CN101892462A - 金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置，首先在基材上拉丝或者印刷图案；其次被拉丝的基材在放料室；最后进入溅射室；在由隔板(1)间隔的放料室(2)和溅射室(3)内安装生产装置，在放料室(2)和溅射室(3)内排布连贯的输送架(4)，在输送架(4)的首尾端分别安装放料辊(10)和收料辊(11)，在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧安装离子源(5)，在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧安装一组溅射靶(9)，溅射靶(9)前安装气体反应器(8)，放料室、溅射室内各放置一个深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。该方法及装置在基材上溅射镀金属层，通过反应气体的类型产生不同的颜色，形成金属质感。

Description

金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置

技术领域

本发明涉及贴膜的生产方法及装置，具体涉及一种金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置。

技术背景

在笔记本电脑、手机、空调的外壳上，经常使用的是喷漆、电镀装饰层、铝箔、铜箔等复合膜材料，使其具有华丽颜色和金属质感的装饰效果。但由于环保问题及金属材料的价格问题，使复合膜材料逐步失去市场，将被环保的质优价廉的环保材料取代。

发明内容

本发明的目的在于：提供一种金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置，该方法及装置在基材上溅射镀金属层，通过反应气体的种类产生不同的颜色，如金黄色、玫瑰金色、紫青蓝、银白色、深灰色、黑色等，形成金属质感。

本发明的生产方法是：首先，在基材上拉丝或者印刷图案；其次，被拉丝的基材在放料室，真空状态下单面经离子源表面处理；最后，进入溅射室，按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层。

其中，基材为PC或PET膜，厚度：0.05-0.5mm，宽度：500～2200mm。

其中，离子源为高频离子源、弧放电离子源、PIG离子源、双离子体离子源、双彭离子源、转荷型负离子源、溅射型负离子源的其中之一，功率：2～10KW，电流：1～10A，电压：220～2000V，气氛：氩气或其它惰性气体，流量：100～500sccm，氩气压力：0.1～1mpa，真空压强：1～9*10^-2～1～9*10^-3Pa，速度：0.5～5m/min。

其中，深冷捕集的功率：5～50kw，温度：-100～-150℃，捕集器面积：1～5平方米。

其中，溅射靶为Ti靶或石墨靶，溅射真空压强：1～9*10^-2～1～9*10^-3Pa，氩气流量：100～500sccm，氮气流量：100～500sccm，氧气流量：100～500sccm。

其中，反应气体为氧气和氮气。

本发明的生产装置是：在由隔板间隔的放料室和溅射室内安装生产装置，生产装置包括输送架、离子源、深冷捕集器、气体反应器和溅射靶，在放料室和溅射室内排布连贯的输送架，输送架的首尾端都位于放料室，在输送架的首端安装放料辊，在输送架的尾端安装收料辊，在放料室内位于输送架的两侧呈平面矩形安装离子源，在溅射室内位于输送架的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶，溅射室内位于溅射靶之前安装气体反应器，放料室、溅射室内各放置一个深冷捕集器。

其中，在输送架的接近首尾端上分别安装张力器，通过张力器自动收放卷材。

工作时，被拉丝的基材由放料辊放出，被输送架输送先经过放料室的离子源，再经过溅射室的气体反应器、溅射靶，最后由放料室的收料辊将成品贴膜收集起来；其中，被拉丝的基材在经过离子源时，基材被清洁表面、消除水汽、改善表面张力；其中，预处理后的基材在溅射室内经溅射靶，通过反应气体，直接溅射金属离子在基材上形成金属层。

本发明具有以下优点：1、在基材上预先拉丝或者印刷图案，省去了在金属表面拉丝的繁杂工艺；2、在真空状态下直接溅射金属层，取代了喷漆、电镀等不环保生产作业流程，取代了价格昂贵金属箔，取代了层粘法生产的胶粘层，保证了产品的环保性；3、溅镀法是环保清洁生产方法，无废水、废气、废渣等产生；4、连续化生产线，可以大规模生产，降低生产成本。

附图说明

图1为本发明的生产装置的流程示意图

图中：1隔板，2放料室，3溅射室，4输送架，5离子源，6、7深冷捕集器，8气体反应器，9溅射靶，10放料辊，11收料辊，12、13真空泵，14、15张力器。

具体实施方式

如图1所示，在由隔板1间隔的放料室2和溅射室3内安装生产装置，生产装置包括输送架4、离子源5、深冷捕集器6、7、气体反应器8和溅射靶9，在放料室2和溅射室3内排布连贯的输送架4，输送架4的首尾端都位于放料室2，在输送架4的首端安装放料辊10，在输送架4的尾端安装收料辊11，在放料室2内位于输送架4的两侧呈平面矩形安装离子源5，在溅射室3内位于输送架4的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶9，溅射室3内溅射靶9之前安装气体反应器8，放料室理、溅射室3内各放置一个深冷捕集器6、7和真空泵12、13。

其中，在输送架4的接近首尾端上分别安装张力器14、15。

实施例1：

依以下步骤生产无胶拉丝贴膜：首先，在基材上拉丝或者印刷图案；其次，被拉丝的基材在放料室，真空状态下单面经离子源表面处理；最后，进入溅射室，按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层；其中，基材为PC膜，厚度0.05mm，宽度500mm；其中，离子源为高频离子源，功率2KW，电流1A，电压220V，氩气流量100sccm，氩气压力0.1mpa；真空压强1*10^-2Pa，速度0.5m/min；其中，深冷捕集的功率5kw，温度-100℃，捕集器面积1平方米；其中，溅射靶为Ti靶，溅射真空压强1*10^-2Pa，氩气流量100sccm，氮气流量100sccm，氧气流量100sccm。

实施例2：

依以下步骤生产无胶拉丝贴膜：首先，在基材上拉丝或者印刷图案；其次，被拉丝的基材在放料室，真空状态下单面经离子源表面处理；最后，进入溅射室，按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层；其中，基材为PET膜，厚度0.275mm，宽度1350mm；其中，离子源为弧放电离子源，功率6KW，电流5.5A，电压1110V，惰性气体流量300sccm，压力0.55mpa；真空压强9*10^-2Pa，速度2.75m/min；其中，深冷捕集的功率27.5kw，温度-125℃，捕集器面积3平方米；其中，溅射靶为石墨靶，溅射真空压强9*10^-2Pa，氩气流量300sccm，氮气流量300sccm，氧气流量300sccm。

实施例3：

依以下步骤生产无胶拉丝贴膜：首先，在基材上拉丝或者印刷图案；其次，被拉丝的基材在放料室，真空状态下单面经离子源表面处理；最后，进入溅射室，按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层；其中，基材为膜，厚度0.5mm，宽度2200mm；其中，离子源为溅射型负离子源，功率10KW，电流10A，电压2000V，氩气流量500sccm，氩气压力1mpa；真空压强：9*10^-3Pa，速度5m/min；其中，深冷捕集的功率50kw，温度-150℃，捕集器面积5平方米；其中，溅射靶为Ti靶，溅射真空压强9*10^-3Pa，氩气流量500sccm，氮气流量500sccm，氧气流量500sccm。

Claims (3)

1.金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法，其特征在于该生产方法包括以下步骤：首先，在基材上拉丝或者印刷图案；其次，被拉丝的基材在放料室，真空状态下单面经离子源表面处理；最后，进入溅射室，按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层；其中，基材为PC或PET膜，厚度：0.05-0.5mm，宽度：500～2200mm；其中，离子源为高频离子源、弧放电离子源、PIG离子源、双离子体离子源、双彭离子源、转荷型负离子源、溅射型负离子源的其中之一，功率：2～10KW，电流：1～10A，电压：220～2000V，气氛：氩气或其它惰性气体，流量：100～500sccm，氩气压力：0.1～1mpa，真空压强：1～9*10^-2～1～9*10^-3Pa，速度：0.5～5m/min；其中，深冷捕集的功率：5～50kw，温度：-100～-150℃，捕集器面积：1～5平方米；其中，溅射靶为Ti靶或石墨靶，溅射真空压强：1～9*10^-2～1～9*10^-3Pa，氩气流量：100～500sccm，氮气流量：100～500sccm，氧气流量：100～500sccm；其中，反应气体为氧气和氮气。

2.根据权利要求1所述的金属质感的无胶拉丝贴膜的生产装置，其特征在于：在由隔板(1)间隔的放料室(2)和溅射室(3)内安装生产装置，生产装置包括输送架(4)、离子源(5)、深冷捕集器(6、7)、气体反应器(8)和溅射靶(9)，在放料室(2)和溅射室(3)内排布连贯的输送架(4)，输送架(4)的首尾端都位于放料室(2)，在输送架(4)的首端安装放料辊(10)，在输送架(4)的尾端安装收料辊(11)，在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧呈平面矩形安装离子源(5)，在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶(9)，溅射室(3)内溅射靶(9)之前安装气体反应器(8)，放料室理、溅射室(3)内各放置一个深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。

3.根据权利要求2所述的金属质感的无胶拉丝贴膜的生产装置，其特征在于：其中，在输送架(4)的接近首尾端上分别安装涨力器(14、15)。

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