CN101844322A - 粘结比色皿平面研磨加工方法及研磨固定用基板 - Google Patents
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Abstract
本发明是对现有比色皿平面研磨加工方法及粘结固定基板的改进,其特征是研磨粘结固定用基板为网纹平面基板,研磨时将弯板粘结固定于网纹平面基板。由于将研磨弯板与基板粘结变为多点粘结,使弯板与固定基板在固定、加工、拆卸过程中应力产生及释放减少到最低,可以确保弯板与玻璃片之间达到全平面吻合。克服了现有技术采用全平面接触粘结,在研磨达标后与粘结基板分离产生应力,使已研磨加工平面产生微小翘曲变形的不足,可以确保研磨完成后与粘结固定基板分离,仍保持研磨达到的平面度。不会出现有时难以自然吸合,熔接后产生微缝,影响粘结强度,造成交叉污染,出现渗漏现象等缺陷,所生产比色皿质量好,成品率高,使用寿命长。
Description
技术领域
本发明是对现有比色皿制造平面研磨加工方法及粘结固定基板的改进,尤其是对申请人再先申请专利200610038959.X无粘结剂自然吸合熔融粘结比色皿,粘结平面研磨加工方法及研磨固定用基板的改进和补充。
背景技术
比色皿是由光学玻璃经粘结组成的矩形中空体,在比色皿制备工艺中,需对直条玻片弯制成U形或直角形弯板(统称弯板)两开口面进行平面研磨,然后将平板光学玻璃粘结组成中空体,以确保平行度和光程长度的精度。现有技术弯板开口粘结面平面研磨,通常采用松香、白蜡作为粘接材料,把需要研磨加工弯板一面固定在一块平面基板上,然后连同基板放在研磨盘上进行研磨,研磨完成后把弯板从工作基板上拆卸分离,此法为粘结比色皿研磨惯常制备方法。
实际生产过程中申请人发现粘结面研磨已经达到要求,但粘结比色皿后还会发现有质量问题,特别是采用申请人再先申请专利200610038959.X,玻璃片相互粘结为无外加粘结剂自然吸合熔融粘结方式,复检有不合格产品,经反复分析发现原因:是因弯板为U型或长方型弯条结构,弯板侧面壁厚较薄,中空开口较大,例如两者之比:1∶6,造成弯板在固定、加工、拆卸分离过程中不可避免产生应力,在从粘结基板上分开时产生应力释放。此应力有时足以使弯板已研磨加工平面产生极微小翘曲变形。比色皿粘结平片玻璃若采用胶水粘结和玻璃粉粘结,粘结面由于有粘结剂的存在,此微小翘曲变形,对粘结性能及效果基本不会产生不良影响。若采用申请人再先申请专利200610038959.X,玻璃片相互粘结为无外加粘结剂自然吸合的熔融粘结方式,由于粘结面间无粘结剂,而是平面自然吸合,因而对粘结面平面度要求极高,例如平面度要求达到0.00008~0.00025mm。此微小翘曲变形,如果超过此平面度要求,则会在粘结面上出现微缝间隙,不仅有时难以完全自然吸合,并且达不到粘结平面完全粘结效果,影响粘结强度和使用寿命;而且在粘结面会有微小缝隙存在,导致测试液残留造成被测物交叉污染,影响测试精度,特别是缝隙过大还会出现比色皿渗漏现象.影响制造合格成品率。上述不足仍有值得改进的地方。
发明内容
本发明目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种研磨至所需平面度后脱离基板不会产生微小翘曲变形的粘结比色皿平面研磨加工方法。
本发明另一目的在于提供一种比色皿粘结平面研磨加工用研磨固定用基板。
本发明第一目的实现,主要改进是在研磨过程中,将需研磨弯板由粘结固定在纯平面基板上加工,变为粘结固定于具有网纹的平面基板上,由原来全面接触固定变成多点接触固定,以减小应力产生及释放,从而克服现有技术的不足,实现本发明目的。具体说,本发明粘结比色皿平面研磨加工方法,包括弯板粘结固定于平面基板,放在研磨盘上研磨固定对侧面,其特征在于所说研磨弯板粘结固定于网纹平面基板。
本发明粘结比色皿平面研磨加工用研磨固定用基板,包括平面基板,其特征在于所说平面基板粘结平面呈网纹状。
本发明所说网纹状,可以是纵横平行槽构成的例如井字型网纹,也可以是斜交槽构成的交错网纹,试验表明对网纹形式没有限定。考虑到被粘结固定比色皿弯板厚度较薄,例如通常只有1.8mm,为使得既有足够的粘结连点接面,使之在研磨过程中不会产生弯板与粘结基板分离,又避免大面积粘结产生、释放应力,试验表明平面基板表面网纹,一种较好网纹每个接触点以不大于10mm2,接触点与接触点间隔大于2mm为优,例如接触点平面≤5*5mm,槽宽2mm。这样既达到粘结为非全平面或大面积粘结,同时又能保持有足够的粘结点面,保证足够的粘结强度,在研磨过程中不易脱落,并且网纹板加工制作难度也较小。但是,本发明所述尺寸不应理解为数学概念的精确值,适当偏差并不会给实际应用带来本质的不良区别。
本发明比色皿粘结平面研磨加工方法及研磨固定用基板,使研磨弯板与基板全平面接触,变为众多点粘结接触,使弯板与固定基板在固定、加工、拆卸分离过程中应力产生及释放减少到最低,与基板分离后基本不会产生翘曲变形,可以确保弯板与玻璃片之间达到全面吻合。克服了现有技术采用全平面接触粘结,在研磨达标后与粘结基板分离产生应力,使已研磨加工平面产生微小翘曲变形的不足,可以确保研磨完成后弯板与粘结固定基板分离,仍保持研磨达到的平面度,特别是用于申请人再先申请专利200610038959.X,玻璃片相互粘结无外加粘结剂自然吸合熔融粘结方式制作比色皿,不会出现有时难以自然吸合,熔接后产生微缝,影响粘结强度造成交叉污染,出现渗漏现象等缺陷,并具有极高的平行度及光程长度的精度,可以确保达到±0.01mm,所生产比色皿质量好,成品率高,实际试验应用可以较原方法提高10%以上,并且延长了使用寿命长。
以下结合三个具体实施例,示例性说明及帮助进一步理解本发明实质,但实施例具体细节仅是为了说明本发明,并不代表本发明构思下全部技术方案,因此不应理解为对本发明总的技术方案限定,一些在技术人员看来,不偏离本发明构思的非实质性增加和/或改动,例如以具有相同或相似技术效果的技术特征简单改变或替换,均属本发明保护范围。
附图说明
图1为第一实施例研磨固定用基板俯视图。
图2为第三实施例研磨固定用基板俯视图。
图3为第三实施例研磨固定用基板俯视图。
具体实施方式
实施例:在长宽为125*125mm的平面金属基板,粘结面按槽宽2mm,槽深2mm,间距5mm,加工横竖垂直相交的井字网纹,粘结点面积1.8*5mm。将弯成U形光学石英玻璃弯板,用松香、白蜡作为粘接材料,粘结于网纹面上,放在研磨盘上进行研磨至平面度达到0.00013mm,分离弯板,再将已研磨加工面粘结,研磨加工相对另一面,研磨至所需要求。采用200610038959.X方法熔融粘结。试验100只样品合格率93%,较原方法提高12%。
实施例2:如实施例1,网纹为斜纹形式,用于粘结研磨直角形光学石英玻璃弯板。
实施例3:如实施例1,基板为圆形。
对于本领域技术人员来说,在本专利构思及具体实施例启示下,能够从本专利公开内容及常识直接导出或联想到的一些变形,本领域普通技术人员将意识到也可采用其他方法,或现有技术中常用公知技术的替代,以及特征问的相互不同组合,例如基板形状变化,网纹形式变化,网纹尺寸变化,等等的非实质性改动,同样可以被应用,都能实现与上述实施例基本相同功能和效果,不再一一举例展开细说,均属于本专利保护范围。
Claims (5)
1.比色皿粘结平面研磨加工方法,包括弯板粘结固定于平面基板,放在研磨盘上研磨固定对侧面,其特征在于所说研磨弯板粘结固定于网纹平面基板。
2.比色皿粘结平面磨加工用研磨固定用基板,包括平面基板,其特征在于所说平面基板粘结平面呈网纹状。
3.根据权利要求2所述比色皿粘结平面研磨加工用研磨固定用基板,其特征在于网纹每个接触点不大于10mm2,接触点与接触点间隔大于2mm。
4.根据权利要求3所述比色皿粘结平面研磨加工用研磨固定用基板,其特征在于网纹接触点平面≤5*5mm。
5.根据权利要求3或4所述比色皿粘结平面研磨加工用研磨固定用基板,其特征在于网纹槽宽2mm,槽深2mm,每条槽间隔5mm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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CN101844322A true CN101844322A (zh) | 2010-09-29 |
Family
ID=42769233
Family Applications (1)
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CN 201010161306 Pending CN101844322A (zh) | 2010-04-26 | 2010-04-26 | 粘结比色皿平面研磨加工方法及研磨固定用基板 |
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