其镀膜方法
JP2007288036A (ja) クラスター型真空成膜装置
CN205774780U (zh) 堆栈式溅射镀膜装置
CN102234784A (zh) 镀膜系统
CN203653696U (zh) 软基材双面镀膜装置
CN211284519U (zh) 蒸镀系统和蒸镀产线
CN103741121A (zh) 软基材双面镀膜装置
TWM509425U (zh) 具升降裝載之連續式真空鍍膜設備
CN102994960A (zh) 电弧离子镀膜装置
CN107513693A (zh) 一种模块化制造多用途卷绕式真空镀膜机

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20151009

Address after: 225400 Hongqiao Industrial Park, Taixing Economic Development Zone, Taizhou, Jiangsu, China, seven

Patentee after: Hu Lichun

Address before: 518109 Guangdong city of Shenzhen province Baoan District Longhua Town Industrial Zone tabulaeformis tenth East Ring Road No. 2 two

Patentee before: Hongfujin Precise Industry (Shenzhen) Co., Ltd.

Patentee before: Hon Hai Precision Industry Co., Ltd.

C56 Change in the name or address of the patentee
CP02 Change in the address of a patent holder

Address after: 510640, China Education building, No. five, 371-1 mountain road, Guangzhou, Guangdong, Tianhe District 715, China

Patentee after: Hu Lichun

Address before: 225400 Hongqiao Industrial Park, Taixing Economic Development Zone, Taizhou, Jiangsu, China, seven

Patentee before: Hu Lichun

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20151119

Address after: 226236 No. 5, Jiangzhou Road, Binhai Industrial Park, Nantong, Jiangsu, Qidong

Patentee after: XU SHENGYING

Address before: 510640, China Education building, No. five, 371-1 mountain road, Guangzhou, Guangdong, Tianhe District 715, China

Patentee before: Hu Lichun