CN101844861A - 预测玻璃制光学元件的折射率的方法及玻璃坯料制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供预测玻璃制光学元件的折射率的方法及玻璃坯料制造方法。预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的折射率或阿贝数的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序。包含以下工序：使用具有任意成分的玻璃坯料A，来求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度；针对用于制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B求出基准折射率；以及根据上述实效冷却速度和基准折射率，求出利用在与上述工序相同条件下运转的退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件的折射率或阿贝数。

Description

预测玻璃制光学元件的折射率的方法及玻璃坯料制造方法

技术领域

本发明涉及预测玻璃制光学元件的折射率的方法、调整成分后的玻璃坯料的制造方法。

背景技术

为了获得具有所需光学性能的玻璃制光学元件，需要形状精度高并且折射率等光学特性高精度确定的光学玻璃。

玻璃的光学特性由其成分来确定，但即使成分完全相同，折射率也会根据光学元件制造时遇热经历的变化而稍稍变化，其变化量会较大程度地影响光学元件的性能。关注这种现象，在专利文献1、2中公开了用于还考虑遇热经历来获得期望的折射率的技术。

【先行技术文件】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2003-300738号公报

【专利文献2】日本特开2007-176764号公报

在冲压成型后等，施加退火等热处理，由此光学玻璃的折射率发生变化。专利文献1、2公开了针对规定的退火速度调整玻璃成分以获得期望折射率。但是，在退火时玻璃未必以设定的恒定冷却速度进行冷却，从而有时无法掌握取哪种冷却曲线。

例如，有时光学玻璃生产者和使用该光学玻璃的光学元件生产者不同，在该情况下，光学玻璃的生产者虽然可以调整玻璃成分，但不能选择最终决定光学元件的折射率和阿贝数的退火速度。另一方面，光学元件的生产者虽然可以设定退火速度等在生产光学元件过程中的遇热经历，但不能调整玻璃成分。

像这样的玻璃生产者与光学元件生产者之间、或者玻璃生产者与光学元件设计方之间的问题是随着光学元件的高功能化、高性能化而产生的问题。这是因为，根据本发明人的知识，如果确定了构成光学元件的玻璃成分，则不管怎样调整在生产光学元件过程中的退火速度，折射率nd和阿贝数vd都仅在一个轴为折射率nd、另一个轴为阿贝数vd的vd-nd平面内，在唯一确定的直线上移动，不会取得偏离于直线的座标。为了同时调整折射率nd和阿贝数vd，需要通过适当调整玻璃成分，来改变玻璃具有的作为基准的光学特性值(例如，基准折射率等)，在利用所需的退火速度进行退火时获得期望的光学特性。但是，在不能共有玻璃生产者所具有的关于成分的信息和光学元件生产者所具有的关于退火的信息的情况下，调整上述成分并非易事，很难解决问题。

这种情况对高效生产具有期望光学特性的光学元件造成了妨碍。即使在制造光学元件时无法掌握取哪种冷却曲线，如果能准确地管理形成光学元件的光学玻璃的折射率，则可以使光学设备高清晰度、高精度化。

发明内容

本发明是鉴于这种情况而完成的发明。

具体地说，本发明的目的是提供如下的方法，即使在使用光学玻璃的光学元件生产者与该光学玻璃生产者不同的情况下，也能够掌握由使用光学玻璃的光学元件生产者实施的光学元件生产工序中的实效冷却速度，并能够预测最终获得的光学元件的折射率和/或阿贝数。

此外本发明的另一目的是提供一种具有调整成分后的玻璃坯料的制造方法，该制造方法能够利用上述光学元件的折射率和/或阿贝数的预测方法来提供具有期望折射率和/或阿贝数的光学元件。

用于实现上述目的的本发明如下所述。

[1]

一种预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的折射率的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该预测方法包含以下工序：

工序(1)，使用作为具有任意成分的玻璃坯料的玻璃坯料A，来求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度；

工序(2)，针对用于实际制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B求出基准折射率，其中，玻璃坯料B具有不同于玻璃坯料A的成分；以及

工序(3)，根据上述实效冷却速度和基准折射率，求出利用在与工序(1)相同条件下运转的上述退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件的折射率。

[2]

根据[1]所述的方法，其中，根据利用上述退火装置进行退火而获得的由玻璃坯料A构成的玻璃制光学元件的折射率n0、针对玻璃坯料A求出的基准折射率ns、以及玻璃坯料A的退火系数β，求出实效冷却速度。

[3]

根据[2]所述的方法，其中，

通过下式来计算出实效冷却速度R₀：

R₀＝Rs/10^Δn/β

Rs：基准退火速度

Δn：折射率n0-基准折射率ns

β：退火系数β。

[4]

根据[1]或[2]所述的方法，其中，上述规定波长是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱中的波长。

[5]

一种预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的阿贝数的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该预测方法包含以下工序：

工序(11)，使用作为具有任意成分的玻璃坯料的玻璃坯料A，来求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度；

工序(12)，针对用于制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B，求出规定波长下的基准折射率、F线光谱下的基准折射率以及C线光谱下的基准折射率，其中，玻璃坯料B具有不同于玻璃坯料A的成分，上述规定波长可以与F线光谱或C线光谱的波长相同也可以不同；

工序(13)，根据上述实效冷却速度和基准折射率，求出利用在与工序(11)相同条件下运转的上述退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n、F线光谱下的折射率nF和C线光谱下的折射率nC；以及

工序(14)，根据上述折射率n、nF和nC，按照下式来求出规定波长下的阿贝数v

v＝(n-1)/(nF-nC)。

[6]

根据[5]所述的方法，其中，

上述规定波长是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱中的波长，根据下式求出上述波长下的阿贝数v，

vd＝(nd-1)/(nF-nC)

vC＝(nC-1)/(nF-nC)

vF＝(nF-1)/(nF-nC)

vg＝(ng-1)/(nF-nC)

其中，vd是d线光谱下的阿贝数，vC是C线光谱下的阿贝数，vF是F线光谱下的阿贝数，vg是g线光谱下的阿贝数。

[7]

根据[5]或[6]所述的方法，其中，

根据利用上述退火装置进行退火而获得的由玻璃坯料A构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n0、针对玻璃坯料A求出的上述波长下的基准折射率ns、以及玻璃坯料A在上述波长下的退火系数β，求出实效冷却速度。

[8]

根据[7]所述的方法，其中，

通过下式来计算出实效冷却速度R₀，

R₀＝Rs/10^Δn/β

Rs：基准退火速度

Δn：折射率n0-基准折射率ns

β：退火系数β。

[9]

一种调整成分后的玻璃坯料的制造方法，该玻璃坯料用于在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该玻璃坯料的制造方法包含以下工序：

工序(20)，利用[1]～[4]中任一项所述的方法，预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的折射率；

工序(21)，求出上述预测出的折射率与期望的玻璃制光学元件折射率之差；以及

工序(22)，制作已校正了上述折射率差的具有成分X1的玻璃坯料。

[10]

根据[9]所述的制造方法，其中还包含如下工序：针对在工序(22)中获得的玻璃坯料进行工序(20)来预测折射率，并确认在工序(22)中获得的玻璃坯料提供期望折射率的玻璃制光学元件的情况。

[11]

根据[9]所述的制造方法，其中，在工序(22)中获得的玻璃坯料不是提供期望折射率的玻璃制光学元件的玻璃坯料时，进一步实施工序(21)和(22)。

[12]

一种调整成分后的玻璃坯料的制造方法，该玻璃坯料用于在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该玻璃坯料的制造方法包含以下工序：

工序(30)，利用[5]～[8]任一项所述的方法，预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的阿贝数；

工序(31)，求出上述预测出的阿贝数与期望的玻璃制光学元件的阿贝数之差；以及

工序(32)，制作已校正了上述阿贝数差的具有成分X1的玻璃坯料。

[13]

根据[12]所述的制造方法，还包含如下工序：

针对在工序(32)中获得的玻璃坯料进行工序(30)来预测阿贝数，并确认在工序(32)中获得的玻璃坯料提供期望阿贝数的玻璃制光学元件的情况。

[14]

根据[13]所述的制造方法，其中，

在工序(32)中获得的玻璃坯料不是提供期望阿贝数的玻璃制光学元件的玻璃坯料时，进一步实施工序(31)和(32)。

根据本发明，能够掌握使用光学玻璃的光学元件的生产者所实施的光学元件生产工序中的实效冷却速度，并预测最终获得的光学元件的折射率和/或阿贝数。因此，即使在使用光学玻璃的光学元件的生产者与该光学玻璃的生产者不同的情况下，如果可以准确地管理形成光学元件的光学玻璃的折射率，则能够使光学设备高清晰度、高精度化。

此外，根据本发明，考虑上述掌握的实效冷却速度来提供调整成分后的玻璃坯料的制造方法，由此，能够提供具有期望折射率和/或阿贝数的光学元件，并能够使光学设备高清晰度、高精度化。

附图说明

图1是将横轴设为冷却速度的常用对数、纵轴设为nd值并描绘了表1所示的测定结果的结果。

图2是将横轴设为波长(纳米)、纵轴设为退火系数并描绘了表2所示的数据的结果。

图3是示出将光学元件的折射率和阿贝数同时调整为期望值的工艺的图。

具体实施方式

[折射率预测方法]

本发明的第1方式是预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的折射率的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序。该预测方法包含以下工序(1)～(3)。

工序(1)

工序(1)是如下的工序，使用作为具有任意成分的玻璃坯料的玻璃坯料A，求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度。

可以根据由上述退火装置退火而获得的、由玻璃坯料A构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n0、针对玻璃坯料A求出的上述波长下的基准折射率ns、以及针对玻璃坯料A的上述波长下的β值，来求出实效冷却速度。对于规定波长没有特别限制，例如，可以是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱下的波长。以下，对实效冷却速度更具体地进行说明。以下，将d线光谱的波长作为规定波长来进行说明。

当将波长587.56纳米(d线)的玻璃折射率表示为nd、波长486.13纳米(F线)的玻璃折射率表示为nF、波长656.27纳米(C线)的玻璃折射率表示为nC时，用(1)式来定义阿贝数vd。

vd＝(nd-1)/(nF-nC)              …(1)

当使光学玻璃保持在恒定温度后以固定速度进行冷却时，折射率收敛于某恒定值。这里，保持温度是因玻璃而异的固有温度。另外，以下将退火时的冷却速度称为退火速度。

首先，规定基准退火速度Rs，将Rs设为退火速度的单位1(Rs＝1)。任意的退火速度通过与Rs之比来表示。将以基准退火速度对玻璃进行退火时的折射率nd，定义为基准折射率nds。以任意退火速度R退火时的折射率nd用式(2)来记述。

nd＝nds-βd×log₁₀R            …(2)

这里，βd针对玻璃和波长是固有常数，称为波长587.56纳米的退火系数。

当将作为目标光学元件的折射率nd设为nd0时，用于获得nd0的退火速度R₀与nd0的关系为：

nd0＝nds-βd×log₁₀R₀        …(3)

根据式(2)、(3)，偏差量Δnd为：

Δnd＝nd0-nds

＝-βd×(log₁₀R₀-log₁₀Rs)

＝-βd×log₁₀R₀             …(4)

因此，根据利用退火装置退火而获得的由玻璃坯料A构成的玻璃制光学元件的折射率nd0、和针对玻璃坯料A求出的基准折射率nds，来得到Δnd，根据Δnd和玻璃坯料A在d线下的β值(βd)，利用下式来求出实效冷却速度。

R₀＝10^-Δnd/βd           …(5)

通过下式来计算出实效冷却速度R₀：

R₀＝Rs/10^Δnd/βd

Rs：基准退火速度

Δnd：折射率nd0-基准折射率nds

βd：d线下的退火系数β。

以上的计算方法是根据将规定波长设为d线时的折射率、基准折射率、退火系数β值来计算实效冷却速度的例子。但是，也可以根据d线以外的规定波长下的折射率、基准折射率、退火系数β值，来计算实效冷却速度。并且结果是，与根据d线的折射率、基准折射率、退火系数β值所计算出的值一致。

可以按照以下方式来定义实效冷却速度R₀。

当将玻璃转移温度Tg附近的温度设为温度T[℃]时，根据从T[℃]下降到(T-100)℃所需的时间，作为每小时几℃来计算出通常的退火速度。但是，对于实际的玻璃，有时不知道是否以该恒定速度进行了冷却(温度越高，则冷却速度越大，冷却速度随着温度降低而减少等)，从玻璃冷却或退火过程中折射率变化这一观点看，将可视为以该速度进行恒定冷却的冷却速度作为实效冷却速度。

此外，基准折射率ns可定义为在规定退火条件下求出的折射率，所谓规定的退火条件意味着：例如利用-0.5～-50℃/小时的范围的退火速度，使由该玻璃坯料组成的样片从(Tg-30℃)以上且(Tg+10℃)以下范围的任意温度冷却到至少降低100℃的温度之后，恢复到室温(之后到达室温的冷却速度实质上不会对样片的折射率产生影响，因此是任意的)，将在该条件下获得的上述样片所具有的折射率定义为基准折射率ns。将求出基准折射率时所使用的冷却速度称为基准冷却速度。对于规定退火条件下退火速度的绝对值，虽然理论上可以小于0.5℃/小时，但当退火速度变慢时，测定基准折射率需要过长的时间，所以优选退火速度绝对值的下限为0.5℃/小时，更加优选的是1℃/小时。另外，当退火速度为超过-50℃/小时的速度进行快速退火时，会产生玻璃内部的变形变大等的问题。因此，优选退火速度绝对值的上限为50℃/小时，进一步优选的是40℃/小时，更加优选的是35℃/小时。为了方便，优选规定退火条件下的退火速度为-1℃/小时，在退火速度为-1℃/小时的情况下基准退火速度为1，上述式(2)成立。在退火速度为-1℃/小时以外的情况下，基准退火速度大于1或小于1，需要乘以规定系数进行调整。

上述基准退火速度可针对各个玻璃个别或独立地定义，也可以针对全部的玻璃或者一定组内的玻璃确定共用的基准退火速度。

退火系数β是关于折射率相对于冷却速度或退火速度的变化量的、该玻璃坯料所特有的物性值。关于由同一玻璃坯料构成的样片，针对至少两个不同的退火速度(优选至少三个不同的退火速度)来测定在上述规定冷却条件下退火后的折射率，并根据这些值来求出退火系数β。具体地说，参考例1示出了求出方法的详细例子。

如果换个角度，则上述式(5)意味着：在希望与基准折射率nds相比使折射率nd改变Δnd时，如上述(5)所示，将退火速度设为根据Δnd和β值(βd)计算出的值即可。

例如，如果将-30℃/小时设为基准退火速度Rs，在希望使折射率nd改变Δnd的情况下，只要利用-30℃/小时乘以上述R₀所得的退火速度进行退火即可。

与折射率相同，退火系数根据波长而取不同的值(但是，在利用有效数字进行显示时，有时成为相同值。)。因此，如将d线光谱中的折射率写为nd、将C线光谱中的折射率写为nC、将F线光谱中的折射率写为nF、将g线光谱中的折射率写为ng那样，将退火系数也写为βd、βC、βF、βg时，以下关系成立。

nd＝nds-βd×log₁₀R

nC＝nCs-βC×log₁₀R

nF＝nFs-βF×log₁₀R

ng＝ngs-βg×log₁₀R

在工序(1)中用于求出实效冷却速度的玻璃坯料A是具有任意成分的玻璃坯料，对成分等没有特别限制。

另外，虽然对用于求出实效冷却速度的玻璃坯料A的形状和尺寸也没有特别限制，但优选使用与要生产的光学元件的形状和尺寸相同的形状和尺寸。

在工序(1)中，如果使用玻璃坯料A预先求出用于对玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度，则在此以后，对于使用相同退火装置在同样条件下实施的退火，可使用上述求出的实效冷却速度。关于这点，在后面进行叙述。

工序(2)

工序(2)是针对用于实际制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B求出基准折射率的工序。在用于实际制造玻璃制光学元件的玻璃坯料是玻璃坯料A的情况下，在上述工序(1)中获得的折射率n0是玻璃制光学元件的折射率。

与此相对，在本发明中，关于由具有成分不同于玻璃坯料A的玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件，求出(预测)在使用相同退火装置以同样条件施以退火时所获得的折射率。因此在工序(2)中，针对玻璃坯料B求出基准折射率。基准折射率的求出方法与工序(1)中所说明的相同。

工序(3)

工序(3)是如下的工序，根据在上述(1)中获得的实效冷却速度和在工序(2)中获得的基准折射率，求出利用在与工序(1)相同条件下运转的上述退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的光学元件的折射率，由玻璃坯料B构成的光学元件的折射率可利用下式来算出。

当将玻璃B的各波长(d线、C线、F线、g线)下的基准折射率设为nds(B)、nCs(B)、nFs(B)、nds(B)，上述各波长下的退火系数β值设为βd(B)、βC(B)、βF(B)、βg(B)，实效冷却速度设为R时，得出：

nd(B)＝nds(B)-βd(B)×log₁₀R

nC(B)＝nCs(B)-βC(B)×log₁₀R

nF(B)＝nFs(B)-βF(B)×log₁₀R

ng(B)＝ngs(B)-βg(B)×log₁₀R

在工序(3)中获得的由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件的折射率为期望折射率的情况下，可以使用该玻璃坯料B来制造玻璃制光学元件。但是，在工序(3)中获得的由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件的折射率不是期望折射率的情况下，根据该结果改变玻璃坯料B的成分，来制作能够制造具有期望折射率的玻璃制光学元件的玻璃坯料C。关于这点在本发明的第3方式中进行说明。

[阿贝数预测方法]

本发明的第2方式是预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的阿贝数的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序。该预测方法包含以下的工序(11)～(14)。

工序(11)

工序(11)是如下的工序，使用具有任意成分的玻璃坯料A，来求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度。该工序能够与上述本发明的折射率预测方法中的工序(1)同样地实施。

工序(12)

工序(12)是如下的工序，针对用于制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B，求出规定波长下的基准折射率、F线光谱下的基准折射率以及C线光谱下的基准折射率，其中，玻璃坯料B具有不同于玻璃坯料A的成分。并且，上述规定波长可以与F线光谱或C线光谱的波长相同也可以不同。上述规定波长例如可以是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱下的波长。针对玻璃坯料B的规定波长下的基准折射率、F线光谱下的基准折射率以及C线光谱下的基准折射率，可参照上述本发明的折射率预测方法中的工序(1)和(2)的说明来实施。

工序(13)

工序(13)是如下的工序，根据在工序(11)中求出的实效冷却速度和在工序(12)中求出的规定波长下的基准折射率，求出利用在与工序(11)相同条件下运转的退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n、F线光谱中的折射率nF以及C线光谱中的折射率nC。如前所述，在规定波长为d线光谱的波长的情况下，nd、nF以及nC分别利用下式来表示。

nd＝nds-βd×log₁₀R

nC＝nCs-βC×log₁₀R

nF＝nFs-βF×log₁₀R

工序(14)

工序(14)是根据上述折射率n、nF和nC按照下式来求出规定波长下的阿贝数v的工序。

v＝(n-1)/(nF-nC)

上述规定波长例如可以是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱下的波长，上述波长下的阿贝数v可分别根据下式来求出。其中，vd是d线光谱下的阿贝数，vC是C线光谱下的阿贝数，vF是F线光谱下的阿贝数，另外vg是g线光谱中的阿贝数。

vd＝(nd-1)/(nF-nC)

vC＝(nC-1)/(nF-nC)

vF＝(nF-1)/(nF-nC)

vg＝(ng-1)/(nF-nC)

在组合摄像光学系统、投射光学系统等多个光学元件来设计校正色收差等的光学系统时，在考虑所使用的光学玻璃的折射率的同时，还必需考虑阿贝数。

当以阿贝数vd为例时，如前所述，vd表示为：

vd＝(nd-1)/(nF-nC)      …(1)

根据玻璃的遇热经历变化，不仅折射率nd，连折射率nC、nF也稍稍变化，所以很难既获得期望nd又使vd为期望值。其原因是，即使仅对退火速度进行控制使nd为期望值，nC及nF也不会是期望值，结果，vd也偏离期望值。

虽然上述专利文献1、2公开了针对期望的退火速度调整玻璃成分以获得期望的折射率，但没有公开对多波长下的各折射率进行精密的控制、或者控制阿贝数的方法。

进一步详细地说明，阿贝数vd根据退火速度怎样变化。

在将利用基准退火速度进行退火时的折射率nC、nF分别设为基准折射率nCs、nFs时，基准阿贝数vds为：

vds＝(nds-1)/(nFs-nCs)        …(6)

另外，在将以退火速度为R₀进行退火时的折射率nC、nF、阿贝数vd分别设为nC0、nF0、vd0时，得出：

vd0＝(nd0-1)/(nF0-nC0)…(7)

当针对nC0、nF0示出与退火速度R₀之间的关系时，得出：

nC0＝nCs-βC×log₁₀R₀               …(8)

nF0＝nFs-βF×log₁₀R₀               …(9)

βC是波长656.27纳米下的退火系数，βF是波长486.13纳米下的退火系数，βC、βF都与βd相同，针对玻璃是固有常数，取互不相同的数值。

nC0、nF0相对于基准折射率nCs、nFs的各偏差量为：

ΔnC＝-βC×log₁₀R₀                …(10)

ΔnF＝-βF×log₁₀R₀    …(11)

根据式(4)、式(10)、(11)，得出：

ΔnC＝Δnd×βC/βd    …(12)

ΔnF＝Δnd×βF/βd    …(13)

根据

nd0＝nds+Δnd    …(14)

nC0＝nCs+ΔnC    …(15)

nF0＝nFs+ΔnF    …(16)

和式(7)、(12)、(13)，得出：

vd0＝(nd0-1)/(nF0-nC0)

＝(nds+Δnd-1)/[(nFs+ΔnF)-(nCs+ΔnC)]

＝(nds+Δnd-1)/[(nFs-nCs)+(ΔnF-ΔnC)]

＝(nds+Δnd-1)/[(nFs-nCs)+Δnd×(βF-βC)/βd]…(17)

设置式(18)，

(βF-βC)/βd＝K    …(18)

当将(17)式的右边的分母、分子分别除以nFs-nCs时，得到

vd0＝{[(nds-1)+Δnd]/(nFs-nCs)}/{1+[Δnd×K/(nFs-nCs)]}

＝{vds+[Δnd/(nFs-nCs)]}/{1+[Δnd×K/(nFs-nCs)]}…(19)

当对(19)式的右边的分母、分子分别乘以1-[Δnd×K/(nFs-nCs)]时，得到：

vd0＝[vds+(1-K×vds)×a-K×a²]/[1-K²×a²]     …(20)

其中，设置

a＝Δnd/(nFs-nCs)      …(21)

这里，因为a远小于1，所以式(20)成为：

vd0≈vds+(1-K×vds)×a

＝vds+(1-K×vds)×Δnd/(nFs-nCs)··(22)

阿贝数vd的偏差量Δvd成为：

Δvd＝vd0-vds

≈(1-K×vds)×Δnd/(nFs-nCs)…(23)

因为nFs、nCs、vds、K为固有的值，所以在式(23)中可调整vd0的参数只有Δnd。因此，当Δnd确定时，Δvd也唯一地确定，从而没有用于调整Δvd的自由度。

即，在将横轴设为Δvd、纵轴设为Δnd的Δvd-Δnd平面上，关于特定玻璃的座标(Δvd、Δnd)通过变化退火速度而近似地在直线上动作。

当将玻璃B的各波长(d线、C线、F线、g线)下的基准折射率设为nds(B)、nCs(B)、nFs(B)、ng(B)，上述各波长下的退火系数β值设为βd(B)、βC(B)、βF(B)、βg(B)，实效冷却速度设为R时，得到：

nd(B)＝nds(B)-βd(B)×log₁₀R

nC(B)＝nCs(B)-βC(B)×log₁₀R

nF(B)＝nFs(B)-βF(B)×log₁₀R

ng(B)＝ngs(B)-βg(B)×log₁₀R

，根据这些式和下式，

vd(B)＝(nd(B)-1)/(nF(B)-nC(B))

vC(B)＝(nC(B)-1)/(nF(B)-nC(B))

vF(B)＝(nF(B)-1)/(nF(B)-nC(B))

vg(B)＝(ng(B)-1)/(nF(B)-nC(B))

可以计算出阿贝数vd(B)、vC(B)、vF(B)、vg(B)。

在工序(14)中获得的由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件的阿贝数为期望阿贝数的情况下，可以使用该玻璃坯料B来制造玻璃制光学元件。但是，在工序(14)中获得的由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件的阿贝数不是期望阿贝数的情况下，根据该结果来改变玻璃坯料B的成分，制作能够制造具有期望阿贝数的玻璃制光学元件的玻璃坯料C。关于这点，在本发明的第4方式中进行说明。

[调整成分后的玻璃坯料的制造方法(其1)]

本发明的第3方式是一种调整成分后的玻璃坯料的制造方法(其1)，该玻璃坯料用于在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序。该方法包含以下工序(20)～(22)。

工序(20)

工序(20)是利用上述本发明的方法来预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的折射率的工序。该工序可以通过将具有成分X0的玻璃坯料作为玻璃坯料B来实施上述本发明的第1方式，由此预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的折射率。

工序(21)

工序(21)是求出在工序(20)中预测出的折射率与期望的玻璃制光学元件的折射率之差的工序。可使用上述式(4)来求出。

工序(22)

工序(22)是制作已校正了上述折射率差的具有成分X1的玻璃坯料的工序。

在此工序中，通过调整玻璃成分来校正折射率之差，制作校正后的具有成分X1的玻璃坯料。针对具有成分X1的玻璃坯料，掌握该玻璃成分中各成分对于折射率的影响(例如，使折射率上升的成分、使折射率下降的成分或者对折射率几乎不产生影响的成分)，然后考虑折射率以外的光线透过率性能等关于玻璃的特性，来实施通过调整玻璃成分而进行的折射率差的校正。

制作已校正了折射率差的具有成分X1的玻璃坯料，针对该玻璃坯料，实施工序(20)并预测折射率。如果预测出的折射率与期望的玻璃制光学元件的折射率一致、或在规定容许范围内，则将具有该成分X1的玻璃坯料作为调整成分后的玻璃坯料。以后，可以根据规定的玻璃坯料来制作具有该成分的玻璃坯料，用于玻璃制光学元件的制作。

当针对具有成分X1的玻璃坯料预测出的折射率相对于期望的玻璃制光学元件的折射率不在规定的容许范围内时，反复工序(20)、(21)和(22)，直至获得具有如下折射率的玻璃坯料为止，该折射率与期望的玻璃制光学元件的折射率一致、或在规定容许范围内。

作为光学元件生产者的透镜制造商，可以利用本发明根据βd、βC、βF、βg、基准折射率nds、nCs、nFs、ngs和基准退火速度，计算用于使用光学元件制造商内的工艺中的退火速度来获得期望折射率和阿贝数的透镜的玻璃坯料所应该具有的基准折射率nds、nCs、nFs、ngs，根据结果，向玻璃坯料的生产者即玻璃坯料制造商反馈基准折射率的调整。另一方面，玻璃坯料制造商可通过微调玻璃成分来提供光学元件制造商所要求的玻璃坯料，光学元件制造商可使用该坯料来生产目标透镜。

[调整成分后的玻璃坯料的制造方法(其2)]

本发明的第4方式是一种调整成分后的玻璃坯料的制造方法(其2)，该玻璃坯料用于在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序。该方法包含以下工序(30)～(32)。

工序(30)

工序(30)是利用上述本发明的方法来预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的阿贝数的工序。

工序(31)

工序(31)是求出上述预测出的阿贝数与期望的玻璃制光学元件的阿贝数之差的工序。

工序(32)

工序(32)是制作已校正了上述阿贝数差的具有成分X1的玻璃坯料的工序。

本发明的第4方式，可通过将本发明第3方式中的折射率替换成阿贝数来同样地实施。但是，为了将折射率以及阿贝数同时调整为期望值，例如，可按照图3所示的方式进行。在图3中对折射率和阿贝数为nd和νd的情况进行了说明。

在图3所示的工艺中，可由光学元件的生产者进行(A)～(C)、(F)，玻璃坯料的生产者进行(D)、(E)。此外，光学元件的生产者为了进行(B)、(C)，如果仅仅从玻璃坯料的生产者获得关于基准折射率(例如，用于算出阿贝数的3个不同波长下的基准折射率)、基准退火速度的数据是不够的，可以通过还获知关于退火系数(例如，上述3波长下的各退火系数)的数据，来计算出Δnd、Δνd。退火系数的计算方法在参考例1中进行详细叙述。

在本发明中，为了使阿贝数等光学特性符合期望值，优选基准折射率和退火系数是多个波长下的值的集合。具体地说，从可以同时调整Δnd、Δvd这一观点出发，优选除了包含针对d线的退火系数β值、基准折射率ns值和基准阿贝数vs值之外，还包含C线、F线的至少两个波长下的退火系数β值、基准折射率ns值和基准阿贝数vs值。

此外，上述波长除了与d线、C线、F线、g线的各光谱线的波长对应的物性值之外，还可以提供关于其它波长的基准折射率、退火系数以及基准阿贝数。由此可以掌握光学元件生产者所需的波长折射率的特性，因此可以获得期望的光学性能。

通过提供针对g线的退火系数β值、基准折射率ns值以及基准阿贝数vs值作为物性值，还具有以下优点。

关于折射率ng要求高精度的背景

近几年，在照相机等光学设备业界中高精度化、高清晰度、小型化得以发展。为了应对高精度化、高清晰度、小型化的要求，需要在光学系统中消除像差或尽量降低像差。如果实际制造的光学元件的折射率偏离设计时的折射率，则可能无法获得期望的光学性能。越在短波长区域，光学玻璃的折射率和色散越展现出急剧变化的倾向。因此，在制造光学元件时，不仅是折射率nd和构成阿贝数vd的nd、nC、nF，还需要控制在波长更短区域下的折射率ng。

此外在摄像装置中，为了获得图像的良好色平衡，期望针对可视区域的短波长光也充分确保入射到图像传感器的受光面的光量，因此产生了针对短波长光也使光学系统的设计最优化的需求。从这一点出发，也需要对折射率ng进行了控制的光学元件或者作为光学元件材料的光学玻璃坯料。

在制造光学元件的过程中，为了管理nC、nd、nF、ng的特性，可以通过使用退火系数βC、βd、βF、βg来计算出nC、nd、nF、ng相对于冷却速度的变化量。

此外，作为玻璃制光学元件，可例示透镜、棱镜等。另外，对所使用玻璃的成分没有特别限定，可例示硼硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃，氟磷酸盐玻璃等。

【实施例】

以下，通过实施例来更详细地说明本发明。

参考例1关于退火系数β值的计算方法

将玻璃A加工成3个长度30mm×宽度20mm×厚度15mm的尺寸，来作为试验片。

在将3个玻璃A的试验片加热到玻璃转移温度以上后，分别以-1℃/小时、-3℃/小时、-10℃/小时的冷却速度进行冷却，在降温到室温后，测定出折射率。表1示出各冷却速度中的波长587.56纳米下的折射率nd的测定值。这些值还在图1中显示。

【表1】

表1.玻璃A相对于冷却速度的nd值

冷却速度[℃/小时]	nd
		-1	1.69537
-3	1.69478

冷却速度[℃/小时]	nd
		-10	1.69408

将横轴设为冷却速度的常用对数、纵轴设为nd值，对图示表1所示的测定结果进行绘制时，如图1所示，各点位于直线上。

利用基准退火速度Rs、基准折射率nds、退火速度R₀进行退火时的折射率nd0为：

nd0＝nds-βd×log₁₀(R₀/Rs)…(A)

所以当利用最小平方法进行拟合以使图1中的直线成为式(A)时，

求出βd为129.2×10^-5。

表2示出利用同样的方法测定出的各波长的退火系数。

【表2】

表2.相对于各波长的Δ值

波长(纳米)	光谱线	退火系数β
			435.83	g线	128.0×10-5
479.99	F′线	128.0×10-5
			486.13	F线	128.0×10-5
546.07	e线	128.9×10-5
			587.56	d线	129.2×10-5
643.85	C′线	130.1×10-5
			656.27	C线	130.1×10-5

(各光谱线的波长是ISO 7944中记载的参照基准波长、以及JOGIS(日本光学硝子工业规格)的光学玻璃折射率测定方法中记载的波长)

各波长下的退火系数为表2所示的值，具有充分的精度，但还可以如下这样地提高精度。

在图2中，将横轴设为波长(纳米)，纵轴设为退火系数，对表2所示数据进行描绘。

在图2中，利用直线近似退火系数与波长之间的关系。当使用各绘制点的数据通过最小平方法来拟合上述直线时，得到：

退火系数＝(0.0107纳米^-1×波长[纳米]+123.03)×10^-5

对上式代入C线、d线、F线、g线的各波长，计算出各波长下的退火系数βC、βd、βF、βg。表3示出计算结果。

【表3】

表3

βC	βd	βF	βg
				130.1×10-5	129.3×10-5	128.2×10-5	127.7×10-5

通过这样的方式求出玻璃A的退火系数。

实施例1关于实效冷却速度和β值的有效性

[实效冷却速度的算出]

将成分不同的两种玻璃A和玻璃B并排地配置在可精密设定退火速度的退火炉中，并进行热处理。其中，选择成分互不相同的玻璃A和玻璃B，以使玻璃A和玻璃B的退火系数为不同值。表4示出以冷却速度-1℃/小时(基准退火速度)进行冷却时的玻璃A和玻璃B的折射率。

【表4】

表4.冷却速度为-1℃/小时时的玻璃A和玻璃B在各波长下的折射率

	nC	nd	nF	ng
					玻璃A	1.69120	1.69513	1.70418	1.71128
玻璃B	1.58740	1.59035	1.59701	1.60218

另外，表5示出玻璃A和玻璃B在各波长下的退火系数。此外，以与参考例1的表3同样的方式求出退火系数。

【表5】

表5.玻璃A和玻璃B在各波长下的退火系数

波长	βC	βd	βF	βg
					玻璃A	130.1×10-5	129.3×10-5	128.2×10-5	127.7×10-5
玻璃B	97.1×10-5	97.1×10-5	97.0×10-5	97.0×10-5

此外，即使使用以与参考例1的表2同样的方式求出的退火系数，也可以同样地实施以下操作。

接下来，改变上述退火炉的退火条件，如下地求出该退火条件下的退火速度。退火条件变更后的退火炉的实效冷却速度为未知量，根据上述表5所示的已知β值和折射率的测定值，来实验性地求出该未知的实效冷却速度。测定以与上述冷却速度(-1℃/小时)不同的速度(未知的实效冷却速度)进行退火后的玻璃A在各波长下的折射率。表6示出所获得的结果。

【表6】

表6.热处理(退火)后的玻璃A在各波长下的折射率

	nC	nd	nF	ng
					玻璃A	1.68853	1.69248	1.70155	1.70867

在各波长中，表6所示的折射率与表4所示的基准折射率之间的差异如表7所示。

【表7】

表7.热处理后的折射率与表4的基准折射率之间的差异

	ΔnC	Δnd	ΔnF	Δng
					差异	-267×10-5	-265×10-5	-263×10-5	-261×10-5

接着，对于玻璃A根据表5所示的退火系数的值和表7的值来求出实效冷却速度R₀。当将基准退火速度Rs设为-1℃/小时，

根据Δnd＝-βd×(log₁₀R₀-log₁₀Rs)

＝βd×log₁₀(Rs/R₀)

得到

Δnd/βd＝log₁₀(Rs/R₀)

Rs/R₀＝10^Δnd/βd

R₀＝Rs/10^Δnd/βd

当对Rs、Δnd、βd分别代入上述各值时，

求出R₀为-112℃/小时。该值是由玻璃A构成的上述试验片的实效冷却速度。

[使用实效冷却速度来掌握折射率的变动]

接下来，使用由具有不同于玻璃A的成分的玻璃B构成的试验片，进行表示可以使用实效冷却速度来掌握折射率的变动的验证实验。

使用在以表4所示的冷却速度-1℃/小时进行冷却时玻璃B的折射率和表5所示的退火系数，设R₀＝-112℃/，如下地计算出Δnd。

Δnd＝βd×log₁₀(Rs/R₀)

＝97.1×10^-5×log₁₀(1/112)

＝-0.00199

并且，nds与上述Δnd值相加所得的值是1.58836。

在表8中示出针对玻璃B在实效冷却速度是112℃/小时的条件下进行热处理(退火)后的玻璃B在各波长下的、如上所述计算出的折射率和实测到的折射率。

【表8】

表8.进行热处理后的玻璃B的折射率值的比较

波长	nC	nd	nF	ng
					算出值	1.58541	1.58836	1.59502	1.60019
实测值	1.58539	1.58835	1.59501	1.60017
					差异(×10-5)	2	1	1	2

根据表8可知，算出值与实测值高精度地一致。这样，可以对退火系数不同的不同种类的玻璃在相同条件下进行热处理，使用根据关于玻璃A的实验所计算出的实效冷却速度，来高精度地算出玻璃B的折射率。

如上所述即使在不能掌握冷却曲线的情况下，也可以通过使用实效冷却速度来掌握退火速度，由此准确地掌握热处理后的玻璃的折射率特性。因此，可使用与上述退火炉不同的退火装置，对由玻璃A或玻璃B构成的试验片进行退火，根据退火前后的试验片的折射率变化量来算出退火装置的实效冷却速度。

接着，使用由玻璃B构成的玻璃坯料，对该玻璃坯料加热、利用冲压成型模具来进行精密冲压成型，然后，在实效冷却速度是112℃/小时的退火炉内退火，制作出具有与表8的实测值相等的值nd、nC、nF、ng的非球面透镜。

实施例2

针对使用β值来制作对玻璃成分进行微调后的玻璃坯料的方法，说明在将冷却速度设为-100℃/小时时表示表9所示的折射率nd、阿贝数vd的玻璃成分的调整方法。

【表9】

表9.期望的nd、vd值

nd	nC	nF	vd
				1.69150	1.68751	1.70063	52.7

以下，进行在使用了具有表10、11特性的玻璃C时的模拟。表10是以-1℃/小时的基准退火速度进行退火时的玻璃C的折射率。表11是利用与参考例1的表3同样的方法所求出的退火系数。此外，即使使用以与参考例1的表2同样的方式求出的退火系数，也可以同样地实施以下操作。

【表10】

表10.玻璃C的特性值

冷却速度	nd	nC	nF	vd
					-1℃/小时	1.69536	1.69141	1.70444	53.4

【表11】

表11.玻璃C在各波长下的β值

βC	βd	βF
			130.1×10-5	129.3×10-5	128.2×10-5

当代入βd＝129.3×10^-5、Rs＝1、R₀＝100时，得到：

Δnd＝nd0-nds

＝-βd×(log₁₀R₀-log₁₀Rs)

＝βd×log₁₀(Rs/R₀)

Δnd＝129.3×10^-5×log₁₀(1/100)

＝-258.6×10^-5

nd0＝nds+Δnd，当代入表10所示的nds(1.69536)时，nd0为1.69277。

当利用同样的步骤计算出nC、nF、ng时，成为表12所示的值。另外，使用以下关系式：

vd0＝(nd0-1)/(nF0-nC0)

vC0＝(nC0-1)/(nF0-nC0)

vF0＝(nF0-1)/(nF0-nC0)

vg0＝(ng0-1)/(nF0-nC0)

来求出vd0、vC0、vF0、vg0。

【表12】

表12.玻璃C的折射率和阿贝数的模拟结果

nd	nC	nF	vd
				1.69277	1.68881	1.70188	53.0

[玻璃成分的调整]

根据表12所示的模拟结果来调整玻璃C的成分。

关于折射率nd是

1.69277(模拟值)-1.69150(期望值)＝0.00127

所以在以-1℃/小时(基准退火速度)的速度进行冷却时，只要是表示nd＝1.69536-0.00127＝1.69409

的玻璃成分即可。

关于阿贝数vd是

53.0(模拟值)-52.7(期望值)＝0.3

所以在以-1℃/小时(基准退火速度)的速度进行冷却时，只要是表示vd＝53.4-0.3＝53.1

的玻璃成分即可。

同样，只要是表示

vC＝53.1-0.3＝52.8

vF＝54.1-0.3＝53.8

vg＝54.6-0.3＝54.3

的玻璃成分即可。

可知，参照上述折射率和阿贝数，将玻璃C的成分作为基础来改变成分，以基准退火速度，制作折射率nd为1.69409、阿贝数vd为53.1、vC为52.8、vF为53.8、vg为54.3的玻璃D。此外，关于成分的改变，可以使用折射率比期望折射率稍高的玻璃坯料(例如碎玻璃坯料)和折射率比期望折射率稍低的玻璃坯料(例如碎玻璃坯料)，对调整了两种原料的混合比(配料比)而获得的配料坯料进行加热、熔融、澄清、均匀化，并成型，由此对折射率和阿贝数进行微调而成为期望值。

此外，使用由上述各玻璃构成的玻璃坯料进行精密冲压成型、以上述各实效冷却速度进行退火，结果，可以获得各线下的折射率和阿贝数为预测值的非球面透镜。

上述各例是制作非球面透镜作为玻璃制光学元件的例子，但也可以以同样的方式制作球面透镜、微型透镜、透镜阵列、棱镜等玻璃制光学元件。

工业上的可利用性

本发明可用于玻璃光学元件的制造领域。

Claims (14)

1.一种预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的折射率的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该预测方法包含以下工序：

工序(1)，使用作为具有任意成分的玻璃坯料的玻璃坯料A，来求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度；

工序(2)，针对用于制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B求出规定波长下的基准折射率，其中，玻璃坯料B具有不同于玻璃坯料A的成分；以及

工序(3)，根据上述实效冷却速度和基准折射率，求出利用在与工序(1)相同条件下运转的上述退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

根据利用上述退火装置进行退火而获得的由玻璃坯料A构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n0、针对玻璃坯料A求出的上述波长下的基准折射率ns、以及玻璃坯料A在上述波长下的退火系数β，求出实效冷却速度。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，

通过下式来计算出实效冷却速度R₀：

R₀＝Rs/10^Δn/β

Rs：基准退火速度

Δn：折射率n0-基准折射率ns

β：退火系数β。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，

上述规定波长是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱中的波长。

5.一种预测在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件的阿贝数的方法，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该预测方法包含以下工序：

工序(11)，使用作为具有任意成分的玻璃坯料的玻璃坯料A，来求出用于对上述玻璃制光学元件进行退火的退火装置所具有的实效冷却速度；

工序(12)，针对用于制造玻璃制光学元件的玻璃坯料B，求出规定波长下的基准折射率、F线光谱下的基准折射率以及C线光谱下的基准折射率，其中，玻璃坯料B具有不同于玻璃坯料A的成分，上述规定波长可以与F线光谱或C线光谱的波长相同也可以不同；

工序(13)，根据上述实效冷却速度和基准折射率，求出利用在与工序(11)相同条件下运转的上述退火装置进行退火而获得的、由玻璃坯料B构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n、F线光谱下的折射率nF和C线光谱下的折射率nC；以及

工序(14)，根据上述折射率n、nF和nC，按照下式来求出规定波长下的阿贝数v

v＝(n-1)/(nF-nC)。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，

上述规定波长是d线光谱、C线光谱、F线光谱或g线光谱中的波长，根据下式求出上述波长下的阿贝数v，

vd＝(nd-1)/(nF-nC)

vC＝(nC-1)/(nF-nC)

vF＝(nF-1)/(nF-nC)

vg＝(ng-1)/(nF-nC)

其中，vd是d线光谱下的阿贝数，vC是C线光谱下的阿贝数，vF是F线光谱下的阿贝数，vg是g线光谱下的阿贝数。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其中，

根据利用上述退火装置进行退火而获得的由玻璃坯料A构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n0、针对玻璃坯料A求出的上述波长下的基准折射率ns、以及玻璃坯料A在上述波长下的退火系数β，求出实效冷却速度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，

通过下式来计算出实效冷却速度R₀，

R₀＝Rs/10^Δn/β

Rs：基准退火速度

Δn：折射率n0-基准折射率ns

β：退火系数β。

9.一种调整成分后的玻璃坯料的制造方法，该玻璃坯料用于在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该玻璃坯料的制造方法包含以下工序：

工序(20)，利用权利要求1所述的方法，预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的折射率；

工序(21)，求出上述预测出的折射率与期望的玻璃制光学元件折射率之差；以及

工序(22)，制作已校正了上述折射率差的具有成分X1的玻璃坯料。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其中，还包含如下工序：

针对在工序(22)中获得的玻璃坯料进行工序(20)来预测折射率，并确认在工序(22)中获得的玻璃坯料提供期望折射率的玻璃制光学元件的情况。

11.根据权利要求10所述的制造方法，其中，

在工序(22)中获得的玻璃坯料不是提供期望折射率的玻璃制光学元件的玻璃坯料时，进一步实施工序(21)和(22)。

12.一种调整成分后的玻璃坯料的制造方法，该玻璃坯料用于在玻璃制光学元件制造方法中获得的玻璃制光学元件，该玻璃制光学元件制造方法包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序，其中，该玻璃坯料的制造方法包含以下工序：

工序(30)，利用权利要求5所述的方法，预测由具有成分X0的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件的阿贝数；

工序(31)，求出上述预测出的阿贝数与期望的玻璃制光学元件的阿贝数之差；以及

工序(32)，制作已校正了上述阿贝数差的具有成分X1的玻璃坯料。

13.根据权利要求12所述的制造方法，其中，还包含如下工序：

针对在工序(32)中获得的玻璃坯料进行工序(30)来预测阿贝数，并确认在工序(32)中获得的玻璃坯料提供期望阿贝数的玻璃制光学元件的情况。

14.根据权利要求13所述的制造方法，其中，

在工序(32)中获得的玻璃坯料不是提供期望阿贝数的玻璃制光学元件的玻璃坯料时，进一步实施工序(31)和(32)。

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