CN101799650A - 行头以及图像形成装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种行头13，其中成像光学系统60具有呈弯曲形状的透镜面62、以及相对于透镜面62而设置在与发光元件74侧相反一侧且呈弯曲形状的透镜面62’，将包含连接透镜面62的中心和透镜面62’的中心的线段(光轴601)且与第1方向平行的第1剖面中的透镜面62的曲率设为C1X、将第1剖面中的透镜面62’的曲率设为C_2X、将包含光轴601且与第1剖面垂直的第2剖面中的透镜面62的曲率设为C_1Y、将第2剖面中的透镜面62’的曲率设为C_2Y时，这些的曲率的绝对值|C_1X|、|C_2X|、|C_1Y|以及|C_2Y|满足成为|C_1X|＜|C_1Y|，|C_2X|＞|C_2Y|的关系。从而能够提供一种可以实现高精度的曝光处理的行头，另外提供一种能够得到高品位的图像的图像形成装置。

Description

行头以及图像形成装置

技术领域

本发明涉及行头以及图像形成装置。

背景技术

在使用电子照相方式的复印机、打印机等图像形成装置中，备有对旋转的感光体的外表面进行曝光处理而形成静电潜像的曝光机构。作为所涉及的曝光机构，周知有将多个发光元件排列于感光体的旋转轴线方向的构造的行头(例如，参照专利文献1)。

作为所涉及的行头，例如，在专利文献1，公开了将多个的LED阵列芯片排列在一方向的光信息写入装置。

在所涉及的光信息写入装置中，与每个各LED阵列芯片对应地设置凸透镜要素，并在凸透镜要素对来自设置于各LED阵列芯片的LED的光进行成像。

在这种专利文献1所公开的行头中，由于凸透镜要素的像场弯曲，凸透镜要素的成像性能随着从光轴远离而降低，在感光体表面，来自相对于凸透镜要素的光轴而设置于远位的LED的光的束斑径，比来自相对于凸透镜要素的光轴而设置于近位的LED的光的束斑径大。

为此，形成于感光体表面的潜像，在由来自相对于凸透镜要素的光轴而设置于近位的LED的光所形成的像素，和由来自相对于凸透镜要素的光轴而设置于远位的LED的光所形成的像素之间产生不均，结果，在最终得到的图像中会产生浓度不均。

【专利文献1】特开平2-4546号公報

本发明的目的在于提供一种能够实现高精度的曝光处理的行头，另外在于提供一种能够得到高品位的图像的图像形成装置。

通过下述的本发明达到这种目的。

本发明的行头具备：发光元件，其配置在第1方向；成像光学系统，其将从所述发光元件发射的光成像在像面，所述成像光学系统，具备：具有折射力的第1透镜面；相对于该第1透镜面设置在与所述发光元件侧相反一侧并具有折射力的第2透镜面，在包含光轴的所述第1方向的剖面以及包含光轴且与所述第1方向的剖面相垂直的第2方向的剖面，所述第1透镜面和所述第2透镜面的曲率具有以下的关系：

|C_1X|＜|C_1Y|

|C_2X|＞|C_2Y|

|C_1X|：所述第1方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，|C_2X|：所述第1方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值，|C_1Y|：所述第2方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，|C_{2 Y}|：所述第2方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值。

本发明的行头中，优选为，所述成像光学系统具备：具有所述第1透镜面的第1透镜；以及具有所述第2透镜面的第2透镜。

本发明的行头中，优选为，所述第1透镜的与所述第1透镜面的相反一侧的面是平面。

本发明的行头中，优选为，所述第1透镜的所述第1透镜面与发光元件相面对而配设。

本发明的行头中，优选为，在所述成像光学系统的前侧焦面侧设置孔径光阑。

本发明的图像形成装置，具有：形成潜像的潜像载持体；对所述潜像载持体进行曝光而形成所述潜像的行头，所述行头，具有：配置在第1方向的发光元件；将从所述发光元件发射出的光成像在潜像载持体上的成像光学系统，所述成像光学系统，具备：具有折射力的第1透镜面，以及相对于该第1透镜面设置在与所述发光元件侧相反一侧且具有折射力的第2透镜面，在包含光轴的所述第1方向剖面以及包含光轴且与所述第1方向的剖面相垂直的第2方向的剖面，所述第1透镜面和所述第2透镜面的曲率满足以下的关系：

|C_1X|＜|C_1Y|

|C_2X|＞|C_2Y|

|C_1X|：所述第1方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，|C_2X|：所述第1方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值，|C_1Y|：所述第2方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，|C_{2 Y}|：所述第2方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值。

根据具有以上的那样的构成的本发明的行头，能够将成像光学系统的像场弯曲量抑制的较小。为此，能够缩小被投影面(受光面)中的基于束斑尺寸的视角的差，并能够抑制束斑尺寸的不均一。其结果，本发明的行头，能够实现高精度的曝光处理。

另外，根据本发明的图像形成装置，能够实现前述那样的高精度的曝光处理，因此能够得到抑制了浓度不均后的高品位的图像。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式所涉及的图像形成装置的整体构成的概略图。

图2是图1所示的图像形成装置中所备置的行头的部分剖面立体图。

图3是图2中的A-A线剖面图。

图4是对图2所示的行头进行俯视时的透镜和发光元件之间的位置关系的图。

图5是表示图2所示的行头中所备置的成像光学系统的剖面图(沿第1方向的剖面)。

图6是对图5所示的成像光学系统中的成像点进行说明的图。

图7是用于对图5所示的成像光学系统的作用进行说明的图。

图8是表示本发明的实施例所涉及的行头所备置的成像光学系统的图。

图9是表示本发明的实施例所涉及的行头所备置的成像光学系统的像场弯曲的曲线图。

图中：

1…图像形成装置  6…第2透镜阵列  6’…第1透镜阵列  60、60a、60b、60c…成像光学系统  601…光轴62、62’…透镜面  64、64a、64b、64c、64’、64a’、64b’、64c’…透镜  65、65’…支撑部  7…发光元件阵列  71…发光元件组(发光元件群)  72…支撑板(头部基板)  721…下表面  722…上表面  73…收置部  74、74a、74b、74c、74d…发光元件81…第2遮光构件  811、821、831…贯通孔  82…第1的遮光构件  83…光阑构件  84…隔离体  9…壳体  91…框构件(壳体本体)  911…内腔部  915…边界部(台阶部)  916…肩部  92…盖构件(里盖)  922…凹部  93…夹钳构件  931…爪部  932…弯曲部  10…图像形成单元  10C、10K、10M、10Y…图像形成台  11…感光鼓(感光体)  111…受光面  12…带电单元  13…行头(曝光单元)  14…显像装置  15…清洁(クリ一ニング)单元  151…清洁刮刀  20…转印单元  21…中间转印传送带  22…一次转印滚筒  23…驱动滚筒  24…从动滚筒  25…二次转印滚筒  26…清洁单元  261…清洁刮刀  30…定影单元  301…定影滚筒  302…加压滚筒  40…搬送机构  41…抵抗(レジスト：resist)滚筒对  42、43、44…搬送滚筒对  50…给纸单元  51…给纸盒  52…拾取滚筒  P…记录介质  S1～S10…面  IFPT1～IFPT4、IFPS1～IFPS4、IFP、FP…成像点  G_S、G_T…距离  L1、L2、L3、L4…光  IS、IT…像面

具体实施方式

以下，基于附图所示的最佳实施方式对本发明的行头以及图像形成装置详细地进行说明。

图1是表示本发明的实施方式所涉及的图像形成装置的整体构成的概略图。图2是图1所示的图像形成装置所备置的行头的部分剖面立体图，图3是图2中的A-A线剖面图，图4是表示对图2所示的行头俯视时的透镜和发光元件的位置关系的图，图5是表示图2所示的行头所备置的成像光学系统的剖面图(包含光轴且沿着第1方向的剖面)，图6是用于对图5所示的成像光学系统中的成像点进行说明的图，图7是用于图5所示的成像光学系统的作用进行说明的图。另外，在以下中，为了说明的方便，将图1～图3以及图5中的上侧成为“上”，将下侧称为“下”。

(图像形成装置)

图1所示的图像形成装置1，是通过包含带电工序·曝光工序·显像工序·转印工序·定影工序的一系列的图像形成过程，将图像在记录介质P上记录的电子照相方式的打印机。本实施方式中，图像形成装置1是采用所谓的串列方式的彩色打印机。

这种图像形成装置1，如图1所示那样，具有：用于带电工序·曝光工序·显像工序的图像形成单元10；用于转印工序的转印单元20；用于定影工序的定影单元30；用于对纸等的记录介质P进行搬送的搬送机构40；向该搬送机构40供给记录介质P的给纸单元50。

图像形成单元10具备：形成黄色调色剂(トナ一)像的图像形成台10Y；形成品红(マゼンタ)调色剂像的图像形成台10M；形成青蓝(シアン)的调色剂像的图像形成台10C；形成黑色调色剂像的图像形成台10K的4个图像形成台。

各图像形成台10Y、10M、10C、10K，分别具有载持静电潜像的感光鼓(感光体)11。并且，在感光鼓11的周围(外周侧)，沿着其旋转方向，配设带电单元12、行头(曝光单元)13、显像装置14、清洁单元15。另外，各图像形成台10Y、10C、10M、10K，除了所使用的调色剂的颜色不同以外，是大致相同的构成。

感光体11的整体形状呈圆筒状，并能够围绕其轴线沿图1中箭头方向旋转。并且，在感光体11的外周面(圆筒面)附近，设置感光层(未图示)。这种感光体11的外周面具有对来自行头13的光L(出射光)进行受光的受光面111(参照图2)。

带电单元12，是通过电晕带电等而使感光体11的受光面111同样地带电的器件。

行头13从未图示的个人计算机等的主机接受图像信息，并与此相对应，向感光体11的受光面111照射光L。若一样地被带电的感光体11的受光面111被照射光L，在受光面111上形成与该光L的照射图案相对应的潜像(静电潜像)。另外，对于行头13的构成留作后边详细叙述。

显像装置14具有贮留调色剂的贮留部(未图示)，从该贮留部，将载持有静电性潜像的感光体11的受光面111供给并付与调色剂。藉此，感光体11上的潜像作为调色剂像而被可视化(显像)。

清洁单元15，具有与感光体11的受光面111抵接的橡胶制的清洁刮刀151，并将后述的一次转印后的感光体11上残存的调色剂利用清洁刮刀151作为刮落(掻き落として)而除去。

转印单元20，将前述那样的各图像形成台10Y、10M、10C、10K的感光体11上形成的各色的调色剂像一并转印到记录介质P。

各图像形成台10Y、10M、10C、10K中，分别，在感光体111旋转之间，顺次进行：基于带电单元12的感光体11的受光面111的带电、基于行头13的受光面111的曝光、基于显像装置14的向受光面111的调色剂的供给、基于与后述的一次转印滚筒22的压接的向中间转印传送带21的一次转印、以及基于清洁单元15的受光面111的清洁。

转印单元20，具有无端头(エンドレス)传送带状的中间转印传送带21，该中间转印传送带21，由多个(图1所示的构成中为4个)一次转印滚筒22和驱动滚筒23以及从动滚筒24中架张，并利用驱动滚筒23的旋转，沿图1所示的箭头方向，以与感光体11的线速度(周速度)大致相同的线速度而被旋转驱动。

各一次转印滚筒22分别隔着中间转印传送带21而与对应的感光体11相面对地被配设，并将感光体11上的单色的调色剂像转印到中间转印传送带21(一次转印)。该一次转印滚筒22，在一次转印时，施加与调色剂的带电极性相反的极性的一次转印电压(一次转印偏压)。

在中间转印传送带21上，载持黄色、品红、青蓝、黑色中的至少1色的调色剂像。例如，在全彩色图像的形成时，在中间转印传送带21上，顺次重合黄色、品红、青蓝、黑色这4色的调色剂像而被转印，作为中间转印像而形成全彩色的调色剂像。

另外，转印单元20，具有：隔着中间转印传送带21而与驱动滚筒23相面对配设的二次转印滚筒25、以及隔着中间转印传送带21而与从动滚筒24相面对地配设的清洁单元26。

二次转印滚筒25，将形成于中间转印传送带21上的单色或全彩色等的调色剂像(中间转印像)，转印到从给纸单元50供给的纸、膜、布等记录介质P(二次转印)。二次转印滚筒25，二次转印时，一边被按压到中间转印传送带21，一边被施加二次转印电压(二次转印偏压)。在这种二次转印时，驱动滚筒23作为二次转印滚筒25的备用滚筒(バツクアツプロ一ラ)而发挥功能。

清洁单元26，具有与中间转印传送带21的表面抵接的橡胶制的清洁刮刀261，并利用清洁刮刀261将残存于二次转印后的中间转印传送带21上的调色剂刮落而除去。

定影单元30，具有定影滚筒301和被压接于定影滚筒301的加压滚筒302，并以记录介质P通过定影滚筒301和加压滚筒302之间的方式构成。另外，定影滚筒301中，内置在其内侧对该定影滚筒的外周面进行加热的加热器，并能够对所通过的记录介质P加热以及加压。利用这种构成的定影单元30，对接受了调色剂像的二次转印后的记录介质P进行加热以及加压，并将调色剂像融着(融着)于记录介质P而作为永久像进行定影。

搬送机构40，具有：抵抗滚筒对41，其计量对前述的二次转印滚筒25和中间转印传送带21之间的二次转印部的给纸时刻，并对记录介质P进行搬送；搬送滚筒对42、43、44，其对由定影单元30的定影处理完成后的记录介质P进行夹持搬送。

这种搬送机构40，仅在记录介质P的一个面进行图像形成的情况下，利用搬送滚筒对42对由定影单元30在另一面定影处理后的记录介质P进行夹持搬送，并向图像形成装置1的外部排出。另外，在记录介质P的两面进行图像形成的情况下，将利用定影单元30在另一面定影处理后记录介质P暂时由搬送滚筒对42夹持后，将搬送滚筒对42反转驱动，并对搬送滚筒对43，44进行驱动，使该记录介质P表里反转而向抵抗滚筒对41返回，并利用与前述同样的动作，在记录介质P的另一面形成图像。

给纸单元50，具有对未使用的记录介质P进行收置的给纸盒51，以及从给纸盒51将记录介质P每1张地向抵抗滚筒对41给送的拾取滚筒52。

(行头)

这里，对行头13进行详述。另外，在以下中，为了说明的方便，长条的(长条な)透镜阵列6的长的(长手)方向(第1方向)成为“主扫描方向”，将宽方向(第2方向)称为“副扫描方向”。

如图3所示的那样，行头13，在感光体11的下方，与其受光面111相面对而被配置。该行头13，从感光体11侧，顺次配置透镜阵列(第1透镜阵列)6’、隔离体84、透镜阵列(第2透镜阵列)6、遮光构件(第1遮光构件)82、光阑构件(孔径光阑)83、遮光构件(第2遮光构件)81以及发光元件阵列7，这些构件被收置于壳体9内。

在该行头13，从发光元件阵列7出射的光L被光阑构件83收束(絞られた)后，顺次通过透镜阵列6’以及透镜阵列6，并向感光体11的受光面111照射。

如图2所示的那样，透镜阵列6以及透镜阵列6’分别由外形呈长条状的板状体构成。

如图3所示的那样，在透镜阵列6的光L所入射的下表面(入射面)，形成呈弯曲形状的多个的透镜面(凸曲面)62。另一方面，透镜阵列6的光L所出射的上表面(出射面)，成为平坦面。

也即，在透镜阵列6，配置多个使光L的入射侧的面为凸曲面、并使光L的出射侧的面为平面的平凸透镜即透镜64。这里，透镜阵列6的各透镜64以外的部分构成对各透镜64进行支撑的支撑部65。

同样，在透镜阵列6’的光L所入射的下表面(入射面)，与前述的多个的透镜面62相对应，形成呈弯曲形状的多个的透镜面(凸曲面)62’。另一方面，透镜阵列6’的光L所出射的上表面(出射面)为平坦面。

也即，在透镜阵列6’中，配置多个使光L的入射侧的面为凸曲面、并使光L的出射侧的面为平面的平凸透镜即透镜64’。这里，透镜阵列6’的各透镜64’以外的部分，构成对各透镜64’进行支撑的支撑部65’。

并且，对应的1对的透镜64以及透镜64’，构成对来自对应的发光元件组71的各发光元件74的光进行成像的成像光学系统60(图5参照)。另外，对该成像光学系统60(特别是透镜64，64’的透镜面形状)，在以后进行详述。

以下，对于透镜64的配置进行说明。另外，对透镜64’的配置(俯视中的配置)，是与透镜64的配置同样的配置，并省略其说明。

如图4所示那样，透镜64在主扫描方向(第1方向)配置多列，并在与主扫描方向以及透镜64的光轴方向分别垂直的副扫描方向(第2方向)配置多行。

更具体地来说，多个透镜64，以3行n列(n为2以上的整数)的行列状被配置。另外，以下，在属于1列(透镜列)的3个的透镜64中，将位于中央的透镜64称作“透镜64b”，并将相对于此而位于图3中左侧(图4中上侧)的透镜64称为“透镜64a”，将位于图3中右侧(图4中下侧)的透镜64称作“透镜64c”。另外，对于与透镜64成对的透镜64’，将与透镜64a相对应的透镜64’称作‘透镜64a’，并将与透镜64b相对应的透镜64’称作‘透镜64b’，将与透镜64c相对应的透镜64称作‘透镜64c’。

在本实施方式中，以属于1列的多个的透镜64(64a～64c)中最靠近副扫描方向的中心侧的位置的透镜64b，相对于感光体11的受光面111成为最近位置的方式将行头13设置在图像形成装置1。藉此，多个的透镜64的光学特性的设定变得容易。

另外，如图2以及图4所示的那样，在各透镜列中，透镜64a～64c分别顺次在主扫描方向(图4中右方向)以等距离错位而被配置。也即，在各透镜列中，连接透镜64a～64c的各透镜中心彼此的线分别相对于主扫描方向以及副扫描方向以规定角度倾斜。

在图3所示的剖面进行观察时，属于1个透镜列的3个透镜64，也即透镜64a～64c中，透镜64a和透镜64c，以他们的光轴601彼此夹着透镜64b的光轴601而对称的方式被配置。另外，透镜64a～64c，以相互的光轴601变得平行的方式被配置。

作为这种透镜阵列6、6’的构成材料，如果是能够发挥前述那样的光学特性的除了即可，没有特别被限定，但是例如也适合使用树脂材料和/或玻璃材料。

作为该树脂材料，能够使用各种树脂材料，例如，可以列举出：聚酰胺、热可塑性聚(酰)亚胺、聚酰胺亚胺芳香族聚酯等的液晶聚合物、聚亚苯氧化物(ポリフエニレンオキシド)、聚亚苯硫化物(ポリフエニレンサルフアイド)、聚乙烯(ポリエチレン)等的聚烯烃(ポリオレフイン)、变性聚烯烃(变性ポリオレフイン)、聚碳酸酯(ポリカ一ボネ一ト)、丙烯酸(アクリル)(异丁烯(メタクリル))、聚甲基丙烯酸甲酯(ポリメチルメタクリレ一ト)、聚乙烯对苯二酸盐(ポリエチレンテレフタレ一ト)、聚丁烯对苯二酸盐(ポリブチレンテレフタレ一ト)等的聚酯、聚乙醚(ポリエ一テル)、聚乙醚乙醚酮(ポリエ一テルエ一テルケトン)，聚醚(ポリエ一テル)亚胺、聚乙缩醛(ポリアセタ一ル)等的热可塑性树脂、环氧树脂、酚醛(フエノ一ル)树脂、尿素(ユリア)树脂、三聚氰胺(メラミン)树脂、不饱和聚酯树脂、聚(酰)亚胺树脂等的热硬化性树脂，光硬化性树脂等，能够将这些中的1或2种以上组合而使用。

即使在这种树脂材料中，像热硬化性树脂、光硬化性树脂那样的树脂材料除了具有折射率比较高的优点外，是热膨胀系数比较低、且难于发生由热引起的膨胀(变形)、变性、劣化的材料，因此较为优选。

另外，作为玻璃材料，苏打玻璃、结晶性玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸盐(ホウケイ酸)玻璃、无碱玻璃等的各种玻璃材料等，但是在后述的发光元件阵列7的支撑板72是由玻璃材料构成的情况下，通过使用与该玻璃材料大致相等的线膨胀率的玻璃材料，能够防止由温度变动引起的发光元件和各透镜的相对位置错位。

另外，在将前述那样的树脂材料以及玻璃材料复合而构成透镜阵列6的情况下，例如，如后述的那样，将由玻璃材料构成的玻璃基板作为支撑部65，在其另一面形成由树脂材料构成的树脂层，可以在与其树脂层的与玻璃基板相反一侧的面形成透镜面62而形成透镜64(参照图5)。另外，透镜阵列6，例如，能够通过在由玻璃材料构成的平板状的构件(基板)的另一面付与由树脂材料构成的以凸曲面状突出的多个的凸部而形成。

如图2、图3所示的那样，在透镜阵列6和透镜阵列6’之间，设置隔离体84。并且，透镜阵列6和透镜阵列6’，隔着隔离体84而被粘合(接合)。

隔离体84，具有对透镜阵列6和透镜阵列6’之间距离即间隙(ギヤツプ)长进行规制的功能。

该隔离体84，以分别与透镜阵列6的外周部和透镜阵列6’的外周部对应的方式呈框状，并分别与这些的外周部接合。另外，隔离体84，如果能够发挥前述的功能，则不限于前述的框状的器件，例如，也可以按照仅与透镜阵列6、6’的外周部中的相互面对的1条边相对应的部分对应的方式，由1对的构件构成，也可以如后述的遮光构件81、82那样，是在板状构件形成与光路对应的贯通孔的构成。

作为这种隔离体84的构成材料，如果是能够发挥前述那样的功能的材料，并没有特别被限定，能够使用树脂材料、金属材料、玻璃材料、陶瓷材料等。

如图3所示那样，在透镜阵列6的光L的入射侧，隔着遮光构件82、光阑构件83以及遮光构件81，而设置发光元件阵列7。发光元件阵列7，具有多个的发光元件组(发光元件组)71和支撑板(头部(ヘツド)基板)72。

支撑板72分别对各发光元件组71进行支撑，外形由呈长条状的板状体构成。该支撑板72，与透镜阵列6平行而配置。

另外，支撑板72，其主扫描方向的长度比透镜阵列6的主扫描方向的长度更长。支撑板72的副扫描方向的长度，比透镜阵列6的副扫描方向的长度更长地被设定。

作为支撑板72的构成材料，没有特别地被限定，但是在如本实施方式那样，在支撑板72的里面侧设置发光元件组71的情况下(也即作为发光元件74使用底发射(ボトムエミツション)型的发光元件的情况下)，适合使用各种玻璃材料、各种塑料等的具有透明性的材料。另外，在作为发光元件74使用顶发射(トツプエミツシヨン)型的发光元件的情况下，作为支撑板72的构成材料，不限于具有透明性的材料，例如，也能够单独或组合铝、不锈钢那样的各种金属材料、各种玻璃材料、各种塑料等而使用。在用各种金属材料、各种玻璃材料构成支撑板72的情况下，能够经由支撑板72对由各发光元件74的发光所产生的热高效率地进行散热。另外，在由各种塑料构成支撑板72的情况下，能够有助于支撑板72的轻量化。

另外，在支撑板72的里面侧，设置向支撑板72侧开放的箱状的收置部73。在该收置部73，收置有将多个的发光元件组71、将这些的发光元件组71(各发光元件74)电连接的导线类(未图示)，或用于对各发光元件74进行驱动的回路(未图示)。

多个的发光元件组71，与前述的多个的透镜64相对应并互相远离的方式，以3行n列(n为2以上的整数)的行列状被配置(例如，参照图4)。另外，各发光元件组71，分别由多个(本实施方式中为8个)的发光元件74构成。

构成各发光元件组71的8个的发光元件74，沿着图3所示的支撑板72的下表面721而被配置。从该8个的发光元件74发出光L，分别经由对应的透镜64，而集光(成像)在感光体11的受光面111上。

另外，如图4所示的那样，8个发光元件74，相互离开，被以4列配置在主扫描方向，在副扫描方向配置2行。如此，8个的发光元件74，呈2行4列的行列状。属于1列(发光元件列)的相互邻接的2个发光元件74彼此在主扫描方向错开而配置。

并且，如此呈2行4列的行列状的8个的发光元件74中，在主扫描方向相邻接的发光元件74彼此之间，被以下的行的1个的发光元件74所补充。

在将8个的发光元件74例如尽可能密地配置于1行配置的过程中存在极限，但是通过如前述那样将8个发光元件74错开而配置，能够进一步提高这些的发光元件74的配置密度。藉此，在将图像记录于记录介质P时，能够进一步提高其对记录介质P的记录密度。因此，能够得到载持有分辨率高、多灰度、且鲜明的图像的记录介质P。

另外，属于1个发光元件组71的8个的发光元件74，在本实施方式以2行4列的行列状被配置，但是不限于此，例如，也可以以4行2列的行列状被配置。

如前述那样，多个的发光元件组71，相互离开并以3行n列的行列状被配置。如图4所示的那样，属于1列(发光元件组列)的3个的发光元件组71，在主扫描方向(图4中右方向)以等间隔错位而配置。

并且，如此呈3行n列的行列状的发光元件组71中，用下一行的发光元件组71以及其下一行的发光元件组71顺次补充邻接的发光元件组71彼此的间隔。

在将多个的发光元件组71例如尽可能密地配置1行配置的过程中，产生极限，通过如前述那样将多个的发光元件组71错开而配置，能够进一步提高这些的发光元件组71的配置密度。藉此，与1个的发光元件组71内的8个发光元件74错开而配置的情况相互结合(相まつて)，将图像记录于记录介质P时，能够提高对其记录介质P的记录密度。因此，能够得到载持有分辨率更高、多灰度且色再现性良好、更加鲜明的图像的记录介质P。

另外，各发光元件74，是底发射构造的有机EL元件(有机电致发光(エレクトロルミネツセンス)元件)。另外，发光元件74，不限于底发射构造的元件，也可以是顶发射构造的元件。该情况下，如前述那样，需要在支撑板72具有光透过性。

若各发光元件74是有机E L元件，能够较小地设定发光元件74彼此的间隔(间距)。藉此，在将图像记录于记录介质P时，其对记录介质P的记录密度变得较高。另外，能够使用各种成膜法以高精度的尺寸以及位置形成各发光元件74。因此，能够得到载持了更鲜明的图像的记录介质P。

本实施方式中，各发光元件74均如发出红色光那样被构成。这里，作为发出红色光的发光层的构成材料，例如，可以列举出(4-氰基甲烷)-2-甲基-6-(对二甲基氨基苯乙烯)-4H-吡喃((4-ジシアノメチレン)-2-メチル-6-(パラジメチルアミノスチリル)-4H-ピラン)(DCM)以及ナイルレツド等。另外，各发光元件74，不限于由发出红色光那样构成的器件，也可以按照发出其他的色的单色光、白色光的方式被构成。如此，在有机EL元件中，能够与发光层的构成材料相对应地将该发光层所发出的光L适宜地设定为任意色的单色光。

另外，通常在电子照相过程中所使用的感光鼓的分光感度特性，以在作为半导体激光器的发光波长的从红色到近红外的区域具有峰值的方式被设定，因此优选为如上述那样利用红色的发光材料。

如图3所示的那样，在透镜阵列6和发光元件阵列7之间，设置遮光构件82、光阑构件83以及遮光构件81。

遮光构件81、82是分别防止邻接的发光元件组71彼此间的光L的干扰(クロスト一ク)的器件。

在这种遮光构件81，形成在图3中上下方向(厚度方向)贯通该遮光构件81的多个的贯通孔(孔径部)811。这些的贯通孔811，分别被配置在与各透镜64相对应的位置。

同样，在遮光构件82，形成在图3中上下方向(厚度方向)贯通该遮光构件82的多个的贯通孔821。这些的贯通孔821，分别被配置在与前述的各透镜64相对应的位置。

贯通孔811、821，分别形成从发光元件组71到与其对应的透镜64的光路。另外，各贯通孔811、821，分别在俯视中呈圆形，在其内侧包含与该贯通孔811、821相对应的发光元件组71的8个的发光元件74。

另外，各贯通孔811，821在图3所示的构成中呈圆筒状，但是不限于此，例如也可以呈向上方而扩大的圆锥台状。

在这种遮光构件81、82之间，设置光阑构件83。

光阑构件83，是将从发光元件组71入射到透镜64的光L限制为规定量的孔径光阑。

特别是，该光阑构件83，被设置在成像光学系统60的前侧焦点面附近。藉此，成像光学系统60成为像侧远心性(テレセントリツク)，即使受光面111和行头13的距离中存在因安装误差等而引起的误差，但是也能够防止投影到受光面111上的发光元件74a、74d、74b、74c(第1发光元件以及第2发光元件)的各自的像的位置错位。

光阑构件83呈板状或层状，并形成在图3中上下方向(厚度方向)贯通该光阑构件83的多个的贯通孔(孔径部)831。这些的贯通孔831，分别被配置在与各透镜64相对应的位置(也即前述的贯通孔811、821)。

另外，光阑构件83的贯通孔831，在俯视中呈圆形，其直径比前述的遮光构件81的贯通孔811的直径小。

优选为，按照与透镜64的距离较短的方式设置这种光阑构件83。藉此，即使在离开光轴601的距离不同的发光元件74间(即使视角不同)，也能够将光入射到与透镜64大致相同区域。

这种遮光构件81、82以及光阑构件83，具有对透镜阵列6和支撑板72和之间的距离、位置关系以及姿势高精度地进行规定的功能。

各透镜64的透镜面62和分别与其对应的发光元件组71的距离，在确定后述的成像光学系统60的成像点的图3中的上下方向的位置方面是重要的条件(要素)。因此，如前述那样，如果遮光构件81、82以及光阑构件83作为对透镜阵列6和发光元件阵列7之间的距离即间隙长进行规制的隔离体而发挥功能，则能够得到高精度、可靠性高的图像形成装置1。

另外，优选为，遮光构件81、82以及光阑构件83，分别至少内周面为黑色、茶褐色、藏蓝(紺色)色等的暗色。

作为这种遮光构件81、82以及光阑构件83的构成材料，如果分别是不透过光的材料即可，没有特别被限定，例如，例如可以列举各种着色剂、铬、氧化铬等的金属系统材料，混炼碳黑色、着色剂后的树脂等。

如图2、图3所示的那样，前述的透镜阵列6和发光元件阵列7和隔离体84和遮光构件81、82和光阑构件83，一并被收置在壳体9内。该壳体9，具有：框构件(壳体本体)91、盖构件(里盖)92、将盖构件92固定于框构件91的多个的夹钳构件93(参照图3)。

如图2所示的那样，框构件91是整体形状为长条的构件。

另外，框构件91呈框状，并如图3所示的那样，在框构件91，形成在其上侧以及下侧开口的内腔部911。该内腔部911的宽，在图3中从下方向上方，阶段性地减小。

在内腔部911，分别嵌入有透镜阵列6’、隔离体84、透镜阵列6、遮光构件82、光阑构件83、遮光构件81、以及发光元件阵列7，它们例如通过粘接剂而被固定。藉此，透镜阵列6’、隔离体84、透镜阵列6、遮光构件82、光阑构件83、遮光构件81以及发光元件阵列7，一并被保持在框构件91，并进行透镜阵列6’、隔离体84、透镜阵列6、遮光构件82、光阑构件83、遮光构件81、和发光元件阵列7的主扫描方向以及副扫描方向的定位。

这里，发光元件阵列7的支撑板72的上表面722，分别与内腔部911的壁面上形成的台阶部915，分别与第2遮光构件81的下表面抵接(当て付い)。并且，在内腔部911，盖构件92从下方被嵌入。

盖构件92，由具有在其上部插入收置部73的凹部922的长条构件构成。该盖构件92的上端面，在与框构件91的边界部915之间，夹持着发光元件阵列7的支撑板72的边缘部。

并且，利用各夹钳构件93，将盖构件92按压到上方。藉此，将盖构件92固定于框构件91。另外，利用被按压后的盖构件92，发光元件阵列7，遮光构件81、82，光阑构件83，以及透镜阵列6的主扫描方向、副扫描方向以及图3中上下方向的各自的位置关系被固定。

优选为，夹钳构件93沿着主扫描方向以等间隔配置多个。藉此，能够将框构件91和盖构件92沿主扫描方向均一地夹持。

夹钳构件93，在图3所示的剖面中，大致呈日语“コ”字状，并通过将金属板折弯加工而形成。在该夹钳构件93的两端部，分别形成向内侧弯折的爪部931。各爪部931，分别与框构件91的肩部916相卡合。

另外，在夹钳构件93的中间部，形成向上以拱形状弯曲的弯曲部932。该弯曲部932的顶部，在如前述的那样各爪部931与肩部916卡合的状态下，压接在盖构件92的下表面。藉此，在弯曲部932弹性变形的状态中，将盖构件92向上方按压。

另外，能够在将对框构件91和盖构件92夹持的各夹钳构件93分别拆卸下的情况下，从框构件91拆下盖构件92。藉此，发光元件阵列7的更换、修理等的保养。

另外，作为框构件91以及盖构件92的构成材料，没有特别被限定，例如能够使用与支撑板72同样的构成的材料。作为夹钳构件93的构成材料，没有特别地被限定，可以列举出例如铝、不锈钢。另外，夹钳构件93也可以由硬质树脂材料构成。

此外，虽然未图示，但是在框构件91的长方向的两端部，分别设置向上方突出的隔离体。该隔离体，对受光面111和透镜阵列6的距离进行规制。

(成像光学系统)

这里，基于图5～图7，对行头13的成像光学系统60进行详述。

如前述的那样，在行头13中，与发光元件组71相对应的1对的透镜64、64’在光轴方向(第3方向)并列设置。并且，如图5所示的那样，该1对的透镜64，64’构成将来自属于与此对应的发光元件组71的发光元件74的光L成像的成像光学系统60。

另外，以下，将包含光轴601且与主扫描方向平行的剖面(第1剖面)称作‘主方向剖面’，将包含光轴601且与主方向剖面垂直的剖面(第2剖面)称作‘副方向剖面’。另外，图5是表示在主方向剖面观察各成像光学系统60的图。另外，在以下中，根据必要，将由1对的透镜64a，64a’构成的成像光学系统60称作‘成像光学系统60a’，将由1对的透镜64b，64b’构成的成像光学系统60称作‘成像光学系统60b’，将由1对的透镜64c，64c’构成的成像光学系统60称作‘成像光学系统60c’。另外，发光元件74a、74b、74c、74，在主扫描方向(第1方向)设置在相互不同的位置，这些的发光元件74a、74b、74c、74中的任意的2个的发光元件构成第1发光元件以及第2发光元件。

该成像光学系统60，在将通过光阑构件83的贯通孔831(光阑孔径)后的光L成像在感光体11的受光面111附近(投影到受光面111)。另外，在本实施方式中，成像光学系统60，成为像侧远心性。

这里，成像光学系统60，关于与主扫描方向(第1方向)垂直的对称面而面对称(反射对称(镜映对称))，并且成像光学系统60关于与副扫描方向(第2方向)垂直的对称面而为面对称(反射对称)。

如此，成像光学系统60，具有与第1方向垂直的第1对称面，以及垂直于与所述第1方向垂直的第2方向的第2对称面，第1对称面和第2对称面的交线是固定的。

在成像光学系统60是旋转对称的情况下，前述的第1对称面和第2对称面的交线与光轴一致。成像光学系统60在非旋转对称的情况下，虽然存在没有严密地定义成像光学系统60的光轴的情况，但是在这样的情况下，能够将前述的交线作为光轴而处理。

另外，所谓前述的面对称，说的是针对从发光元件74发射并通过光阑孔径831后的光束通过各透镜面的区域，透镜面形状是对称的。

成像光学系统60，从与前述的撑板72的下表面721和光轴601相交叉的点(物点)出射光的情况下，将该光在成像点FP成像。

另外，成像光学系统60，将从发光元件74出射的光L成像在受光面111附近的成像点IFP。更具体地，如图6所示的那样，成像光学系统60将从发光元件74出射的光L，在T-T线剖面中成像在成像点IFPT，并在S-S线剖面中成像在成像点IFPS。

这里，T-T线剖面，是包含发光元件74的发光位置(物点)和光轴601的面(子午切剖面)。另外，S-S线剖面，包含从发光元件74发射并向成像点IFP会聚的光束的主光线，并且是与T-T线剖面(子午切剖面)垂直的面(球缺(球欠)切剖面)。

前述的那样，成像光学系统60，具有透镜面(第1透镜面)62，以及相对于透镜面62在与发光元件74侧相反一侧设置的透镜面(第2透镜面)62’。

特别是，在所涉及的成像光学系统60中，将主方向剖面中的透镜面62的光轴上曲率设为C_1X，将主方向剖面中的透镜面62’的光轴上曲率设为C_2X，将副方向剖面中的透镜面62的光轴上曲率设为C_1Y，将副方向剖面中的透镜面62’的光轴上曲率设为C_2Y时，这些曲率的绝对值|C_1X|、|C_2X|、|C_{1 Y}|以及|C_2Y|，满足

|C_1X|＜|C_1Y|，并且

|C_2X|＞|C_2Y|

这样的关系。另外，在本实施方式中，光轴601，与连接透镜面62的中心和透镜面62’的中心的线段(通过透镜面62的中心和透镜面62’的中心的直线)相一致。

藉此，能够将成像光学系统60的像场弯曲量小抑制得较小。为此，能够减小被投影面(受光面111)中的由束斑尺寸(束斑径)的视角引起的差，并能够抑制束斑尺寸的不均一。其结果，行头13能够实现高精度的曝光处理。

若更具体地进行说明，则由具有如前述那样的曲率的透镜面的透镜64，64’构成的成像光学系统60，如图7所示的那样，将从发光元件74a出射的光L1成像在成像点IFPT1、IFPS1，并将从发光元件74b出射的光L2成像在成像点IFPT2、IFPS2，从发光元件74c出射的光L3成像在成像点IFPT3、IFPS3，并将从发光元件74d出射的光L4成像在成像点IFPT4，IFPS4。

这里，成像点IFPT1、IFPT2、IFPT3，IFPT4分别是各视角中的前述的T-T线剖面(子午切剖面)中的成像点。另外，成像点IFPS1、IFPS2、IFPS3、IFPS4，分别是各视角中的前述的S-S线剖面(球缺切剖面)中的成像点。另外，在本说明书中所谓成像点，是指因成像作用光的束斑尺寸(T-T线剖面或S-S线剖面处的宽)成为最小的位置。

这种成像点IFPT1、IFPT2、IFPT3、IFPT4，如图7所示的那样，位于使发光元件74侧(光源侧)为凹那样地弯曲的像面IT上。这里，成像点IFPT1和成像点IFPT4以隔着光轴601而对称的方式而定位，成像点IFPT2和成像点IFPT3以隔着光轴601而对称的方式而定位。

另外，成像点IFPS1、IFPS2、IFPS3，IFPS4，如图7所示的那样，位于使发光元件74侧为凹那样弯曲的像面IS上。这里，成像点IFPS1和成像点IFPS4以隔着光轴601而对称的方式而定位，成像点IFPS2和成像点IFPS3以隔着光轴601而对称的方式定位。

另外，像面IS、IT的弯曲形状，不限于前述的那样。另外，在图7中，为了说明的方便，将像面IS、IT的弯曲状态夸张而图示。

成像光学系统60，通过具有前述那样的|C_1X|，|C_2X|，|C_1Y|以及|C_2Y|的关系而将T-T线剖面以及S-S线剖面中的像场弯曲量分别抑制得较小，并能够将像面IS和像面IT之间的距离抑制得较小。

如前述那样，发光元件74a，74d(第2发光元件)在主扫描方向(第1方向)，与发光元件74b，74c(第1的的发光元件)相比，相对于光轴601位于远位，视角较大。

关于这种视角的不同的发光元件74a，74d以及发光元件74b，74c，能够缩小成像点IFPT1和成像点IFPT2的光轴方向的距离(成像点IFPT3和成像点IFPT4的光轴方向的距离)G_T，以及，成像点IFPS1和成像点IFPS2的光轴方向的距离(成像点IFPS3和成像点IFPS4的光轴方向的距离)G_S。

另外，能够分别缩小成像点IFPT1和成像点IFPS1之间的距离、成像点IFPT2和成像点IFPS2之间的距离、成像点IFPT3和成像点IFPS3之间的距离，以及成像点IFPT4和成像点IFPS4之间的距离。

据此，能够将各成像点IFPT1～4(IFPT)以及各成像点IFPS1～4的离开受光面111的光轴方向的错位量的离散抑制为较小。

其结果，能够抑制受光面111中的光L1～L4的束斑径以及束斑形状的离散，并能够实现高精度的曝光处理。

这里，成像光学系统60，以从发光元件74a、74d(第1发光元件)出射的光L1、L4的受光面111中的横剖面积与从发光元件74b、74c(第2发光元件)出射的光L2、L3的受光面111中的横剖面积相等的方式构成。藉此，能够缩小被投影面(受光面111)中的基于发光元件74a、74d的像素和基于发光元件74b、74c的像素的外观上的浓度差。

具有这种特性的成像光学系统60，能够通过分别如下述那样适宜设定透镜64的透镜面62的形状和透镜64’的透镜面62’的形状而实现。

透镜64如图5所示的那样在由例如玻璃材料构成的支撑部65上而形成。并且，透镜64在与支撑部65相反一侧具有透镜面62。

另一方面，透镜64’与透镜64同样在例如由玻璃材料构成的支撑部65’上形成。并且，透镜64’在与支撑部65’相反一侧具有透镜面62’。

作为对透镜64的透镜面62的形状和透镜64’的透镜面62’的面形状进行规定的定义式，分别，能够使用例如下述的数学式1所表达的定义式(XY多项式面)(更具体来说，参照后述的实施例)。藉此，能够比较的简单且确实地，实现具有前述那样的特性的成像光学系统60。

(数学式1)

数1

$Z=$

$\frac{{\mathrm{cr}}^2}{1+\sqrt{1-(1+K)c^2{r}^2}}+{\mathrm{Ax}}^2+{\mathrm{By}}^2+{\mathrm{Cx}}^4+{\mathrm{Dx}}^2{y}^2+{\mathrm{Ey}}^4+{\mathrm{Fx}}^6+{\mathrm{Gx}}^4{y}^2+{\mathrm{Hx}}^2{y}^4+{\mathrm{Iy}}^6$

这里，上述的数学式1所示的式中，r²＝x²+y²，

x：主扫描方向(第1方向)的坐标，

y：副扫描方向(第2方向)的坐标，

z：光轴方向(第3方向)的坐标，

c：光轴上曲率，

K：二次曲线(コ一ニツク：conic)常数，

A～I：非球面系数。

另外，上述的定义式的各系数c、K、A～I中，透镜64的透镜面62以及透镜64’的透镜面62’的曲率以具有前述那样的关系的方式被适当地设定。

也即，关于上述的定义式的各系数c、K、A～I，将主方向剖面中的透镜面62的光轴上曲率设为C_1X，将主方向剖面中的透镜面62’的光轴上曲率设为C_2X，将副方向剖面中的透镜面62的光轴上曲率设为C_1Y，将副方向剖面中的透镜面62’的光轴上曲率设为C_2Y时，

这些的曲率的绝对值|C_1X|、|C_2X|、|C_1Y|以及|C_2Y|，被设定满足成为

|C_1X|＜|C_1Y|

|C_2X|＞|C_2Y|的关系。

另外，通过使上述的定义式的系数c、K、A～I中的至少一个不同，能够对透镜64的透镜面62和透镜64’的透镜面62’付与不同的定义式。

根据备有以上说明的那样的成像光学系统60的行头13，能够将成像光学系统60的像场弯曲量抑制的较小。为此，能够缩小被投影面(受光面111)的由束斑尺寸(束斑径)的视角引起的差，并能够抑制束斑尺寸的不均一。其结果，行头13能够实现高精度的曝光处理。

另外，根据备有这种行头13的图像形成装置1，能够实现高精度的曝光处理，并能够得到抑制了浓度不均后的高品位的图像。

以上，对图示本发明的行头以及图像形成装置的实施方式进行说明，但是本发明，不限于此，构成行头以及图像形成装置的各部，能够置换为能够发挥同样的功能的任意的构成。另外，也可以附加任意的构成物。

另外，透镜阵列不限于多个透镜配置为2行n列的行列状，例如也可以配置为3行n列、4行n列等的行列状。

另外，1个的成像光学系统，可以由多个的透镜构成，另外，也可以由1个或3个以上的透镜面构成。

另外，在前述的实施方式中，为了说明的方便，对发光元件配置为1行n列的情况进行了说明，但是不限于此，发光元件也可以排列为2行n列、3行n列等的行列状。

另外，在前述的实施方式中，以作为发光元件74而使用有机E L的情况为例而进行了说明，但是发光元件74也可以是LED(发光二极管)。

【实施例】

以下，对本发明的具体的实施例进行说明。

(实施例)

制作备有图8所示那样的成像光学系统的行头。另外，图8是表示本发明的实施例所涉及的行头所备置的成像光学系统的剖面(主方向剖面)图。

本实施例的行头，除了以3个的发光元件74作为主扫描方向而排列的以外，是与图3以及图5所示的行头同样的构成。

这里，在主方向剖面中，以相对于光轴而对称的方式配置在主扫描方向排列的3个的发光元件74。

另外，作为支撑部65，65’的构成材料使用玻璃材料，作为透镜64，64’的构成材料使用树脂材料。

另外，表1表示行头的成像光学系统的面构成。

【表1】

表1

面编号	主剖面中心曲率	面间隔	参照波长折射率
				S1光源面	r1＝∞	d1＝0.55	n1＝1.499857
S2玻璃基材出射面	r2＝∞	d2＝4.04066

面编号	主剖面中心曲率	面间隔	参照波长折射率
				S3孔径光阑	r3＝∞	d3＝0.01
S4树脂部入射面	r4＝(面形状另行记载)	d4＝0.3	n4＝1.525643
				S5树脂-玻璃边界面	r5＝∞	d5＝0.9	n5＝1.536988
S6玻璃基材出射面	r6＝∞	d6＝1.34798
				S7树脂部入射面	r7＝(面形状另行记载)	d7＝0.3	n7＝1.525643
S8树脂-玻璃边界面	r8＝∞	d8＝0.9	n8＝1.536988
				S9玻璃基材出射面	r9＝∞	d9＝0.86
S10像面	r10＝∞

如图8所示的那样，在表1中，面S1是发光元件74和支撑板72的边界面(光源面)，面S2是支撑板72的与发光元件74相反一侧的面(玻璃基材出射面)，面S3是光阑构件83的发光元件74侧的面(孔径光阑)，面S4是透镜64的透镜面62(树脂部入射面)，面S5是透镜64和支撑部65的边界面(树脂-玻璃边界面)，面S6是支撑部65的与透镜64相反一侧的面(玻璃基材出射面)，面S7是透镜64’的透镜面62’(树脂部入射面)，面S8是透镜64’和支撑部65’的边界面(树脂-玻璃边界面)，面S9是支撑部65’的与透镜64’相反一侧的面(玻璃基材出射面)，面S10是受光面111(被投影面)。

另外，面间隔d1是面S1和面S2的间隔，面间隔d2是面S2和面S3和间隔，面间隔d3是面S3和面S4的间隔，面间隔d4是面S4和面S5的间隔，面间隔d5是面S5和面S6的间隔，面间隔d6是面S6和面S7的间隔，面间隔d7是面S7和面S8的间隔，面间隔d8是面S8和面S9的间隔，面间隔d9是面S9和面S10的间隔。

另外，参照波长折射率是相对于参照波长的光的各面的折射率。

另外，设从发光元件74出射的光的波长(参照波长)为690nm，设物体侧孔径数(開口数)为0.153，设物体侧像素组的主扫描方向的全宽为1.155mm，设物体侧像素组的副扫描方向的全宽为0.127mm，设成像光学系统60的倍率为-0.5039。

另外，透镜面62(面S4)、透镜面62’(面S7)的面形状，是在前述的数学式1所示的定义式中，使用下述所示的那样的各系数而进行规定。

<透镜面62的定义式的系数>

c＝1/1.486847

K＝-0.9899585

A＝0.0

B＝0.0233308

C＝0.000462012

D＝0.00306875

E＝-0.002558038

F＝-0.001691206

G＝-0.003828969

H＝0.00349959

I＝0.00407146

这里，透镜面62的主方向剖面中的光轴上的曲率C_1X是1/1.486847，透镜面62的副方向剖面中的光轴上的曲率C_1Y是1/1.390383。

<透镜面62’的定义式的系数>

c＝1/1.212147

K＝0.0

A＝0.0

B＝-0.0478282

C＝-0.06611107

D＝-0.1905610

E＝-0.0946444

F＝-0.0734422

G＝-0.2383737

H＝-0.275994

I＝-0.1187387

这里，透镜面62’的主方向剖面中的光轴上的曲率C_2X是1/1.212147，透镜面62’的副方向剖面中的光轴上的曲率C_2Y为1/1.371128。

(评价)

如此而得到的实施例的成像光学系统，是在主方向剖面中，具有图9所示那样的像场弯曲。另外，在图9中，横轴是将光轴近傍的成像点近傍设为0(基准)时，以左侧作为光源侧，以右侧作为像侧而表示成像点的错位的像场弯曲。另外，以实线表示球缺切剖面(sagittal)中的像面(成像点)，以虚线表示子午切剖面(tangential)的像面(成像点)。

如从图9所明了的那样，在本实施例，子午切剖面(T-T线剖面)以及球缺切剖面(S-S线剖面)的任何一个中，也能够将像场弯曲量抑制的较小。

另外，如果是将这种实施例的行头组入到图1所示的那样的图像形成装置的实施例所涉及的图像形成装置，则能够得到抑制了不均后的高品位的图像。

Claims (6)

1.一种行头，其中，

具备：

发光元件，其配置在第1方向；

成像光学系统，其将从所述发光元件发射的光成像在像面，

所述成像光学系统，具备：具有折射力的第1透镜面；相对于该第1透镜面设置在与所述发光元件侧相反一侧并具有折射力的第2透镜面，

在包含光轴的所述第1方向的剖面以及包含光轴且与所述第1方向的剖面相垂直的第2方向的剖面，所述第1透镜面和所述第2透镜面的曲率具有以下的关系：

|C_1X|＜|C_1Y|

|C_2X|＞|C_2Y|

|C_1X|：所述第1方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，

|C_2X|：所述第1方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值，

|C_1Y|：所述第2方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，

|C_2Y|：所述第2方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值。

2.根据权利要求1所述的行头，其特征在于，

所述成像光学系统具备：具有所述第1透镜面的第1透镜；以及具有所述第2透镜面的第2透镜。

3.根据权利要求2所述的行头，其特征在于，

所述第1透镜的与所述第1透镜面的相反一侧的面是平面。

4.根据权利要求3所述的行头，其特征在于，

所述第1透镜的所述第1透镜面与发光元件相面对而配设。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的行头，其特征在于，

在所述成像光学系统的前侧焦面侧设置孔径光阑。

6.一种图像形成装置，其中，

具有：

形成潜像的潜像载持体；

对所述潜像载持体进行曝光而形成所述潜像的行头，

所述行头，具有：

配置在第1方向的发光元件；

将从所述发光元件发射出的光成像在潜像载持体上的成像光学系统，

所述成像光学系统，具备：具有折射力的第1透镜面，以及相对于该第1透镜面设置在与所述发光元件侧相反一侧且具有折射力的第2透镜面，

在包含光轴的所述第1方向剖面以及包含光轴且与所述第1方向的剖面相垂直的第2方向的剖面，所述第1透镜面和所述第2透镜面的曲率满足以下的关系：

|C_1X|＜|C_1Y|

|C_2X|＞|C_2Y|

|C_1X|：所述第1方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，

|C_2X|：所述第1方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值，

|C_1Y|：所述第2方向的剖面中的所述第1透镜面的光轴上曲率的绝对值，

|C_2Y|：所述第2方向的剖面中的所述第2透镜面的光轴上曲率的绝对值。

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