CN101687239B - 利用液体来处理带状基底的装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种利用液体来处理带状基底(2)的装置，所述装置具有输送系统，所述输送系统包括卷绕系统(11)，所述卷绕系统(11)用于引导所述带状基底(2)以螺旋形路径环绕所述卷绕系统(11)至少一个绕圈；第一带轮器件(12)和第二带轮器件(13)，所述第一带轮器件(12)能围绕第一旋转轴旋转，用于引导所述带状基底(2)的所述至少一个绕圈以第一偏转角绕过所述第一带轮器件(12)的圆周的一部分，所述第二带轮器件(13)用于引导所述带状基底(2)的所述至少一个绕圈以第二偏转角绕过所述第二带轮器件(13)的圆周的一部分，所述第二带轮器件(13)包括为每个绕圈设的能围绕第二旋转轴旋转的一个第二带轮(15)。所述装置进一步包括液体池(30)，其中，所述带状基底(2)穿过所述池中的液体，所述池跨越所述至少一个绕圈的长度的至少一部分。每个第二带轮(15)中的所述第二旋转轴与所述第一旋转轴成α角。

Description

利用液体来处理带状基底的装置

技术领域

本发明涉及一种利用液体来处理带状基底的装置，所述装置包括用于输送所述带状基底的输送系统，所述输送系统包括卷绕系统，所述卷绕系统用于引导带状基底以螺旋形路径环绕卷绕系统至少一个绕圈(winding)，所述卷绕系统包括第一带轮器件和第二带轮器件，所述第一带轮器件能围绕第一旋转轴旋转，用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第一偏转角绕过所述第一带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第二偏转角绕过所述第二带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件包括为每个绕圈设的能围绕第二旋转轴旋转的一个第二带轮，所述装置进一步包括液体池，其中，所述带状基底穿过所述池中的液体，所述池跨越所述至少一个绕圈的长度的至少一部分。 

背景技术

德国公开文献DE 20 34 751描述了一种用于电镀导线的装置。在所述装置中，引导所述导线以螺旋形路径环绕传动辊以及布置在所述传动辊下方的下辊。传动辊设置有为每个绕圈设的一个环形凹槽，而下辊包括为每个绕圈设的可独立旋转的一个导向轮，所述导向轮中的每一个同样均设置有用于导线绕圈的环形凹槽。传动辊和下辊的中心轴(因此导向轮的中心轴)沿水平定向并且彼此平行。下辊布置在用于电镀液的池中。在DE 20 34 751中或多或少作为旁白提及，所讨论的装置还适于加工带状材料。然而，主要缺点在于如下事实：在带状材料的加工过程中，由于带状基底在传动辊与下辊之间以螺旋形状转移到下一个凹槽，使得在带状材料的横向上会产生较高的应力。所述应力可能导致带状材料起皱或者甚至更坏地导致在带状材料中形成裂纹，这对电镀加工会具有非常不利的影响。使用已知装置的另一个缺点在于如下事实：所述装置不适于电镀带状基底的一侧。事实上，由于在带状基底在池中的液体中延伸而不与下辊接触的范围内，是在两侧上处理带状基底，但是在带状基底在池中与下辊接触的范围内，实质上是在一侧即外侧上处理 带状基底，因此所述装置也不是很适于电镀带状基底的两侧。由于带状基底与下辊之间的所述接触，因此经处理的内侧将遭遇被破坏的危险，因为由于上述原因带状基底将倾向于在下辊的表面上移动，所以经处理的内侧越会遭遇被破坏的危险。由于种种原因，结果是沉积在带状基底的外侧和内侧上的层将彼此不同。 

西方电气技术文摘(Western Electric Technical Digest)于1970年10月的第20卷XP002453277xp001333208刊登的博尔科夫斯基(Borkowski)等人的“用于多根通导线处理设备的带轮装置(Pulley arrangement for multiplepass wire handling apparatus)”也描述了一种用于处理导线的装置，这些导线螺旋地接连缠绕在接触辊、第一组滑轮的滑轮以及第二组滑轮的滑轮上。每组滑轮的滑轮可绕一公用轴而共轴旋转，该公用轴歪斜于接触辊的旋转轴。每组滑轮的所有滑轮具有不同的直径。 

US 2,682,335描述了一种带处理设备，该设备利用了具有相等直径和长度的两个筒体，材料带绕筒体螺旋地缠绕。一个筒体的轴线相对于另一筒体的轴线偏移一定角度。 

发明内容

本发明的目的是提供一种前文中所涉及的装置，依靠所述装置能够以很紧凑的方式利用液体来处理带状基底，为此，带状基底以螺旋形输送路径移动，并且其中在带状基底中产生的应力小，从而将带状基底起皱或裂化的危险减到最小。为此，每个第二带轮的第二旋转轴与第一旋转轴成α角。这产生了如下非常重要的优势：带状基底仅需要围绕它的中线扭转(twist)一小角度，并且在带状基底中在横向于带状基底的纵向的方向上所产生的张力和压力很低，使得能最小化或甚至能完全排除裂化和/或起皱的危险，这还取决于带状基底的材料性质和尺寸。除此之外，还可以防止带状基底在第一带轮器件或第二带轮器件上侧向移动的趋势，这种趋势会导致带状基底的纵向边缘被额外地加载，额外地加载可能导致利用液体来处理带状基底时对沉积在带状基底上的材料的损害。 

为了增加产量，所述第二带轮器件优选地具有多个第二带轮。 

此外，所述第二带轮优选地具有相等的直径。这提供了如下优势：仅如果卷绕系统仅包括第一带轮器件和第二带轮器件而不包括任何额外的带轮器 件，诸如不包括下文还将描述的优选实施例中的第三带轮器件，则能够实现用于第二带轮的非常精确的偏转角，例如180度，这使得可以很好的控制带状基底抵靠在相关带轮器件上。这样使得作用在带状基底上的机械载荷最小。 

为了构造的简单，优选的是，与各个第二带轮相关的第二旋转轴彼此平行地延伸。因此，该优选实施例排除了与各个第二带轮相关的第二旋转轴彼此成直线的可能性，与各个第二带轮相关的第二旋转轴彼此成直线的这种可能性会产生如下情况：在防止带状基底中的内部(横向)应力方面，对带状基底材料的引导会是不理想的。 

此外，为了加强上述优势，优选的是，第一带轮器件在所述第一带轮器件引导所述至少一个绕圈的位置处具有第一直径D1，并且每个第二带轮在所述第二带轮引导一个绕圈的相关位置处具有第二直径D2，其中，第二直径D2大于第一直径D1，此外，其中优选的是，第二直径D2的尺寸等于第一直径D1的尺寸除以cos(α)。 

根据一个非常有益的优选实施例，尤其是假设卷绕系统仅包括第一带轮器件和第二带轮器件而不包括任何额外的带轮器件，诸如不包括下文还将描述的优选实施例中的第三带轮器件，则第一偏转角和第二偏转角都等于180度，因此能够以简单的方式实现以下效果：带状基底从第一带轮器件到达第二带轮器件的方向平行于带状基底离开第二带轮器件朝向第一带轮器件的方向，尽管带状基底是在下一个绕圈的高度处离开第二带轮器件。 

为了可以实现根据本发明的装置的紧凑构造，有益的是，所述卷绕系统包括第三带轮器件，所述第三带轮器件用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第三偏转角绕过所述第三带轮器件的圆周的一部分，所述第三带轮器件包括为每个绕圈设的能围绕第三旋转轴旋转的一个第三带轮，每个第三带轮与相关的第二带轮平行地延伸，此外，其中优选地，所述第二偏转角加所述第三偏转角的和等于180度，和/或其中所述第二带轮器件和所述第三带轮器件与所述第一带轮器件间隔相同的距离。 

取决于本发明的应用，在所述第一带轮器件与所述第二带轮器件之间设置池，这会是非常有益的，其中基底材料在池中直线延伸，并且其中，能够利用池中的液体完全沿侧面处理所述基底材料。 

可选择地，尤其是在仅处理带状基底的一侧的情况下，有益的是，所述池在所述第一带轮器件的外侧沿所述第一偏转角的一部分延伸。 

为了精确地处理带状基底的一侧，优选的是，所述第一带轮器件在所述池中形成了用于所述带状基底朝向所述第一带轮器件的一侧的掩体(maskingbody)，从而仅在所述带状基底远离所述第一带轮器件的一侧上利用所述液体来处理所述带状基底。 

能够以如下有益的方式来实现带状基底与第一带轮器件的良好的不透液连接：所述第一带轮器件包括为每个绕圈设的一个接触面，所述接触面在所述带状基底的纵向边缘处向上倾斜。由于池中液体的液压以及带状基底中的张应力而有助于将压力施加在带状基底上，确保了纵向边缘恰当的紧靠接触面的向上倾斜部分，从而能够保证不透液的密封。 

尤其是为了利用液体来电化学地处理带状基底，优选的是，所述第一带轮器件包括为每个绕圈设的一个凹槽，该凹槽具有底部和与所述底部连接的两个直立边缘，其中所述带状基底紧靠所述底部，并且其中，所述带状基底的所述纵向边缘优选地不与所述直立边缘接触。而直立边缘有助于发生电化学过程的电场的均匀性。 

为了有助于所述电场的均匀性，优选地，在所述带状基底的所述纵向边缘与所述凹槽的所述直立边缘之间出现最大为1mm的间隙。 

尤其是如果带状基底的供给以如下方式发生：带状基底的横向是沿垂直定向的，例如如果带状基底从具有垂直旋转轴的辊子展开，则优选的是，所述第一旋转轴具有垂直定向或偏离垂直定向最大为10度的定向。一个重要的附加优势是：由于第一旋转轴至少基本上垂直定向以及优选地第二旋转轴也至少基本上垂直定向，多个绕圈将在彼此上方延伸；并且可以从上侧轻松地进入绕圈的内侧或外侧的空间以用于维护工作，例如更换电解池中的阳极材料。 

然而，可选择地，所述第一旋转轴具有水平定向也可以是非常有益的，在这种情况下，能够将带状基底从上方导入池中或者从池中导出，因此在带状基底进入和离开池的位置处无需用于密封池的设备，从而池能够具有简单的构造。 

尤其是在第一旋转轴具有至少基本上垂直定向的情况下，优选的是，在所述池的至少一个壁中设置至少一个通道，所述带状基底能够通过所述至少一个通道，此外，所述通道优选地布置为允许带状基底在不与所述通道接触 的情况下通过。该后面的方案具有如下优势：带状基底穿过池的壁中的通道不会对利用液体来处理带状基底产生不利影响。 

优选地，所述装置在所述通道远离所述池的内部的一侧设置有盛液盘。 

此外，优选地，循环器件与所述盛液盘结合，经由通道进入所述盛液盘的液体能够通过循环器件返回到所述池，从而能够尽可能有效地利用所述液体。 

根据一个非常重要的优选实施例，所述卷绕系统布置为引导所述带状基底以螺旋形路径环绕所述卷绕系统多个绕圈，其中，所述第一带轮器件和所述第二带轮器件布置为引导在多个相邻位置处间隔一个螺距距离的多个绕圈。因此，利用液体来处理带状基底能够以非常紧凑的方式发生，而在带状基底中产生的应力仍然是最小的。 

所述α角优选地在2度与30度之间的范围内，其中，最佳角度还取决于带状基底的材料性质以及尺寸。 

此外，为了尽可能地减小带状基底中的张应力和滑动的发生，一般优选的是，所述第一带轮器件包括为每个绕圈设的能围绕第一旋转轴旋转的一个第一带轮，其中，各个第一旋转轴是共轴的。多个独立第一带轮的使用具有如下重要优势：它们不需要具有完全相同的角速度，从而无需补偿当带状基底在第一带轮器件上滑动时在带状基底的纵向上发生的伸长。 

此外，同样为了实现上述优势，优选的是，所述输送器件包括用于可旋转地驱动单个第一带轮的驱动器件，此外，优选地，所述单个第一带轮是最靠外的第一带轮。当第一旋转轴具有至少基本上垂直的定向时，所述最靠外的第一带轮由第一带轮器件的最下方的带轮或最上方的带轮形成。 

尤其是如果仅利用液体来处理带状基底的一侧，则优选的是，所述带状基底在所述卷绕系统内仅在一侧上与形成所述卷绕系统的一部分的带轮器件接触。在那种情况下，利用液体来处理的该一侧位于外侧上，同时带状基底的内侧紧靠卷绕系统的带轮器件。已经利用液体处理过的带状基底的外侧不会因带状基底与带轮器件之间的接触而被加载。 

本发明的优势尤其应用于带状基底的电镀处理。在所述框架内，另一个优选实施例的特征在于，所述池是电镀池。 

本发明还涉及一种具有两个接连的装置的组合设备，所述装置为根据如上所述的本发明的装置，其中，从平行于与各个装置相关的所述第一旋转轴 的方向观察，所述带状基底在相反的方向上移动。这样，能够沿进给方向将带状基底进给到所述组合设备内的第一装置，并且能够沿第二方向从所述组合设备的第二装置卸载带状基底，其中，所述第一方向与所述第二方向彼此成直线，这使得该组合设备非常适于并入生产线中。 

根据本发明的另一个方案，本发明提供了一种利用液体来处理带状基底的方法，所述方法包括依靠输送系统将所述带状基底输送通过池的步骤，所述输送系统包括卷绕系统，所述卷绕系统用于引导带状基底以螺旋形路径环绕卷绕系统至少一个绕圈，所述卷绕系统包括第一带轮器件和第二带轮器件，所述第一带轮器件能围绕第一旋转轴旋转，用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第一偏转角绕过所述第一带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第二偏转角环绕所述第二带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件包括为每个绕圈设的能围绕第二旋转轴旋转的一个第二带轮，其中，所述带状基底穿过所述池中的液体，所述池跨越多个绕圈的长度的至少一部分，并且其中，用于每个第二带轮的所述第二旋转轴与所述第一旋转轴成α角。在对根据本发明的装置的上述描述中已经对利用所述装置所获得的优势进行了解释。 

为了尽可能有效地利用可用空间，优选的是，引导所述带状基底以螺旋形路径环绕所述卷绕系统多个绕圈。 

根据本发明的方法尤其适用于生产太阳电池板。现有技术通常将硅板用作基底材料。然而，可选择地，还可以使用由金属尤其是例如铜和不锈钢制成的带状基底，至少一个含有铟、硒和/或镓的层沉积在所述带状基底上。尤其是在所述框架内，优选的是，所述带状基底被电镀处理，所述带状基底是由不锈钢或铜制成的，和/或在所述池中，铟、硒和/或镓沉积在所述带状基底上。 

一般优选的是，所述带状基底以每分钟至少2米的速度通过所述池。 

附图说明

现在将结合下列附图，借助于对根据本发明的装置的两个优选实施例的描述来详细地解释本发明，其中： 

图1a和图1b分别以顶视图和侧视图示意性地示出了利用液体处理带状基底的生产线，所述生产线包括根据本发明的装置的两个优选实施例； 

图1c为图1b中的两个第一带轮和一个第二带轮的根据箭头Ic的示意性的透视图； 

图2为第一优选实施例的部分拆除后的等距视图； 

图3为沿图2中的线III-III的扩大比例的截面图； 

图4为第二优选实施例的部分拆除后的等距视图； 

图5为图4的顶视图； 

图6为沿图5中的线VI-VI的截面图； 

图7示出了图6中的细节； 

图8为沿图5中的线VIII-VIII的截面图； 

图9示出了图8中的细节； 

图10示出了图9中的细节；以及 

图11为沿图5中的线XI-XI的视图。 

具体实施方式

图1a和图1b示意性地示出了用于电镀(electrolytically/galvanicallyplating)柔性带状基底2的生产线1。将带状基底2从进给侧3供给到生产线1，并且在生产线1利用电解液对带状基底2进行处理之后在卸料侧4将其从生产线1卸载。例如，在进给侧3，带状基底2会从供带卷轴(未示出)展开，同时，带状基底2在卸料侧2缠绕到存储卷轴(未示出)上。带状基底2的位于进给侧、卸料侧以及位于生产线1的中心的这些部分(指示为9)彼此成直线。带状基底2定位为：在进给侧3和卸料侧4的位置处，带状基底2的横向在垂直方向上延伸。 

生产线1包括四个接连的电镀生产单元，每个电镀生产单元均可以视为根据本发明的装置的一个优选实施例。前两个生产单元5、6为装置的第一种类型的优选实施例，而后两个生产单元7、8为第二种类型的优选实施例。以下将分别结合图2、图3和图4至图11对第一种类型的生产单元5、6和第二种类型的生产单元7、8进行详细地讨论。 

生产单元5包括卷绕系统11，卷绕系统11包括第一带轮器件12以及第二带轮器件13。第一带轮器件12包括具有相同直径D1的五个第一带轮14，这些带轮14的中心轴共轴且垂直定向。第二带轮器件13包括同样具有相同直径D2的五个第二带轮15。如图3所示，第二带轮15布置在彼此的正上方， 但是它们各自具有与垂向成α角的中心轴16。与五个第二带轮15相关的中心轴16彼此平行地延伸。第二带轮5能围绕它们的中心轴16自由旋转，为此，第二带轮15可旋转地安装在固定设置的轮轴组件19上，轮轴组件19具有垂直的中心轴。 

带状基底2可选择地分别绕过第一带轮器件12和第二带轮器件13的带轮14、15，环绕第一带轮14的偏转角以及环绕第二带轮15的偏转角均为180度。带轮14和15的相对位置被选择为使得：在第二带轮15上偏转角起始的进入点21(图1c)处的位置与带状基底2离开带轮14的位置位于相同的垂直高度。此外，角度α以及直径D2(D2＝D1/cos(α))被选择为使得，给定上述偏转角，则在第二带轮15的偏转角的末端处的出口点22与高于第二带轮15的带轮14(图1c中的14’)位于相同的垂直高度。结果，在带状基底2在接连的带轮14和15之间延伸的范围内，带状基底2将仅围绕带状基底的中线扭转α角，但是所述中线将持续完全水平地延伸。在本优选实施例中，α角的大小为3度。最佳角度部分地取决于带状基底2的材料性质以及尺寸。正是由于第二带轮15的偏转角为180度的事实，因此，尽管第二带轮15倾斜定位，但是带状基底2不仅完全在水平方向上到达第二带轮15而且在偏转180度之后完全在水平方向上离开第二带轮15。 

如上所述的尺寸和方向的选择的重要优势在于，除在带状基底2的纵向上略微负载有张力以外，带状基底在带轮14和15之间仅负载有转矩。更具体地说，在带状基底2的平面上没有力作用在横向上(这种力可能导致带状基底2在垂直于带状基底2的纵向的平面上在带轮14、15上移动)，这产生了带状基底2的高稳定的制导并且显著减小乃至排除了起皱的倾向。 

驱动器件25设置在第一带轮器件12的下方以驱动带状基底2，所述驱动器件仅使第一带轮器件12最上方的带轮14旋转。一方面，其它带轮14、15被向前牵引，也可以说是其被以一定张力绕过各个带轮14、15的带状基底2牵引，而另一方面，其它带轮14、15在带轮14和15之间由有限的摩擦力驱动。由于带状基底2不可避免的会伸长，因此各个带轮14、15不会以相同的角速度移动，从而原则上在带状基底2与各个带轮14、15之间无需任何滑动。因此，即使在非常有限的范围内，在相邻的带轮14和15之间也不会产生所述滑动。 

图2示出了卷绕系统5容纳在盒状容器27内的方式，在进给侧3和卸料侧4，开口28、29分别设置在容器27的端面中，以使带状基底2通过所述开口28、29，其中带状基底2在开口28、29中在相同的垂直平面上延伸，但是其中，带状基底2在开口29中比在开口28中位于更高的高度。本领域技术人员在观察图1b时将意识到的是，所述高度差在生产单元6中又完全消除了。 

电解池30设置在盒状容器27的一半长度处，位于带轮器件12和13之间，使用中，电解液在所述池中呈现在高度31处，高度31位于带状基底2最上方的绕圈的上侧的上方。通道34、35和36、37设置在池30的端壁32、33中，在图2中，所述通道的宽度比实际上需要的宽度大。实际上，选择通道34至37的宽度以使得带状基底2能够在不与其接触的情况下恰好通过通道34至37。 

盛液盘38、39分别设置在壁32与第一带轮器件12之间以及壁33与第二带轮器件13之间，用于容纳来自池30的经由通道34至37从池30中泄漏的液体。所述液体通过循环器件(未示出)返回到池30中。 

鼓风器件40、41设置在盛液盘38、39中，位于通道34和37处，即在带状基底2离开池30的位置处，鼓风器件40、41用于吹干带状基底2的两侧，从而所述带状基底2将在干燥或至少略微干燥的状态下与第一带轮14或第二带轮15中的一个接触。 

对本领域技术人员来说显而易见的是，利用非常紧凑的装置中的生产单元5，可以以高的生产率在池30中将层电化学地沉积在带状基底2的任意一侧上。电解过程对本领域技术人员来说是充分公知的，因此无需进行进一步的解释。仅需要注意到的是，阳极材料可以出现在池30中，溶解于池中的液体中并且沉淀在带状基底2的两侧上，但这不是必须的。可选择地，阳极材料还可以在池30的外部溶解。为了促进阳极材料的沉淀，经由接触器件(未示出)对带状基底2施加负电压，例如，接触器件可以形成带轮14、15的一部分。 

生产单元6与生产单元5在很大程度上相似，区别在于：在各个生产单元5、6中，带状基底2的行进路径的垂直变化发生在相反的方向上，这是在生产单元6中仅驱动第一带轮器件12最下方的带轮14而不是最上方的带轮14的原因，而在生产单元5中仅驱动最上方的带轮14。 

图4至图11更详细地示出了根据第二优选实施例的生产单元7。由于生产单元7、8具有极大相似性，因此几乎完全无需向已经学习了生产单元7的说明书的技术人员解释生产单元8。 

生产单元7包括卷绕系统51，卷绕系统51包括第一带轮器件52、第二带轮器件53以及第三带轮器件54。在第一带轮器件52包括多个中心轴共轴且垂直定向的第一带轮55的意义上来说，第一带轮器件52与生产单元5的第一带轮器件12相当。仅最上方的带轮55由驱动电动机56可旋转地驱动。 

而在第二带轮器件53和第三带轮器件54各自分别包括多个第二带轮57和多个第三带轮58的意义上来说，第二带轮器件53和第三带轮器件54各自依次与生产单元5的第二带轮器件13相当，对于每个第二带轮器件53和第三带轮器件54来说，第二带轮57和第三带轮58分别布置在彼此的正上方。与第二带轮57和第三带轮58相关的中心轴各自与垂向成大约3度的α角并且彼此平行地延伸。如图11所示，第二带轮57和第三带轮58相对于彼此放置为使得相应带轮57、58彼此成直线。带轮57、58进一步设置有用于将负电压施加到带状基底2上以便促进电镀过程的接触器件(未示出)。 

带状基底2可选择地绕过各个带轮器件52、53、54的带轮55、57、58，环绕第一带轮55的偏转角为180度而环绕第二带轮57的偏转角和环绕第三带轮58的偏转角均为90度。因此，第二带轮57和第三带轮58的偏转角相加等于180度。 

带轮55和57的相对位置被选择为使得：在带状基底2在接连的带轮55和57之间延伸的范围内，带状基底2(的中线)完全水平延伸并且在所述范围内仅扭转大约α角。因为接连的带轮57和58彼此成直线(图11)并且各个偏转角为90度，所以带状基底2在带轮57和58之间向上倾斜(没有任何扭转)，随后在带轮58的90度偏转角的末端又完全在水平方向上离开带轮58。因此，事实上，带轮57、58联合具有和与生产单元5相关的带轮15相同的功能，即将带状基底2移动到更高的(或者，对于生产单元6、8来说，更低的)高度，从而以便形成下一个绕圈，而不会在带状基底2中产生任何横向力。与使用一个带轮器件13相比，使用两个带轮器件53、54的优势尤其在于：使用两个带轮器件53、54需要少量的空间。 

卷绕系统51容纳在正方形的盒装容器71中。开口61(图6)、开口62(图4)在盒装容器71的两个相对壁中彼此成直线设置以允许带状基底2穿 过。一个至少大致为C形的池72设置在容器71内，位于第一带轮55的180度偏转角的一部分的外侧，第一带轮55在容器71的中心。第一带轮器件52的外侧形成C形池72的内侧上的立壁的一部分，而池72的C形外侧上的壁的部分由附图标记73来表示。此外，池72的周界由从第一带轮器件52向外延伸并且连接外壁73的端面壁74限定。 

在池72中，设置阳极筐75以盛装阳极材料，阳极筐75例如呈球状物的形式。所述阳极材料经由阳极接头76阳极地(anodically)连接。使用中，池72充满的电解液的高度比带状基底2最上方的卷绕的高度高。此外，在池72中，在距带轮55的外侧的距离相对短的地方，在带轮55之间的转换的位置处设置弯曲且水平定向的屏蔽带(screening strips)77，屏蔽带77沿池72的长度的较大部分延伸，屏蔽带场线能够通过带轮55之间的转换位置。 

尤其如图7、图9和图10所示，第一带轮55沿圆周设置有凹槽79，凹槽79的底部由沿凹槽79的整个圆周延伸的弹性带状掩体80组成。例如，掩体80由橡胶制成。凹槽79的宽度刚好比带状基底2的宽度略大，结果，在凹槽79的立壁与带状基底2的纵向边缘之间出现宽度为大约0.3mm的间隙81。掩体80的由带状基底2紧靠的一侧包括位于带状基底2的纵向边缘处的向上倾斜部82(参见图10)，所述纵向倾斜部82恰好在带状基底2的宽度内开始，从而确保带状基底2恰当紧靠掩体80，结果，带状基底2的电镀处理将仅在带状基底2的外侧上发生，在图7、图9、图10中，带状基底2比实际使用中要厚得多。 

在远离池72的一侧，生产单元7设置有盛液盘91，事实上盛液盘91在第一带轮器件52的下方形成了共用盛液盘。所述盛液盘用于容纳来自池72的液体，这些液体经由端面壁74的靠内定向的端部与第一带轮器件52的外侧之间的间隙从池72中漏出。所述液体由循环器件(未示出)泵回到池72。 

闭合板83设置在第一带轮器件52的外侧上，位于图8、图9和图10所示出的截面处并且靠近端面壁74，带状基底2能够在不与闭合板83接触的情况下恰好通过闭合板83。密封板设置有延伸到凹槽79中的突起84。密封板83以这样的方式确定尺寸并定位：一侧的包括带状基底2的第一带轮器件52和另一侧的密封板83之间呈现小的间隙。靠近端面壁74的密封板83设计为用于减小池72的泄漏，同时图8、图9、图10所示的密封板83更确切地说是用于防止飞溅的液体从盛液盘91通过所述密封。 

已经阅读了对生产单元号7的以上描述的技术人员也将理解生产单元8的操作和构造。在生产单元8内，带状基底2返回到与带状基底2到达生产单元7的高度相同的垂直高度。在生产单元8中，可旋转地驱动最下方的第一带轮55而不是最上方的第一带轮55。 

本领域技术人员将意识到的是，本发明不局限于如上所述的本发明的优选实施例，而是本发明的范围早就由所附的权利要求确定。可选择地，例如使用第一、第二或者可用的第三带轮器件，且与第一、第二或者第三带轮器件相关的旋转轴水平而非(基本上)垂直定向，这也可以在本发明的框架内。从顶视图上观察，第二旋转轴(或多个轴)或者可用的第三旋转轴(或多个轴)与第一旋转轴成一夹角，同时第二带轮器件或者可用的第三带轮器件优选地设置在第一带轮器件的上方。尽管在优选实施例的以上描述中始终提到引导带状基底以螺旋形路径环绕卷绕系统多个绕圈，但是可选择地，在本发明的框架内完全可以使用这样的卷绕系统，该卷绕系统引导带状基底以螺旋形路径环绕卷绕系统仅一个绕圈，例如(但不限于)用于使带状基底通过清洗池。 

Claims (33)

1.一种利用液体来处理带状基底的装置，所述装置包括用于输送所述带状基底的输送系统，所述输送系统包括卷绕系统，所述卷绕系统用于引导带状基底以螺旋形路径环绕卷绕系统至少一个绕圈，所述卷绕系统包括第一带轮器件和第二带轮器件，所述第一带轮器件能围绕第一旋转轴旋转，用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第一偏转角绕过所述第一带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第二偏转角绕过所述第二带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件包括多个第二带轮，每个第二带轮是为每个绕圈设的且能围绕第二旋转轴旋转，所述装置进一步包括液体池，其中，所述带状基底穿过所述池中的液体，所述池跨越所述至少一个绕圈的长度的至少一部分，由此，每个第二带轮的所述第二旋转轴与所述第一旋转轴成α角，所述α角在2度与30度之间的范围内，其特征在于，与各个第二带轮相关的第二旋转轴彼此平行地延伸。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二带轮具有相等的直径。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第一带轮器件在所述第一带轮器件引导所述至少一个绕圈的位置处具有第一直径D1，并且每个第二带轮在所述第二带轮引导一个绕圈的相关位置处具有第二直径D2，其中，所述第二直径D2大于所述第一直径D1。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第二直径D2的尺寸等于所述第一直径D1的尺寸除以cos(α)。

5.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第一偏转角与所述第二偏转角二者都等于180度。

6.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述卷绕系统包括第三带轮器件，所述第三带轮器件用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第三偏转角绕过所述第三带轮器件的圆周的一部分，所述第三带轮器件包括为每个绕圈设的能围绕第三旋转轴旋转的一个第三带轮，每个第三带轮与相关的第二带轮平行延伸。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第二偏转角加所述第三偏转角的和等于180度。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第二带轮器件和所述第三带轮器件与所述第一带轮器件间隔相同的距离。

9.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述池设置在所述第一带轮器件与所述第二带轮器件之间。

10.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述池在所述第一带轮器件的外侧沿所述第一偏转角的一部分延伸。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一带轮器件在所述池中形成了用于所述带状基底朝向所述第一带轮器件的一侧的掩体，从而仅在所述带状基底的远离所述第一带轮器件的一侧上利用液体来处理所述带状基底。

12.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一带轮器件包括为每个绕圈设的一个接触面，所述接触面在所述带状基底的纵向边缘处向上倾斜。

13.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一带轮器件包括为每个绕圈设的一个凹槽，所述凹槽具有底部和与所述底部连接的两个直立边缘，其中，所述带状基底紧靠所述底部，并且其中所述带状基底的纵向边缘不与所述直立边缘接触。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，在所述带状基底的所述纵向边缘与所述凹槽的所述直立边缘之间出现最大为1mm的间隙。

15.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第一旋转轴具有垂直定向或偏离垂直定向最大为10度的定向。

16.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第一旋转轴具有水平定向。

17.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，在所述池的至少一个壁中设置至少一个通道，所述带状基底能够通过所述至少一个通道。

18.根据权利要求17所述的装置，其特征在于，所述通道布置为允许所述带状基底在不与所述通道接触的情况下通过。

19.根据权利要求17所述的装置，其特征在于，盛液盘设置在所述通道远离所述池的内部的一侧。

20.根据权利要求19所述的装置，其特征在于，设置有循环器件，经由通道进入所述盛液盘的液体能够通过所述循环器件返回到所述池。

21.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述卷绕系统布置为引导所述带状基底以螺旋形路径环绕所述卷绕系统多个绕圈，其中，所述第一带轮器件和所述第二带轮器件布置为引导在多个相邻位置处间隔一个螺距距离的多个绕圈。

22.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述第一带轮器件包括为每个绕圈设的能围绕第一旋转轴旋转的一个第一带轮，其中，所述各个第一旋转轴是共轴的。

23.根据权利要求22所述的装置，其特征在于，所述输送系统包括用于可旋转地驱动单个第一带轮的驱动器件。

24.根据权利要求23所述的装置，其特征在于，所述单个第一带轮是最靠外的第一带轮。

25.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述带状基底在所述卷绕系统内仅在一侧上与形成所述卷绕系统的一部分的带轮器件接触。

26.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述池为电镀池。

27.一种具有两个接连的装置的组合设备，所述装置为根据前述权利要求中的任一项所述的装置，其特征在于，从平行于与各个装置相关的所述第一旋转轴的方向观察，所述带状基底在相反的方向上移动。

28.一种利用液体来处理带状基底的方法，包括依靠输送系统将所述带状基底输送通过池的步骤，所述输送系统包括卷绕系统，所述卷绕系统用于引导带状基底以螺旋形路径环绕卷绕系统至少一个绕圈，所述卷绕系统包括第一带轮器件和第二带轮器件，所述第一带轮器件能围绕第一旋转轴旋转，用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第一偏转角绕过所述第一带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件用于引导所述带状基底的所述至少一个绕圈以第二偏转角绕过所述第二带轮器件的圆周的一部分，所述第二带轮器件具有多个第二带轮，每个第二带轮是为每个绕圈设的且能围绕第二旋转轴旋转，其中，所述带状基底穿过所述池中的液体，所述池跨越多个绕圈的长度的至少一部分，由此，每个第二带轮的所述第二旋转轴与所述第一旋转轴成α角，所述α角在2度与30度之间的范围内，其特征在于，与各个第二带轮相关的第二旋转轴彼此平行地延伸。

29.根据权利要求28所述的方法，其特征在于，引导所述带状基底以螺旋形路径环绕所述卷绕系统多个绕圈。

30.根据权利要求29所述的方法，其特征在于，所述带状基底被电镀处理。

31.根据权利要求29或30所述的方法，其特征在于，所述带状基底是由不锈钢或铜制成的。

32.根据权利要求29或30所述的方法，其特征在于，在所述池中，将铟、硒或镓沉积在所述带状基底上。

33.根据权利要求29或30所述的方法，其特征在于，所述带状基底以每分钟至少2米的速度通过所述池。

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