CN101652716A

CN101652716A - 感光性树脂组合物、感光性膜、以及使用了它的图案形成方法及印制电路板

Info

Publication number: CN101652716A
Application number: CN200880010483A
Authority: CN
Inventors: 池田贵美
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2007-03-30
Filing date: 2008-02-05
Publication date: 2010-02-17
Also published as: WO2008126455A1; JP2010145425A; KR20100014433A

Abstract

本发明提供耐镀敷性、灵敏度、显影性及密合性良好的感光性树脂组合物、感光性膜以及使用了它的图案形成方法及印制电路板。本发明的感光性树脂组合物的特征在于，含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、无机填充剂、密合促进剂。本发明的感光性膜的特征在于，在支承体上层叠由上述感光性树脂组合物构成的感光层而成。本发明的图案形成方法的特征在于，至少包含对上述感光性膜的感光层进行曝光。本发明的印制电路板的特征在于，利用上述图案形成方法形成永久图案。

Description

感光性树脂组合物、感光性膜、以及使用了它的图案形成方法及印制电路板

技术领域

本发明涉及耐镀敷性及灵敏度良好的感光性树脂组合物、感光性膜、以及使用了它的图案形成方法及印制电路板。

背景技术

以往，在形成阻焊剂等永久图案之时，使用通过在支承体上涂布感光性树脂组合物并干燥而形成感光层的图案形成材料。作为上述永久图案的制造方法，例如通过在要形成上述永久图案的覆铜叠层板等基体上，层叠上述图案形成材料而形成叠层体，对该叠层体的上述感光层进行曝光，在该曝光后，将上述感光层显影而形成图案，其后进行固化处理等，就可以形成上述永久图案。

这里，公开过如下的感光性膜，即，在上述感光性树脂组合物中，出于使之具有与印制电路板的基材及配线图案表面的良好的密合性、提高析像度的目的，添加苯并咪唑衍生物、苯并噁唑衍生物等密合促进剂，继而涂布于高透明的支承体上(专利文献1)。

另外，公开过出于使与基材表面的密合性、耐镀敷性优异的目的而添加了羧基苯并三唑衍生物的感光性元件(专利文献2)。

但是，这些感光性树脂组合物是以制成印制电路板的配线图案为目的的，因而一旦该工序结束，就会利用剥离工序除去。由此，对于在要求长期的性能稳定性的阻焊剂等的永久图案中使用来说在绝缘可靠性等方面就会产生问题。

另外，出于获得PCT耐受性、钎焊耐热性、保存稳定性等方面优异的阻焊剂的目的，公开过含有聚酰胺酸化合物、苯并三唑衍生物的感光性树脂组合物(专利文献3)。

但是，该感光性树脂组合物灵敏度低，需要直接涂布于基板上使用，因此会有基板表面的平滑性与感光性膜相比较差、或者在基板的通孔中产生空隙而成为导致爆米花现象的原因的问题。

所以，现实状况是，希望开发出耐镀敷性、灵敏度、绝缘可靠性以及密合性良好的感光性树脂组合物、感光性膜、以及使用了它的图案形成方法及印制电路板。

专利文献1：日本特开2006-251385号公报

专利文献2：日本特开平2-191955号公报

专利文献3：日本特开平11-24266号公报

发明内容

本发明是鉴于该现状而完成的，目的在于，解决以往的上述各种问题，达成以下的目的。即，本发明的目的在于，提供耐镀敷性、灵敏度、显影性以及密合性良好的感光性树脂组合物、感光性膜、以及使用了它的图案形成方法及印制电路板。

作为用于解决上述问题的途径，如下所示。即，

<1>一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、无机填充剂、密合促进剂。

<2>根据上述<1>中所述的感光性树脂组合物，其中，密合促进剂是选自苯并咪唑衍生物、苯并噁唑衍生物、苯并噻唑衍生物、噻三唑衍生物、硫代噁二唑(thiooxadiazole)衍生物、N-取代吲唑衍生物、芳香族取代吲唑衍生物、四唑衍生物、喹啉衍生物、硫代氧酸酰胺衍生物及苯并三唑衍生物中的至少一种。

<3>根据上述<1>到<2>中任意一项所述的感光性树脂组合物，其中，无机填充剂为二氧化硅。

<4>根据上述<1>到<3>中任意一项所述的感光性树脂组合物，其中，光聚合引发剂是肟衍生物。

<5>根据上述<1>到<4>中任意一项所述的感光性树脂组合物，其中，还含有热交联剂。

<6>根据上述<5>中所述的感光性树脂组合物，其中，热交联剂是选自环氧树脂化合物、氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、使封端剂与聚异氰酸酯化合物反应而得的化合物、以及蜜胺衍生物中的至少一种。

<7>一种感光性膜，其特征在于，其是在支承体上层叠包含上述<1>到<6>中任意一项所述的感光性树脂组合物的感光层而成的。

<8>一种图案形成方法，其特征在于，至少包含对上述<7>中所述的感光性膜进行曝光的步骤。

<9>根据上述<8>中所述的图案形成方法，其中，曝光是在利用光调制机构将光调制后，穿过排列有微透镜的微透镜阵列而进行的，所述微透镜具有能够修正由该光调制机构的描素部的出射面的变形造成的像差的非球面。

<10>根据上述<8>到<9>中任意一项所述的图案形成方法，其中，在进行曝光后，进行感光层的显影。

<11>根据上述<10>中所述的图案形成方法，其中，在进行显影后，进行感光层的固化处理。

<12>一种印制电路板，其特征在于，利用上述<8>到<11>中任意一项所述的图案形成方法形成永久图案。

根据本发明，可以解决以往的各种问题，能够提供耐镀敷性、灵敏度、显影性以及密合性良好的感光性树脂组合物、感光性膜、以及使用了它的图案形成方法及印制电路板。

具体实施方式

(1)感光性树脂组合物

本发明中，感光性树脂组合物的特征在于，含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、无机填充剂、密合促进剂、以及根据需要使用的其他成分。

[粘合剂]

作为上述粘合剂，优选使用在侧链中含有酸性基和烯键式(エチレン性)不饱和键的高分子化合物、环氧丙烯酸酯化合物等，它们当中，特别优选使用在侧链中含有酸性基和烯键式不饱和键的高分子化合物。

<在侧链中含有酸性基和烯键式不饱和键的高分子化合物>

作为上述酸性基，可以举出羧基、磷酸基、磺酸基等，然而从原料获得的方面优选羧基。

另外，作为上述粘合剂，可以使用在分子内具有至少一个可以聚合的双键的，例如可以使用(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰胺基等丙烯酰基、羧酸的乙烯基酯、乙烯基醚、烯丙基醚等各种聚合性双键。更具体来说，可以举出在作为酸性基含有羧基的丙烯酸树脂上，加成含有环状醚基的聚合性化合物，例如缩水甘油基丙烯酸酯、缩水甘油基甲基丙烯酸酯、肉桂酸等不饱和脂肪酸的缩水甘油基酯、或脂环式环氧基(例如在同一分子中具有环己烯化氧(シクロヘキセンオキシド)等环氧基)和(甲基)丙烯酰基的化合物等含有环氧基的聚合性化合物而得的化合物等。另外，还可以举出在含有酸性基及羟基的丙烯酸树脂上，加成(甲基)丙烯酸异氰酸基乙酯等含有异氰酸酯基的聚合性化合物而得的化合物；在含有酸酐基的丙烯酸树脂上，加成(甲基)丙烯酸羟基烷基酯等含有羟基的聚合性化合物而得的化合物等。另外，还可以举出将缩水甘油基甲基丙烯酸酯等含有环状醚基的聚合性化合物与(甲基)丙烯酰基烷基酯等乙烯基单体共聚，在侧链的环氧基上加成(甲基)丙烯酸而得的化合物等。

它们的例子可以举出日本专利2763775号公报、日本特开平3-172301号公报、日本特开2000-232264号公报等。

它们当中，上述粘合剂更优选为从在高分子化合物的酸性基的一部分上加成含有环状醚基(例如在局部结构中具有环氧基、氧杂环丁烷基的基)的聚合性化合物而得的化合物、以及在高分子化合物的环状醚基的一部分或全部上加成了含有羧基的聚合性化合物而得的化合物中选择的高分子化合物。此时，与具有酸性基和环状醚基的化合物的加成反应优选在催化剂存在下实施，特别是，该催化剂优选为从酸性化合物及中性化合物中选择的。

其中，从感光性树脂组合物的经时的显影稳定性的方面看，粘合剂优选在侧链中包含也可以含有羧基和杂环的芳香族基以及在侧链中含有烯键式不饱和键的高分子化合物。

--也可以含有杂环的芳香族基--

作为上述也可以含有杂环的芳香族基(以下有时也简称为“芳香族基”。)，例如可以举出苯环、由2到3个苯环形成了缩合环的芳香族基、苯环与5元不饱和环形成了缩合环的芳香族基。

作为上述芳香族基的具体例，可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基、苯并吡咯环基、苯并呋喃环基、苯并噻吩环基、吡唑环基、异噁唑环基、异噻唑环基、吲唑环基、苯并异噁唑环基、苯并异噻唑环基、咪唑环基、噁唑环基、噻唑环基、苯并咪唑环基、苯并噁唑环基、苯并噻唑环基、吡嗪环基、喹啉环基、异喹啉环基、哒嗪环基、嘧啶环基、哌嗪环基、酞嗪环基、喹唑啉环基、喹喔啉环基、氮杂环丙烷(アシリジン)环基、菲啶环基、咔唑环基、嘌呤环基、吡喃环基、哌啶环基、哌嗪环基、吲哚环基、中氮茚环基、苯并吡喃环基、噌啉环基、吖啶环基、吩噻嗪环基、四唑环基、三嗪环基等。它们当中，优选烃芳香族基，更优选苯基、萘基。

上述芳香族基也可以具有取代基，作为上述取代基，例如可以举出卤原子、也可以具有取代基的氨基、烷氧基羰基、羟基、醚基、硫羟基、硫代醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、分别也可以具有取代基的烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基等。

作为上述烷基，例如可以举出碳原子数为1到20的直链状的烷基、支链状的烷基、环状的烷基等。

作为上述烷基的具体例，可以举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环庚基、2-降冰片基等。它们当中，优选碳原子数为1到12的直链状的烷基、碳原子数为3到12的支链状的烷基、碳原子数为5到10的环状的烷基。

作为上述烷基也可以具有的取代基，例如可以举出由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基。作为此种取代基，例如可以举出卤原子(-F、-Br、-Cl、-I)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰基氧基、N-烷基氨基甲酰基氧基、N-芳基氨基甲酰基氧基、N，N-二烷基氨基甲酰基氧基、N，N-二芳基氨基甲酰基氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基氧基、烷基硫氧基(alkylsulfoxy)、芳基硫氧基(arylsulfoxy)、酰硫基、酰胺基、N-烷基酰胺基、N-芳基酰胺基、脲基、N’-烷基脲基、N’，N’-二烷基脲基、N’-芳基脲基、N’，N’-二芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N’-烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N-芳基脲基、N’-芳基-N-烷基脲基、N’-芳基-N-芳基脲基、N’，N’-二芳基-N-烷基脲基、N’，N’-二芳基-N-芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-SO₃H)及其共轭碱(称作磺酸基(sulfonato))、烷氧基硫酰基、芳氧基硫酰基、胺亚磺酰基(sulfinamoyl)、N-烷基胺亚磺酰基、N，N-二烷基胺亚磺酰基、N-芳基胺亚磺酰基、N，N-二芳基胺亚磺酰基、N-烷基-N-芳基胺亚磺酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N，N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-PO₃H₂)及其共轭碱(称作磷酸基(phosphonato，ホスホナト))、二烷基膦酰基(-PO₃(alkyl)₂)(以下“alkyl”是指烷基。)、二芳基膦酰基(-PO₃(aryl)₂)(以下“aryl”是指芳基。)、烷基芳基膦酰基(-PO₃(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰基(-PO₃(alkyl))及其共轭碱(称作烷基磷酸基)、单芳基膦酰基(-PO₃H(aryl))及其共轭碱(称作芳基磷酸基)、膦酰基氧基(-OPO₃H₂)及其共轭碱(称作磷酸氧基)、二烷基膦酰基氧基(-OPO₃H(alkyl)₂)、二芳基膦酰基氧基(-OPO₃(aryl)₂)、烷基芳基膦酰基氧基(-OPO₃(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰基氧基(-OPO₃H(alkyl))及其共轭碱(称作烷基磷酸氧基)、单芳基膦酰基氧基(-OPO₃H(aryl))及其共轭碱(称作芳基磷酸氧基)、氰基、硝基、芳基、链烯基、炔基、杂环基、甲硅烷基等。

作为这些取代基中的烷基的具体例，可以举出上述的烷基。

作为上述取代基中的芳基的具体例，可以举出苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、异丙苯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲基硫代苯基、苯基硫代苯基、甲基氨基苯基、二甲基氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基苯基羰基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲酰基苯基、氰基苯基、磺苯基、磺酸苯基、膦酰基苯基、磷酸苯基等。

作为上述取代基中的链烯基的具体例，可以举出乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、肉桂基、2-氯-1-乙烯基等。

作为上述取代基中的炔基的具体例，可以举出乙炔基、1-丙炔基、1-丁炔基、三甲基甲硅烷基乙炔基等。

作为上述取代基中的酰基(R⁰¹CO-)的R⁰¹，可以举出氢原子、上述的烷基、芳基等。

这些取代基当中，优选卤原子(-F、-Br、-Cl、-I)、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、酰氧基、N-烷基氨基甲酰基氧基、N-芳基氨基甲酰基氧基、酰胺基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、磺基、磺酸基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基、磷酸基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、单烷基膦酰基、烷基磷酸基、单芳基膦酰基、芳基磷酸基、膦酰基氧基、磷酸氧基、芳基、链烯基等。

另外，作为上述取代基中的杂环基，例如可以举出吡啶基、哌啶基等，作为上述取代基中的甲硅烷基，可以举出三甲基甲硅烷基等。

另一方面，作为上述烷基中的亚烷基，例如可以举出去掉上述的碳数为1到20的烷基上的氢原子的任意一个而变为2价的有机残基的基团，例如，优选碳原子数为1到12的直链状的亚烷基、碳原子数为3到12的支链状的亚烷基、碳原子数为5到10的环状的亚烷基等。

作为通过将此种取代基与亚烷基组合而得的取代烷基的优选的具体例，可以举出氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、异丙氧基甲基、丁氧基甲基、仲丁氧基丁基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲基硫代甲基、甲苯基硫代甲基、吡啶基甲基、四甲基哌啶基甲基、N-乙酰基四甲基哌啶基甲基、三甲基甲硅烷基甲基、甲氧基乙基、乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-环己基氨基甲酰基氧基乙基、N-苯基氨基甲酰基氧基乙基、乙酰基氨基乙基、N-甲基苯甲酰基氨基丙基、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧基丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N，N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基甲基、磺基丁基、磺酸丁基、氨磺酰基丁基、N-乙基氨磺酰基甲基、N，N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺酰基丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基辛基、膦酰基丁基、磷酸己基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基磷酸丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基磷酸己基、膦酰基氧基丙基、磷酸氧基丁基、苄基、苯乙基、α-甲基苄基、1-甲基-1-苯基乙基、对甲基苄基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等。

作为上述芳基，例如可以举出苯环、由2到3个苯环形成了缩合环的基团、苯环与5元不饱和环形成了缩合环的基团等。

作为上述芳基的具体例，例如可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基等。它们当中，优选苯基、萘基。

上述烷基也可以具有取代基，作为此种具有取代基的芳基(以下有时也称作“取代芳基”。)，例如可以举出在上述的芳基的环形成碳原子上作为取代基具有由氢原子以外的1价的非金属原子团构成的基的例子。

作为上述芳基也可以具有的取代基，例如优选上述的烷基、取代烷基、作为所述烷基也可以具有的取代基示出的例子。

作为上述取代芳基的优选的具体例，可以举出联苯基、甲苯基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、异丙苯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、甲氧基乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧基苯基、甲基硫代苯基、甲苯基硫代苯基、乙基氨基苯基、二乙基氨基苯基、吗啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、N-环己基氨基甲酰基氧基苯基、N-苯基氨基甲酰基氧基苯基、乙酰基氨基苯基、N-甲基-苯甲酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基氨基甲酰基苯基、氯苯氧基羰基苯基、氨基甲酰基苯基、N-甲基氨基甲酰基苯基、N，N-二丙基氨基甲酰基苯基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基苯基、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基苯基、磺苯基、磺酸苯基、氨磺酰基苯基、N-乙基氨磺酰基苯基、N，N-二丙基氨磺酰基苯基、N-甲苯基氨磺酰基苯基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨基甲酰基苯基、膦酰基苯基、磷酸苯基、二乙基膦酰基苯基、二苯基膦酰基苯基、甲基膦酰基苯基、甲基磷酸苯基、甲苯基膦酰基苯基、甲苯基磷酸苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙烯基苯基、2-丁烯基苯基、3-丁烯基苯基等。

作为上述链烯基(-C(R⁰²)＝C(R⁰³)(R⁰⁴))及炔基(-C≡(R⁰⁵)，例如可以举出R⁰²、R⁰³、R⁰⁴及R⁰⁵是由1价的非金属原子团构成的基的例子。

作为上述R⁰²、R⁰³、R⁰⁴、R⁰⁵，例如可以举出氢原子、卤原子、烷基、取代烷基、芳基、取代芳基等。作为它们的具体例，可以举出作为上述的例子示出的例子。它们当中，优选氢原子、卤原子、碳原子数为1到10的直链状的烷基、支链状的烷基、环状的烷基。

作为上述链烯基及炔基的优选的具体例，可以举出乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、1-戊烯基、1-己烯基、1-辛烯基、1-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丁烯基、2-苯基-1-乙烯基、2-氯-1-乙烯基、乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、苯基乙烯基等。

作为上述杂环基，例如可以举出作为取代烷基的取代基例示的吡啶基等。

作为上述氧基(R⁰⁶O-)，可以举出R⁰⁶是由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基的例子。

作为此种氧基，例如优选烷氧基、芳氧基、酰氧基、氨基甲酰基氧基、N-烷基氨基甲酰基氧基、N-芳基氨基甲酰基氧基、N，N-二烷基氨基甲酰基氧基、N，N-二芳基氨基甲酰基氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基、膦酰基氧基、磷酸氧基等。

作为它们中的烷基及芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基示出的例子。另外，作为酰氧基中的酰基(R⁰⁷CO-)，可以举出R⁰⁷是作为前面的例子举出的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基的例子。这些取代基当中，更优选烷氧基、芳氧基、酰氧基、芳基硫氧基。

作为优选的氧基的具体例，可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、苄氧基、烯丙氧基、苯乙基氧基、羧基乙基氧基、甲氧基羰基乙基氧基、乙氧基羰基乙基氧基、甲氧基乙氧基、苯乙基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、吗啉代乙氧基、吗啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧基乙氧基、苯氧基、甲苯基氧基、二甲苯基氧基、2，4，6-三甲苯基氧基、2，4，6-三甲苯基氧基、异丙苯基氧基、甲氧基苯基氧基、乙氧基苯基氧基、氯苯基氧基、溴苯基氧基、乙酰氧基、苯甲酰氧基、萘氧基、苯基磺酰氧基、膦酰基氧基、磷酸氧基等。

作为也可以含有酰胺基的氨基(R⁰⁸NH-、(R⁰⁹)(R⁰¹⁰)N-)，例如可以举出R⁰⁸、R⁰⁹、及R⁰¹⁰是由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基的例子。而且，R⁰⁹与R⁰¹⁰也可以结合而形成环。

作为上述氨基，例如可以举出N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰胺基、N-烷基酰胺基、N-芳基酰胺基、脲基、N’-烷基脲基、N’，N’-二烷基脲基、N’-芳基脲基、N’，N’-二芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N’-烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N’-芳基脲基、N’-芳基-N-烷基脲基、N’-芳基-N-芳基脲基、N’，N’-二芳基-N-烷基脲基、N’，N’-二芳基-N-芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基等。作为它们中的烷基及芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基示出的例子。另外，酰胺基、N-烷基酰胺基、N-芳基酰胺基中的酰基(R⁰⁷CO-)的R⁰⁷如前所述。它们当中，更优选N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、酰胺基。

作为优选的氨基的具体例，可以举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、吗啉代基、哌啶基、吡咯烷基、苯基氨基、苯甲酰基氨基、乙酰基氨基等。

作为上述磺酰基(R⁰¹¹-SO₂-)，例如可以举出R⁰¹¹是由1价的非金属原子团构成的基的例子。

作为此种磺酰基，例如优选烷基磺酰基、芳基磺酰基等。作为它们中的烷基及芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基示出的例子。

作为上述磺酰基的具体例，可以举出丁基磺酰基、苯基磺酰基、氯苯基磺酰基等。

上述磺酸基(-SO₃-)如前所述，是指磺基(-SO₃H)的共轭碱阴离子基，通常来说优选与平衡阳离子一起使用。

作为此种平衡阳离子，可以适当地选择使用一般所知的离子，例如可以举出鎓类(例如铵类、锍类、鏻类、碘鎓类、叠氮鎓(アジニウム)类等)、金属离子类(例如Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Zn²⁺等)。

作为上述羰基(R⁰¹³-CO-)，例如可以举出R⁰¹³是由1价的非金属原子团构成的基的例子。

作为此种羰基，例如可以举出甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N’-芳基氨基甲酰基等。作为它们中的烷基及芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基示出的例子。

作为上述羰基，优选甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基，更优选甲酰基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基。

作为上述羰基的合适的具体例，可以举出甲酰基、乙酰基、苯甲酰基、羧基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、烯丙氧基羰基、二甲基氨基苯基乙烯基羰基、甲氧基羰基甲氧基羰基、N-甲基氨基甲酰基、N-苯基氨基甲酰基、N，N-二乙基氨基甲酰基、吗啉代羰基等。

作为上述亚硫酰基(R⁰¹⁴-SO-)，例如可以举出R⁰¹⁴是由1价的非金属原子团构成的基的例子。

作为此种亚硫酰基，例如可以举出烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基、胺亚磺酰基、N-烷基胺亚磺酰基、N，N-二烷基胺亚磺酰基、N-芳基胺亚磺酰基、N，N-二芳基胺亚磺酰基、N-烷基-N-芳基胺亚磺酰基等。作为它们中的烷基及芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基示出的例子。它们当中，优选烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基。

作为上述取代亚硫酰基的合适的具体例，可以举出己基亚硫酰基、苄基亚硫酰基、甲苯基亚硫酰基等。

上述的所谓膦酰基是指膦酰基上的羟基的一个到两个被其他的有机氧代基取代了的基，例如优选上述的二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、烷基芳基膦酰基、单烷基膦酰基、单芳基膦酰基等。它们当中，更优选二烷基膦酰基、二芳基膦酰基。

作为上述膦酰基的更优选的具体例，可以举出二乙基膦酰基、二丁基膦酰基、二苯基膦酰基等。

上述的所谓磷酸基(-PO₃H₂-、-PO₃H-)如前所述，是指来源于膦酰基(-PO₃H₂)的酸第一解离或酸第二解离的共轭碱阴离子基。通常优选与平衡阳离子一起使用。作为此种平衡阳离子，可以适当地选择一般所知的离子，例如可以举出各种鎓类(铵类、锍类、鏻类、碘鎓类、叠氮鎓(アジニウム)类等)、金属离子类(例如Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Zn²⁺等)。

上述磷酸基也可以是将膦酰基中的羟基以一个有机氧代基取代了的共轭碱阴离子基，作为此种具体例，可以举出上述的单烷基膦酰基(-PO₃H(alkyl))、单芳基膦酰基(-PO₃H(aryl))的共轭碱。

上述芳香族基可以将含有芳香族基的自由基聚合性化合物的一种以上、和根据需要使用的作为共聚成分的其他的自由基聚合性化合物的一种以上利用通常的自由基聚合法来制造。

作为上述自由基聚合法，例如一般来说可以举出悬浮聚合法或溶液聚合法等。

作为上述含有芳香族基的自由基聚合性化合物，例如优选以通式(A-1)表示的化合物、以通式(A-2)表示的化合物。

[化1]

通式(A-1)

其中，上述通式(A-1)中，R₁、R₂及R₃表示氢原子或1价的有机基团。L表示有机基团，也可以没有。Ar表示也可以含有杂环的芳香族基。

[化2]

通式(A-2)

其中，上述通式(A-2)中，R₁、R₂及R₃以及Ar表示与上述通式(A-1)相同的意思。

作为上述L的有机基团，例如为由非金属原子构成的多价的有机基团，可以举出由1到60个碳原子、0到10个氮原子、0到50个氧原子、1到100个氢原子、以及0到20个硫原子构成的基团。

更具体来说，作为上述L的有机基团，可以举出将下述的构成单元组合而构成的基团、多价萘、多价蒽等。

[化3]

上述L的连结基团也可以具有取代基，作为上述取代基，可以举出上述的卤原子、羟基、羧基、磺酸基、硝基、氰基、酰胺基、氨基、烷基、链烯基、炔基、芳基、取代氧基、取代磺酰基、取代羰基、取代亚硫酰基、磺基、膦酰基、磷酸基、甲硅烷基、杂环基。

在以上述通式(A-1)表示的化合物及以通式(A-2)表示的化合物中，从灵敏度的方面考虑，优选通式(A-1)一方。另外，从稳定性的方面考虑，优选上述通式(A-1)中的具有连结基团的化合物，作为上述L的有机基团，从非图像部的除去性(显影性)的方面考虑，优选碳数为1～4的亚烷基。

以上述通式(A-1)表示的化合物成为含有下述通式(A-3)的结构单元的化合物。另外，以上述通式(A-2)表示的化合物成为含有下述通式(A-4)的结构单元的化合物。其中，从保存稳定性的方面考虑，优选通式(A-3)的结构单元一方。

[化4]

通式(A-3)

[化5]

通式(A-4)

其中，上述通式(A-3)及通式(A-4)中，R₁、R₂及R₃以及Ar表示与上述通式(A-1)及通式(A-2)相同的意思。

上述通式(A-3)及通式(A-4)中，从非图像部的除去性(显影性)的方面考虑，优选R₁及R₂为氢原子，R₃为甲基。

另外，从非图像部的除去性(显影性)的方面考虑，上述通式(A-3)的L优选为碳数为1～4的亚烷基。

作为以上述通式(A-1)表示的化合物或以通式(A-2)表示的化合物，没有特别限制，然而例如可以举出以下的例示化合物(1)～(30)。

[化6]

[化7]

上述例示化合物(1)～(30)当中，优选(5)、(6)、(11)、(14)及(28)，它们当中，从保存稳定性及显影性的方面考虑，更优选(5)及(6)。

上述也可以含有杂环的芳香族基在上述粘合剂中的含量没有特别限制，然而在将高分子化合物的全部结构单元设为100mol％的情况下，优选含有20mol％以上的以上述通式(A-3)表示的结构单元，更优选含有30mol％～45mol％。如果上述含量小于20mol，则会有保存稳定性降低的情况，如果超过45mol％，则会有显影性降低的情况。

--烯键式不饱和键--

作为上述烯键式不饱和键，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而例如优选以下述通式(A-5)～(A-7)表示的。

[化8]

通式(A-5)

通式(A-6)

通式(A-7)

其中，上述通式(A-5)～(A-7)中，R₁～R₁₁分别独立地表示1价的有机基。X及Y分别独立地表示氧原子、硫原子或-N-R₄。Z表示氧原子、硫原子、-N-R₄、或亚苯基。R₄表示氢原子或1价的有机基。

上述通式(A-5)中，作为R₁，分别独立，例如优选氢原子、也可以具有取代基的烷基等，氢原子、甲基由于自由基反应性高，因此更为优选。

作为上述R₂及R₃，分别独立，例如可以举出氢原子、卤原子、氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、也可以具有取代基的烷基、也可以具有取代基的芳基、也可以具有取代基的烷氧基、也可以具有取代基的芳氧基、也可以具有取代基的烷基氨基、也可以具有取代基的芳基氨基、也可以具有取代基的烷基磺酰基、也可以具有取代基的芳基磺酰基等，氢原子、羧基、烷氧基羰基、也可以具有取代基的烷基、也可以具有取代基的芳基由于自由基反应性高，因此更为优选。

作为上述R₄，例如优选也可以具有取代基的烷基等，氢原子、甲基、乙基、异丙基由于自由基反应性高，因此更为优选。这里，作为能够导入的上述取代基，例如可以举出烷基、链烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、卤原子、氨基、烷基氨基、芳基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、酰胺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基等。

上述通式(A-6)中，作为R₄～R₈，例如优选氢原子、卤原子、氨基、二烷基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、也可以具有取代基的烷基、也可以具有取代基的芳基、也可以具有取代基的烷氧基、也可以具有取代基的芳氧基、也可以具有取代基的烷基氨基、也可以具有取代基的芳基氨基、也可以具有取代基的烷基磺酰基、也可以具有取代基的芳基磺酰基等，更优选氢原子、羧基、烷氧基羰基、也可以具有取代基的烷基、也可以具有取代基的芳基。

作为能够导入的上述取代基，可以例示出在上述通式(A-5)中举出的例子。

上述通式(A-7)中，作为R₉，例如优选氢原子、也可以具有取代基的烷基等，氢原子、甲基由于自由基反应性高，因此更为优选。

作为上述R₁₀、R₁₁，分别独立，例如可以举出氢原子、卤原子、氨基、二烷基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、也可以具有取代基的烷基、也可以具有取代基的芳基、也可以具有取代基的烷氧基、也可以具有取代基的芳氧基、也可以具有取代基的烷基氨基、也可以具有取代基的芳基氨基、也可以具有取代基的烷基磺酰基、也可以具有取代基的芳基磺酰基等，氢原子、羧基、烷氧基羰基、也可以具有取代基的烷基、也可以具有取代基的芳基由于自由基反应性高，因此更为优选。

这里，作为能够导入的上述取代基，可以例示出在上述通式(A-5)中举出的例子。

作为上述Z，表示氧原子、硫原子、-NR₁₃-、或也可以具有取代基的亚苯基。R₁₃表示也可以具有取代基的烷基等，氢原子、甲基、乙基、异丙基由于自由基反应性高，因此更为优选。

以上述通式(A-5)～(A-7)表示的侧链烯键式不饱和碱当中，通式(A-5)的侧链烯键式不饱和键的聚合反应性高，灵敏度变高，更为优选。

上述烯键式不饱和键在上述高分子化合物中的含量没有特别限制，然而优选为0.5meq/g～3.0meq/g，更优选为1.0meq/g～3.0meq/g，特别优选为1.5meq/g～2.8meq/g。如果上述含量小于0.5meq/g，则由于固化反应量少，因此会有灵敏度变低的情况，如果多于3.0meq/g，则会有保存稳定性劣化的情况。

这里，上述含量(meq/g)例如可以利用碘值滴定来测定。

作为将以上述通式(A-5)表示的烯键式不饱和键导入侧链中的方法，没有特别限制，例如可以通过使在侧链中含有羧基的高分子化合物与具有烯键式不饱和键及环氧基的化合物加成反应来得到。

上述在侧链中含有羧基的高分子化合物例如可以将含有羧基的自由基聚合性化合物的一种以上、根据需要使用的作为共聚成分的其他的自由基聚合性化合物的一种以上利用通常的自由基聚合法来制造，作为上述自由基聚合法，例如可以举出悬浮聚合法、溶液聚合法等。

作为上述具有烯键式不饱和键及环氧基的化合物，只要是具有它们，就没有特别限制，然而例如优选以下述通式(A-8)表示的化合物及以通式(A-9)表示的化合物。

[化9]

通式(A-8)

其中，上述通式(A-8)中，R₁表示氢原子或甲基。L₁表示有机基团。

[化10]

通式(A-9)

其中，上述通式(A-9)中，R₂表示氢原子或甲基。L₂表示有机基团。W表示4～7元环的脂肪族烃基。

在以上述通式(A-8)表示的化合物及以通式(A-9)表示的化合物当中，优选以通式(A-8)表示的化合物，在上述通式(A-8)中，更优选L₁为碳数为1～4的亚烷基的化合物。

作为以上述通式(A-8)表示的化合物或以通式(A-9)表示的化合物，没有特别限制，然而例如可以举出以下的例示化合物(31)～(40)。

[化11]

作为上述含有羧基的自由基聚合性化合物，例如有丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸、对羧基苯乙烯等，作为特别优选的，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸等。

作为向上述侧链的导入反应，例如可以通过将三乙胺、苄基甲基胺等叔胺；十二烷基胺三甲基氯化铵、四甲基氯化铵、四乙基氯化铵等季铵盐；吡啶；三苯基膦等作为催化剂，在有机溶剂中，以反应温度50℃～150℃反应数小时～数十小时而进行。

作为上述在侧链中具有烯键式不饱和键的结构单元，没有特别限制，然而例如优选以下述通式(A-10)表示的结构、以通式(A-11)表示的结构、以及利用它们的混合表示的结构。

[化12]

通式(A-10)

通式(A-11)

其中，上述通式(A-10)及通式(A-11)中，Ra～Rc表示氢原子或1价的有机基。R₁表示氢原子或甲基。L₁表示也可以具有连结基团的有机基团。

以上述通式(A-10)表示的结构以及以通式(A-11)表示的结构在高分子化合物中的含量优选为20mol％以上，更优选为20mol％～50mol％，特别优选为25mol％～45mol％。如果上述含量小于20mol％，则由于固化反应量少，因此会有灵敏度变低的情况，如果多于50mol％，则会有保存稳定性劣化的情况。

--羧基--

本发明的高分子化合物中，为了提高非图像部除去性等各种性能，也可以具有羧基。

上述羧基可以通过使具有酸基的自由基聚合性化合物共聚而附加在上述高分子化合物上。

作为此种具有自由基聚合性的酸基，例如可以举出羧酸、磺酸、磷酸基等，特别优选羧酸。

作为上述具有羧基的自由基聚合性化合物，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸、对羧基苯乙烯等，它们当中，优选丙烯酸、甲基丙烯酸、对羧基苯乙烯。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

上述羧基在粘合剂中的含量为1.0meq/g～4.0meq/g，优选为1.5meq/g～3.0meq/g。如果上述含量小于1.0meq/g，则会有显影性变得不充分的情况，如果超过4.0meq/g，则会有容易受到由碱水显影造成的图像强度损伤的情况。

出于提高图像强度等各种性能的目的，本发明的高分子化合物优选除了上述的自由基聚合性化合物以外，还共聚其他的自由基聚合性化合物。

作为上述其他的自由基聚合性化合物，例如可以举出选自丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、苯乙烯等中的自由基聚合性化合物等。

具体来说，可以举出烷基丙烯酸酯等丙烯酸酯类、芳基丙烯酸酯、烷基甲基丙烯酸酯等甲基丙烯酸酯类、芳基甲基丙烯酸酯、苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯、烷氧基苯乙烯、卤代苯乙烯等。

作为上述丙烯酸酯类，优选烷基的碳原子数为1～20的，例如可以举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸叔辛酯、丙烯酸氯乙酯、2，2-二甲基羟基丙基丙烯酸酯、5-羟基戊基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷单丙烯酸酯、季戊四醇单丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸甲氧基苄酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四氢糠酯等。

作为上述芳基丙烯酸酯，例如可以举出苯基丙烯酸酯等。

作为上述甲基丙烯酸酯类，优选烷基的碳原子为1～20的，例如可以举出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸氯苄酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸5-羟基戊酯、甲基丙烯酸2，2-二甲基-3-羟基丙酯、三羟甲基丙烷单甲基丙烯酸酯、季戊四醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氢糠酯等。

作为上述芳基甲基丙烯酸酯，例如可以举出甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲苯酯、甲基丙烯酸萘酯等。

作为上述苯乙烯类，例如可以举出甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等。

作为上述烷氧基苯乙烯，例如可以举出甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等。

作为上述卤代苯乙烯，例如可以举出氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等。

这些自由基聚合性化合物既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

作为在合成本发明的高分子化合物时所用的溶剂，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出二氯化乙烯、环己酮、甲乙酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、2-甲氧基乙基乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯、N，N-二甲替甲酰胺、N，N-二甲替乙酰胺、二甲亚砜、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。它们既可以单独使用一种，也可以混合使用两种以上。

本发明的高分子化合物的分子量以质均分子量计，优选为10,000以上，更优选为10,000～50,000。如果上述质均分子量在10,000以下，则会有固化膜强度不足的情况，如果超过50,000，则会有显影性降低的倾向。

另外，在本发明的高分子化合物中，也可以含有未反应的单体。该情况下，上述单体在上述高分子化合物中的含量优选为15质量％以下。

本发明的高分子化合物既可以单独使用一种，也可以混合使用两种以上。另外，也可以混合使用其他的高分子化合物。该情况下，上述其他的高分子化合物在上述本发明的高分子化合物中的含量优选为50质量％以下，更优选为30质量％以下。

<环氧丙烯酸酯化合物>

上述的所谓环氧丙烯酸酯化合物是具有来源于环氧化合物的骨架，并且在分子中含有烯键式不饱和双键和羧基的化合物。此种化合物例如可以利用使多官能环氧化合物与含有羧基的单体反应、继而加成多元酸酐的方法等来获得。

作为上述多官能环氧化合物，例如可以举出双二甲酚型或双酚型环氧树脂(“YX4000；日本环氧树脂公司制”等)或它们的混合物、具有异氰脲酸酯骨架等的杂环式环氧树脂(“TEPIC；日产化学工业公司制”、“Araldite PT810；Ciba Specialty Chemicals公司制”等)、双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、加氢双酚A型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、线型酚醛环氧树脂、甲酚线型酚醛环氧树脂、卤化线型酚醛环氧树脂、缩水甘油基胺型环氧树脂(例如四缩水甘油基二氨基二苯基甲烷等)、受阻胺型环氧树脂、脂环式环氧树脂、三羟基苯基甲烷型环氧树脂、苯二甲酸缩水甘油酯树脂、四缩水甘油基二甲酚乙烷树脂、含有亚萘基的环氧树脂(“ESN-190，ESN-360；新日铁化学公司制”、“HP-4032，EXA-4750，EXA-4700；大日本油墨化学工业公司制”等)、具有二环戊二烯骨架的环氧树脂(“HP-7200，HP-7200H；大日本油墨化学工业公司制”等)；利用苯酚、邻甲酚、萘酚等酚化合物与具有酚性羟基的芳香族醛的缩合反应得到的多酚化合物与表氯醇的反应物；利用酚化合物与二乙烯基苯或二环戊二烯等二烯烃化合物的加成反应得到的多酚化合物与表氯醇的反应物；将4-乙烯基环己烯-1-氧化物的开环聚合物用过乙酸等环氧化了的化合物；三缩水甘油基异氰脲酸酯等具有杂环的环氧树脂；甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚系环氧树脂(“CP-50S，CP-50M；日本油脂公司制”等)、环己基马来酰亚胺与甲基丙烯酸缩水甘油酯的共聚环氧树脂；将选自苯酚及甲酚中的一种与对羟基苯甲醛缩合物进行了缩水甘油醚化的环氧树脂；双(缩水甘油基氧基苯基)芴型环氧树脂、双(缩水甘油基氧基苯基)金刚烷型环氧树脂等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

另外，作为含有羧基的单体的例子，可以举出(甲基)丙烯酸、乙烯基苯甲酸、马来酸、马来酸单烷基酯、富马酸、衣康酸、巴豆酸、肉桂酸、山梨酸、α-氰基肉桂酸、丙烯酸二聚物；此外还有2-羟基乙基(甲基)丙烯酸酯等具有羟基的单体与马来酸酐、富马酸酐、环己二酸酐等环状酸酐的加成反应物；与含有卤素的羧酸化合物的反应产物、ω-羧基-聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯等。此外，作为市售品，可以使用东亚合成化学工业(株)制的ARONIX M-5300、M-5400、M-5500及M-5600、新中村化学工业(株)制的NK酯CB-1及CBX-1、共荣社油脂化学工业(株)制的HOA-MP及HOA-MS、大阪有机化学工业(株)制的Biscoat#2100等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

另外，作为多元酸酐，例如也可以使用琥珀酸酐、甲基琥珀酸酐、2，3-二甲基琥珀酸酐、2，2-二甲基琥珀酸酐、乙基琥珀酸酐、十二烯基琥珀酸酐、壬基琥珀酸酐、马来酸酐、甲基马来酸酐、2，3-二甲基马来酸酐、2-氯马来酸酐、2，3-二氯马来酸酐、溴马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐、顺乌头酸酐、苯二甲酸酐、四氢苯二甲酸酐、四氯苯二甲酸酐、四溴苯二甲酸酐、六氢苯二甲酸酐、甲基四氢苯二甲酸酐、甲基六氢苯二甲酸酐、内次甲基四氢苯二甲酸酐、甲基内次甲基四氢苯二甲酸酐、氯桥酸酐及5-(2，5-二氧杂四氢呋喃基)-3-甲基-3-环己烯-1，2-二羧酸酐等二元酸酐、偏苯三酸酐、苯均四酸酐、3，3’，4，4’-二苯酮四羧酸等的多元酸酐等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

分别使之依次反应，得到环氧丙烯酸酯，而使它们反应的比率为，相对于多官能环氧化合物的1当量环氧基，含有羧基的单体的羧基为0.8～1.2当量，优选为0.9～1.1当量，多元酸酐为0.1～1.0当量，优选为0.3～1.0当量。

另外，在日本特开平5-70528号公报中记载的具有芴骨架的环氧丙烯酸酯(不具有羧基的化合物)上加成酸酐而得的化合物等也可以作为本发明的环氧丙烯酸酯利用。

上述环氧丙烯酸酯化合物的分子量优选为1,000～100,000，更优选为2,000～50,000。如果该分子量小于1,000，则会有感光层表面的粘性变强的情况，在后述的感光层的固化后，会有膜质变脆或者表面硬度劣化的情况，如果超过100,000，则会有显影性劣化的情况。另外，树脂的合成也会变得困难。

上述粘合剂在上述感光性树脂组合物中的固体成分含量优选为5～80质量％，更优选为10～70质量％。

上述粘合剂在上述感光性树脂组合物中的固体成分含量优选为5质量％～80质量％，更优选为10质量％～70质量％。如果该固体成分含量小于5质量％，则感光层的膜强度容易变弱，会有该感光层的表面的粘性恶化的情况，如果超过80质量％，则会有曝光灵敏度降低的情况。

[聚合性化合物]

作为上述聚合性化合物，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而优选在分子中具有至少一个可以加成聚合的基、沸点在常压下为100℃以上的化合物，作为合适的例子可以举出从具有(甲基)丙烯酸酯基的单体中选择的至少一种。而且，本发明中所说的“聚合性化合物”不包含可以包含在粘合剂中的聚合性化合物。

作为上述具有(甲基)丙烯酸酯基的单体，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基单(甲基)丙烯酸酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、三(丙酰氧基乙基)异氰脲酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷或甘油、双酚等多官能醇上加成反应了环氧乙烷或环氧丙烷后进行了(甲基)丙烯酸酯化的单体、日本特公昭48-41708号、日本特公昭50-6034号、日本特开昭51-37193号等各公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类；日本特开昭48-64183号、日本特公昭49-43191号、日本特公昭52-30490号等各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类；作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。它们当中，特别优选三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。

上述聚合性化合物在上述感光性树脂组合物固体成分中的固体成分含量优选为5质量％～50质量％，更优选为10质量％～40质量％。如果该固体成分含量小于5质量％，则会有产生显影性的恶化、曝光灵敏度的降低等问题的情况，如果超过50质量％，则会有感光层的粘接性变得过强的情况，不够理想。

[光聚合引发剂]

作为上述光聚合引发剂，可以使用肟衍生物。另外，根据需要，也可以含有其他的光聚合引发剂。

作为上述肟衍生物，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而优选为至少具有芳香族基的化合物，更优选为具有以下述通式(I)及通式(II)的某个表示的局部结构的化合物。上述肟衍生物也可以并用两种以上。

[化13]

通式(I)

[化14]

通式(II)

其中，上述通式(I)及(II)中，Ar表示芳香族基或杂环基的任一个。Y¹表示氢原子及1价的取代基的任一个，Y²表示脂肪族基、芳香族基、杂环基、COY³、CO₂Y³及CONY⁴Y⁵的任一个。Y³、Y⁴及Y⁵表示脂肪族基、芳香族基及杂环基的任一个。m表示1以上的整数。

作为上述Y¹，优选为氢原子、脂肪族基及芳香族基的任一个。

作为上述Y²，优选为脂肪族基、-CO-(脂肪族基)、-CO-(芳香族基)、-CO-(杂环基)、-CO₂-(脂肪族基)、-CO₂-(芳香族基)、及-CO₂-(杂环基)的任一个。

作为上述Y³及Y⁴，优选为脂肪族基及芳香族基的任一个。

作为上述肟衍生物，优选为将以上述通式(I)及通式(II)表示的结构隔着连结基团结合多个而成的化合物。

而且，上述通式(I)及通式(II)中，上述脂肪族基表示分别也可以具有取代基的烷基、链烯基、炔基，上述芳香族基表示分别也可以具有取代基的芳基、杂环(heterocyclic)基，作为上述1价的取代基，表示卤原子、也可以具有取代基的氨基、烷氧基羰基、羟基、醚基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、分别也可以具有取代基的烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基。

作为上述芳香族基，可以举出由1到3个苯环形成了缩合环的基团、由苯环与5元不饱和环形成了缩合环的基团，作为具体例，可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基，尤其优选具有苯基及萘基的任一个的基，特别优选具有萘基的基。

另外，这些芳香族基也可以具有取代基，作为此种取代基，可以举出由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基。例如，可以举出后述的烷基、取代烷基、或作为取代烷基中的取代基示出的例子等。

另外，作为上述杂环(heterocyclic)基，可以举出吡咯环基、呋喃环基、噻吩环基、苯并吡咯环基、苯并呋喃环基、苯并噻吩环基、吡唑环基、异噁唑环基、异噻唑环基、吲唑环基、苯并异噁唑环基、苯并异噻唑环基、咪唑环基、噁唑环基、噻唑环基、苯并咪唑环基、苯并噁唑环基、苯并噻唑环基、吡啶环基、喹啉环基、异喹啉环基、哒嗪环基、嘧啶环基、吡嗪环基、酞嗪环基、酞嗪环基、喹唑啉环基、喹喔啉环基、氮杂环丙烷(アシリジン)环基、菲啶环基、咔唑环基、嘌呤环基、吡喃环基、哌啶环基、哌嗪环基、吗啉环基、吲哚环基、中氮茚环基、苯并吡喃环基、噌啉环基、吖啶环基、吩噻嗪环基、四唑环基、三嗪环基等，其中，特别优选呋喃环基、噻吩环基、咪唑环基、噻唑环基、苯并噻唑环基、吡啶环基、吲哚环基、吖啶环基。

另外，这些杂环基也可以具有取代基，作为此种取代基，可以举出由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基。例如，可以举出后述的烷基、取代烷基、或作为取代烷基中的取代基示出的例子等。

作为上述1价的取代基，优选卤原子、也可以具有取代基的氨基、烷氧基羰基、羟基、醚基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硝基、氰基、分别也可以具有取代基的烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基。

另外，作为上述由非金属原子构成的1价的取代基，优选分别也可以具有取代基的烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基。

作为上述也可以具有取代基的烷基，可以举出碳原子数为1到20的直链状、支链状及环状的烷基，作为其具体例，可以举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基、2-降冰片基。它们当中，更优选碳原子数为1到12的直链状、碳原子数为3到12的支链状、以及碳原子数为5到10的环状的烷基。

作为上述也可以具有取代基的烷基的取代基，可以举出由去掉氢原子的1价的非金属原子构成的取代基，作为优选的例子，可以举出卤原子(-F、-Br、-Cl、-I)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰基氧基、N-烷基氨基甲酰基氧基、N-芳基氨基甲酰基氧基、N，N-二烷基氨基甲酰基氧基、N，N-二芳基氨基甲酰基氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基、酰硫基、酰胺基、N-烷基酰胺基、N-芳基酰胺基、脲基、N’-烷基脲基、N’，N’-二烷基脲基、N’-芳基脲基、N’，N’-二芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N’-烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N-芳基脲基、N’-芳基-N-烷基脲基、N’-芳基-N-芳基脲基、N’，N’-二芳基-N-烷基脲基、N’，N’-二芳基-N-芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-SO₃H)及其共轭碱(称作磺酸基)、烷氧基硫酰基、芳氧基硫酰基、胺亚磺酰基、N-烷基胺亚磺酰基、N，N-二烷基胺亚磺酰基、N-芳基胺亚磺酰基、N，N-二芳基胺亚磺酰基、N-烷基-N-芳基胺亚磺酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N，N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-PO₃H₂)及其共轭碱(称作磷酸基)、二烷基膦酰基(-PO₃(alkyl)₂)“alkyl＝烷基、以下相同”、二芳基膦酰基(-PO₃(aryl)₂)“aryl＝芳基、以下相同”、烷基芳基膦酰基(-PO₃(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰基(-PO₃(alkyl))及其共轭碱(称作烷基磷酸基)、单芳基膦酰基(-PO₃H(aryl))及其共轭碱(称作芳基磷酸基)、膦酰基氧基(-OPO₃H₂)及其共轭碱(称作磷酸氧基)、二烷基膦酰基氧基(-OPO₃H(alkyl)₂)、二芳基膦酰基氧基(-OPO₃(aryl)₂)、烷基芳基膦酰基氧基(-OPO₃(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰基氧基(-OPO₃H(alkyl))及其共轭碱(称作烷基磷酸氧基)、单芳基膦酰基氧基(-OPO₃H(aryl))及其共轭碱(称作芳基磷酸氧基)、氰基、硝基、芳基、链烯基、炔基、杂环基、甲硅烷基等。

作为这些取代基中的烷基的具体例，可以举出上述的烷基，作为上述取代基中的芳基的具体例，可以举出苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、2，4，6-三甲苯基、异丙苯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲基硫代苯基、苯基硫代苯基、甲基氨基苯基、二甲基氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基苯基羰基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲酰基苯基、氰基苯基、磺苯基、磺酸苯基、膦酰基苯基、磷酸苯基等。

另外，作为上述取代基中的链烯基的具体例，可以举出乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、肉桂基、2-氯-1-乙烯基等，作为上述取代基中的炔基的例子，可以举出乙炔基、1-丙炔基、1-丁炔基、三甲基甲硅烷基乙炔基等。

作为上述取代基中的杂环基，例如可以举出吡啶基、哌啶基等。

作为上述取代基中的甲硅烷基，可以举出三甲基甲硅烷基等。

在上述取代基中也可以含有酰基(R⁰¹CO-)，作为该酰基，可以举出该R⁰¹例如为氢原子、上述的烷基、芳基的酰基等。

作为酰基(R⁰¹CO-)的R⁰¹，可以举出氢原子以及上述烷基、芳基。作为这些取代基当中的更优选的基，可以举出卤原子(-F、-Br、-Cl、-I)、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、酰氧基、N-烷基氨基甲酰基氧基、N-芳基氨基甲酰基氧基、酰胺基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、磺基、磺酸基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基、磷酸基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、单烷基膦酰基、烷基磷酸基、单芳基膦酰基、芳基磷酸基、膦酰基氧基、磷酸氧基、芳基、链烯基等。

另一方面，作为取代烷基中的亚烷基，例如可以举出去掉上述的碳数为1到20的烷基上的氢原子的任意一个而变为2价的有机残基的基团，可以优选举出碳原子数为1到12的直链状、碳原子数为3到12的支链状、以及碳原子数为5到10的环状的亚烷基等。作为通过将此种取代基与亚烷基组合而得的取代烷基的优选的具体例，可以举出氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、异丙氧基甲基、丁氧基甲基、仲丁氧基丁基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲基硫代甲基、甲苯基硫代甲基、吡啶基甲基、四甲基哌啶基甲基、N-乙酰基四甲基哌啶基甲基、三甲基甲硅烷基甲基、甲氧基乙基、乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-环己基氨基甲酰基氧基乙基、N-苯基氨基甲酰基氧基乙基、乙酰基氨基乙基、N-甲基苯甲酰基氨基丙基、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧基丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N，N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺苯基)氨基甲酰基甲基、磺基丁基、磺酸丁基、氨磺酰基丁基、N-乙基氨磺酰基甲基、N，N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺酰基丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基辛基、膦酰基丁基、磷酸己基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基磷酸丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基磷酸己基、膦酰基氧基丙基、磷酸氧基丁基、苄基、苯乙基、α-甲基苄基、1-甲基-1-苯基乙基、对甲基苄基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等。

作为上述芳基，例如可以举出由1到3个苯环形成了缩合环的基团、苯环与5元不饱和环形成了缩合环的基团等，作为具体例，可以举出苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基等，它们当中，更优选苯基、萘基。

作为上述取代芳基，可以使用在上述的芳基的环形成碳原子上作为取代基具有由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基的取代芳基。作为优选的取代基的例子，可以举出上述的烷基、取代烷基以及前面作为取代烷基中的取代基示出的基。

作为上述链烯基、上述取代链烯基、上述炔基以及上述取代炔基(-C(R⁰²)＝C(R⁰³)(R⁰⁴)及-C≡(R⁰⁵))，可以使用R⁰²、R⁰³、R⁰⁴、R⁰⁵是由1价的非金属原子团构成的基的基团。

作为R⁰²、R⁰³、R⁰⁴、R⁰⁵，可以举出氢原子、卤原子、烷基、取代烷基、芳基、以及取代芳基等，作为它们的具体例，可以举出作为上述的例子示出的例子。它们当中，更优选氢原子、卤原子、碳原子数为1到10的直链状、支链状、环状的烷基。

具体来说，可以举出乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、1-戊烯基、1-己烯基、1-辛烯基、1-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-1-丁烯基、2-苯基-1-乙烯基、2-氯-1-乙烯基、乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、苯基乙烯基等。

作为杂环基，可以举出作为取代烷基的取代基例示的吡啶基等。

作为上述取代氧基(R⁰⁶O-)，可以使用R⁰⁶是由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基的基团。作为优选的取代氧基，可以举出烷氧基、芳氧基、酰氧基、氨基甲酰基氧基、N-烷基氨基甲酰基氧基、N-芳基氨基甲酰基氧基、N，N-二烷基氨基甲酰基氧基、N，N-二芳基氨基甲酰基氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基、膦酰基氧基、磷酸氧基。作为它们中的烷基及芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基以及芳基及取代芳基示出的例子。另外，作为酰氧基中的酰基(R⁰⁷CO-)，可以举出R⁰⁷是作为前面的例子举出的烷基、取代烷基、芳基及取代芳基的例子。这些取代基当中，更优选烷氧基、芳氧基、酰氧基、芳基硫氧基。作为优选的取代氧基的具体例，可以举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、苄氧基、烯丙氧基、苯乙基氧基、羧基乙基氧基、甲氧基羰基乙基氧基、乙氧基羰基乙基氧基、甲氧基乙氧基、苯乙基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、吗啉代乙氧基、吗啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧基乙氧基、苯氧基、甲苯基氧基、二甲苯基氧基、2，4，6-三甲苯基氧基、2，4，6-三甲苯基氧基、异丙苯基氧基、甲氧基苯基氧基、乙氧基苯基氧基、氯苯基氧基、溴苯基氧基、乙酰氧基、苯甲酰氧基、萘氧基、苯基磺酰氧基、膦酰基氧基、磷酸氧基等。

作为也可以含有酰胺基的取代氨基(R⁰⁸NH-、(R⁰⁹)(R⁰¹⁰)N-)，可以使用R⁰⁸、R⁰⁹、R⁰¹⁰是由去掉氢原子的1价的非金属原子团构成的基的基团。而且，R⁰⁹与R⁰¹⁰也可以结合而形成环。作为取代氨基的优选的例子，可以举出N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰胺基、N-烷基酰胺基、N-芳基酰胺基、脲基、N’-烷基脲基、N’，N’-二烷基脲基、N’-芳基脲基、N’，N’-二芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N’-烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N’-芳基脲基、N’-芳基-N-烷基脲基、N’-芳基-N-芳基脲基、N’，N’-二芳基-N-烷基脲基、N’，N’-二芳基-N-芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基等。作为它们中的烷基、芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基以及芳基及取代芳基示出的例子，酰胺基、N-烷基酰胺基、N-芳基酰胺基中的酰基(R⁰⁷CO-)的R⁰⁷如前所述。作为它们当中的更优选的，可以举出N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、酰胺基。作为优选的取代氨基的具体例，可以举出甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、吗啉代基、哌啶基、吡咯烷基、苯基氨基、苯甲酰基氨基、乙酰基氨基等。

作为取代磺酰基(R⁰¹¹-SO₂-)，可以使用R⁰¹¹是由1价的非金属原子团构成的基的基团。作为更优选的例子，可以举出烷基磺酰基、芳基磺酰基。作为它们中的烷基、芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基以及芳基及取代芳基示出的例子。作为此种取代磺酰基的具体例，可以举出丁基磺酰基、苯基磺酰基、氯苯基磺酰基等。

磺酸基(-SO₃ ^-)如前所述，是指磺基(-SO₃H)的共轭碱阴离子基，通常来说优选与平衡阳离子一起使用。作为此种平衡阳离子，可以使用一般所知的离子，例如可以举出各种鎓类(铵类、锍类、鏻类、碘鎓类、叠氮鎓类等)、以及金属离子类(Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Zn²⁺等)。

作为取代羰基(R⁰¹³-CO-)，可以使用R⁰¹³是由1价的非金属原子构成的基的基团。作为取代羰基的优选的例子，可以举出甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N’-芳基氨基甲酰基等。作为它们中的烷基、芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基以及芳基、取代芳基示出的例子。作为它们当中的更优选的取代羰基，可以举出甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基，作为进一步优选的取代羰基，可以举出甲酰基、酰基、烷氧基羰基以及芳氧基羰基。作为优选的取代羰基的具体例，可以举出甲酰基、乙酰基、苯甲酰基、羧基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、烯丙氧基羰基、二甲基氨基苯基乙烯基羰基、甲氧基羰基甲氧基羰基、N-甲基氨基甲酰基、N-苯基氨基甲酰基、N，N-二乙基氨基甲酰基、吗啉代羰基等。

作为取代亚硫酰基(R⁰¹⁴-SO-)，可以使用R⁰¹⁴是由1价的非金属原子团构成的基的基团。作为优选的例子，可以举出烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基、胺亚磺酰基、N-烷基胺亚磺酰基、N，N-二烷基胺亚磺酰基、N-芳基胺亚磺酰基、N，N-二芳基胺亚磺酰基、N-烷基-N-芳基胺亚磺酰基等。作为它们中的烷基、芳基，可以举出作为上述的烷基、取代烷基以及芳基、取代芳基示出的例子。作为它们当中更优选的例子，可以举出烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基。作为此种取代亚硫酰基的具体例，可以举出己基亚硫酰基、苄基亚硫酰基、甲苯基亚硫酰基等。

所谓取代膦酰基是指膦酰基上的羟基的一个或两个被其他的有机氧代基取代了的基，作为优选的例子，可以举出上述的二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、烷基芳基膦酰基、单烷基膦酰基、单芳基膦酰基。它们当中，更优选二烷基膦酰基及二芳基膦酰基。作为此种具体例，可以举出二乙基膦酰基、二丁基膦酰基、二苯基膦酰基等。

所谓磷酸基(-PO₃H₂ ^-、-PO₃H^-)如前所述，是指来源于膦酰基(-PO₃H₂)的酸第一解离或酸第二解离的共轭碱阴离子基。通常优选与平衡阳离子一起使用。作为此种平衡阳离子，可以使用一般所知的离子，例如可以举出各种鎓类(铵类、锍类、鏻类、碘鎓类、叠氮鎓类等)、金属离子类(例如Na⁺、K⁺、Ca²⁺、Zn²⁺等)。

所谓取代磷酸基是将上述的取代膦酰基中的羟基以一个有机氧代基取代了的共轭碱阴离子基，作为具体例，可以举出上述的单烷基膦酰基(-PO₃H(alkyl))、单芳基膦酰基(-PO₃H(aryl))的共轭碱。

作为上述肟衍生物，更优选以下述通式(III)及通式(IV)的任一个表示的化合物。

[化15]

通式(III)

通式(IV)

其中，上述通式(III)及通式(IV)中，R₁₀₁表示与通式(I)及通式(II)中的Y¹相同的意思，Y¹²表示与通式(I)及通式(II)中的Y²相同的意思。

作为上述R₁₀₁，更优选氢原子及脂肪族基的某个，特别优选碳原子数为1到10的脂肪族基。

作为上述脂肪族基，例如可以举出甲基、乙基、丙基、辛基、烯丙基等。

作为上述Y¹²，特别优选-CO-(脂肪族基)。作为上述Y¹²中的脂肪族基，优选碳原子数为1到10的脂肪族基。

具体来说，例如优选甲基、乙基、丙基、丁基、辛基、环己基、苄基等。

作为上述肟衍生物的其他的具体的例子，例如可以举出日本特开2001-233842号公报、日本特表2004-534797号公报、以及日本特表2002-519732号公报等中所公开的化合物、以及以下述结构式表示的化合物等。

[化16]

[化17]

上述结构式中，R表示n-C₃H₇、n-C₈H₁₇、樟脑基(カンフア一)及p-CH₃C₆H₄的任一个。

[化19]

上述结构式中，R表示n-C₃H₇、及p-CH₃C₆H₄的任一个。

[化20]

[化21]

[化22]

作为上述肟衍生物，也可以合适地使用以下述通式(5)表示的肟衍生物。

[化23]

通式(V)

其中，上述通式(V)中，Y²、Ar表示与通式(I)及(II)中的相同的意思。m表示0以上的整数。Y⁵表示取代基，在m为2以上的情况下，该Y⁵既可以相同也可以不同。A表示4、5、6及7元环的任一个，这些环也可以分别含有杂原子。

以上述通式(V)表示的肟衍生物当中，更优选以下述通式(VI)表示的化合物，特别优选以下述通式(VII)及(VIII)的任一个表示的化合物。

[化24]

通式(VI)

其中，上述通式(8)中，Y²、Y⁵、m及Ar表示与通式(V)中的相同的意思。X表示O及S的任一个。A表示5及6元环的任一个。

[化25]

通式(VII)

[化26]

通式(VIII)

其中，上述通式(VII)及通式(VIII)中，Y⁶表示也可以具有取代基的烷基。l表示0～6的某个整数。Y⁷表示烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子、磺酰基、以及酰氧基的某个，在l为2以上的情况下，该Y⁷既可以相同也可以不同。X及A表示与通式(8)相同的意思。

上述通式(V)及(VIII)中，作为以R²表示的取代基，没有特别限制，例如可以举出烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子、磺酰基、酰氧基、硝基、酰胺基等。它们当中，优选烷基、烷氧基、芳氧基、卤原子、磺酰基及酰氧基的任一个。

这里，作为以上述通式(V)表示的肟衍生物的具体例，可以举出以下述结构式(1)～(54)表示的化合物，然而在本发明中，并不限定于它们。

[化27]

[化28]

其中，上述结构式(1)～(54)中，Me表示甲基。Ph表示苯基。Ac表示乙酰基。

上述肟衍生物的含量例如以固体成分换算优选为0.1～15质量％，更优选为0.5～10质量％，特别优选为1.0～8.0质量％。在小于0.1质量％的情况下，灵敏度降低，会有难以获得足够的硬度的固化膜的情况，在多于15质量％的情况下，不仅膜化时的粘性恶化，而且由于Tg降低，因此会有固化膜变脆的情况。

-其他的光聚合引发剂-

作为上述其他的光聚合引发剂，只要是具有引发上述聚合性化合物的聚合的能力，就没有特别限制，可以从公知的光聚合引发剂中适当地选择，然而例如优选对从紫外线区域到可见的光线具有感光性的，既可以是与被光激发的敏化剂产生某种作用而生成活性自由基的活性剂，也可以是根据单体的种类来引发阳离子聚合的引发剂。

另外，上述光聚合引发剂优选含有至少一种在波长约300nm～800nm的范围内具有至少约50的分子吸光系数的成分。上述波长更优选330nm～500nm。

作为上述其他的光聚合引发剂，例如可以举出卤化烃衍生物(例如具有三嗪骨架的、具有噁二唑骨架的等)、六芳基联咪唑、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、吖啶化合物、金属茂类等。具体来说，可以举出日本特开2005-258431号公报中记载的化合物等。它们当中，从感光层的灵敏度、保存性、以及感光层与基板的密合性等观点考虑，优选酮化合物及吖啶化合物。上述其他光聚合引发剂既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

上述光聚合引发剂在上述感光性树脂组合物中的固体成分含量优选为0.1质量％～30质量％，更优选为0.5质量％～20质量％，特别优选为0.5质量％～15质量％。

[无机填充剂]

上述无机填充剂可以提高永久图案的表面硬度，可以将线膨胀系数抑制得较低，可以将固化层本身的介电常数或介电损耗角正切抑制得较低，由于具有这些功能，因此可以适用于本发明的感光性树脂组合物中。

作为上述无机填充剂，没有特别限制，可以从公知的材料中适当地选择，例如可以举出高岭土、硫酸钡、钛酸钡、氧化硅粉、微粉状氧化硅、气相法二氧化硅、无定形二氧化硅、结晶性二氧化硅、熔融二氧化硅、球状二氧化硅、滑石、粘土、碳酸镁、碳酸钙、氧化铝、氢氧化铝、云母等。

上述无机填充剂的平均粒径优选小于3μm，更优选为0.1μm～2μm。如果该平均粒径为3μm以上，则会有因光散射而使析像度劣化的情况。

上述无机填充剂的添加量优选为5质量％～75质量％，更优选为8质量％～70质量％，特别优选为10质量％～65质量％。如果该添加量小于5质量％，则会有无法充分地降低线膨胀系数的情况，如果超过90质量％，则在感光层表面形成了固化膜的情况下，会有该固化膜的膜质变脆的情况，在使用永久图案形成配线的情况下，会有作为配线的保护膜的功能受到损害的情况。

此外也可以根据需要添加有机微粒。作为合适的有机微粒，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出蜜胺树脂、苯胍胺树脂、交联聚苯乙烯树脂等。可以使用由平均粒径0.1μm～2μm、吸油量100m²/g～200m²/g左右的二氧化硅、交联树脂构成的球状多孔微粒等。

由于在上述无机填充剂中，含有平均粒径为0.1μm～2μm的粒子，因此即使随着印制电路板的薄型化，将永久图案以厚度5μm～20μm薄层化，也不会有无机填充剂粒子将永久图案的表背两面交联的情况，其结果是，即使在高加速度试验(HAST)中也不会产生离子迁移，可以制成耐热性、耐湿性优异的永久图案。

[密合促进剂]

为了提高各层间的密合性，或提高感光层与基体的密合性，可以在各层中使用公知的所谓密合促进剂。

作为上述密合促进剂的合适的例子，例如可以举出日本特开平5-11439号公报、日本特开平5-341532号公报、以及日本特开平6-43638号公报等中记载的密合促进剂。具体来说，可以举出苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并噻唑、3-吗啉代甲基-1-苯基-三唑-2-硫酮、3-吗啉代甲基-5-苯基-噁二唑-2-硫酮、5-氨基-3-吗啉代甲基-噻二唑-2-硫酮、以及2-巯基-5-甲基硫代-噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含有氨基的苯并三唑、硅烷偶联剂等。它们当中，最优选苯并三唑及苯并三唑衍生物(例如羧基苯并三唑、含有氨基的苯并三唑)。

上述密合促进剂的含量优选相对于上述感光层的全部成分为0.001质量％～20质量％，更优选为0.01质量％～10质量％，特别优选为0.1质量％～5质量％。

[热交联剂]

作为上述热交联剂，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，为了改良使用上述感光性膜形成的感光层的固化后的膜强度，可以在不对显影性等产生不良影响的范围中，例如使用在1个分子内具有至少2个环氧乙烷基的环氧化合物、在1个分子内具有至少2个氧杂环丁烷基的氧杂环丁烷化合物，可以举出日本特开2007-47729号公报中记载的那样的具有环氧乙烷基的环氧化合物、在β位具有烷基的环氧化合物、具有氧杂环丁烷基的氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、使聚异氰酸酯及其衍生物的异氰酸酯基与封端剂反应而得的化合物等。

另外，作为上述热交联剂，可以使用蜜胺衍生物。作为该蜜胺衍生物，例如可以举出羟甲基蜜胺、烷基化羟甲基蜜胺(将羟甲基用甲基、乙基、丁基等醚化了的化合物)等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。它们当中，从保存稳定性良好、对于感光层的表面硬度或固化膜的膜强度本身的提高来说有效的方面考虑，优选烷基化羟甲基蜜胺，特别优选六甲基化羟甲基蜜胺。

上述热交联剂在上述感光性树脂组合物固体成分中的固体成分含量优选为1质量％～50质量％，更优选为3质量％～30质量％。如果该固体成分含量小于1质量％，则无法看到固化膜的膜强度的提高，如果超过50质量％，则会有产生显影性的降低或曝光灵敏度的降低的情况。

[其他的成分]

作为上述其他的成分，例如可以举出敏化剂、热聚合禁阻剂、增塑剂、着色剂(着色颜料或染料)等，此外还可以并用其他的助剂类(例如导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、调平剂、剥离促进剂、防氧化剂、香料、表面张力调整剂、链转移剂等)。通过适当地含有它们，就可以调整作为目标的感光性膜的稳定性、照相性、膜物性等性质。

-敏化剂-

作为上述感光性树脂组合物，也可以含有敏化剂。

在将上述感光层显影、曝光的情况下，从提高不使该感光层的进行曝光的部分的厚度在该曝光及显影后变化的上述光的最小能量(灵敏度)的观点考虑，特别优选并用上述敏化剂。

作为上述敏化剂，可以与上述光照射机构(例如可见光线或紫外光及可见光激光器等)匹配地适当选择。

上述敏化剂因活性能量射线而成为激发状态，通过与其他的物质(例如自由基发生剂、酸发生剂等)相互作用(例如能量移动、电子移动等)，而可以产生自由基或酸等有用基团。

作为上述敏化剂，包含选自缩环系化合物、氨基苯基酮系化合物、多核芳香族类、具有酸性核的化合物、具有碱性核的化合物、具有荧光增白剂核的化合物中的至少一种，根据需要，也可以包含其他的敏化剂。作为敏化剂，从灵敏度提高的方面考虑，更优选杂缩环系化合物、氨基二苯酮系化合物，特别优选杂缩环系化合物。

--缩环系化合物--

上述例示化合物当中，作为将芳香族环或杂环缩环而成的化合物(缩环系化合物)，优选杂缩环系化合物。上述的所谓杂缩环系化合物，是指在环当中具有杂元素的多环化合物，在上述环中，优选含有氮原子。作为上述杂缩环系化合物，例如可以举出杂缩环系酮化合物。上述杂缩环系酮化合物当中，更优选吖啶酮化合物及噻吨酮化合物，它们当中，特别优选噻吨酮化合物。

作为上述杂缩环系酮化合物，具体来说，例如可以举出吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等吖啶酮化合物；噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、1-氯-4-丙基氧基噻吨酮、Quantacure QTX等噻吨酮化合物；3-(2-苯并呋喃酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃酰基)-7-(1-吡咯烷基)香豆素、3-苯甲酰基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3，3’-羰基双(5，7-二-正丙氧基香豆素)、3，3’-羰基双(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素、7-二乙基氨基-4-甲基香豆素、以及日本特开平5-19475号、日本特开平7-271028号、日本特开2002-363206号、日本特开2002-363207号、日本特开2002-363208号、日本特开2002-363209号公报等中记载的香豆素化合物等香豆素类；等。

另外，还可以举出公知的多核芳香族类(例如芘、苝、苯并菲)、呫吨类(例如荧光黄、曙红、赤藓红、罗丹明B、玫瑰红)、菁类(例如吲哚碳菁、噻碳菁、氧碳菁)、部花青类(例如部花青、碳部花青)、噻嗪类(例如硫堇、亚甲蓝、甲苯胺蓝)、蒽醌类(例如蒽醌)、斯克瑞穆(squarium)类(例如斯克瑞穆)等。

上述敏化剂的含量优选相对于上述感光性树脂组合物的全部固体成分为0.01质量％～4质量％，更优选为0.02质量％～2质量％，特别优选为0.05质量％～1质量％。

如果上述含量小于0.01质量％，则会有灵敏度降低的情况，如果超过4质量％，则会有图案的形状恶化的情况。

上述感光性树脂组合物中的上述敏化剂与光聚合引发剂的含量的质量比优选为[(敏化剂)/(肟衍生物)]＝1/0.1～1/100，更优选为1/1～1/50。

如果上述敏化剂的含量与上述光聚合引发剂的含量的质量比处于上述的范围之外，则会有灵敏度降低、并且灵敏度的经时变化恶化的情况。

-热聚合禁阻剂-

为了防止上述感光层的上述聚合性化合物的热聚合或经时性聚合，也可以添加上述热聚合禁阻剂。

作为上述热聚合禁阻剂，例如可以举出4-甲氧基苯酚、氢醌、烷基或芳基取代氢醌、叔丁基卡必醇、连苯三酚、2-羟基二苯酮、4-甲氧基-2-羟基二苯酮、氯化铜、吩噻嗪、氯醌、萘基胺、β-萘酚、2，6-二叔丁基-4-甲酚、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亚甲蓝、酮与有机螯合剂反应物、水杨酸甲酯、以及吩噻嗪、亚硝基化合物、亚硝基化合物与Al的螯合物等。

上述热聚合禁阻剂的含量优选相对于上述聚合性化合物为0.001质量％～5质量％，更优选为0.005质量％～2质量％，特别优选为0.01质量％～1质量％。

如果上述含量小于0.001质量％，则会有保存时的稳定性降低的情况，如果超过5质量％，则会有对活性能量射线的灵敏度降低的情况。

-增塑剂-

为了控制上述感光层的膜物性(挠曲性)，也可以添加上述增塑剂。

作为上述增塑剂，例如可以举出邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二异丁酯、邻苯二甲酸二庚酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二环己基酯、邻苯二甲酸二(十三烷基酯)、邻苯二甲酸丁基苄酯、邻苯二甲酸二异癸基酯、邻苯二甲酸二苯酯、邻苯二甲酸二烯丙酯、邻苯二甲酸辛基辛酰基酯等邻苯二甲酸酯类；三甘醇二乙酸酯、四甘醇二乙酸酯、邻苯二甲酸二甲基乙二醇酯、乙基邻苯二甲酰基甘酸乙酯、甲基邻苯二甲酰基甘酸乙酯、丁基邻苯二甲酰基甘酸丁酯、三甘醇二辛酸酯等二醇酯类；磷酸三甲苯酯、磷酸三苯酯等磷酸酯类；4-甲苯磺酰胺、苯磺酰胺、N-正丁基苯磺酰胺、N-正丁基乙酰胺等酰胺类；己二酸二异丁酯、己二酸二辛酯、癸二酸二甲酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二辛酯、壬二酸二辛酯、苹果酸二丁酯等脂肪族二酸酯类；柠檬酸三乙酯、柠檬酸三丁酯、甘油三乙酰基酯、月桂酸丁酯、4，5-二乙氧基环己烷-1，2-二羧酸二辛酯等、聚乙二醇、聚丙二醇等二醇类。

上述增塑剂的含量优选相对于上述感光性树脂组合物的全部固体成分为0.1质量％～50质量％，更优选为0.5质量％～40质量％，特别优选为1质量％～30质量％。

-着色颜料-

作为上述着色颜料，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出维多利亚纯蓝BO(C.I.42595)、金胺(C.I.41000)、脂溶黑HB(C.I.26150)、莫诺赖特黄GT(C.I.颜料黄12)、永固黄GR(C.I.颜料黄17)、永固黄HR(C.I.颜料黄83)、永固桃红FBB(C.I.颜料红146)、科莱恩型颜料红ESB(C.I.颜料紫19)、颇料红(permanent rubine)FBH(C.I.颜料红11)、耐晒桃红色淀(Fastel Pink B Supra，(C.I.颜料红81))、酞菁蓝(Mortastral Fast Blue，(C.I.颜料蓝15))、莫诺赖特坚牢黑B(C.I.颜料黑1)、碳、C.I.颜料红97、C.I.颜料红122、C.I.颜料红149、C.I.颜料红168、C.I.颜料红177、C.I.颜料红180、C.I.颜料红192、C.I.颜料红215、C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:4、C.I.颜料蓝15:6、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝64等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，根据需要，可以使用从公知的染料当中适当地选择的染料。

上述着色颜料在上述感光性树脂组合物中的固体成分含量可以考虑永久图案形成之时的感光层的曝光灵敏度、析像性等来决定，虽然根据上述着色颜料的种类而不同，然而一般来说优选为0.01质量％～10质量％，更优选为0.05质量％～5质量％。

(2)感光性膜

本发明的感光性膜是在支承体上层叠由感光性树脂组合物构成的感光层而成的。优选在上述感光层上层叠保护层而成，此外根据需要还层叠缓冲层、氧遮断层(PC层)等其他的层而成。

作为上述感光性膜的形态，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出：在上述支承体上依次具有上述感光层、上述保护层而成的形态、在上述支承体上依次具有上述PC层、上述感光层、上述保护层而成的形态、在上述支承体上依次具有上述缓冲层、上述PC层、上述感光层、上述保护层而成的形态等。而且，上述感光层既可以是单层，也可以是多层。

(感光层)

作为上述感光层在上述感光性膜上设置的部位，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而通常来说是层叠于上述支承体上。

上述感光层优选在后述的曝光工序中，在利用具有n个接收并射出来自光照射机构的光的描素部的光调制机构，将来自上述光照射机构的光调制后，用穿过排列了具有能够修正由上述描素部的出射面的变形造成的像差的微透镜的微透镜阵列的光来曝光。

在将上述感光层曝光显影的情况下，不使该感光层的进行曝光的部分的厚度在该曝光及显影后变化的上述曝光中所用的光的最小能量优选为100mJ/cm²以下，更优选为70mJ/cm²以下。如果上述曝光中所用的光的最小能量超过100mJ/cm²，则由于生产节拍时间变长，因此不够理想。

这里，所谓“不使该感光层的进行曝光的部分的厚度在该曝光及显影后变化的上述曝光中所用的光的最小能量”是指所谓的显影灵敏度，例如可以根据表示在将上述感光层曝光时的上述曝光中所用的光的能量(曝光量)、与利用接在上述曝光之后的上述显影处理生成的上述固化层的厚度的关系的曲线图(灵敏度曲线)来求出。

上述固化层的厚度随着上述曝光量增大而增加，其后，变得与上述曝光前的上述感光层的厚度大致相同并且大致一定。上述显影灵敏度是通过读取上述固化层的厚度达到大致一定时的最小曝光量而求得的值。

这里，在上述固化层的厚度与上述曝光前的上述感光层的厚度为±1μm以内时，则可以看作上述固化层的厚度不因曝光及显影而变化。

作为上述固化层及上述曝光前的上述感光层的厚度的测定方法，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而可以举出使用膜厚测定装置、表面粗糙度测定机(例如Surfcom 1400D(东京精密公司制))等来测定的方法。

作为上述感光层的厚度，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而优选为3μm～100μm，更优选为5μm～70μm。

作为上述感光层的形成方法，可以举出如下的方法，即，将本发明的上述感光性树脂组合物溶解、乳化或分散于水或溶剂中，配制感光性树脂组合物溶液，通过将该溶液直接涂布在上述支承体上并干燥而层叠。

作为上述感光性树脂组合物溶液的溶剂，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、二异丁基酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、邻苯二甲酸二甲酯、苯甲酸乙酯、以及甲氧基丙基乙酸酯等酯类；甲苯、二甲苯、苯、乙基苯等芳香族烃类；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，1-三氯乙烷、二氯甲烷、单氯苯等卤化烃类；四氢呋喃、二乙醚、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、1-甲氧基-2-丙醇等醚类；二甲替甲酰胺、二甲替乙酰胺、二甲亚砜、环丁砜等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。另外，也可以添加公知的表面活性剂。

作为上述涂布的方法，没有特别限制，可以根据目的适当地选择使用，例如可以举出使用旋转涂布机、狭缝涂布机、辊涂机、金属型涂布机、淋涂机等直接涂布于上述支承体上的方法。

作为上述干燥的条件，虽然随着各成分、溶剂的种类、使用比例等而不同，然而通常来说是在60℃～110℃的温度下30秒～15分钟左右。

本发明中，上述感光层是利用含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、无机填充剂、密合促进剂以及根据需要使用的其他的成分的感光性树脂组合物形成的。

<支承体>

作为上述支承体，没有特别限制，可以根据目的适当地选择使用，然而优选能够将上述感光层剥离并且光的透过性良好的，更优选除此以外表面的平滑性也良好的。

上述支承体优选合成树脂制且透明的材料，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三乙酸纤维素、二乙酸纤维素、聚(甲基)丙烯酸烷基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、赛璐玢、聚偏氯乙烯共聚物、聚酰胺、聚酰亚胺、氯乙烯·乙酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纤维素系膜、尼龙膜等各种塑料膜，它们当中，特别优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

上述支承体的厚度没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而例如优选为2μm～150μm，更优选为5μm～100μm，特别优选为8μm～50μm。上述支承体既可以是单层的，也可以具有多层构成。

作为上述支承体的形状，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而优选为长方形。上述长方形的支承体的长度没有特别限制，例如可以举出10m～20,000m的长度的。

<保护层>

上述感光性膜也可以在上述感光层上形成保护层。

作为上述保护层，例如可以举出上述支承体中所用的物质、纸、聚乙烯、层叠了聚丙烯的纸等，它们当中，优选聚乙烯膜、聚丙烯膜。

上述保护层的厚度没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而例如优选为5μm～100μm，更优选为8μm～50μm，特别优选为10μm～30μm。

作为上述支承体与保护层的组合(支承体/保护层)，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚乙烯、聚氯乙烯/赛璐玢、聚酰亚胺/聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯/聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另外，可以通过对支承体及保护层的至少某个进行表面处理，来调整层间粘接力。上述支承体的表面处理也可以是为了提高与上述感光层的粘接力而实施的，例如可以举出底涂层的涂设、电晕放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、高频照射处理、辉光放电照射处理、活性等离子体照射处理、激光线照射处理等。

另外，上述支承体与上述保护层的静摩擦系数优选为0.3～1.4，更优选为0.5～1.2。

如果上述静摩擦系数小于0.3，则由于过滑，因此会有在制成卷筒状时产生卷绕滑移的情况，如果超过1.4，则会有难以卷成良好的卷筒状的情况。

上述感光性膜例如优选卷绕在圆筒状的卷芯上，以长方形卷绕成卷筒状保管。上述长方形的感光性膜的长度没有特别限制，例如可以从10m～20,000m的范围中适当地选择。另外，也可以进行切割加工，将100m～1,000m的范围的长方形制成卷筒状，以便用户容易使用。而且，该情况下，优选使上述支承体成为最外侧地卷绕。另外，也可以将上述卷筒状的感光性膜以薄片状切割。在保管时，从端面的保护、防止熔边的观点考虑，优选在端面设置隔离件(特别是防湿性的材料、加入干燥剂的材料)，另外，包装也优选使用透湿性低的材料。

为了调整上述保护层与上述感光层的粘接性，也可以对上述保护层进行表面处理。上述表面处理例如是在上述保护层的表面，形成由聚硅氧烷、氟化聚烯烃、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物构成的底涂层。该底涂层的形成可以通过在将上述聚合物的涂布液涂布于上述保护层的表面后，在30℃～150℃下干燥1分钟～30分钟来形成。上述干燥时的温度特别优选为50℃～120℃。

<其他的层>

作为上述感光性膜的其他的层，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如也可以具有缓冲层、氧遮断层(PC层)、剥离层、粘接层、光吸收层、表面保护层等层。这些层既可以单独具有一种，也可以具有两种以上。另外，也可以在上述感光层上具有保护层。

[感光性膜的制造方法]

上述感光性膜例如可以如下所示地制造。

首先，将上述感光性树脂组合物中所含的材料溶解、乳化或分散于水或溶剂中，配制感光性膜用的感光性树脂组合物溶液。

作为上述溶剂，可以举出与上述感光性树脂组合物溶液的溶剂相同的例子。

然后，在上述支承体上涂布上述感光性树脂组合物溶液，使之干燥而形成感光层，就可以制造感光性膜。

作为上述感光性树脂组合物溶液的涂布方法，可以举出上述的方法。

本发明的上述感光性膜由于使用上述感光性树脂组合物，因此耐镀敷性、灵敏度、显影性及密合性良好，可以适用于保护膜、层间绝缘膜、以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案形成、滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶结构构件的制造、全息、微型机器、防护材料(proof)等图案形成等中，特别是可以适用于印制电路板的永久图案形成中。

特别是，本发明的感光性膜由于该膜的厚度均匀，因此在永久图案的形成之时，即使将永久图案(保护膜、层间绝缘膜、阻焊剂等)薄层化，也不会在高加速度试验(HAST)中产生离子迁移，可以获得耐热性、耐湿性优异的高精细的永久图案，因此能够更为精细地进行向基材上的层叠。

(感光性叠层体)

上述感光性叠层体在基体上至少具有上述感光层，层叠根据目的适当地选择的其他的层而成。

<基体>

上述基体是形成感光层的被处理基体，或成为转印本发明的感光性膜的至少感光层的被转印体，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以从表面平滑性高的材料到具有凹凸的表面的材料任意地选择。优选板状的基体，可以使用所谓的基板。具体来说，可以举出公知的印制电路布线板制造用的基板(印制电路板)、玻璃板(钠玻璃板等)、合成树脂性的膜、纸、金属板等。

[感光性叠层体的制造方法]

作为上述感光性叠层体的制造方法，作为第一方式，可以举出将上述感光性树脂组合物涂布于上述基体的表面并干燥的方法，作为第二方式，可以举出将本发明的感光性膜的至少感光层一边进行加热及加压的至少某项一边转印而层叠的方法。

上述第一方式的感光性叠层体的制造方法是在上述基体上涂布上述感光性树脂组合物并干燥而形成感光层。

作为上述涂布及干燥的方法，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出如下的方法，即，将上述感光性树脂组合物溶解、乳化或分散于水或溶剂中而配制感光性树脂组合物溶液，将该溶液直接涂布在上述基体的表面，使之干燥而层叠。

作为上述涂布方法及干燥条件，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，以与上述感光性膜中所用的相同的方法及条件进行。

上述第二方式的感光性叠层体的制造方法是将本发明的感光性膜一边进行加热及加压的至少某项一边层叠在上述基体的表面。而且，在上述感光性膜具有上述保护层的情况下，优选将该保护层剥离，将上述感光层重合地层叠于上述基体上。

上述加热温度没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如优选为15～180℃，更优选为60～140℃。

上述加压的压力没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如优选为0.1～1.0MPa，更优选为0.2～0.8MPa。

作为进行上述加热的至少某项的装置，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，作为合适的例子，可以举出压膜机(例如大成压膜机公司制VP-II、Nichigo Morton(株)制VP130)等。

本发明的上述感光性膜及上述感光性叠层体由于使用本发明的上述感光性树脂组合物，因此灵敏度、显影性及密合性良好，能够有效地形成高精细的永久图案，可以适用于保护膜、层间绝缘膜、以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案形成、滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶结构构件的制造、全息、微型机器、防护材料等图案形成等中，特别是可以适用于印制电路板的永久图案形成中。

(3)图案形成装置及图案形成方法

本发明的图案形成装置具备上述感光性叠层体，至少具有光照射机构和光调制机构。

本发明的图案形成方法至少包含曝光工序，包含适当地选择的显影工序等其他的工序。

而且，本发明的上述图案形成装置可以通过对本发明的上述图案形成方法的说明来阐明。

[曝光工序]

上述曝光工序是对本发明的感光层进行曝光的工序。对于本发明的上述感光层及基体的材料如上所述。

作为上述曝光的对象，只要是上述感光层，就没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而例如优选如上所述，对将感光性树脂组合物一边进行加热及加压的某项一边层叠在基体上而形成的感光性叠层体的感光层来进行。

作为上述曝光，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，可以举出数字曝光、模拟曝光等，它们当中优选数字曝光。

作为上述模拟曝光，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出穿过具有规定的图案的光掩模而用(超)高压水银灯、氙灯、卤素灯等进行曝光的方法。

作为上述数字曝光，只要是不使用上述光掩模进行，就没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而例如优选如下所示地进行，即，一边移动至少具备了光照射机构及光调制机构的曝光头和上述感光层的至少某个，一边在将从上述光照射机构中射出的光利用上述光调制机构根据图案信息变频的同时，从上述曝光头对上述感光层照射而进行。

作为上述数字曝光中所用的光源，只要是产生从紫外到近红外线的光源，就没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以使用(超)高压水银灯、氙灯、碳弧灯、卤素灯、以及复印机用的荧光管或激光等公知光源，它们当中优选(超)高压水银灯、激光，更优选激光。

所谓(超)高压水银灯是指向石英玻璃管等中封入了水银的放电灯，将水银的蒸气压设定得较高而提高了发光效率。亮线光谱当中，既可以使用ND滤光片等而仅使用1个波长的亮线光谱，也可以使用具有多条亮线光谱的光线。

上述激光的所谓“laser”是Light Amplification by Stimulated Emissionof Radiation(受激辐射所致的光的放大)的首字母。作为产生上述激光的装置的合适的例子，可以举出利用在具有粒子数反转的物质中引起的受激辐射的现象而借助光波的放大、激发来制成干涉性和指向性更强的单色光的振荡器及放大器。

作为上述激光的激发介质，有晶体、玻璃、液体、染料、气体等，可以从这些介质中使用固体激光器、液体激光器、气体激光器、半导体激光器等公知的激光器。

具体来说，作为气体激光器，可以举出Ar离子激光器(364nm、351nm)、Kr离子激光器(356nm、351nm)、He-Cd激光器(325nm)，作为固体激光器，可以举出YAG激光器、YVO₄激光器(1,064nm)、YAG激光器或YVO₄激光器的2倍波(532nm)、3倍波(355nm)、4倍波(266nm)、波导型波长转换元件与AlGaAs、InGaAs半导体的组合(380nm～400nm)、波导型波长转换元件与AlGaInP或AlGaAs半导体t的组合(300nm～350nm)、AlGaInN(350nm～470nm)等。作为它们当中优选的激光，从成本的方面考虑可以举出AlGaInN半导体激光器(市售InGaN系半导体激光器375nm或405nm)，从生产性的方面考虑，可以举出高功率的355nm激光器。

上述激光的波长例如优选为200nm～1,500nm，更优选为300nm～800nm，进一步优选为330nm～500nm，特别优选为350nm～420nm。

-光调制机构-

作为上述光调制机构，具有n个描素部，作为代表性的方法，可以举出与上述图案信息对应地控制上述描素部的方法。具体来说，可以举出数字微镜设备(DMD)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systyems)类型的空间光调制元件(SLM；Spacial Light Modulator)、利用电光学效应将透过光调制的光学元件(PLZT元件)、液晶光闸(FLC)等，它们当中优选举出DMD。

在使用了上述DMD的情况下，来自光源的光被利用合适的光学系统向上述DMD上照射，来自在上述DMD上二维地排列的各反射镜的反射光经过其他的光学系统等，在感光层上形成二维地排列的光点的像。如果原样不动则光点与光点之间不会被曝光，然而如果将上述二维地排列的光点的像相对于二维的排列方向沿略为倾斜的方向移动，则通过由后方的列的光点将最初的列的光点与光点之间曝光，就可以将感光层的全面曝光。上述DMD通过控制各反射镜的角度，对上述光点进行ON-OFF控制，就可以形成图像图案。通过将具有此种上述DMD的曝光头排列使用，就可以对应各种宽度的基板。

上述DMD中，上述光点的亮度只有ON或OFF的2个灰度等级，然而如果使用反射镜灰度等级型空间变频元件，则可以进行256个灰度等级的曝光。

另外，上述光调制机构优选具有基于所形成的图案信息来生成控制信号的图案信号生成机构。该情况下，上述光调制机构根据上述图案信号生成机构所生成的控制信号使光调制。

作为上述控制信号，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，作为合适的例子，可以举出数字信号。

另一方面，作为上述光调制机构的其他的代表性的方法，可以举出使用多面反射镜的方法。这里，所谓多面反射镜(polygon mirror)是指在周围具有一连串的平面反射面的旋转构件。利用上述多面反射镜，反射来自光源的光而向感光层上照射，而反射光的光点随着该平面镜的旋转而被扫描。通过与该扫描方向成直角地移动基板，就可以将基板上的感光层的全面曝光。此外，通过将来自光源的光的强度利用合适的方法控制为ON-OFF或中间色调，就可以形成图像图案。此时，通过将来自光源的光设为多条，就可以缩短扫描时间。

作为本发明的光调制机构，除此以外，还可以使用日本特开平5-150175公报中记载的使用多面反射镜来描绘的例子；日本特表2004-523101公报(国际公开第2002/039793号小册子)中记载的例子，其在视觉上取得下部层的图像的一部分，用使用了多面反射镜的装置将上部层的位置与下部层位置统一而曝光；日本特开2004-56080公报中记载的具有DMD的曝光的例子；日本特表2002-523905公报中记载的具备多面反射镜的曝光装置、日本特开2001-255661公报中记载的具备多面反射镜的曝光装置、日本特开2003-50469公报中记载的DMD、LD、多重曝光的组合例；日本特开2003-156853公报中记载的根据基板的部位改变曝光量的曝光方法的例子；日本特开2005-43576公报中记载的进行位置不正调整的曝光方法的例子等。

-光照射机构-

作为上述光照射机构，即作为光的照射方法，没有特别限制，可以根据目的适当地选择上述的曝光光源，然而优选将来自这些光源的光合成2条以上而照射，作为特别合适的，可以举出照射合成了2条以上的光的激光(合波激光)。

作为上述合波激光的照射方法，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而作为合适的方法，可以举出利用多个激光源、多模光纤、将由该多个激光源照射的激光聚光后与上述多模光纤耦合的集合光学系统来构成合波激光而照射的方法。

上述激光的束径没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而从深色隔离壁的析像度的观点考虑，以高斯光束的1/e²值计优选为5μm～30μm，更优选为7μm～20μm。

本发明中，优选与图像图案对应地将激光进行空间光调制。所以，出于该目的，优选使用作为空间光调制元件的上述DMD。

作为具有上述光调制机构以及上述光照射机构的曝光装置，例如可以使用日本特开2005-222039号公报、日本特开2005-258431号公报、日本特开2006-30966号公报等中记载的装置，然而本发明的曝光装置并不限定于此。

[显影工序]

作为上述显影，通过将上述感光层的未曝光部分除去而进行。

作为上述未固化区域的除去方法，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，例如可以举出使用显影液来除去的方法等。

作为上述显影液，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而例如可以举出碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂等，它们当中，优选弱碱性的水溶液。作为该弱碱水溶液的碱成分，例如可以举出氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸锂碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸钠、磷酸钾、焦磷酸钠、焦磷酸钾、硼砂等。

上述弱碱性的水溶液的pH例如优选为约8～12，更优选为约9～11。作为上述弱碱性的水溶液，例如可以举出0.1质量％～5质量％的碳酸钠水溶液或碳酸钾水溶液等。

上述显影液的温度可以与上述感光层的显影性匹配地适当地选择，然而例如优选为约25℃～40℃。

上述显影液也可以与表面活性剂、消泡剂、有机碱(例如乙二胺、乙醇胺、四甲基氢氧化铵、二亚乙基三胺、三亚乙基五胺、吗啉、三乙醇胺等)、用于促进显影的有机溶剂(例如醇类、酮类、酯类、醚类、酰胺类、内酯类等)等并用。另外，上述显影液既可以是将水或碱水溶液与有机溶剂混合了的水系显影液，也可以是单独的有机溶剂。

在上述图案的形成中，例如也可以包含固化处理工序、蚀刻工序、镀膜工序等。它们既可以单独使用一种，也可以并用两种以上。

[固化处理工序]

在上述图案的形成方法是进行保护膜、层间绝缘膜、阻焊剂图案等永久图案或进行滤色片的形成的永久图案形成方法的情况下，优选在上述显影工序后，具备对感光层进行固化处理的固化处理工序。

作为上述固化处理工序，没有特别限制，可以根据目的适当地选择使用，然而作为合适的例子，可以举出全面曝光处理、全面加热处理等。

作为上述全面曝光处理的方法，例如可以举出在上述显影后将形成了上述永久图案的上述叠层体上的全面曝光的方法。利用该全面曝光，形成上述感光层的感光性树脂组合物中的树脂的固化得到促进，上述永久图案的表面被固化。

作为进行上述全面曝光的装置，没有特别限制，可以根据目的适当地选择，然而作为合适的例子，可以举出超高压水银灯等UV曝光机、使用氙灯的曝光机、激光曝光机等。曝光量通常来说为10mJ/cm²～2,000mJ/cm²。

作为上述全面加热处理的方法，可以举出在上述显影之后将形成了上述永久图案的上述叠层体上的全面加热的方法。利用该全面加热，上述永久图案的表面的膜强度得到提高。

上述全面加热中的加热温度优选为120℃～250℃，更优选为120℃～200℃。如果该加热温度小于120℃，则会有无法得到由加热处理带来的膜强度的提高，如果超过250℃，则会产生上述感光性树脂组合物中的树脂的分解，会有膜质变弱变脆的情况。

上述全面加热中的加热时间优选为10分钟～120分钟，更优选为15分钟～60分钟。

作为进行上述全面加热的装置，没有特别限制，可以从公知的装置中根据目的适当地选择，例如可以举出烘干炉、加热盘、IR加热器等。

上述图案的形成方法可以在利用405nm的激光曝光的直接描绘中，用于需要防止由氧造成的感光层的灵敏度降低的各种图案的形成等中，可以适用于兼顾了高密度化和高生产性的图案的形成中。

在上述永久图案形成方法中，如果利用上述永久图案形成方法形成的永久图案为上述保护膜或上述层间绝缘膜，则可以保护配线免受来自外部的冲击或弯曲，特别是在为上述层间绝缘膜的情况下，例如对于半导体或部件向多层配线基板或组合配线基板等上的高密度安装来说十分有用。

本发明的上述永久图案形成方法由于使用本发明的上述感光性树脂组合物，因此可以适用于保护膜、层间绝缘膜、以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案形成用、滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶结构构件的制造、全息、微型机器、防护材料等的制造中，特别是可以适用于印制电路板的永久图案形成中。

下面，将利用实施例对本发明进行更具体的说明，然而本发明只要是不超出其主旨，则不限定于以下的实施例。而且，只要没有特别指出，则“份”为质量基准。

(实施例1)

-感光性膜的制造-

在作为支承体的厚16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(Toray株式会社制、16FB50)上，涂布由下述的组成构成的感光性树脂组合物溶液并干燥，在上述支承体上形成了厚30μm的感光层。在上述感光层上，作为保护层层叠厚20μm的聚丙烯膜(王子特殊纸株式会社制、Arufun E-200)，制造了感光性膜。

<感光性树脂组合物溶液>的组成

下述粘合剂-1的溶液………………100质量份

二季戊四醇六丙烯酸酯………………13质量份

以下述式I-1表示的光聚合引发剂………………5.0质量份

以下述式S-1表示的敏化剂………………0.8质量份

Epotot YD-8125(环氧当量170g/eq.东都化成株式会社制、双酚A系环氧树脂)………………8质量份

双氰胺………………0.5质量份

颜料分散液………………80.21质量份

Megafac F-780F(大日本油墨株式会社制)的30质量％甲乙酮溶液………………0.2质量份

甲乙酮………………12质量份

1，2，3-苯并三唑………………1.0质量份

而且，上述颜料分散液是在将硫酸钡(堺化学株式会社制、B30)30质量份、上述粘合剂-1的溶液50质量份、酞菁蓝0.07质量份、蒽醌系黄色颜料(PY24)0.04质量份预先混合后，用Motor Mill M-250(Aiga公司制)，使用直径1.0mm的氧化锆珠子，以线速度9m/s分散3小时而配制的。

[化29]

[化30]

(合成例1)粘合剂1的合成

向1,000mL三口烧瓶中加入1-甲氧基-2-丙醇159g，在氮气气流下，加热到85℃。向其中用2小时滴加甲基丙烯酸苄酯63.4g、甲基丙烯酸72.3g、V-601(和光纯药制)4.15g的1-甲氧基-2-丙醇159g溶液。滴加结束后，再加热5小时而使之反应。然后，停止加热，得到甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(30/70摩尔％比)的共聚物。

然后，将上述共聚物溶液中的120.0g转移到300mL三口烧瓶中，加入甲基丙烯酸缩水甘油酯16.6g、对甲氧基苯酚0.16g，搅拌而使之溶解。溶解后，加入三苯基膦3.0g，加热到100℃，进行了加成反应。利用气相色谱确认甲基丙烯酸缩水甘油酯消失，停止加热。加入1-甲氧基-2-丙醇38g，配制成酸值112mgKOH/g、质均分子量15,000、固体成分30质量％的粘合剂-1的溶液。

-向基体上的层叠-

作为上述基体，对覆铜叠层板(无通孔、铜厚12μm)的表面实施化学研磨处理而制备。在该覆铜叠层板上，使上述感光性膜的感光层与上述覆铜叠层板接触地，一边剥除上述感光性膜的保护膜，一边使用真空压膜机(Nichigo Morton(株)制、VP130)层叠，制备了依次层叠有上述覆铜叠层板、上述感光层、上述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(支承体)的叠层体。

压接条件是，真空抽吸的时间设为40秒，压接温度设为70℃，压接压力设为0.2MPa，加压时间设为10秒。

对上述叠层体，如下所示地进行了灵敏度的评价。

<灵敏度>

将上述叠层体在室温(23℃、55％RH)下静置10分钟。向所得的上述叠层体的感光层表面，使用INPREX IP-3000(富士胶片公司制、像素间距＝1.0μm)，将L/S(线/空)＝50μm/50μm的图案数据以2^1/2倍间隔照射从0.5mJ/cm²到500mJ/cm²的光能量不同的光而曝光，将L/S(线/空)＝50μm/50μm的行图案固化。在室温下静置10分钟后，从上述感光性叠层体上剥除上述支承体，在覆铜叠层板上的感光层全面，以喷雾压力0.15MPa将30℃的1质量％碳酸钠水溶液以上述最短显影时间的2～3倍的时间(或40～60秒)进行喷淋显影，将未固化的区域溶解除去。使用激光显微镜(VK-9500、Kyence公司制；物镜50倍)测定如此得到的L＝50μm的图案的线宽，将线宽达到50μm的曝光量设为灵敏度(最佳曝光量)。

-显影及固化处理-

从上述叠层体上剥除聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(支承体)，对上述感光层的全面以0.15MPa的压力喷淋30℃的1质量％碳酸钠水溶液60秒，将未固化的区域溶解除去。其后，进行水洗、干燥，形成了永久图案。

对上述永久图案，如下所示地进行了耐镀敷性的评价。

<耐镀敷性的评价>

将上述固化树脂图案在40℃的酸性脱脂液(荏原UDYLITE(株)制、PB242D 10％稀释液)中浸渍3分钟后，水洗。

然后，在30℃的轻微蚀刻液(ソフトエツチ液、Meltex(株)制、AD48510％稀释液)中浸渍30秒，在25℃的10％硫酸水溶液中浸渍30秒，在25℃的活化剂液(奥野制药工业(株)、ICP acceler 15％稀释液)中浸渍30秒。而且，在到此为止的各工序间进行了水洗。之后，以80℃进行40分钟的非电解镀镍(日本Kanigen(株)制、S-810的20％稀释液)，水洗后，以85℃进行5分钟的置换镀金(小岛化学药品(株)制、OL 200020％稀释液)。使用镀敷后的固化树脂图案进行表面观察，对在表面观察中没有问题的评价基板再参考JIS K 5600-5-6进行剥离试验，利用以下的基准进行了评价。

○…剥离试验后完全没有异常的。

△…虽然在表面观察中没有问题，但是在剥离试验时观察到剥落的。

×…在表面观察中观察到向图案部的渗液或图案的剥落的。

(实施例2)

除了在实施例1中，未添加环氧树脂化合物以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(实施例3)

除了在实施例1中，将硫酸钡替换为二氧化硅(Admatechs公司制、SO-C2)以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(实施例4)

除了在实施例1中，将硫酸钡替换为二氧化硅(Admatechs公司制、SO-C2)，未添加环氧树脂以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(实施例5)

除了在实施例1中，将以I-1表示的光聚合引发剂5重量份变更为以下述式I-2表示的光聚合引发剂2重量份以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

[化31]

(实施例6)

除了在实施例5中，未添加环氧树脂化合物以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例5相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(实施例7)

除了在实施例5中，将硫酸钡替换为二氧化硅(Admatechs公司制、SO-C2)以外，与实施例5相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(实施例8)

除了在实施例5中，将硫酸钡替换为二氧化硅(Admatechs公司制、SO-C2)，未添加环氧树脂以外，与实施例5相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(比较例1)

除了在实施例1中，未添加密合促进剂以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(比较例2)

除了在实施例1中，未添加密合促进剂，将硫酸钡替换为二氧化硅(Admatechs公司制、SO-C2)以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(比较例3)

除了在实施例1中，未添加硫酸钡和环氧树脂化合物以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

(比较例4)

除了在实施例1中，未添加硫酸钡以外，与实施例1相同地制造了叠层体及永久图案，与实施例1相同地进行了灵敏度及耐镀敷性的评价。将结果表示于表1中。

[表1]

	密合促进剂	无机颜料	环氧树脂	灵敏度(mj/cm²)	耐镀敷性
	密合促进剂	无机颜料	环氧树脂	灵敏度(mj/cm²)	耐镀敷性	实施例1	使用	硫酸钡	使用	24	○
实施例2	使用	硫酸钡	不使用	26	△	实施例1	使用	硫酸钡	使用	24	○
实施例2	使用	硫酸钡	不使用	26	△	实施例3	使用	二氧化硅	使用	24	◎
实施例4	使用	二氧化硅	不使用	26	○	实施例3	使用	二氧化硅	使用	24	◎
实施例4	使用	二氧化硅	不使用	26	○	比较例1	不使用	硫酸钡	使用	30	×
比较例2	不使用	二氧化硅	使用	30	×	比较例1	不使用	硫酸钡	使用	30	×
比较例2	不使用	二氧化硅	使用	30	×	比较例3	使用	不使用	不使用	33	××
比较例4	使用	不使用	使用	30	×	比较例3	使用	不使用	不使用	33	××
比较例4	使用	不使用	使用	30	×	实施例5	使用	硫酸钡	使用	15	○
实施例6	使用	硫酸钡	不使用	17	△	实施例5	使用	硫酸钡	使用	15	○
实施例6	使用	硫酸钡	不使用	17	△	实施例7	使用	二氧化硅	使用	15	◎
实施例8	使用	二氧化硅	不使用	16	○	实施例7	使用	二氧化硅	使用	15	◎

根据表1的结果判明，在实施例1～4中，与比较例1～4相比，形成灵敏度及耐镀敷性更为优异的图案。另外确认，无机填充剂优选为二氧化硅，优选含有热交联剂。

工业上的利用可能性

本发明的感光性膜由于耐镀敷性、灵敏度、显影性及密合性良好，能够有效地形成高精细的永久图案，因此可以适用于保护膜、层间绝缘膜、以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案形成、滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶结构构件的制造、全息、微型机器、防护材料的制造等中，特别是可以适用于印制电路板的永久图案形成中。

本发明的图案形成方法由于使用上述感光性树脂组合物，因此可以适用于保护膜、层间绝缘膜、以及阻焊剂图案等永久图案等各种图案形成、滤色片、柱材、肋材、间隔件、隔壁等液晶结构构件的制造、全息、微型机器、防护材料的制造等中，特别是可以适用于印制电路板的永久图案形成中。

Claims

1.一种感光性树脂组合物，其特征在于，含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂、无机填充剂和密合促进剂。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，密合促进剂是选自苯并咪唑衍生物、苯并噁唑衍生物、苯并噻唑衍生物、噻三唑衍生物、硫代噁二唑衍生物、N-取代吲唑衍生物、芳香族取代吲唑衍生物、四唑衍生物、喹啉衍生物、硫代氧酸酰胺衍生物及苯并三唑衍生物中的至少一种。

3.根据权利要求1到2中任意一项所述的感光性树脂组合物，其中，无机填充剂为二氧化硅。

4.根据权利要求1到3中任意一项所述的感光性树脂组合物，其中，光聚合引发剂是肟衍生物。

5.根据权利要求1到4中任意一项所述的感光性树脂组合物，其中，还含有热交联剂。

6.根据权利要求5所述的感光性树脂组合物，其中，热交联剂是选自环氧树脂化合物、氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、使封端剂与聚异氰酸酯化合物反应而得的化合物以及蜜胺衍生物中的至少一种。

7.一种感光性膜，其是在支承体上层叠包括权利要求1到6中任意一项所述的感光性树脂组合物的感光层而形成的。

8.一种图案形成方法，其特征在于，至少包含对权利要求7所述的感光性膜的感光层进行曝光的步骤。

9.根据权利要求8所述的图案形成方法，其中，曝光是在利用光调制机构将光调制后，穿过排列有微透镜的微透镜阵列而进行的，所述微透镜具有能够修正由该光调制机构的描素部的出射面的变形造成的像差的非球面。

10.根据权利要求8到9中任意一项所述的图案形成方法，其中，在进行曝光后，进行感光层的显影。

11.根据权利要求10所述的图案形成方法，其中，在进行显影后，进行感光层的固化处理。

12.一种印制电路板，其特征在于，其是利用权利要求8到11中任意一项所述的图案形成方法形成永久图案的。