CN101877388A - 一种白光oled的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种白光OLED的制备方法，首先将ITO玻璃清洗并烘干后进行等离子轰击预处理，随后，将处理后的ITO玻璃移转至镀膜机中，同时，依次将电子阻挡层用材料、空穴传输层用材料、发光层用材料、电子传输层用材料和阴极层用材料移转至镀膜机中进行蒸镀。蒸镀发光层时，首先将主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸，其中蓝色掺杂剂的比例为2％，最后，再将主体材料、蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸，其中，蓝色掺杂剂的比例为2％，红色掺杂剂的比例为6％。在本发明中，发光层的主体材料中仅掺杂红蓝两种掺杂材料，因此，掺杂比例容易控制，制备出来的器件发出的白光均匀，且工艺简单，成本低廉。

Description

一种白光OLED的制备方法
技术领域
本发明涉及一种光源封装，特别是一种白光OLED的制备方法。
背景技术
自1963年有机单晶蒽被发现后，有机电致发光器件(OLED)得到了广泛研究。其中，白色有机电致发光器件(WOLED)由于驱动电压低、效率高、功耗低、制备工艺简单、原料来源广泛等特点而引起了广泛关注。
目前的WOLED可分为单发光层和多发光层两类结构。其中，单发光层结构的制备方法主要以下两种方式，一种是选择可覆盖整个可见光范围的荧光材料作发光层，用这种方法制备的WOLED结构简单、制作方便，但是，如果要得到纯度较好的白光，就要求发光材料的各发色集团间互不干扰，且各种颜色的发射光强度要匹配，要做到这一点，具有一定困难；单发光层结构的另一种制备方式是通过在主体材料中掺杂红、蓝、绿等染料，通过混色形成白光，这种方法制备的WOLED虽然结构简单，但掺杂浓度难以控制，从而使得三种颜色的波峰难以控制且效率低。
多发光层结构，即将红、绿、蓝三基色材料分别单独作为发光层堆积到一起，各自发出的光叠加形成白光。多发光层结构的器件单层色度较好控制，其难点在于能否调节出合适的发光层顺序及厚度，这是因为各层间的能量会相互吸收，从而降低了器件效率。这种器件的制备工艺复杂、重复性差、成本高。
鉴于以上问题，实有必要提供一种可以解决上述技术问题的白光OLED的制备方法。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种白光OLED的制备方法，其发出的白光均匀，且工艺简单，成本低廉。
为实现上述目的，本发明提供了一种白光OLED的制备方法，首先将ITO玻璃清洗并烘干后进行等离子轰击预处理，随后，将处理后的ITO玻璃移转至镀膜机中，同时，将电子阻挡层用材料、空穴传输层用材料、发光层用材料、电子传输层用材料和阴极层用材料放入镀膜机中进行蒸镀，从而，在ITO玻璃表面依次形成电子阻挡层、空穴传输层、发光层、电子传输层，以及阴极层，其中，蒸镀发光层时，在主体材料中掺杂红蓝两种掺杂剂进行蒸镀。
作为本发明的优选实施例，蒸镀发光层中，首先将主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸，然后，再将主体材料、蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸；作为本发明的优选实施例，所述主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸时，蓝色掺杂剂占主体材料的比例为A，主体材料与蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸时，蓝色掺杂剂占主体材料的比例为A，红色掺杂剂占主体材料的比例为B；作为本发明的优选实施例，所述A为2％，B为6％；作为本发明的优选实施例，所述主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸时，共蒸时间为100S，主体材料的蒸镀速率为0.2nm/S，蓝色掺杂剂的蒸镀速率为0.067nm/S；作为本发明的优选实施例，所述主体材料与蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸时，共蒸时间为10S，主体材料的蒸镀速率为0.2nm/S，蓝色掺杂剂和红色掺杂剂的蒸镀速率为0.067nm/S；作为本发明的优选实施例，清洗ITO玻璃时，将ITO玻璃在超声波清洗机中依次用洗洁剂、蒸馏水和无水乙醇清洗；作为本发明的优选实施例，所述发光层的主体材料为ADN，蓝色掺杂剂为TBPE，红色掺杂剂为DCJTB；作为本发明的优选实施例，所述发光层的厚度为20nm。
本发明白光OLED的制备方法至少具有以下优点：对发光层仅采用两种颜色的荧光材料掺杂就可以获得白光OLED器件，如此，掺杂的比例容易控制，从而使所制备的白光OLED器件适合在显示器、照明等不同领域的应用，且工艺简单，成本低廉。
附图说明
图1是通过本发明白光OLED的制备方法制备出来的器件的光谱图。
具体实施方式
本发明白光OLED的制备方法包括以下步骤：步骤一：将ITO玻璃在超声清洗机中依次用三氯乙烯、丙酮、无水乙醇和蒸馏水清洗后移转至烘干箱内，在150℃烘干30分钟；步骤二：将步骤一处理后的ITO玻璃移转至镀膜机内，用氧等离子体轰击ITO玻璃表面；步骤三：取电子阻挡层用材料2T-NATA、空穴传输层用材料NPB、发光层用材料ADN、TBPE以及DCJTB、电子传输层用材料Alq3和阴极层用材料liF及铝，与步骤二处理过的ITO玻璃一起放入到镀膜机中，在真空度为10-4Pa的条件下蒸镀，即首先依次对电子阻挡层用材料和空穴传输层用材料加热使其挥发，从而在ITO玻璃表面依次形成厚度为15nm的电子阻挡层和厚度为25nm的空穴传输层；步骤四：所述发光层用材料包括主体材料ADN和蓝色掺杂剂TBPE以及红色掺杂剂DCJTB，首先对主体材料ADN和掺杂材料TBPE进行加热，使这两种材料蒸发，其中，蒸镀时间为100S，主体材料ADN的蒸镀速率为0.2nm/S，蓝色掺杂剂TBPE的蒸镀速率为0.067nm/S，如此，蓝色掺杂剂TBPE占主体材料的比例为2％，掺杂厚度为14nm；接着，对主体材料ADN、蓝色掺杂剂TBPE和红色掺杂剂进行三源共蒸，其中，蒸镀时间为10S，主体材料ADN的蒸镀速率为0.2nm/S，蓝色掺杂剂TBPE以及红色掺杂剂DCJTB的蒸镀速率为0.067nm/S，如此，蓝色掺杂剂占主体材料的比例为2％，红色掺杂剂占主体材料的比例为6％，掺杂厚度为6nm，从而，在空穴传输层表面形成一层厚度为20nm的发光层；步骤五：接着，对电子传输层用材料Alq3加热使其蒸发，从而在发光层表面形成电子传输层；步骤六：再接着，同时对LiF和铝进行加热使其蒸发，从而在电子传输层表面形成阴极层。
所制备的器件在ADN：TBPe(2％wt)为14nm，ADN：TBPe(2％wt)：DCJTB(6％wt)为6nm，驱动电压为7V时的色坐标为(0.32，0.31)，如此，可以得知，由本发明方法制备出来的器件为白光器件。
本发明的主要优点如下：(1)对发光层仅采用两种颜色的荧光材料掺杂就可以获得白光OLED器件，可以通过改变发光层厚度和掺杂剂的掺杂比例可以很方便的调节器件的发光颜色，从而使所制备的白光OLED器件适合在显示器、照明等不同领域的应用。
(2)与采用三种颜色的荧光材料掺杂获得白光OLED器件的掺杂工艺相比，工艺过程容易控制。
(3)本发明可制备出纯正白光的OLED器件，器件的亮度较高。
以上所述仅为本发明的一种实施方式，不是全部或唯一的实施方式，本领域普通技术人员通过阅读本发明说明书而对本发明技术方案采取的任何等效的变换，均为本发明的权利要求所涵盖。

Claims (9)

1.一种白光OLED的制备方法，首先将ITO玻璃清洗并烘干后进行等离子轰击预处理，随后，将处理后的ITO玻璃移转至镀膜机中，同时，将电子阻挡层用材料、空穴传输层用材料、发光层用材料、电子传输层用材料和阴极层用材料放入镀膜机中进行蒸镀，从而，在ITO玻璃表面依次形成电子阻挡层、空穴传输层、发光层、电子传输层，以及阴极层，其特征在于：蒸镀发光层时，在主体材料中掺杂红蓝两种掺杂剂进行蒸镀。
2.如权利要求1所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：蒸镀发光层中，首先将主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸，然后，再将主体材料、蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸。
3.如权利要求2所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：所述主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸时，蓝色掺杂剂占主体材料的比例为A，主体材料与蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸时，蓝色掺杂剂占主体材料的比例为A，红色掺杂剂占主体材料的比例为B。
4.如权利要求3所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：所述A为2％，B为6％。
5.如权利要求3所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：所述主体材料和蓝色掺杂剂进行双源共蒸时，共蒸时间为100S，主体材料的蒸镀速率为0.2nm/S，蓝色掺杂剂的蒸镀速率为0.067nm/S。
6.如权利要求5所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：所述主体材料与蓝色掺杂剂和红色掺杂剂进行三源共蒸时，共蒸时间为10S，主体材料的蒸镀速率为0.2nm/S，蓝色掺杂剂和红色掺杂剂的蒸镀速率为0.067nm/S。
7.如权利要求1或4所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：清洗ITO玻璃时，将ITO玻璃在超声波清洗机中依次用三氯乙烯、丙酮、无水乙醇和蒸馏水清洗。
8.如权利要求5所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：所述发光层的主体材料为ADN，蓝色掺杂剂为TBPE，红色掺杂剂为DCJTB。
9.如权利要求1所述的白光OLED的制备方法，其特征在于：所述发光层的厚度为10-30nm。
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