CN101848596A - 电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置 - Google Patents

电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101848596A
CN101848596A CN201010141151A CN201010141151A CN101848596A CN 101848596 A CN101848596 A CN 101848596A CN 201010141151 A CN201010141151 A CN 201010141151A CN 201010141151 A CN201010141151 A CN 201010141151A CN 101848596 A CN101848596 A CN 101848596A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cover
mentioned
fixer
dielectric cover
dielectric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201010141151A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101848596B (zh
Inventor
佐藤亮
齐藤均
天野健次
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2010010711A external-priority patent/JP5578865B2/ja
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to CN201310390661.5A priority Critical patent/CN103533739B/zh
Publication of CN101848596A publication Critical patent/CN101848596A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101848596B publication Critical patent/CN101848596B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/32807Construction (includes replacing parts of the apparatus)
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置。在电感耦合等离子处理装置中抑制覆盖窗构件的下表面的罩的破损和微粒的产生,而且能够容易地装卸罩。电感耦合等离子处理装置的电介体罩包括具有下表面以及与该下表面连续的侧端的被支承部。电介体罩固定器具包括:支承部,其与电介体罩的被支承部的下表面抵接,以被支承部夹在其与作为支承电介体壁的支承构件的支承梁和电介体壁中的至少一个之间的方式支承被支承部;被固定部,其与该支承部相连接,其一部分被配置在被支承部的侧端的侧方,以其与支承梁的位置关系不发生变化的方式被固定。

Description

电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置
技术领域
本发明涉及在电感耦合等离子处理装置中用于对将构成处理室顶板部分的窗构件的下表面覆盖的罩进行固定的罩固定器具和罩固定装置。
背景技术
在FPD(平板显示器)的制造工序中,对FPD用的玻璃基板进行等离子蚀刻、等离子灰化、等离子成膜等各种等离子处理。作为进行这样的等离子处理的装置,公知有能够产生高密度等离子体的电感耦合等离子(ICP)处理装置。
电感耦合等离子处理装置包括:处理室,其被气密地保持,且能对作为被处理体的基板进行等离子处理;配置在处理室外部的高频天线。处理室具有构成处理室的顶板部分的、由电介体等材质构成的窗构件,高频天线被配置在窗构件的上方。在该电感耦合等离子处理装置中,通过对高频天线施加高频电力,隔着窗构件在处理室内形成感应电场,利用该感应电场将被导入到处理室内的处理气体转化为等离子体,使用该等离子体来对基板进行规定的等离子处理。
在电感耦合等离子处理装置中,在窗构件的下表面露出到处理室中时,该窗构件的下表面受到等离子体造成的损伤。由于窗构件无法容易地装卸,因此,即使受到损伤,也无法容易地更换或者清洗。因此,如专利文献1所述,利用能够容易地装卸的罩覆盖窗构件的下表面。由此,能够保护窗构件的下表面,而且,能够容易地更换或者清洗受到损伤的罩。
专利文献1:日本特开2001-28299号公报
如专利文献1所述,以往,罩被多个螺钉固定在窗构件的支承构件上。更详细地说明,在以往的罩固定方法中,在罩的周缘部附近部分分别形成有供螺钉的杆部贯穿的多个通孔,从罩的下表面侧将螺钉的杆部插入到各通孔中,将该杆部拧入到窗构件的支承构件中而对罩进行固定。但是,在该以往的罩固定方法中产生了如下的问题。
在处理室中进行等离子处理时,罩的下表面被连续地暴露于等离子体中,因此,罩的下表面的温度上升。在罩的下表面温度上升的过程中,在罩的下表面产生不均匀的温度分布,结果,在罩中产生拉伸、弯曲等微小的变形。此时,由于罩的材料(例如陶瓷)与支承构件的材料(例如铝)之间的热膨胀系数的不同,因此罩的变形量和支承构件的变形量产生差异。因此,在为了使罩的通孔附近部分完全不进行移动而利用螺钉将罩固定于支承构件的情况下,对罩的通孔附近部分施加过度的应力,罩有可能从该部分破损。
因此,也考虑通过使罩的通孔直径充分大于螺钉的杆部直径,并且,设置罩和螺钉能够相对地移动的机构,不会对罩的通孔附近部分施加过度的应力。但尽管如此,在罩变形时,对罩施加的应力也易于集中在通孔附近部分,因此,易于因以通孔为起点产生的裂纹而导致罩的破损。
另外,在以往的罩固定方法中,在处理室的顶面形成有由多个螺钉的头部形成的多个凸部。等离子处理时产生的副生成物易于附着在该凸部上。因此,在等离子处理过程中,一旦附着在螺钉头部的副生成物从螺钉的头部剥落而产生微粒(浮游粒子),该微粒就有可能导致蚀刻不良。另外,螺钉头部被等离子体消耗而产生微粒,该微粒也有可能导致蚀刻不良。
并且,在以往的罩固定方法中,使用多个螺钉来固定罩,因此存在罩的装卸作业性较差这样的问题点。另外,应对FPD的大型化,电感耦合等离子处理装置的处理室也被大型化。在具有大型的处理室的电感耦合等离子处理装置中,有时窗构件和罩分别由被分割成的多个部分构成。在这种情况下,为了固定罩而使用更多的螺钉,因此,罩的装卸作业性进一步降低。
发明内容
本发明是鉴于该问题点而做成的,其目的在于提供一种在电感耦合等离子处理装置中能够抑制用于对窗构件的下表面进行覆盖的罩的破损和微粒的产生、而且能够容易地装卸罩的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置。
本发明的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具被用于电感耦合等离子处理装置。该电感耦合等离子处理装置包括:处理室,其具有构成顶板部分的窗构件,用于进行等离子处理;高频天线,其被配置在上述窗构件的上方,用于在上述处理室内形成感应电场;支承构件,其用于支承上述窗构件;罩,其用于对上述窗构件的下表面进行覆盖。本发明的罩固定器具用于固定上述罩。
本发明的罩固定器具包括:支承部,其用于对具有作为上述罩的一部分的下表面的被支承部进行支承;被固定部,其被固定于上述支承构件。
本发明的罩固定器具也可以还具有将上述被固定部固定于上述支承构件的螺钉。在这种情况下,上述螺钉的头部也可以被配置在上述支承构件的上方,上述螺钉的杆部贯穿上述支承构件而与上述被固定部结合。
另外,在本发明的罩固定器具中,上述支承部也可以包括:上表面,其与上述被支承部的下表面抵接;下表面,其随着远离上述被固定部而与上述上表面的距离变小。
另外,在本发明的罩固定器具中,上述被支承部的下表面也可以是上述罩的下表面的一部分,在上述罩的下表面,以上述被支承部的下表面位于除上述被支承部之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部,上述支承部被配置在上述罩的下表面上的上述台阶部。在这种情况下,上述支承部也可以具有与上述台阶部的台阶相等的厚度。
另外,本发明的罩固定器具也可以还包括在2个罩固定器具沿水平方向相邻地配置时、2个罩固定器具的侧部彼此啮合的形状的侧部。
另外,在本发明的罩固定器具中,上述罩也可以包括具有下表面和上表面的、构成罩的主要部分的罩主体,上述被支承部被配置在上述罩主体的上表面的上方,上述支承部被配置在上述被支承部的下表面与上述罩主体的上表面之间。
本发明的电感耦合等离子处理装置的罩固定装置用于固定上述罩,包括:本发明的罩固定器具;以及将该罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承构件的固定机构。
在本发明的罩固定装置中,上述固定机构也可以是提起上述被固定部的机构。或者,上述固定机构也可以是对上述被固定部的上下方向的移动进行限制的机构。
采用本发明,能够使用包括用于支承罩的被支承部的支承部以及固定于支承构件的被固定部的罩固定器具来固定罩。由此,采用本发明,不在罩上形成用于供螺钉的杆部插入的多个通孔就能够固定罩。结果,采用本发明,起到能够抑制罩的破损和微粒的产生、而且能够容易地装卸罩这样的效果。
附图说明
图1是表示包括本发明的第1实施方式的罩固定器具的电感耦合等离子处理装置的剖视图。
图2是表示图1中的电介体壁和悬挂器的立体图。
图3是表示图1中的电介体壁和高频天线的立体图。
图4是表示图1中的罩和罩固定器具的仰视图。
图5是表示图4中的5-5所示的位置的截面的剖视图。
图6是说明罩固定器具固定方法的一个例子的、图4中的6-6所示的剖视图。
图7是表示罩固定器具的固定方法的另一例子的剖视图。
图8是表示比较例的罩的仰视图。
图9是表示本发明的第1实施方式的第1变形例的罩和罩固定器具的剖视图。
图10是表示本发明的第1实施方式的第2变形例的罩和罩固定器具的仰视图。
图11是表示本发明的第1实施方式的第3变形例的罩和罩固定器具的仰视图。
图12是表示第3变形例的罩固定器具的侧部的形状的一个例子的剖视图。
图13是表示第3变形例的罩固定器具的侧部的形状的另一例子的立体图。
图14是表示本发明的第1实施方式的第4变形例的罩和罩固定器具的仰视图。
图15是表示本发明的第1实施方式的第5变形例的罩和罩固定器具的剖视图。
图16是表示本发明的第1实施方式的第6变形例的罩和罩固定器具的仰视图。
图17是说明第6变形例的罩和罩固定器具的、图16中的17-17所示的剖视图。
图18是表示罩固定器具的固定方法的另一例子的剖视图。
图19是表示罩固定器具的固定方法的又一例子的剖视图。
图20是表示罩固定器具的固定方法的再一例子的剖视图。
图21是表示本发明的第2实施方式的罩固定装置的剖视图。
图22是表示图21所示的罩固定装置的另一状态的剖视图。
图23是表示本发明的第3实施方式的罩固定装置的剖视图。
图24是表示本发明的第3实施方式的变形例的罩固定装置的剖视图。
图25是表示本发明的第4实施方式的罩固定装置的剖视图。
图26是表示本发明的第4实施方式的变形例的罩固定装置的剖视图。
图27是表示本发明的第5实施方式的罩固定装置的剖视图。
图28是表示图27中的罩固定装置的一部分的立体图。
图29是表示本发明的第6实施方式的罩固定装置的剖视图。
图30是表示本发明的第7实施方式的罩固定装置的剖视图。
具体实施方式
第1实施方式
下面,参照附图对本发明的实施方式进行详细地说明。首先,参照图1~图4对包括本发明的第1实施方式的罩固定器具的电感耦合等离子处理装置的构造进行说明。图1是表示电感耦合等离子处理装置的剖视图。图2是表示图1中的作为“窗构件”的电介体壁和悬挂器的立体图。图3是表示图1中的电介体壁和高频天线的立体图。图4是表示图1中的作为“罩”的电介体罩和作为“罩固定器具”的电介体罩固定器具的仰视图。
图1所示的电感耦合等离子处理装置1例如用于对FPD用的玻璃基板(以下仅记作“基板”)S进行等离子处理。作为FPD,能够列举出液晶显示器(LCD)、电致发光(ElectroLuminescence;EL)显示器、等离子显示面板(PDP)等。
电感耦合等离子处理装置1包括天线室4和处理室5,该天线室4和处理室5是由主体容器2以及配置在该主体容器2内且将主体容器2内的空间划分为上下2个空间的作为“窗构件”电介体壁6构成的。天线室4划分出主体容器2内的电介体壁6的上侧空间,处理室5划分出主体容器2内的电介体壁6的下侧空间。因而,电介体壁6构成天线室4的底部,并构成处理室5的顶板部分。处理室5被气密地保持,在处理室5中对基板进行等离子处理。
主体容器2是具有上部、底部和4个侧部的方筒形状的容器。另外,主体容器2也可以是具有上部、底部和筒状部的圆筒形状的容器。作为主体容器2的材料,可采用铝、铝合金等导电性材料。在将铝用作主体容器2的材料的情况下,为了不从主体容器2的内壁面产生污染物,对主体容器2的内壁面实施铝阳极化处理。另外,主体容器2接地。
电介体壁6形成具有大致正方形形状的上表面、底面和4个侧面的大致长方体形状。电介体壁6的厚度例如为30mm。电介体壁6由电介体材料形成。作为电介体壁6的材料,例如可采用Al2O3等陶瓷、石英。作为一个例子,电介体壁6被分割成4个部分。即,电介体壁6具有第1部分壁6A、第2部分壁6B、第3部分壁6C及第4部分壁6D。另外,电介体壁6也可以不被分割成4个部分。
电感耦合等离子处理装置1还包括作为支承电介体壁6的支承构件的支承架7和支承梁16。支承架7被安装在主体容器2的侧壁上。如图2所示,支承梁16呈十字形状。电介体壁6的4个部分壁6A、6B、6C、6D被支承架7和支承梁16支承。
电感耦合等离子处理装置1还包括圆筒形状的悬挂器8A和圆柱形状的悬挂器8B、8C、8D、8E,该悬挂器8A、8B、8C、8D、8E分别具有与主体容器2的顶板部分连接的上端部。支承梁16在其上表面的中央部分(十字交叉部分)连接于悬挂器8A的下端部。另外,支承梁16在其上表面的中央部分和十字的4个顶端部分的中间的4处连接于悬挂器8B、8C、8D、8E的下端部。这样,支承梁16被配置成利用5个悬挂器8A~8E自主体容器2的顶板部分垂下,在主体容器2内部的上下方向的大致中央位置维持水平状态。
虽未图示,但在支承梁16中形成有用于供给后述的处理气体的气体流路、以及用于放出被供给到该气体流路中的处理气体的多个开口部。作为支承梁16的材料,可采用导电性材料。作为该导电性材料,优选采用铝等金属材料。在将铝用作支承梁16的材料的情况下,为了不从表面产生污染物,对支承梁16的内外表面实施铝阳极化处理。
电感耦合等离子处理装置1还包括高频天线(以下简记作天线)13,该高频天线13被配置在天线室4的内部、即处理室5的外部且被配置在电介体壁6的上方。如图3所示,天线13形成大致正方形的俯视呈方形螺旋形状。天线13被配置在电介体壁6的上表面上。在主体容器2的外部设置有匹配器14和高频电源15。天线13的一端通过匹配器14连接于高频电源15。天线13的另一端连接于主体容器2的内壁,通过主体容器2接地。
电感耦合等离子处理装置1还包括对电介体壁6的下表面进行覆盖的作为“罩”的电介体罩12。电介体罩12形成具有大致正方形形状的上表面和底面、4个侧面的板状。电介体罩12由电介体材料形成。作为电介体罩12的材料,例如可采用Al2O3等陶瓷、石英。
作为一个例子,电介体罩12与电介体壁6同样地被分割成4个部分。即,如图4所示,电介体罩12具有第1部分罩12A、第2部分罩12B、第3部分罩12C及第4部分罩12D。第1~第4部分罩12A、12B、12C、12D分别对电介体壁6的第1~第4部分壁6A、6B、6C、6D的下表面进行覆盖。另外,电介体罩12也可以不被分割成4个部分。
如图4所示,电感耦合等离子处理装置1还包括用于固定电介体罩12的、作为本实施方式的“罩固定器具”的电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。之后详细说明,电介体罩12被电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4固定。另外,虽未图示,但在电介体罩12上形成有与支承梁16的开口部相对应的多个开口部。
在对基板S进行等离子处理时,自高频电源15向天线13供给感应电场形成用的高频电力(例如13.56MHz的高频电力)。由此,能够利用天线13在处理室5内形成感应电场。该感应电场将后述的处理气体转化为等离子体。
在主体容器2的外部还设置有气体供给装置20。气体供给装置20通过插入到悬挂器8A的中空部中的气体供给管21连接于支承梁16的气体流路。气体供给装置20用于供给等离子处理所采用的处理气体。在进行等离子处理时,处理气体通过气体供给管21、支承梁16内的气体流路、开口部以及电介体罩12的开口部被供给到处理室5内。作为处理气体,例如可采用SF6气体。
电感耦合等离子处理装置1还包括基座22、绝缘体框24、支柱25、波纹管26和闸阀27。支柱25与设置在主体容器2下方的未图示的升降装置相连接,通过形成在主体容器2底部的开口部而突出到处理室5内。另外,支柱25具有中空部。绝缘体框24设置在支柱25上。该绝缘体框24形成上部开口的箱状。在绝缘体框24的底部形成有与支柱25的中空部连续的开口部。波纹管26围着支柱25,气密地连接于绝缘体框24和主体容器2的底部内壁。由此,能够维持处理室5的气密性。
基座22收容在绝缘体框24内。基座22具有用于载置基板S的载置面22A。载置面22A与电介体罩12相对。作为基座22的材料,例如可采用铝等导电性材料。在将铝用作基座22的材料的情况下,为了不从表面产生污染物,对基座22的表面实施铝阳极化处理。
在主体容器2的外部还设置有匹配器28和高频电源29。基座22通过贯穿于绝缘体框24的开口部和支柱25的中空部的通电棒连接于匹配器28,并且,通过该匹配器28连接于高频电源29。在对基板S进行等离子处理时,自高频电源29向基座22供给偏压用的高频电力(例如380kHz的高频电力)。该高频电力用于将等离子体中的离子有效地引入到载置在基座22上的基板S。
闸阀27设置于主体容器2的侧壁。闸阀27具有开闭功能,在关闭状态下维持处理室5的气密性,并且,在打开状态下能够在处理室5与外部之间输送基板S。
在主体容器2的外部还设置有真空装置30。真空装置30经由与主体容器2的底部连接的排气管31连接于处理室5。在对基板S进行等离子处理时,真空装置30排出处理室5内的空气,将处理室5内维持在真空气氛。
接着,参照图4~图6详细说明本实施方式的电介体罩固定器具。图4表示电介体罩12和电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。图5是表示图4中的5-5所示的位置的截面的剖视图。图6是表示图4中的6-6所示的位置的截面的剖视图。在图4中,圆标记表示螺钉。
如上所述,电介体罩12具有第1~第4部分罩12A~12D。在图4中,第1部分罩12A被配置在整个电介体罩12的配置区域中的左上区域,第2部分罩12B被配置在整个电介体罩12的配置区域中的右上区域,第3部分罩12C被配置在整个电介体罩12的配置区域中的左下区域,第4部分罩12D被配置在整个电介体罩12的配置区域中的右下区域。
在电介体罩12的中央部,在第1~第4部分罩12A、12B、12C、12D中分别形成有在将它们合在一起时成为十字形状的开口部的L字形的缺口部12Aa、12Ba、12Ca、12Da。
从处理室5侧看到的电介体罩固定器具18A的形状是比在电介体罩12的中央部由缺口部12Aa、12Ba、12Ca、12Da形成的十字形状的开口部稍大的十字形状。而且,电介体罩固定器具18A被配置成覆盖电介体罩12的十字形状的开口部。另外,在电介体罩固定器具18A上也可以形成有与支承梁16的开口部相对应的开口部。
从处理室5侧看到的电介体罩固定器具18B1~18B4的形状均为长方形。电介体罩固定器具18B1在其与支承架7之间夹着第1和第3部分罩12A、12C的各自一边来支承第1和第3部分罩12A、12C。另外,电介体罩固定器具18B2在其与支承架7之间夹着第2和第4部分罩12B、12D的各自一边来支承第2及第4部分罩12B、12D。另外,电介体罩固定器具18B3在其与支承架7之间夹着第1和第2部分罩12A、12B的各自一边来支承第1和第2部分罩12A、12B。另外,电介体罩固定器具18B 4在其与支承架7之间夹着第3和第4部分罩12C、12D的各自一边地将其支承。
之后详细说明,电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4均包括1个以上支承部和1个被固定部。支承部是被配置在作为电介体罩12的一部分的被支承部的下侧来支承该被支承部的部分。电介体罩12具有与电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4所包括的所有支承部相同数量的被支承部。
以下,以电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4为代表而详细说明图6所示的电介体罩固定器具18A的构造和作用。如图6所示,电介体罩固定器具18A包括支承第1部分罩12A的一部分的第1支承部18A1、支承第2部分罩12B的一部分的第2支承部18A2以及被固定部18A3。虽未图示,但电介体罩固定器具18A还包括支承第3部分罩12C的一部分的第3支承部以及支承第4部分罩12D的一部分的第4支承部。第1和第2支承部18A1、18A2被配置成连接于被固定部18A3,并且自被固定部18A3向侧方延伸。第3和第4支承部也与第1和第2支承部18A1、18A2相同。
另一方面,第1部分罩12A具有被支承部12A1。被支承部12A1具有下表面12A1a以及与该下表面12A1a连续的侧端12A1b。侧端12A1b也是缺口部12Aa的端缘。被支承部12A1的上表面与支承梁16和第1部分壁6A中的至少一个的下表面抵接。在图6所示的例子中,被支承部12A1的上表面与支承梁16和第1部分壁6A这两者的下表面抵接,但被支承部12A1的上表面也可以抵接于支承梁16和第1部分壁6A中的仅一个的下表面。
同样,第2部分罩12B具有被支承部12B1。被支承部12B1具有下表面12B1a以及与该下表面12B1a连续的侧端12B1b。被支承部12B1的上表面与支承梁16和第2部分壁6B中的至少一个的下表面抵接。在图6所示的例子中,被支承部12B1的上表面与支承梁16和第2部分壁6B这两者的下表面抵接,但被支承部12B1的上表面也可以抵接于支承梁16和第2部分壁6B中的仅一个的下表面。
第3和第4部分罩12C、12D也分别具有与上述被支承部12A1、12B1同样的被支承部。
第1支承部18A1具有下表面以及与被支承部12A1的下表面12A1a抵接的上表面。第2支承部18A2具有下表面以及与被支承部12B1的下表面12B1a抵接的上表面。同样,第3支承部具有下表面以及与第3部分罩12C的被支承部的下表面抵接的上表面,第4支承部具有下表面以及与第4部分罩12D的被支承部的下表面抵接的上表面。第1~第4支承部的各下表面成为随着远离被固定部18A3而与各支承部的上表面的距离变小的锥形面。
从处理室5侧看到的被固定部18A3的形状是与电介体罩12的十字形状开口部的形状相等、或者比其稍小一些的形状。被固定部18A3的一部分被插入到电介体罩12的十字形状开口部内。该被固定部18A3的一部分被配置在被支承部12A 1的侧端12A1b、被支承部12B1的侧端12B1b、第3支承部的侧端及第4支承部的侧端的侧方。
被固定部18A3以其与作为支承构件的支承梁16之间的位置关系不发生变化的方式被固定。具体地讲,被固定部18A3如下这样固定于支承梁16。首先,被固定部18A3的上表面抵接于支承梁16的下表面。电介体罩固定器具18A还包括用于将被固定部18A3固定于支承梁16的多个螺钉。该螺钉的数量例如图4所示地为8个。图6表示其中2个螺钉19A1、19A2。在图6所示的例子中,螺钉19A1、19A2的头部被配置在被固定部18A3的下方,螺钉19A1、19A2的杆部贯穿被固定部18A3而与支承梁16相结合。除螺钉19A1、19A2之外的螺钉也与螺钉19A1、19A2相同。
图7是表示电介体罩固定器具18A的固定方法的另一例子的剖视图。在该例子中,螺钉19A1、19A2的头部被配置在支承梁16的上方,螺钉19A1、19A2的杆部贯穿支承梁16而与被固定部18A3相结合。除螺钉19A1、19A2之外的螺钉也与螺钉19A1、19A2相同。
通过将被固定部18A3固定于支承梁16,第1支承部18A1在其与支承梁16和第1部分壁6A中的至少一个之间夹着被支承部12A1来支承被支承部12A1,第2支承部18A2在其与支承梁16和第2部分壁6B中的至少一个之间夹着被支承部12B1来支承被支承部12B1。同样,第3支承部在其与支承梁16和第3部分壁6C中的至少一个之间夹着第3部分罩12C的被支承部来支承第3部分罩12C的被支承部,第4支承部在其与支承梁16和第4部分壁6D中的至少一个之间夹着第4部分罩12D的被支承部来支承第4部分罩12D的被支承部。
电介体罩固定器具18B1~18B4分别包括1个支承部和1个被固定部。电介体罩固定器具18B1~18B4的各支承部的形状与电介体罩固定器具18A的各支承部的形状相同。电介体罩固定器具18B1~18B4分别被配置在处于与支承部相对应的位置的电介体罩12的被支承部的下侧。电介体罩固定器具18B1~18B4的各被固定部使用多个螺钉(例如图4所示那样为2个螺钉)固定于作为支承构件的支承架7。由此,电介体罩固定器具18B1~18B4的各支承部分别在其与支承架7和电介体壁6中的至少一个之间夹着处于与支承部相对应的位置的电介体罩12的被支承部来支承电介体罩12的被支承部。
如图4所示,第1部分罩12A被电介体罩固定器具18A、18B1、18B3固定。第2部分罩12B被电介体罩固定器具18A、18B2、18B3固定。第3部分罩12C被电介体罩固定器具18A、18B1、18B4固定。第4部分罩12D被电介体罩固定器具18A、18B2、18B4固定。
像以上说明的那样,本实施方式的电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4均包括支承部(例如图6中的18A1、18A2)和被固定部(例如图6中的18A3);上述支承部与后述的被支承部(例如图6中的12A1、12B1)的下表面抵接,在上述支承部与支承构件(支承梁16、支承架7)和电介体壁6中的至少一个之间夹着被支承部地支承被支承部,上述被支承部是电介体罩12的一部分,具有下表面以及与该下表面连续的侧端;上述被固定部连接于该支承部,其一部分被配置在被支承部的侧端的侧方,以其与支承构件的位置关系不发生变化的方式被固定。
电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4的各支承部与支承构件和电介体壁6中的至少一个起到在它们之间夹着对应的电介体罩12的被支承部而固定电介体罩12的夹具的作用。
采用本实施方式,不在电介体罩12上形成用于供螺钉的杆部贯穿的多个通孔就能够固定电介体罩12。因此,采用本实施方式,能够防止在电介体罩12上形成了多个通孔的情况下、因对通孔附近部分施加过度的应力而导致电介体罩12破损。
另外,在本实施方式中,通过电介体罩固定器具的支承部的上表面抵接于电介体罩12的被支承部的下表面,能够支承并固定电介体罩12。因此,采用本实施方式,在电介体罩12中难以产生局部的应力集中。从这方面来看,采用本实施方式,也可防止电介体罩12的破损。
在本实施方式中,不是使用多个螺钉而将电介体罩12直接固定于支承构件,而是使用多个螺钉将电介体罩固定器具的被固定部固定于支承构件。采用本实施方式,与使用多个螺钉将电介体罩12直接固定于支承构件的情况相比,能够减少使用的螺钉根数。与图8所示的比较例进行比较并进行说明。
图8是表示比较例的电介体罩的仰视图。在图8中,圆标记表示螺钉。在比较例中,电介体罩222与本实施方式的电介体罩12同样地具有被分割而成的4个部分罩222A、222B、222C、222D。这4个部分罩222A~222D分别被12个螺钉直接固定于支承构件。因而,整个电介体罩222被48个螺钉固定于支承构件。这样,在比较例中,由于电介体罩222被许多个螺钉固定,因此,更换或者清洗电介体罩222时电介体罩222的装卸作业性较差。
相对于此,在本实施方式中,如图4所示,电介体罩12利用被总计16个螺钉固定的5个电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4间接地固定于支承构件。因此,采用本实施方式,与图8所示的比较例相比,能够大幅度减少使用的螺钉根数,结果,能够容易地装卸电介体罩12。
另外,采用本实施方式,如图6所示,即使在以螺钉的头部露出到处理室5内的方式固定电介体罩固定器具的被固定部的情况下,与图8所示的比较例相比,螺钉根数也大幅度减少,因此,露出到处理室5内的螺钉头部的数量也大幅度减少。因此,采用本实施方式,能够抑制附着于螺钉头部的副生成物从螺钉的头部剥落而产生微粒、或者螺钉头部被等离子体消耗而产生微粒。另外,在本实施方式中,如图7所示,在以螺钉的头部不露出到处理室5内的方式固定电介体罩固定器具的被固定部的情况下,完全不会因螺钉的头部而产生微粒。
但是,在电介体罩固定器具的支承部的厚度在任意部位都恒定的情况下,在支承部的下表面与侧面之间形成有露出到处理室5内的直角的角部。副生成物易于附着在该角部上。因此,在这种情况下,易于因角部而产生微粒。相对于此,在本实施方式中,电介体罩固定器具的支承部的下表面成为随着远离被支承部而与支承部上表面的距离变小的锥形面。在这种情况下,与支承部的厚度在任意部位都恒定的情况相比,露出到处理室5内的支承部的面接近平滑的面。因此,采用本实施方式,能够抑制因电介体罩固定器具的支承部而产生微粒。
变形例
下面,对本实施方式的电介体罩和电介体罩固定器具的第1~第6变形例进行说明。图9是表示第1变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的剖视图。图9表示与图7相对应的截面。第1变形例的电介体罩12替代图7中的第1部分罩12A、第2部分罩12B而具有图9所示的第1部分罩32A、第2部分罩32B。
第1部分罩32A具有被支承部32A1。被支承部32A1具有下表面32A1a以及与该下表面32A1a连续的侧端32A1b。被支承部32A1的下表面是第1部分罩32A的下表面的一部分,在第1部分罩32A的下表面,以被支承部32A1的下表面位于除被支承部32A1之外的部分的下表面上方的方式形成有台阶部。
同样,第2部分罩32B具有被支承部32B1。被支承部32B1具有下表面32B1a以及与该下表面32B1a连续的侧端32B1b。
第1变形例的电介体罩固定器具38A用于替代图7所示的电介体罩固定器具18A。电介体罩固定器具38A具有第1支承部38A1、第2支承部38A2、被固定部38A3、未图示的第3和第4支承部。
第1支承部38A1被配置在第1部分罩32A的下表面上的上述台阶部,第1支承部38A1的上表面抵接于被支承部32A1的下表面32A1a。第1支承部38A1具有与上述台阶部的台阶相等的厚度。因此,在第1支承部38A1的下表面与第1部分罩32A上的除被支承部32A1之外的部分的下表面之间没有台阶。
同样,第2支承部38A2被配置在第2部分罩32B的下表面上的上述台阶部,第2支承部38A2的上表面抵接于被支承部32B1的下表面32B1a。
被固定部38A3与图7中的被固定部18A3同样地被包括螺钉19A1、19A2在内的8个螺钉固定于支承梁16。
虽未图示,但在第1变形例中,电介体罩固定器具38A的第3和第4支承部与它们所对应的被支承部之间的关系以及其他电介体罩固定器具的支承部与它们所对应的被支承部之间的关系,同上述支承部38A1和被支承部32A1之间的关系相同。
采用第1变形例,在电介体罩固定器具的支承部的下表面与电介体罩12的除被支承部之外的部分的下表面之间不产生台阶。因此,能够抑制因电介体罩固定器具的支承部而产生微粒。第1变形例中的电介体罩固定器具的其他构造、作用及效果与图7所示的电介体罩固定器具相同。
图10是与图4对应的图,是表示第2变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的仰视图。第2变形例的电介体罩固定器具48B1、48B2、48B3、48B4、48B5、48B6、48B7、48B8、48C1、48C2、48C3、48C4用于替代图4所示的电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。
电介体罩固定器具48B1、48B5在其与支承架7之间夹着第1部分罩12A的2边来支承第1部分罩12A。电介体罩固定器具48B2、48B7在其与支承架7之间夹着第3部分罩12C的2边来支承第3部分罩12C。电介体罩固定器具48B3、48B6在其与支承架7之间夹着第2部分罩12B的2边来支承第2部分罩12B。电介体罩固定器具48B4、48B8在其与支承架7之间夹着第4部分罩12D的2边来支承第4部分罩12D。
电介体罩固定器具48C1沿着第1部分罩12A与第3部分罩12C之间的边界配置,用于支承部分罩12A、12C的一边。电介体罩固定器具48C2沿着第2部分罩12B与第4部分罩12D之间的边界配置,用于支承部分罩12B、12D的一边。电介体罩固定器具48C3沿着第1部分罩12A与第2部分罩12B之间的边界配置,用于支承部分罩12A、12B的一边。电介体罩固定器具48C4沿着第3部分罩12C与第4部分罩12D之间的边界配置,用于支承部分罩12C、12D的一边。
虽未图示,但电介体罩固定器具48B1~48B8固定于支承架7,电介体罩固定器具48C1~48C4固定于支承梁16。也可以在电介体罩固定器具48C1~48C4上形成有与支承梁16的开口部相对应的开口部。
第1部分罩12A被电介体罩固定器具48B1、48B5、48C1、48C3固定。第2部分罩12B被电介体罩固定器具48B3、48B6、48C2、48C3固定。第3部分罩12C被电介体罩固定器具48B2、48B7、48C1、48C4固定。第4部分罩12D被电介体罩固定器具48B4、48B8、48C2、48C4固定。
第2变形例的电介体罩固定器具的其他构造、作用及效果与图6或图7所示的电介体罩固定器具相同。
图11是与图4对应的图,是表示第3变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的仰视图。第3变形例的电介体罩固定器具58A、58B1、58B2、58B3、58B4、58B5、58B6、58B7、58B8、58C1、58C2、58C3、58C4、58D1、58D2、58D3、58D4、58E1、58E2、58E3、58E4用于替代图4所示的电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。
从处理室5侧看到的电介体罩固定器具58A的形状为十字形状。从处理室5侧看到的电介体罩固定器具58B1~58B8、58C1~58C4的形状均为长方形。从处理室5侧看到的电介体罩固定器具58D1~58D4的形状均为L字形状。从处理室5侧看到的电介体罩固定器具58E1~58E4的形状均为T字形状。
电介体罩固定器具58A以覆盖电介体罩12的中央部的十字形状开口部的方式配置。另外,也可以在电介体罩固定器具58A上形成与支承梁16的开口部相对应的开口部。
电介体罩固定器具58B1~58B8、58C1~58C4分别配置在与图10所示的电介体罩固定器具48B1~48B8、48C1~48C4相同的位置,对电介体罩12的下表面的一部分进行支承。
电介体罩固定器具58D1以将电介体罩固定器具58B1、58B5连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58D2以将电介体罩固定器具58B3、58B6连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58D3以将电介体罩固定器具58B2、58B7连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58D4以将电介体罩固定器具58B4、58B8连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58D1~58D4分别对电介体罩12的下表面的一部分进行支承。
电介体罩固定器具58E1以将电介体罩固定器具58B1、58B2、58C1连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58E2以将电介体罩固定器具58B3、58B4、58C2连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58E3以将电介体罩固定器具58B5、58B6、58C3连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58E4以将电介体罩固定器具58B7、58B8、58C4连结起来的方式配置。电介体罩固定器具58E1~58E4分别对电介体罩12的下表面的一部分进行支承。
虽未图示,但电介体罩固定器具58A、58C1~58C4被固定于支承梁16,电介体罩固定器具58B1~58B8、58D1~58D4被固定于支承架7、电介体罩固定器具58E1~58E4被固定于支承架7和支承梁16。也可以在电介体罩固定器具58C1~58C4上形成有与支承梁16的开口部相对应的开口部。
在第3变形例中,在水平方向上相邻地配置的2个电介体罩固定器具相连接。各电介体罩固定器具包括在2个电介体罩固定器具在水平方向上相邻地配置时、2个电介体罩固定器具的侧部相互啮合的形状的侧部。
图12表示电介体罩固定器具58A、58C2的互相啮合的侧部的形状的一个例子。图12表示图11中的12-12所示的位置上的2个电介体罩固定器具的截面。在该例子中,电介体罩固定器具58A、58C2的各自侧部分别具有上下相邻的凸部和凹部。在电介体罩固定器具58A和电介体罩固定器具58C2中,凸部与凹部的位置关系互相相反。于是,电介体罩固定器具58A的凸部进入到电介体罩固定器具58C2的凹部,电介体罩固定器具58C2的凸部进入到电介体罩固定器具58A的凹部,从而电介体罩固定器具58A、58C2的侧部相互啮合。
图13表示电介体罩固定器具58A、58C2的互相啮合的侧部形状的另一例子。在该例子中,与图12所示的例子同样,电介体罩固定器具58A、58C2的各自侧部分别具有上下相邻的凸部和凹部。在该例子中,电介体罩固定器具58C2的凸部包括在水平方向上相邻的凸部分和凹部分,电介体罩固定器具58A的凹部包括与电介体罩固定器具58C2的凸部中的凸部分和凹部分相啮合的凹部分和凸部分。
在第3变形例中,其他相邻的2个电介体罩固定器具的连接部分的构造也与图12或图13相同。
在第3变形例中,从处理室5侧来看,电介体罩12的下表面的整个外缘和相邻的2个部分罩的下表面相互间的整个边界被多个电介体罩固定器具覆盖。因此,采用该第3变形例,从处理室5侧来看,能够完全覆盖在电介体罩12的外周部与支承架7之间产生的间隙、在相邻的2个部分罩之间产生的间隙。由此,能够抑制等离子体进入到上述间隙。结果,能够抑制由于等离子体进入到上述间隙而支承梁16、支承架7产生损伤、异常放电。特别是,各电介体罩固定器具包括在2个电介体罩固定器具在水平方向上相邻地配置时、2个电介体罩固定器具的侧部相互啮合的形状的侧部,因此,能够显著地发挥该效果。
第3变形例的电介体罩固定器具的其他构造、作用及效果与图6或图7所示的电介体罩固定器具相同。
图14是与图4对应的图,是表示第4变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的仰视图。第4变形例的电介体罩72替代图4所示的电介体罩12。电介体罩72未被分割成4个。
第4变形例的电介体罩固定器具78B1、78B2、78B3、78B4用于替代图4所示的电介体罩固定器具18A、18B1、18B2、18B3、18B4。电介体罩固定器具78B1、78B2、78B3、78B4分别沿着电介体罩72下表面的各边的中央部分配置,用于支承电介体罩72的各边。从处理室5侧看到的电介体罩固定器具78B1、78B2、78B3、78B4的形状均为长方形。
第4变形例的电介体罩固定器具的其他构造、作用及效果与图6或图7所示的电介体罩固定器具相同。
图15是表示第5变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的剖视图。图15表示与图6或图7相对应的截面(其中,螺钉19A1、19A2省略图示)。在第5变形例中,支承梁16A的形状与图6或图7中的支承梁16不同。具体地讲,支承梁16A在其下端具有凸部16A1。
电介体罩固定器具79A用于替代图6或图7所示的电介体罩固定器具18A。电介体罩固定器具79A具有支承第1部分罩12A的一部分的第1支承部79A1、支承第2部分罩12B的一部分的第2支承部79A2、被固定部79A3、未图示的第3和第4支承部。第1和第2支承部79A1、79A2连接于被固定部79A3,并且,被配置成自被固定部79A3向侧方延伸。第3和第4支承部也与第1和第2支承部79A1、79A2相同。在第5变形例中,按照支承梁16A的凸部16A1的形状而使被固定部79A3的厚度(高度)形成得小于图6或图7所示的电介体罩固定器具的厚度(高度)。
电介体罩12的第1部分罩12A和第2部分罩12B是与图6或图7相同的构造,具有被支承部12A1、12B1。未图示的第3和第4部分罩12C、12D也分别具有与上述相同的被支承部。
第1支承部79A1具有下表面以及与被支承部12A1的下表面12A1a抵接的上表面。第2支承部79A2具有下表面以及与被支承部12B1的下表面12B1a抵接的上表面。同样,第3支承部具有下表面以及与第3部分罩12C的被支承部的下表面抵接的上表面,第4支承部具有下表面以及与第4部分罩12D的被支承部的下表面抵接的上表面。第1~第4支承部的各下表面成为随着远离被固定部79A3而与各支承部的上表面的距离变小的锥形面。
如第5变形例所示,本发明的电介体罩固定器具能够根据作为支承构件的支承梁16、支承架7的形状而形成为各种形状。
第5变形例的电介体罩固定器具的其他构造、作用及效果与图6或图7所示的电介体罩固定器具相同。
图16是与图4对应的图,是表示第6变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的仰视图。图17是表示第6变形例的电介体罩和电介体罩固定器具的剖视图。第6变形例的电介体罩80用于替代图4所示的电介体罩12。电介体罩80与电介体壁6同样地被分割成4个部分。即,如图16所示,电介体罩80具有第1部分罩80A、第2部分罩80B、第3部分罩80C及第1部分罩80D。第1~第4部分罩80A、80B、80C、80D分别对电介体壁6的第1~第4部分壁6A、6B、6C、6D的下表面进行覆盖。另外,电介体罩80也可以不被分割成4个部分。
在图16中,第1部分罩80A被配置在整个电介体罩80的配置区域中的左上区域,第2部分罩80B被配置在整个电介体罩80的配置区域中的右上区域,第3部分罩80C被配置在整个电介体罩80的配置区域中的左下区域,第4部分罩80D被配置在整个电介体罩80的配置区域中的右下区域。
在电介体罩80的中央部,在第1~第4部分罩80A、80B、80C、80D上分别形成有在将它们合在一起时成为圆形的开口部的弧形的缺口部80Aa、80Ba、80Ca、80Da。
从处理室5侧看到的电介体罩固定器具81A的形状是比在电介体罩80的中央部由缺口部80Aa、80Ba、80Ca、80Da形成的圆形的开口部稍大的圆形形状。而且,电介体罩固定器具81A被配置成覆盖电介体罩80的圆形的开口部。
从处理室5侧看到的电介体罩固定器具81B1~81B4电介体罩固定器具81B1在其与支承架7之间夹着第1和第3部分罩80A、80C的各自一边来支承第1和第3部分罩80A、80C。另外,电介体罩固定器具81B2在其与支承架7之间夹着第2和第4部分罩80B、80D的各自一边来支承第2和第4部分罩80B、80D。另外,电介体罩固定器具81B3在其与支承架7之间夹着第1和第2部分罩80A、80B的各自一边来支承第1和第2部分罩80A、80B。另外,电介体罩固定器具81B4在其与支承架7之间夹着第3和第4部分罩80C、80D的各自一边来支承第3和第4部分罩80C、80D。
电介体罩固定器具81A、81B1、81B2、81B3、81B4均包括1个以上支承部和1个被固定部。支承部是被配置在作为电介体罩80的一部分的被支承部的下侧并用于支承该被支承部的部分。电介体罩80具有与电介体罩固定器具81A、81B1、81B2、81B3、81B4所包括的所有支承部相对应的被支承部。
接着,详细说明电介体罩固定器具81A的构造和作用。如图17所示,电介体罩固定器具81A包括被固定部81A3以及对第1部分罩80A和第2部分罩80B的一部分进行支承的支承部81A1。虽未图示,但电介体罩固定器具81A的支承部81A1呈环状,也对第3部分罩80C的一部分和第4部分罩80D的一部分进行支承。支承部81A1连接于被固定部81A3,并且,被配置成围着被固定部81A3并向被固定部81A3的侧方延伸。
另一方面,第1部分罩80A具有被支承部80A1。被支承部80A1具有下表面80A1a以及与该下表面80A1a连续的侧端80A1b。侧端80A1b也是缺口部80Aa的端缘。被支承部80A1的上表面与支承梁16B和第1部分壁6A中的至少一个的下表面抵接。在图17所示的例子中,被支承部80A1的上表面与支承梁16B和第1部分壁6A这两者的下表面抵接,但被支承部80A1的上表面也可以抵接于支承梁16B和第1部分壁6A中的仅一个的下表面。同样,第2部分罩80B具有被支承部80B1。被支承部80B1具有下表面80B1a以及与该下表面80B1a连续的侧端80B1b。被支承部80B1的上表面与支承梁16B和第2部分壁6B中的至少一个的下表面抵接。在图17所示的例子中,被支承部80B1的上表面与支承梁16B和第2部分壁6B这两者的下表面抵接,但被支承部80B1的上表面也可以抵接于支承梁16B和第2部分壁6B中的仅一个的下表面。
第3和第4部分罩80C、80D也分别具有与上述第1部分罩80A和第2部分罩80B的被支承部80A1、80B1同样的被支承部。
电介体罩固定器具81A的支承部81A1具有下表面以及与被支承部80A1的下表面80A1a抵接的上表面。支承部81A1的下表面成为随着远离被固定部81A3(即,随着朝向支承部81A1的周缘部)而与支承部81A1的上表面的距离变小的锥形面。从处理室5看到的被固定部81A3的形状是比电介体罩80的圆形开口部的形状稍小的圆形形状。被固定部81A3的一部分被插入到电介体罩80的圆形开口部内。该被固定部81A3的一部分被配置在被支承部80A1的侧端80A1b、被支承部80B1的侧端80B1b、第3支承部的侧端及第4支承部的侧端的侧方。
电介体罩固定器具81A的被固定部81A3以其与作为支承构件的支承梁16B的位置关系不发生变化的方式被固定。具体地讲,被固定部81A3如下所述那样固定于支承梁16B。首先,支承梁16B具有凹部16B1,在该凹部16B1的内周形成有螺纹槽(或者螺纹牙)16B2。另外,被固定部81A3的上部具有突出成圆柱状的凸部81A3a,在该凸部81A3a的外周形成有螺纹牙(或者螺纹槽)81A3b。于是,电介体罩固定器具81A通过将被固定部81A3的凸部81A3a拧入支承梁16B的凹部16B1中而固定于支承梁16B。这样,第6变形例的电介体罩固定器具81A不采用螺钉等另外构件的固定部件就能够固定于支承梁16B,因此,能够削减零件件数,并且也能够解决自露出到等离子体的螺钉的头部产生微粒这样的问题。
第6变形例的电介体罩固定器具81A的其他构造、作用及效果与图6或图7所示的电介体罩固定器具相同。
接着,参照图18~20说明本实施方式的电介体罩固定器具的固定方法的又一例子。在此,以图6或图7所示的电介体罩固定器具18A为例进行说明,但以下说明的固定方法也能够适用于上述变形例中列举的其他电介体罩固定器具。
图18表示电介体罩固定器具18A的固定方法的一个例子。在该例子中,中间构件201a、201b分别介于电介体罩固定器具18A的第1支承部18A1与第1部分罩12A的被支承部12A1之间、以及电介体罩固定器具18A的第2支承部18A2与第2部分罩12B的被支承部12B1之间。即,电介体罩固定器具18A夹着中间构件201a、201b而间接地对电介体罩12(第1部分罩12A、第2部分罩12B)进行固定。电介体罩固定器具18A例如与图6或图7同样地采用螺钉19A1、19A2(在此省略图示)来固定。中间构件201a被第1支承部18A1和被支承部12A1夹持,中间构件201b被夹持在第2支承部18A2与被支承部12B1之间。在未图示的第3部分罩12C与第3支承部之间、第4部分罩12D与第4支承部之间也分别具有与上述相同的中间构件,但这些中间构件也可以是一体件。
图19表示电介体罩固定器具18A的固定方法的又一例子。在该例子中,中间构件202介于电介体罩固定器具18A的被固定部18A3与支承梁16之间。即,支承梁16夹着中间构件202而间接地将电介体罩12(第1部分罩12A、第2部分罩12B)夹在支承梁16与电介体罩固定器具18A之间。电介体罩固定器具18A例如与图6或图7同样地采用螺钉19A1、19A2(在此省略图示)来固定。中间构件202的上表面与支承梁16的下端接触。中间构件202的下表面与第1部分罩12A的被支承部12A1的上表面、第2部分罩12B的被支承部12B1的上表面及电介体罩固定器具18A的被固定部18A3的上表面接触。
图20表示电介体罩固定器具18A的固定方法的再一例子。在该例子中,中间构件203a、203b分别介于电介体罩固定器具18A(被固定部18A3和第1支承部18A1)与第1部分罩32A的被支承部32A1之间、以及电介体罩固定器具18A(被固定部18A3和第2支承部18A2)与第2部分罩32B的被支承部32B1之间。即,电介体罩固定器具18A夹着中间构件203a、203b而间接地对电介体罩12(第1部分罩32A、第2部分罩32B)进行固定。
第1部分罩32A和第2部分罩32B具有与上述第1变形例(图9)相同的形状。即,第1部分罩32A具有被支承部32A1,该被支承部32A1具有下表面32A1a以及与该下表面32A1a连续的侧端32A1b。被支承部32A1的下表面是第1部分罩32A的下表面的一部分,在第1部分罩32A的下表面,以被支承部32A1的下表面位于除被支承部32A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部。中间构件203a形成与该台阶部啮合的形状。
同样,第2部分罩32B具有被支承部32B1,被支承部32B1具有下表面32B1a以及与该下表面32B1a连续的侧端32B1b。被支承部32B1的下表面是第2部分罩32B的下表面的一部分,在第2部分罩32B的下表面,以被支承部32B1的下表面位于除被支承部32B1之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部。中间构件203b形成与该台阶部啮合的形状。
电介体罩固定器具18A例如与图6或图7同样地采用螺钉19A1、19A2(在此省略图示)来固定。中间构件203a被第1支承部18A1和被支承部32A1夹持,中间构件203b被夹持在第2支承部18A2和被支承部32B1之间。
在未图示的第3部分罩与第3支承部之间、第4部分罩与第4支承部之间也分别具有与上述相同的中间构件,但这些中间构件也可以是一体件。
图18、19、20所示的中间构件201a、201b、202、203a、203b例如能够由具有抗等离子性的陶瓷等材质构成。通过插入中间构件201a、201b、202、203a、203b,即使电介体罩12的尺寸变化,也不会改变电介体罩固定器具18A自身的尺寸、形状,能够利用电介体罩固定器具18A可靠地固定。例如,即使在作为第1部分罩(12A、32A)和第2部分罩(12B、32B)而采用其厚度较薄、面方向上的长度比图6、图7短的材料的情况下,通过插入中间构件201a、201b、202、203a、203b,也能够不在第1部分罩(12A、32A)、第2部分罩(12B、32B)与电介体罩固定器具18A之间产生间隙、游隙地进行固定。
另外,中间构件201a、201b、202、203a、203b例如也可以由氟树脂、硅胶等弹性材料构成。在这种情况下,即使电介体罩12因热量而产生伸缩、应变等变形,也能够吸收该变形,因此,能够防止电介体罩12的破损,并且,不会产生间隙、游隙,能够可靠地维持由电介体罩固定器具18A固定电介体罩12的状态。
如上所述,通过插入中间构件,能够利用电介体罩固定器具18A可靠地固定电介体罩12,因此,也能够防止在处理室5中产生的等离子体自电介体罩12的固定部位进入而对支承梁16造成损伤、或者发生异常放电。图18、19、20所示的电介体罩固定器具的其他构造、作用及效果与图6或图7所示的电介体罩固定器具相同。
第2实施方式
接着,参照图21和图22说明作为本发明的第2实施方式的“罩固定装置”的电介体罩固定装置。图21是表示本实施方式的电介体罩固定装置的剖视图。图22是表示图21所示的电介体罩固定装置的另一状态的剖视图。
本实施方式的电感耦合等离子处理装置替代第1实施方式的支承梁16而具有支承梁86,替代第1实施方式的电介体罩12而具有电介体罩82,替代第1实施方式的电介体罩固定器具18A而具有作为“罩固定装置”的电介体罩固定装置87A。另外,以下详细说明电介体罩固定装置87A,但在本实施方式中,替代第1实施方式中的除电介体罩固定器具18A之外的电介体罩固定器具,而设有与电介体罩固定装置87A相同的电介体罩固定装置。
在支承梁86上形成有从上表面贯穿到下表面的1个通孔。通孔包括从支承梁86的上表面到下表面按顺序配置的内周部86a、86b、86c、86d。内周部86a、86c的内径大致相等。内周部86b、86d的内径大致相等且大于内周部86a、86c的内径。在相邻的2个内周部的边界位置形成有将2个内周部连结起来的环状的台阶形成面。
电介体罩82与第1实施方式的电介体罩12同样地被分割成4个部分。即,电介体罩82具有第1部分罩82A、第2部分罩82B、未图示的第3和第4部分罩。
第1部分罩82A具有被支承部82A1。被支承部82A1具有下表面以及与该下表面连续的侧端。被支承部82A1的下表面是第1部分罩82A的下表面的一部分,在第1部分罩82A的下表面,以被支承部82A1的下表面位于除被支承部82A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部。同样,第2部分罩82B具有被支承部82B1。
电介体罩固定装置87A包括电介体罩固定器具88A和固定机构90。电介体罩固定器具88A与图9所示的电介体罩固定器具38A同样地具有第1支承部88A1、第2支承部88A2、被固定部88A3、未图示的第3和第4支承部。
第1支承部88A1被配置在第1部分罩82A的下表面上的上述台阶部,第1支承部88A1的上表面抵接于被支承部82A1的下表面。第1支承部88A1具有与上述台阶部的台阶相等的厚度。因此,在第1支承部88A1的下表面与第1部分罩82A中的除被支承部82A1之外的部分的下表面之间没有台阶。同样,第2支承部88A2的上表面抵接于被支承部82B1的下表面。
第3支承部与第3部分罩的被支承部之间的关系以及第4支承部与第4部分罩的被支承部之间的关系同上述第1支承部88A1与第1部分罩82A的被支承部82A1之间的关系相同。被固定部88A3的一部分被配置在第1~第4部分罩的被支承部的侧端的侧方。
电介体罩固定器具88A的各支承部分别在其与支承梁86和电介体壁6中的至少一个之间夹着位于与支承部相对应的位置的电介体罩82的被支承部来支承电介体罩82的被支承部。另外,图21和图22表示电介体罩固定器具88A的支承部88A1、88A2分别在其与支承梁86之间夹着被支承部82A1、82B1来支承被支承部82A1、82B1的例子。但是,支承部88A1、88A2也可以分别在其与电介体壁6之间或者与支承梁86和电介体壁6这两者之间夹着被支承部82A1、82B1来支承被支承部82A1、82B1。
另外,被固定部88A3具有配置在电介体罩82的上表面的上方的钩89。钩89被收容在内周部86d内。钩89形成其上端附近的一部分的内径小于其他部分的内径的大致圆筒形状。钩89的上端附近的一部分成为后述的卡合构件94的一部分所卡合的卡合部。
固定机构90是以使电介体罩固定器具88A的被固定部88A3与支承梁86的位置关系不发生变化的方式将电介体罩固定器具88A的被固定部88A3固定的机构。在本实施方式中,特别是,固定机构90是使用气缸提起被固定部88A3的机构。
固定机构90具有构成气缸的杆91和缸体92。缸体92直接或借助其他构件固定于主体容器2。固定机构90还具有弹簧93和卡合构件94。固定机构90的一部分被插入到支承梁86的通孔内。
杆91包括收容在缸体92内的第1部分91a、自该第1部分91a朝向下方依次连接的第2部分91b、第3部分91c、第4部分91d、第5部分91e及第6部分91f。第1~第5部分91a~91e均具有圆柱形状。第6部分91f具有圆锥形状。
第2部分91b贯穿缸体92的底部,被插入到内周部86a。第2部分91b的外径小于第1部分91a的外径。第3部分91c被配置在内周部86c内。第3部分91c的外径大于第2部分91b的外径,且小于内周部86a、86c的内径。
第4部分91d被配置在内周部86b内。第4部分91d的外径小于第3部分91c的外径。第5部分91e被插入到内周部86c与钩89的卡合部内,其下端部位于卡合部的下方。第5部分91e的外径小于第4部分91d的外径。
第6部分91f被收容在钩89内。第6部分91f的底面直径大于第5部分91e的外径,且小于钩89的卡合部的内径。
在缸体92的内部,由缸体92的内壁和第1部分91a的上表面形成空间。在缸体92上连接有用于向上述空间供给空气、且自该空间排出空气的配管95。
弹簧93在内周部86d内被配置在杆91的第3部分91c与内周部86b、86c的边界中的台阶形成面之间。第4部分91d在弹簧93的内侧能够上下移动地配置。杆91被弹簧向上方施加作用力。
卡合构件94具有凸缘94a、连接于该凸缘94a下端的多个(例如3个)平板部94b、以及分别从各平板部94b的下端部突出到外侧的多个卡合部94c。在凸缘94a中形成有从上表面贯穿到下表面的1个通孔。在该通孔中插入有第5部分91e。凸缘94a的外径与内周部86c的内径大致相等。凸缘94a的向上方的移动被弹簧93或者支承梁86限制。平板部94b具有挠性。平板部94b的下端部与第6部分91f接触。
接着,说明本实施方式的电介体罩固定装置87A的作用。图21表示固定机构90未将电介体罩固定器具88A的被固定部88A3固定的状态,图22表示固定机构90对电介体罩固定器具88A的被固定部88A3进行固定的状态。
图21所示的状态是通过自配管95向缸体92的内部空间供给空气来实现的。在该状态下,杆91位于可动范围的下端。在该状态下,卡合构件94的多个平板部94b的下端部未展开,多个卡合部94c未卡合于钩89的卡合部。因而,在该状态下,电介体罩固定器具88A未固定于支承梁86,能够拆卸电介体罩固定器具88A和电介体罩82。
停止自配管95向缸体92的内部空间供给空气,自缸体92的内部空间排出空气时,转移到图22所示的状态。此时,杆91被弹簧93的作用力推向上方,卡合构件94的多个平板部94b的下端部利用第6部分91f向外侧展开。结果,多个卡合部94c卡合于钩89的卡合部,通过提起被固定部88A3,电介体罩固定器具88A以其与支承梁86的位置关系不发生变化的方式固定于支承梁86。由此,电介体罩82被电介体罩固定器具88A固定。
像以上说明的那样,在本实施方式中,通过由固定机构90提起电介体罩固定器具88A的被固定部88A3,将被固定部88A3以其与支承构件(支承梁86)的位置关系不发生变化的方式固定。因此,采用本实施方式,电介体罩固定器具88A和电介体罩82的装卸作业变得容易。
另外,在本实施方式中,固定机构90的杆91被弹簧93向上方施加作用力。因此,采用本实施方式,即使在电介体罩82的装卸作业中发生自缸体92漏气的故障的情况下,电介体罩固定器具88A和电介体罩82也不会落下。
本实施方式的其他构造、作用及效果与第1实施方式相同。
第3实施方式
接着,说明作为本发明的第3实施方式的“罩固定装置”的电介体罩固定装置。图23是表示本实施方式的电介体罩固定装置的剖视图。本实施方式的电感耦合等离子处理装置替代第2实施方式的支承梁86而具有支承梁96,替代第2实施方式的电介体罩82而具有电介体罩112,替代第2实施方式的电介体罩固定装置87A而具有电介体罩固定装置120。另外,以下详细说明电介体罩固定装置120,但在本实施方式中,替代第2实施方式中的除电介体罩固定装置87A之外的电介体罩固定装置,而设有与电介体罩固定装置120相同的电介体罩固定装置。
在支承梁96中形成有从上表面贯穿到下表面的1个通孔96a。电介体罩112与第1实施方式的电介体罩12同样地被分割成4个部分。即,电介体罩112具有第1部分罩112A、第2部分罩112B、未图示的第3及第4部分罩。
第1部分罩112A具有被支承部112A1。被支承部112A1具有下表面以及与该下表面连续的侧端。被支承部112A1的下表面是第1部分罩112A的下表面的一部分,在第1部分罩112A的下表面,以被支承部112A1的下表面位于除被支承部112A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部。同样,第2部分罩112B具有被支承部112B1。
电介体罩固定装置120包括作为电介体罩固定器具的杆121以及作为固定机构的缸体122。杆121和缸体122构成气缸。缸体122被配置在支承梁96的上方,直接或借助其他构件固定于主体容器2。杆121被插入到通孔96a中。
杆121具有上端部被收容在缸体122内的轴状的被固定部121a、分别自被固定部121a的下端部向侧方延伸的第1支承部121b1、第2支承部121b2、未图示的第3及第4支承部。
第1支承部121b1被配置在第1部分罩112A的下表面上的上述台阶部,第1支承部121b1的上表面抵接于被支承部112A1的下表面。第1支承部121b1具有与上述台阶部的台阶相等的厚度。因此,在第1支承部121b1的下表面与第1部分罩112A中的除被支承部112A1之外的部分的下表面之间没有台阶。同样,第2支承部121b2的上表面抵接于被支承部112B1的下表面。
第3支承部与第3部分罩的被支承部之间的关系以及第4支承部与第4部分罩的被支承部之间的关系同上述第1支承部121b1与第1部分罩112A的被支承部112A1之间的关系相同。被固定部121a的一部分被配置在第1~第4部分罩的被支承部的侧端的侧方。
上述各支承部分别在其与支承梁96和电介体壁6中的至少一个之间夹着位于与支承部相对应的位置的电介体罩112的被支承部来支承电介体罩112。另外,图23表示支承部121b1、121b2分别在其与支承梁96之间夹着被支承部112A1、112B1来支承被支承部112A1、112B1的例子。但是,支承部121b1、121b2也可以分别在其与电介体壁6之间或者与支承梁96和电介体壁6这两者之间夹着被支承部112A1、112B1来支承被支承部112A1、112B1。
在缸体122上连接有配管123、124。在自配管124向缸体122内供给空气、自配管123排气时,杆121移动到可动范围的上端。相反,在自配管123向缸体122内供给空气、自配管124排气时,杆121移动到可动范围的下端。
在本实施方式的电介体罩固定装置120中,使杆121移动到可动范围的上端时,通过提起被固定部121a,支承部121b1、121b2的上表面分别抵接于被支承部112A1、112B1的下表面。由此,作为电介体罩固定器具的杆121以其与支承梁96的位置关系不发生变化的方式固定于支承梁96。由此,电介体罩112被杆121固定。
另外,在使杆121移动到可动范围的下端时,支承部121b1、121b2的上表面分别远离被支承部112A1、112B1的下表面,解除电介体罩112的固定。
图24是表示本实施方式的变形例的电介体罩固定装置130的剖视图。该变形例的电介体罩固定装置130替代图23中的杆121和缸体122而包括作为电介体罩固定器具的齿条131以及作为固定机构的小齿轮132。齿条131包括:被插入到通孔96a中的轴状的被固定部131a;分别自被固定部131a的下端部向侧方延伸的第1支承部131b1、第2支承部131b2、未图示的第3及第4支承部。第1~第4支承部的形状和作用与图23所示的杆121的第1~第4支承部相同。小齿轮132被配置在支承梁96的上方,其直接或者借助其他构件能够相对于主体容器2旋转地安装在主体容器2上。被固定部131a的一部分被配置在支承梁96的上方,在该一部分的侧面形成有供小齿轮132啮合的齿131c。
在图24所示的变形例的电介体罩固定装置130中,通过使小齿轮132旋转而齿条131沿上下方向移动,由此,能够与图23所示的电介体罩固定装置120同样地解除电介体罩112的固定。
本实施方式的其他构造、作用及效果与第2实施方式相同。
第4实施方式
接着,说明作为本发明的第4实施方式的“罩固定装置”的电介体罩固定装置。图25是表示本实施方式的电介体罩固定装置的剖视图。本实施方式的电感耦合等离子处理装置替代第3实施方式的电介体罩固定装置120而具有电介体罩固定装置135。
电介体罩固定装置135包括电介体罩固定器具148以及固定机构140。电介体罩固定器具148具有轴状的被固定部148a、分别自被固定部148a的下端部向侧方延伸的第1支承部148b1、第2支承部148b2、未图示的第3及第4支承部。第1~第4支承部的形状和作用与图23所示的杆121的第1~第4支承部相同。被固定部148a被插入到通孔96a中。被固定部148a的一部分被配置在支承梁96的上方,在该一部分形成有沿水平方向贯穿的孔148c。电介体罩固定装置135还包括罩149,该罩149被安装在支承梁96上,用于对配置在支承梁96上方的被固定部148a的一部分进行覆盖。
固定机构140是对被固定部148a的上下方向的移动进行限制的机构。该固定机构140具有杆141和缸体142。杆141和缸体142构成气缸。缸体142例如被固定于电介体壁6。杆141沿水平方向配置,能够贯穿罩149而插入到孔148c中。
在缸体142上连接有配管143、144。在自配管144向缸体142内供给空气、自配管143排气时,杆141突出而插入到孔148c中。由此,被固定部148a的上下方向的移动被限制,电介体罩112被电介体罩固定器具148固定。相反,在自配管143向缸体142内供给空气、自配管144排气时,杆141自孔148c退出。由此,被固定部148a能够沿上下方向移动,解除电介体罩112的固定。
图26是表示本实施方式的变形例的电介体罩固定装置136的剖视图。该变形例的电介体罩固定装置136替代图25中固定机构140而具有固定机构150。固定机构150具有替代杆141的齿条151以及使该齿条151沿水平方向移动的小齿轮152。齿条151沿水平方向配置,能够贯穿罩149而插入到孔148c中。
在该变形例中,通过使小齿轮152旋转而齿条151沿水平方向移动,由此,能够与图25所示的电介体罩固定装置135同样地解除电介体罩112的固定。
本实施方式的其他构造、作用及效果与第3实施方式相同。
第5实施方式
接着,说明作为本发明的第5实施方式的“罩固定装置”的电介体罩固定装置。图27是表示本实施方式的电介体罩固定装置的剖视图。图28是表示图27中的电介体罩固定装置的一部分的立体图。
本实施方式的电感耦合等离子处理装置替代第2实施方式的支承梁86而具有支承梁186,替代第2实施方式的电介体罩82而具有电介体罩182,替代第2实施方式的电介体罩固定装置87A而具有电介体罩固定装置187A。
在支承梁186中形成有从上表面贯穿到下表面的1个通孔。通孔包括从支承梁86的上表面到下表面按顺序配置的内周部186a、186b。内周部186b的内径大于内周部186a的内径。
电介体罩182与第2实施方式的电介体罩82同样地被分割成4个部分。即,电介体罩182具有第1部分罩182A、第2部分罩182B、未图示的第3及第4部分罩。
第1部分罩182A具有被支承部182A1。被支承部182A1具有下表面以及与该下表面连续的侧端。被支承部182A1的下表面是第1部分罩182A的下表面的一部分,在第1部分罩182A的下表面,以被支承部182A1的下表面位于除被支承部182A1之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部。同样,第2部分罩182B具有被支承部182B1。
电介体罩固定装置187A包括电介体罩固定器具188A和固定机构190。电介体罩固定器具188A与第2实施方式的电介体罩固定器具88A同样地具有第1支承部188A1、第2支承部188A2、被固定部188A3、未图示的第3及第4支承部。第1~第4支承部的形状和作用与第2实施方式相同。
被固定部188A3具有配置在罩182上表面的上方的钩189。钩189被收容在内周部186b内。在钩189上,从其上表面到内部形成有俯视的形状为长方形的狭缝189a。在钩189的内部,在上述狭缝189a的下方还形成有与狭缝189a连续的空洞部189b。俯视的空洞部189b的形状是具有与狭缝189a的长度尺寸相等的直径的圆形。在狭缝189a与空洞部189b的边界位置形成有将狭缝189a和空洞部189b连结起来的台阶形成面。
固定机构190具有保持架191、电动机192、将电动机192的旋转轴与保持架191连结起来的连接器193。如图28所示,保持架191具有杆部191b、与该杆部191b的上端连接的圆板部191a、与杆部191b的下端连接的键部191c。圆板部191a被配置在支承梁186上表面的上方,连接于连接器193。杆部191b被插入到内周部186a和狭缝189a中。键部191c具有能够通过狭缝189a的尺寸的长方体形状。键部191c能够旋转地收容在空洞部189b内。另外,键部191c的上下方向尺寸与空洞部189b的上下方向尺寸大致相等。
在本实施方式的电介体罩固定装置187A中,使电动机192的旋转轴旋转时,保持架191的键部191c在空洞部189b内旋转。在使键部191c停止在除能够通过狭缝189a的位置之外的位置时,键部191c的上表面抵接于将狭缝189a和空洞部189b连结起来的台阶形成面而使电介体罩固定器具188A固定,由此,电介体罩182被电介体罩固定器具188A固定。
在使键部191c停止在能够通过狭缝189a的位置时,键部191c通过狭缝189a,从而,电介体罩固定器具188A能够移动到下方。由此,电介体罩182的固定被解除。
本实施方式的其他构造、作用及效果与第2实施方式相同。
第6实施方式
接着,说明作为本发明的第6实施方式的“罩固定装置”的电介体罩固定装置。图29是表示本实施方式的电介体罩固定装置的剖视图。本实施方式的电感耦合等离子处理装置替代第2实施方式的电介体罩82而具有电介体罩162,替代第2实施方式的电介体罩固定装置87A而具有电介体罩固定装置290。电介体罩162既可以被分割成多个部分,也可以不被分割。电介体罩固定装置290的构造与第2实施方式的固定机构90相同。因此,对电介体罩固定装置290的构成要件标注与固定机构90的构成要件相同的附图标记。
电介体罩162包括罩主体162A和钩162B,该罩主体162A具有上表面和下表面,用于构成电介体罩162的主要部分,该钩162B被安装在该罩主体162A的上表面。钩162B被收容在支承梁86的内周部86d内。钩162B形成其上端附近的一部分的内径小于其他部分的内径的大致圆筒形状。钩162B的上端附近的一部分成为供卡合构件94的多个卡合部94c卡合的卡合部162B1。卡合部162B1与本发明的电介体罩的被支承部相对应。因而,在本实施方式中,作为被支承部的卡合部162B1被配置在罩主体162A的上表面的上方。卡合部162B1具有下表面以及与该下表面连续的侧端(卡合部162B1的内周侧的端部)。
在电介体罩固定装置290中,杆91的第6部分91f和卡合构件94的卡合部94c被收容在钩162B内。卡合构件94与本发明的电介体罩固定器具相对应,除卡合构件94之外的电介体罩固定装置290的构成要件与提起作为电介体罩固定器具的卡合构件94的、本发明的固定机构相对应。另外,卡合部94c与本发明的支承部相对应,卡合构件94中的除卡合部94c之外的部分与本发明的被固定部相对应。作为支承部的卡合部94c被配置在作为被支承部的卡合部162B1的下表面与罩主体162A的上表面之间。构成被固定部的平板部94b的一部分被配置在卡合部162B1的侧端的侧方。
在本实施方式中,在自配管95向缸体92的内部空间供给空气时,杆91位于可动范围的下端。在该状态下,卡合构件94的多个平板部94b的下端部未展开,多个卡合部94c未卡合于钩162B的卡合部162B1。因而,在该状态下,作为电介体罩固定器具的卡合构件94未固定于支承梁86,能够拆卸电介体罩162。
停止自配管95向缸体92的内部空间供给空气、自缸体92的内部空间排出空气时,杆91被弹簧93的作用力推向上方,卡合构件94的多个平板部94b的下端部被第6部分91f向外侧展开。结果,多个卡合部94c卡合于钩162B的卡合部162B1,作为电介体罩固定器具的卡合构件94以其与支承梁86的位置关系不发生变化的方式固定于支承梁86。由此,电介体罩162以其与支承梁86的位置关系不发生变化的方式被固定。本实施方式的其他构造、作用及效果与第2实施方式相同。
第7实施方式
接着,说明作为本发明的第7实施方式的“罩固定装置”的电介体罩固定装置。图30是表示本实施方式的电介体罩固定装置的剖视图。本实施方式的电感耦合等离子处理装置替代第5实施方式的电介体罩182而具有电介体罩382,替代第5实施方式的电介体罩固定装置187A而具有电介体罩固定装置390。电介体罩382既可以被分割成多个部分,也可以不被分割。电介体罩固定装置390的构造与第5实施方式的固定机构190相同。因此,对电介体罩固定装置390的构成要件标注与固定机构190的构成要件相同的附图标记。
电介体罩382包括罩主体382A和钩382B,该罩主体382A具有上表面和下表面,用于构成电介体罩382的主要部分,该钩382B被安装在该罩主体382A的上表面。钩382B被收容在支承梁186的内周部186b内。钩382B形成其上端附近的一部分的内径小于其他部分的内径的大致圆筒形状。
钩382B的构造与第5实施方式的钩189相同。即,在钩382B中,从其上表面到内部形成有俯视的形状为长方形的狭缝382Ba。在钩382B的内部,在上述狭缝382Ba的下方还形成有与狭缝382Ba连续的空洞部382Bb。俯视的空洞部382Bb的形状是具有与狭缝382Ba的长度尺寸相等的直径的圆形。在狭缝382Ba与空洞部382Bb的边界位置形成有将狭缝382Ba和空洞部382Bb连结起来的台阶形成面。
另外,钩382B具有形成在狭缝382Ba的周边的被支承部382B1。因而,在本实施方式中,被支承部382B1被配置在罩主体382A的上表面的上方。被支承部382B1具有下表面以及与该下表面连续的侧端(狭缝382Ba的端部)。
在电介体罩固定装置390的保持架191中,杆部191b被插入到内周部186a和狭缝382Ba中。键部191c具有能够通过狭缝382Ba那样的尺寸的长方体形状。键部191c能够旋转地收容在空洞部382Bb内。另外,键部191c的上下方向尺寸与空洞部382Bb的上下方向尺寸大致相等。
保持架191与本发明的电介体罩固定器具相对应,除保持架191之外的电介体罩固定装置390的构成要件与本发明的固定机构相对应。保持架191的键部191c包括能够抵接于被支承部382B1的下表面的2个支承部191c1、191c2。保持架191中的、除支承部191c1、191c2之外的部分与本发明的被固定部相对应。支承部191c1、191c2被配置在被支承部382B1的下表面与罩主体382A的上表面之间。构成被固定部的杆部191b的一部分被配置在被支承部382B1的侧端的侧方。
在本实施方式的电介体罩固定装置390中,使电动机192的旋转轴旋转时,保持架191的键部191c在空洞部382Bb内旋转。在使键部191c停止在除能够通过狭缝382Ba的位置之外的位置时,支承部191c1、191c2的上表面抵接于被支承部382B1的下表面而电介体罩382被固定。
在使键部191c停止在能够通过狭缝382Ba的位置时,键部191c通过狭缝382Ba,从而,电介体罩382能够移动到下方。由此,解除电介体罩382的固定。
本实施方式的其他构造、作用及效果与第5实施方式相同。
另外,本发明并不限于上述各实施方式,能够进行各种变更。例如,在本发明中,对罩固定器具进行固定的部件并不限于各实施方式所示的部件。

Claims (11)

1.一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,该电感耦合等离子处理装置包括:处理室,其具有构成顶板部分的窗构件,用于进行等离子处理;高频天线,其被配置在上述窗构件的上方,用于在上述处理室内形成感应电场;支承构件,其用于支承上述窗构件;罩,用于覆盖上述窗构件的下表面,上述罩固定器具用于上述电感耦合等离子处理装置,用于固定上述罩,其特征在于,
包括:
支承部,其用于对具有作为上述罩的一部分的下表面的被支承部进行支承;
被固定部,其被固定于上述支承构件。
2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述电感耦合等离子处理装置的罩固定器具还具有用于将上述被固定部固定于上述支承构件的螺钉。
3.根据权利要求2所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述螺钉的头部被配置在上述支承构件的上方,上述螺钉的杆部贯穿上述支承构件而与上述被固定部相结合。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述支承部包括:抵接于上述被支承部的下表面的上表面;随着远离上述被固定部而与上述上表面的距离变小的下表面。
5.根据权利要求1~3中任一项所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述被支承部的下表面是上述罩的下表面的一部分,在上述罩的下表面,以上述被支承部的下表面位于除上述被支承部之外的部分的下表面的上方的方式形成有台阶部;
上述支承部被配置在上述罩的下表面上的上述台阶部。
6.根据权利要求5所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述支承部具有与上述台阶部的台阶相等的厚度。
7.根据权利要求1所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述电感耦合等离子处理装置的罩固定器具还包括如下形状的侧部:在2个罩固定器具沿水平方向相邻地配置时、2个罩固定器具的侧部相互啮合。
8.根据权利要求1所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定器具,其特征在于,
上述罩包括罩主体,该罩主体具有下表面和上表面,构成罩的主要部分,上述被支承部被配置在上述罩主体的上表面的上方;
上述支承部被配置在上述被支承部的下表面与上述罩主体的上表面之间。
9.一种电感耦合等离子处理装置的罩固定装置,该电感耦合等离子处理装置包括:处理室,其具有构成顶板部分的窗构件,用于进行等离子处理;高频天线,其被配置在上述窗构件的上方,用于在上述处理室内形成感应电场;支承构件,用于支承上述窗构件;罩,用于覆盖上述窗构件的下表面,上述罩固定装置用于上述电感耦合等离子处理装置,用于固定上述罩,其特征在于,
上述电感耦合等离子处理装置的罩固定装置包括:权利要求1或8所述的罩固定器具;将上述罩固定器具的上述被固定部固定于上述支承构件的固定机构。
10.根据权利要求9所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定装置,其特征在于,
上述固定机构是提起上述被固定部的机构。
11.根据权利要求9所述的电感耦合等离子处理装置的罩固定装置,其特征在于,
上述固定机构是对上述被固定部的上下方向的移动进行限制的机构。
CN201010141151.0A 2009-03-25 2010-03-25 电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置 Active CN101848596B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310390661.5A CN103533739B (zh) 2009-03-25 2010-03-25 电感耦合等离子处理装置的罩固定装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009073023 2009-03-25
JP2009-073023 2009-03-25
JP2010010711A JP5578865B2 (ja) 2009-03-25 2010-01-21 誘導結合プラズマ処理装置のカバー固定具およびカバー固定装置
JP2010-010711 2010-01-21

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310390661.5A Division CN103533739B (zh) 2009-03-25 2010-03-25 电感耦合等离子处理装置的罩固定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101848596A true CN101848596A (zh) 2010-09-29
CN101848596B CN101848596B (zh) 2015-12-02

Family

ID=42773005

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201010141151.0A Active CN101848596B (zh) 2009-03-25 2010-03-25 电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101155121B1 (zh)
CN (1) CN101848596B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103208410A (zh) * 2012-01-17 2013-07-17 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置
CN103590114A (zh) * 2012-08-17 2014-02-19 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种托盘紧固装置及等离子体加工设备
TWI703901B (zh) * 2015-07-22 2020-09-01 日商東京威力科創股份有限公司 電漿處理裝置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6228400B2 (ja) * 2013-07-16 2017-11-08 東京エレクトロン株式会社 誘導結合プラズマ処理装置
KR102071517B1 (ko) * 2018-05-30 2020-01-30 인베니아 주식회사 유도결합 플라즈마 처리장치
JP7446145B2 (ja) * 2020-04-07 2024-03-08 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
TW202203319A (zh) * 2020-06-24 2022-01-16 日商東京威力科創股份有限公司 基板處理裝置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5589737A (en) * 1994-12-06 1996-12-31 Lam Research Corporation Plasma processor for large workpieces
TW473775B (en) * 1999-05-13 2002-01-21 Tokyo Electron Ltd Inductively-coupled-plasma-processing apparatus
JP2004055895A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Tokyo Electron Ltd 誘導結合プラズマ処理装置
KR100745329B1 (ko) * 2005-12-16 2007-08-01 삼성에스디아이 주식회사 건식 식각 장치
CN101370350A (zh) * 2007-06-11 2009-02-18 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置、天线和等离子体处理装置的使用方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5589737A (en) * 1994-12-06 1996-12-31 Lam Research Corporation Plasma processor for large workpieces
TW473775B (en) * 1999-05-13 2002-01-21 Tokyo Electron Ltd Inductively-coupled-plasma-processing apparatus
JP2004055895A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Tokyo Electron Ltd 誘導結合プラズマ処理装置
KR100745329B1 (ko) * 2005-12-16 2007-08-01 삼성에스디아이 주식회사 건식 식각 장치
CN101370350A (zh) * 2007-06-11 2009-02-18 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置、天线和等离子体处理装置的使用方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103208410A (zh) * 2012-01-17 2013-07-17 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置
CN103208410B (zh) * 2012-01-17 2016-09-14 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置
TWI581302B (zh) * 2012-01-17 2017-05-01 Tokyo Electron Ltd Plasma processing device
CN103590114A (zh) * 2012-08-17 2014-02-19 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种托盘紧固装置及等离子体加工设备
CN103590114B (zh) * 2012-08-17 2016-08-31 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种托盘紧固装置及等离子体加工设备
TWI703901B (zh) * 2015-07-22 2020-09-01 日商東京威力科創股份有限公司 電漿處理裝置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100107389A (ko) 2010-10-05
KR101155121B1 (ko) 2012-06-11
CN101848596B (zh) 2015-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103533739A (zh) 电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置
CN101848596A (zh) 电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置
CN102196654B (zh) 罩固定工具及电感耦合等离子处理装置
US9123761B2 (en) Substrate transferring device
KR20130137544A (ko) 이음매 부재, 이음매, 기판 처리 장치 및 제한 부재
KR20100024174A (ko) 기판 세정 장치
KR100816392B1 (ko) 기판 이송장치
KR100757356B1 (ko) 화학 기상 증착장치
KR100892249B1 (ko) 플라즈마 반응장치
JP2007112499A (ja) ガラス基板用搬送箱
US20050095089A1 (en) Transfer chamber for flat display device manufacturing apparatus
KR101451736B1 (ko) 플라즈마 에칭 장치 및 기판 이송 장치
KR100915156B1 (ko) 평판표시소자 제조장치
TWI388684B (zh) 化學氣相沈積設備
US20230144827A1 (en) Substrate processing apparatus
KR200409564Y1 (ko) 백라이트 생산용 지그
KR20160001326U (ko) 자성 유체 씰
KR101173031B1 (ko) 실링재 건조장치
US11749549B2 (en) Substrate processing apparatus with an air curtain in a loading/unloading part
JP2010007790A (ja) 動力伝達機構
KR101192177B1 (ko) 기판 얼라이너 및 이를 이용한 로드락챔버
KR20090125935A (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR101851493B1 (ko) 스택커 로봇
KR20080001442A (ko) 챔버 장비
KR100647985B1 (ko) 평판 표시패널용 위치정렬장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant