CN101661345A

CN101661345A - 触控面板及其制造方法

Info

Publication number: CN101661345A
Application number: CN200810146812A
Authority: CN
Inventors: 曾馨贤
Original assignee: Swenc Technology Co Ltd
Current assignee: Swenc Technology Co Ltd
Priority date: 2008-08-25
Filing date: 2008-08-25
Publication date: 2010-03-03

Abstract

本发明提出一种触控面板及其制造方法。其制造过程只需要控制一光学镀膜的L^*a^*b^*色彩空间(Lab color space)的b值为负数，而制造的触控面板就能够维持整体的b值在－0.5～0.5之间，使触控面板的呈色维持在理想状态。

Description

触控面板及其制造方法

技术领域

本案是指一种触控面板及其制造方法，尤指一种调整光学色座标值的触控面板及其制造方法。

背景技术

配置在各种显示器上的触控面板，由于其使用的方便性，已成为相当普及的技术，运用在诸如手机、PDA、ATM、售票系统等装置。已知的触控面板具有多层结构，例如电阻式触控面板包括透明薄膜或玻璃所成的基材、镀于基板上的金属导电膜(材质通常是氧化铟锡)、介于两导电膜间的点隔片(Dot Spacer)等，由于材料选用上的限制，加上多层薄膜的层迭，使材料中的杂质或材料本身会吸收可见光中的蓝紫光，这导致触控面板结构所呈现的光学特性，会使透过触控面板的光线会有偏黄的现象，也就是一般所说的L^*a^*b^*色彩空间(Lab color space)的b值偏高，如此一来会导致显示器的画面受到影响，造成原显示画面的失真而造成使用者的不便，使制品品质降低。

以往为解决此问题，面板制造商需花费大量金钱与时间，试图从材料与制程来改变触控面板的光学特性，搜寻或研发不易影响透过光线呈色的方法。但这样的方案却使得产品制造成本过高，材料受限较大，显然不利于市场竞争。

因此，申请人鉴于已知技术中所产生的缺失，经过悉心试验与研究，并一本锲而不舍的精神，终构思出本案“触控面板及其制造方法”，能够克服上述缺点，以下为本案的简要说明。

发明内容

本案发明人在反复思考后提出本发明的触控面板及其制造方法。当依本发明所揭露的制造方法进行触控面板的生产时，整体的制造过程只需要控制一光学镀膜的L^*a^*b^*色彩空间(Lab color space)的b值为负数，而制造的触控面板就能够维持整体的b值在-0.5～0.5之间。本发明所提出的触控面板及其制造方法能够提高生产效能，并降低生产成本。

根据本发明的构想，提出一种触控面板，其包括一第一基板；一第一导电层，设于该第一基板上；一间隔层，设于该第一导电层上；一第二导电层，设于该间隔层上；一第二基板，设于该第二导电层上；及一光学镀膜，设于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一，其L^*a^*b^*色彩空间(Lab color space)的b值为负数，而该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该第一基板与该第二基板为一透明绝缘薄膜。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该第一导电层与该第二导电层为一透明导电薄膜。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该第一导电层与该第二该导电层的材质是为一金属氧化物。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该光学镀膜的折射率是小于该第一导电层与第二导电层的折射率。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该光学镀膜设于该第一基板下。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该光学镀膜设于该第二基板上。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该光学镀膜的材质是为一有机化合物、一无机化合物及其该有机化合物与该无机化合物所成的一混合物三者任选其一。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板，其中该无机化合物是为金属氧化物、金属氟化物任选其一。

又根据本发明的构想，提出一种触控面板的制造方法，其步骤包括：提供一第一基板；形成一第一导电层于该第一基板上；形成一间隔层于该第一导电层上；形成一第二导电层于该间隔层上；形成一第二基板于该第二导电层上；及形成L^*a^*b^*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板的制造方法，该光学镀膜是采用蒸镀法、溅镀法、电镀法、化学气相沉积法、湿式涂布法任选其一。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板的制造方法，其中该步骤更包括形成L^*a^*b^*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板下，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板的制造方法，其中该步骤更包括形成L^*a^*b^*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第二基板上，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

又根据本发明的构想，提出一种触控面板，其包括一基板；一导电层，设于该基板上；及一光学镀膜，设于该基板与该导电层之间，其L^*a^*b^*色彩空间的b值为负数，而该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该基板为一透明绝缘薄膜。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该导电层为一透明导电薄膜。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该导电层的材质是为一金属氧化物。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该光学镀膜的折射率是小于该导电层的折射率。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该光学镀膜设于该基板下。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该光学镀膜的材质是为一有机化合物、一无机化合物及其该有机化合物与该无机化合物所成的一混合物三者任选其一。

较佳地，本发明所提供的触控面板，其中该无机化合物是为金属氧化物、金属氟化物任选其一。

又根据本发明的构想，提出一种触控面板的制造方法，其步骤包括提供一基板；形成一导电层于该基板上；及形成L^*a^*b^*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该基板与该导电层之间，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板的制造方法，其中该光学镀膜是采用蒸镀法、溅镀法、电镀法、化学气相沉积法、湿式涂布法任选其一。

较佳地，本发明所提供的该种触控面板的制造方法，更包括形成L^*a^*b^*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该基板下，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

本发明所提出的触控面板及其制造方法能够提高生产效能，并降低生产成本。

附图说明

图1：为本发明触控面板的一实施例的部分结构图。

具体实施方式

本案将可由以下的实施例说明而得到充分了解，使得熟习本技艺的人士可以据以完成，然本案的实施并非可由下列实施案例而被限制其实施型态。

本案发明以光学镀膜将其L^*a^*b^*色彩空间(Lab color space)中的b值控制在负数，使整个触控面板的b值不至于处于过大的正数而能趋近于0，避免触控面板出现颜色偏黄的现象。因此，该光学镀膜需要控制其反射率。也就是说，使光学镀膜与相邻薄膜的折射率间产生高低折射率差，以抑制可见光中相对较短波长的蓝光的反射，以达到控制b值的效果。

请参阅图1，其为本案所提出的触控面板的第一实施例，该触控面板1包括：上导电层11、下导电层12、间隔层13、光学镀膜14、上基板16、下基板17。通常上导电层11、下导电层12以适当厚度分别形成于适当厚度的第一上基板16、下基板17，在上导电层11与下导电层12间通常以一般统称为dot spacer的间隔层13隔开，以避免无触摸时造成短路而产生误动作。但在上导电层11、下导电层12形成于上基板16、下基板17前，可先形成一光学镀膜14于下基板17上，使该光学镀膜14的折射率介于下导电层12的折射率与下基板17的折射率间。

熟悉本领域技艺者当知，反射率是波长、膜层厚度与折射率的函数，如果膜层厚度和折射率是确定值，那么反射率就仅仅是波长的函数，因此本发明的光学镀膜需控制其最小反射率波长，将该光学镀膜14的最小反射率波长控制在可见光的相对较短波长，即380～500nm的范围，如此一来就可以用光学镀膜14抑制蓝光反射，使原本采用习用材质所组成的上导电层11、下导电层12、间隔层13、上基板16、下基板17等膜层所产生的黄光受到抑制，进而调整整体触控面板的b值趋近于0。此外，除了间隔层13以外，该光学镀膜14可存在于该触控面板中的任何一层，只要能控制膜层高低折射率差减少蓝光反射即可。

依据上述触控面板的构想，其制作方法为提供一下基板17，该下基板17以例如玻璃、聚碳酸酯(Polycarbonate)、压克力(Polymethyl Methacrylate，PMMA)或聚酯塑胶(Poly Ethylene Terephthalate，PET)、聚氯乙烯、聚烯烃(Polyolefin)等透明材质以适当厚度组成。然后，将光学镀膜14以习用方式形成于下基板17上。光学镀膜14必须为透明不导电材质，主要是以有机化合物、无机化合物或前两者所成的群组所构成。有机化合物可为环氧树脂(Epoxy Resin)、聚亚酰胺(Polyimide)、压克力、聚碳酸酯(Polycarbonate)、聚酯塑胶等材料。无机化合物则为氧化钕(Nd₂O₃)、氧化锆(ZrO₂)、氧化铟(In₂O₃)、氧化钛(TiO，TiO₂，Ti₂O₃，Ti₃O₅)、氧化铝(Al₂O₃)、氧化镁(MgO)、氧化铪(HfO₂)、氧化铌(Nb₂O₅)、氧化钽(Ta₂O₅)、氧化锌(ZnO)等金属氧化物或氟化镁(MgF₂)、氟化镱(YbF₃)、氟化钇(LaF₃)、氟化镝(DyF₃)、氟化钕(NdF₃)、氟化铒(ErF₃)、氟化钾(KF)、氟化锶(SrF₃)、氟化钐(SmF₃)、氟化钠(NaF)、氟化钡(BaF₂)、氟化铈(CeF₃)等金属氟化物材料或硼硅酸盐类材料。上述这些材质经由适当挑选或以适当比例混合而构成光学镀膜14。

在光学镀膜14上，采用蒸镀、溅镀、电镀法、化学气相沉积法(ChemicalVapor Deposition，CVD)、湿式涂布法等方法形成一层适当厚度的下导电层12。下导电层12则由例如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)的材质所构成。在下导电层12上则形成间隔层13，再将与下导电层12同类材质的上导电层11、与下基板17同类材质的上基板16，以适当厚度所制成的触控面板的上部分与间隔层13接合，则完成本案所提出的触控面板1。

在此需要特别强调，虽然上述实施例中的触控面板1为一电阻式触控面板，但事实上本案发明并不限于电阻式触控面板，还包括电容式等只要具有L^*a^*b^*色彩空间的b值为正数特征的触控面板，都属于本案发明可适用的范围。

经由以上所揭露的技术内容，能够以光学镀膜的反射率抑制蓝光的反射，以达到控制L^*a^*b^*色彩空间的b值的目的，以制成不产生偏黄色彩的触控面板，不但能降低材料成本，更可以符合市场需求。

本案实为一难得一见，值得珍惜的罕见发明，只是以上所述者，仅为本发明的最佳实施例而已，当不能以之限定本发明所实施的范围。即大凡依本发明权利要求范围所作的均等变化与修饰，皆应仍属于本发明专利涵盖的范围内，谨请贵审查委员明鉴，并祈惠准，是所至祷。

Claims

1.一种触控面板，其包括：

一第一基板；

一第一导电层，设于该第一基板上；

一间隔层，设于该第一导电层上；

一第二导电层，设于该间隔层上；

一第二基板，设于该第二导电层上；及

一光学镀膜，设于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一，其L*a*b*色彩空间的b值为负数，而该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

2.如权利要求1所述的触控面板，其中该第一基板与该第二基板为一透明绝缘薄膜。

3.如权利要求1所述的触控面板，其中：

该第一导电层与该第二导电层为一透明导电薄膜；及/或

该第一导电层与该第二该导电层的材质是为一金属氧化物。

4.如权利要求1所述的触控面板，其中该光学镀膜的最小反射率波长在380～500nm的范围内。

5.如权利要求1所述的触控面板，其中：

该光学镀膜设于该第一基板下；或

该光学镀膜设于该第二基板上。

6.如权利要求1所述的触控面板，其中该光学镀膜的材质是为一有机化合物、一无机化合物及其该有机化合物与该无机化合物所成的一混合物三者任选其一，而该无机化合物是为金属氧化物、金属氟化物任选其一。

7.一种触控面板的制造方法，其步骤包括：

(a)提供一第一基板；

(b)形成一第一导电层于该第一基板上；

(c)形成一间隔层于该第一导电层上；

(d)形成一第二导电层于该间隔层上；

(e)形成一第二基板于该第二导电层上；及

(f)形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板与该第一导电层之间与该第二基板与该第二导电层之间任选其一，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

8.如权利要求7所述的方法，其中该光学镀膜是采用蒸镀法、溅镀法、电镀法、化学气相沉积法、湿式涂布法任选其一。

9.如权利要求8所述的方法，其中：

步骤(f)更包括形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第一基板下，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间；或

步骤(f)更包括形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该第二基板上，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

10.一种触控面板，其包括：

一基板；

一导电层，设于该基板上；及

一光学镀膜，设于该基板与该导电层之间，其L*a*b*色彩空间的b值为负数，而该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。

11.一种触控面板的制造方法，其步骤包括：

(a)提供一基板；

(b)形成一导电层于该基板上；及

(c)形成L*a*b*色彩空间的b值为负数的一光学镀膜于该基板与该导电层之间，调整该触控面板的b值介于-0.5～0.5之间。