CN101641423A - 用于电致发光的有机金属化合物和使用该化合物的有机电致发光器件 - Google Patents
用于电致发光的有机金属化合物和使用该化合物的有机电致发光器件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101641423A CN101641423A CN200880005299A CN200880005299A CN101641423A CN 101641423 A CN101641423 A CN 101641423A CN 200880005299 A CN200880005299 A CN 200880005299A CN 200880005299 A CN200880005299 A CN 200880005299A CN 101641423 A CN101641423 A CN 101641423A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- milliliters
- mmoles
- grams
- compound
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 127
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 7
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 title description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 10
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 10
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 6
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- -1 sec.-propyl Substances 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N pentanoic acid group Chemical group C(CCCC)(=O)O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 claims description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 3
- 125000006736 (C6-C20) aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 116
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 107
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 96
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 88
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 78
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 63
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 48
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 47
- CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N acetylacetonate Chemical compound CC(=O)[CH-]C(C)=O CUJRVFIICFDLGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 41
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 40
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 34
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 description 32
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 26
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 24
- VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 2-aminothiophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1S VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 14
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 12
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JXDYKVIHCLTXOP-UHFFFAOYSA-N isatin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)NC2=C1 JXDYKVIHCLTXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- MVVGSPCXHRFDDR-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 MVVGSPCXHRFDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 9
- MKKSTJKBKNCMRV-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(Br)C=C1C=O MKKSTJKBKNCMRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- ZYMZFYQTMLOGQG-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-bromophenol Chemical compound OC1=CC=C(Br)C=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 ZYMZFYQTMLOGQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 5
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- KPGFKIWJDXOGPH-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-(4-bromophenyl)phenol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=C1C1=CC=C(Br)C=C1 KPGFKIWJDXOGPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LDGHLZFFKMEAOE-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-bromobenzenethiol Chemical compound NC1=CC=C(Br)C=C1S LDGHLZFFKMEAOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- JAPYIBBSTJFDAK-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfonyl chloride Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S(Cl)(=O)=O)C(C(C)C)=C1 JAPYIBBSTJFDAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RCACQFRZRNNWEJ-UHFFFAOYSA-N [SiH4].C1(=CC=CC=C1)C(Cl)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [SiH4].C1(=CC=CC=C1)C(Cl)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 RCACQFRZRNNWEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 125000000437 thiazol-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])N=C(*)S1 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- QBLFZIBJXUQVRF-UHFFFAOYSA-N (4-bromophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=C(Br)C=C1 QBLFZIBJXUQVRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHBVXHIVWULVNF-UHFFFAOYSA-N (4-fluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=C(F)C=C1 PHBVXHIVWULVNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIXCLLLELVPXQT-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 QIXCLLLELVPXQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LJNVQRDXAIWHCW-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-(4-fluorophenyl)benzenethiol Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C1=CC=C(S)C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 LJNVQRDXAIWHCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDGOKZIPAXUACV-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-(4-fluorophenyl)phenol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=C1C1=CC=C(F)C=C1 RDGOKZIPAXUACV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHPJEULFSORDEX-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-(4-tert-butylphenyl)benzenethiol Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC=C(S)C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 VHPJEULFSORDEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGYPBDUFCSELQI-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-(4-tert-butylphenyl)phenol Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC=C(O)C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 VGYPBDUFCSELQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNYXDLRSYNSSBV-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-(4-triphenylsilylphenyl)phenol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BNYXDLRSYNSSBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDUPZFQBRLEFCV-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-[4-(N-phenylanilino)phenyl]phenol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MDUPZFQBRLEFCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWYVTAFRNPDKQD-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-fluorophenol Chemical compound OC1=CC=C(F)C=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 SWYVTAFRNPDKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWMPMNQFQRVTR-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 SMWMPMNQFQRVTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLIKXSQWINFRNO-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-naphthalen-2-ylbenzenethiol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C3=CC=C(C(=C3)C=3SC4=CC=CC=C4N=3)S)=CC=C21 NLIKXSQWINFRNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAWWTKCXGHAEDH-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-naphthalen-2-ylphenol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C3=CC=C(C(=C3)C=3SC4=CC=CC=C4N=3)O)=CC=C21 QAWWTKCXGHAEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPDJONHZDLOXHC-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-phenylbenzenethiol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(S)=CC=C1C1=CC=CC=C1 IPDJONHZDLOXHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJHZJGKMGRLVIG-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-phenylphenol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 WJHZJGKMGRLVIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOSAFRUCYNTUGQ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-trimethylsilylphenol Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC=C(O)C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 VOSAFRUCYNTUGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNSIDNBTLADCAK-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4-triphenylsilylphenol Chemical compound C1=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=C1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SNSIDNBTLADCAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NESHSOZRHHQOFN-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-5-phenylphenol Chemical compound C=1C=C(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)C(O)=CC=1C1=CC=CC=C1 NESHSOZRHHQOFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJICSCIQDNKYJR-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)benzenethiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 PJICSCIQDNKYJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPMUXQXLGAKQFR-UHFFFAOYSA-N 2-(6-phenyl-1,3-benzothiazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=C(C=3C=CC=CC=3)C=C2S1 BPMUXQXLGAKQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHDKWNSKAJTYLY-UHFFFAOYSA-N 2-(6-triphenylsilyl-1,3-benzothiazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=C([Si](C=3C=CC=CC=3)(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)C=C2S1 AHDKWNSKAJTYLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LABCZPMWKVNMCE-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-fluorophenyl)benzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(F)C=C1 LABCZPMWKVNMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAVHUQWSOYFRAG-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-tert-butylphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC=C(N)C(C(O)=O)=C1 OAVHUQWSOYFRAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQPHUPXLEZIWEF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-naphthalen-2-ylbenzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1 DQPHUPXLEZIWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUJQJJYAAYPRHQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-phenylbenzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(N)=CC=C1C1=CC=CC=C1 MUJQJJYAAYPRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSMFWWLFDPKTQL-UHFFFAOYSA-N 5-(4-fluorophenyl)-2-sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=C(S)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC(F)=CC=2)=C1 KSMFWWLFDPKTQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEQDEENPTQFLRK-UHFFFAOYSA-N 5-(4-tert-butylphenyl)-2-sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC=C(S)C(C(O)=O)=C1 DEQDEENPTQFLRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOGWRCSJPBQPNS-UHFFFAOYSA-N 5-naphthalen-2-yl-2-sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=C(S)C(C(=O)O)=CC(C=2C=C3C=CC=CC3=CC=2)=C1 LOGWRCSJPBQPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLJRROMOQCRLJI-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2-sulfanylbenzoic acid Chemical compound C1=C(S)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 XLJRROMOQCRLJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZEBSJIOUMDNLY-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-1,3-benzothiazol-2-amine Chemical compound C1=C(Br)C=C2SC(N)=NC2=C1 VZEBSJIOUMDNLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical compound [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- ILIJTAOTQJBETA-UHFFFAOYSA-N (2-formylphenyl) hypobromite Chemical class BrOC1=CC=CC=C1C=O ILIJTAOTQJBETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OITQDWKMIPXGFL-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-2-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(C=O)C=CC2=C1 OITQDWKMIPXGFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- NYDPSYZLGZRACI-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(trifluoromethyl)-1,3-benzothiazol-2-yl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=C(C(F)(F)F)C=C2S1 NYDPSYZLGZRACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYIDBADGAFFUTB-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(trifluoromethyl)benzenethiol Chemical compound NC1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1S NYIDBADGAFFUTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=O)C(O)=CC=C21 NTCCNERMXRIPTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHZOXYGFQMROFJ-UHFFFAOYSA-N 3,5-dibromo-2-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=C(Br)C=C(Br)C=C1C=O JHZOXYGFQMROFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTWKHXDFATMSP-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC(Br)=CC=C1C=O HXTWKHXDFATMSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUAOZHWNIXCDHJ-UHFFFAOYSA-N 5-(4-fluorophenyl)-1h-indole-2,3-dione Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C1=CC=C(NC(=O)C2=O)C2=C1 XUAOZHWNIXCDHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJMMTTYAKBNDHF-UHFFFAOYSA-N 5-(4-tert-butylphenyl)-1h-indole-2,3-dione Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC=C(NC(=O)C2=O)C2=C1 IJMMTTYAKBNDHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIZHBPOGLYJLSK-UHFFFAOYSA-N 5-naphthalen-2-yl-1h-indole-2,3-dione Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C3=CC=C4NC(C(C4=C3)=O)=O)=CC=C21 NIZHBPOGLYJLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYQIRIBDBKXGG-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1h-indole-2,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)C(=O)NC2=CC=C1C1=CC=CC=C1 SCYQIRIBDBKXGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000011097 chromatography purification Methods 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001194 electroluminescence spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- MILUBEOXRNEUHS-UHFFFAOYSA-N iridium(3+) Chemical compound [Ir+3] MILUBEOXRNEUHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMKMFBIYHXBKRX-UHFFFAOYSA-M lithium;quinoline-2-carboxylate Chemical compound [Li+].C1=CC=CC2=NC(C(=O)[O-])=CC=C21 IMKMFBIYHXBKRX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- DCMWJXWYTURQIM-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-yloxyboronic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OB(O)O)=CC=C21 DCMWJXWYTURQIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002061 vacuum sublimation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
- H04B1/02—Transmitters
- H04B1/04—Circuits
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/06—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/64—Benzothiazoles with only hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached in position 2
- C07D277/66—Benzothiazoles with only hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached in position 2 with aromatic rings or ring systems directly attached in position 2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F3/00—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table
- C07F3/003—Compounds containing elements of Groups 2 or 12 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
- H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/361—Polynuclear complexes, i.e. complexes comprising two or more metal centers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
- C09K2211/1025—Heterocyclic compounds characterised by ligands
- C09K2211/1029—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
- C09K2211/1037—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom with sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
- C09K2211/1025—Heterocyclic compounds characterised by ligands
- C09K2211/1044—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms
- C09K2211/1048—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms with oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
- C09K2211/1025—Heterocyclic compounds characterised by ligands
- C09K2211/1044—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms
- C09K2211/1051—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms with sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/18—Metal complexes
- C09K2211/188—Metal complexes of other metals not provided for in one of the previous groups
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
- H04B1/02—Transmitters
- H04B1/04—Circuits
- H04B2001/0408—Circuits with power amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/321—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3]
- H10K85/324—Metal complexes comprising a group IIIA element, e.g. Tris (8-hydroxyquinoline) gallium [Gaq3] comprising aluminium, e.g. Alq3
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/381—Metal complexes comprising a group IIB metal element, e.g. comprising cadmium, mercury or zinc
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/60—Organic compounds having low molecular weight
- H10K85/631—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine
- H10K85/633—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine comprising polycyclic condensed aromatic hydrocarbons as substituents on the nitrogen atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明涉及有机电致发光化合物和包含所述化合物作为主体材料的电致发光器件。本发明的电致发光化合物的特征在于具有三个配体、两个二价金属和源自无机酸或有机酸的单价阴离子。
Description
技术领域
本发明涉及包含金属配合物的电致发光化合物,该化合物具有优良的电导性和高效的电致发光性质,还涉及使用该化合物作为主体材料的电致发光器件。
背景技术
决定OLED(有机发光二极管)的发光效率的最重要因素是电致发光材料的类型。虽然迄今荧光材料被广泛用作电致发光材料,但是,从电致发光机理来看,磷光材料的研制是理论上将发光效率提高多达四倍的最佳方法之一。
迄今,众所周知,铱(III)配合物可作为磷光材料,包括(acac)Ir(btp)2、Ir(ppy)3和Firpic,分别为红色、绿色和蓝色材料。具体地,最近在日本、欧洲和美国已经对许多磷光材料进行研究。
(acac)Ir(btp)2 Ir(ppy)3 Firpic
作为磷光发射材料的主体材料,到目前为止最广泛了解的是CBP,并了解对应用于空穴阻挡层(如BCP和BAlq)高效的OLED。日本先锋(Pioneer,Japan)公司或者类似公司报道的OLED使用BAlq衍生物作为主体具有高效率。
CBP BCP
BAlq BAlq衍生物
虽然现有技术的材料从发光性来看是有利的,但是这些材料的玻璃化转变温度低,热稳定性很差,因此材料在真空下高温气相沉积时会发生变化。在有机电致发光器件(OLED)中,定义功率效率=(π/电压)×电流效率。因此,功率效率与电压成反比,而功率效率应较高以获得较低功率消耗的OLED。实际上,使用磷光电致发光(EL)材料的OLED的电流效率(cd/A)明显高于使用荧光EL材料的OLED。但是,在使用常规材料如BAlq和CBP作为磷光EL材料的主体材料的情况,在功率效率(lm/w)方面不能得到明显的优势,因为与使用荧光EL材料的OLED相比其操作电压较高。
本发明人发明了具有以下结构的EL化合物,该化合物包含混合型配体的金属配合物的骨架,与常规有机主体材料或铝配合物的骨架相比,该化合物具有好得多的EL性质和物理性质;并以韩国专利申请第2006-7467号提交了专利申请。
自二十世纪90年代中期以来已经广泛研究了这种类型的常规配合物作为EL材料,例如作为蓝色EL材料。但是,这些材料仅仅作为EL材料应用,已知很少有作为磷光EL材料的主体材料应用的例子。
根据本发明,开发一种与常规材料相比具有优良材料稳定性、良好电导电性和高效EL性质的金属配合物材料。包含在芳环或者在具有未成对电子对的侧链取代基中的杂原子具有与金属配位的强烈倾向。这种具有非常稳定的电化学性质的配位键是配合物众所周知的性质。通过这种性质,本发明开发各种配体,制备金属配合物,这些金属配合物可以应用作为主体材料。
发明内容
技术问题
本发明的目的是克服上述缺陷,提供具有新颖的配体金属配合物的骨架的EL化合物,得到比常规有机主体材料或铝配合物更优良的电致发光性质和物理性质。本发明的另一个目的是提供包含这样制备的EL化合物作为主体材料的新颖EL器件。
技术解决方案
本发明涉及由化学式(1)表示的EL化合物,以及包含这样制备的EL化合物作为主体材料的EL器件。本发明的EL化合物的特征在于该化合物包含三个配体、两个二价金属和源自无机酸或有机酸的单价阴离子。
[化学式1]
L1L2L3M2Q
在该式中,配体(L1,L2和L3)独立地选自由以下化学结构表示的结构;M是二价金属;Q是源自无机酸或有机酸的单价阴离子。
在该配体中,X是O、S或Se;环A是噁唑、噻唑、咪唑、噁二唑、噻二唑、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并咪唑、吡啶或喹啉;R1至R4独立地表示:氢、C1-C5烷基、卤素、甲硅烷基或C6-C20芳基,或者它们通过亚烷基(alkylene)或亚烯基(alkenylene)与相邻取代基连接形成稠环;吡啶和喹啉可以与R1化学结合形成形成稠环;环A和R1至R7的芳基可以进一步被以下基团取代:C1-C5烷基、卤素、具有卤素取代基的C1-C5烷基、苯基、萘基、甲硅烷基或氨基。
较好地,配体(L1,L2和L3)独立地选自以下化学结构之一:
在这些配体中,X和R1至R4如化学式(1)中定义;Y是O、S或NR21,Z是CH或N;R11至R16独立地表示:氢、C1-C5烷基、卤素、具有卤素取代基的C1-C5烷基,苯基、萘基、甲硅烷基或氨基,R11至R14可以通过亚烷基或亚烯基与相邻取代基连接形成稠环,R21是C1-C5烷基、取代的或未取代的苯基或萘基。
具体地,本发明的EL化合物的配体(L1,L2和L3)可以相同,并可选自以下化学结构之一:
式中,X是O、S或Se,R2,R3,R12和R13独立地表示:氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、氟、氯、三氟甲基、苯基、萘基、芴基、三甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、二甲胺、二乙胺或二苯胺;所述苯基、萘基或芴基可以进一步被以下基团取代:氟、氯、三甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、二甲胺、二乙胺或二苯胺。
按照本发明的电致发光化合物的具体例子可以有以下化合物之一表示的化合物,但不限于这些化合物:
本发明的电致发光器件的特征在于,使用本发明的EL化合物作为电致发光层的主体材料。
本发明的EL化合物可以通过以下方法制备,在碱性含水条件下以3∶2的摩尔比使配体与金属盐反应。
附图说明
图1是OLED器件的截面图;
图2示出按照实施例15和比较例1制造的OLED的电压-亮度性质;
图3示出按照实施例15和比较例1制造的OLED的亮度-电流效率;
图4示出按照实施例15和比较例1制造的OLED的EL光谱。
<附图中重要部件的说明>
1-玻璃
2-透明电极
3-空穴注入层
4-空穴输运层
5-电致发光层
6-电子输运层
7-电子注入层
8-Al阴极
具体实施方式
[制备例]
[制备例1]制备化合物(1)
在乙醇(1.2升,0.05M)溶解2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(40.0克,176毫摩尔)和ZnCl2(16.0克,117.3毫摩尔),并搅拌该溶液。向该溶液中滴加NH4OH(20毫升,235毫摩尔),回流条件下搅拌形成的混合物30分钟。将混合物冷却至室温后,在混合物中滴加另外的NH4OH(20毫升),室温下搅拌形成的混合物12小时。然后加入水(400毫升),搅拌该混合物6小时,用水(1升)、EtOH(1.5升)和己烷(500毫升)洗涤,过滤和干燥后获得化合物(1)(35克,43.2毫摩尔,74%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.4Hz,1H),6.88(t,J=7.7Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例2]制备化合物(2)
在乙醇(100毫升,0.07M)中溶解2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(5克,22毫摩尔)和ZnCN2(1.7克,14.6毫摩尔),室温下搅拌该溶液30分钟。然后,缓慢加入NH4OH(2.89毫升),搅拌形成的混合物12小时,然后用水(300毫升)、EtOH(300毫升)和己烷(200毫升)洗涤。过滤和干燥后得到化合物(2)(2.0克,2.5毫摩尔,34%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.22-8.12(m,2H),7.56(m,2H),7.30(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.2Hz,1H),6.88(t,J=7.7Hz,1H),6.80(d,J=7.2Hz,1H),
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例3]制备化合物(3)
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、ZnBr2·H2O(1.54克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(3)(1.8克,2.2毫摩尔,75%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.22-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.04(t,J=7.2Hz,1H),6.88(t,J=7.6Hz,1H),6.81(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例4]制备化合物(4)
重复制备例1所述的相同过程,但是使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、ZnClO4·6H2O(2.2克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(4)(1.6克,2.0毫摩尔,60%)
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.22-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.2Hz,1H),6.89(t,J=7.6Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例5]制备化合物(5)
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、Zn(BF4)2(1.4克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(5)(1.6克,2.0毫摩尔,60%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.01(t,J=7.2Hz,1H),6.89(t,J=7.7Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例6]制备化合物(6)
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、Zn(p-OTs)2(2.4克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(6)(1.2克,1.5毫摩尔,42%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.2Hz,1H),6.88(t,J=7.7Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例7]制备化合物(7)
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、Zn(CF3COO)2(1.3克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(7)(1.3克,1.6毫摩尔,42%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.22-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.2Hz,1H),6.88(t,J=7.4Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例8]制备化合物(8)
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、Zn(CF3SO3)2(2.1克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(8)(2克,2.5毫摩尔,85%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.2Hz,1H),6.88(t,J=7.7Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例9]制备化合物(9)
在二甲氧基乙烷(DME)(200毫升,0.5M)和H2O(66毫升)中溶解5-溴水杨醛(20克,99.5毫摩尔)和苯基硼酸(13.4克,109.5毫摩尔),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(5.8克,5.0毫摩尔)和2M K2CO3水溶液(66毫升),回流条件下于90℃搅拌该混合物4小时。用水(100毫升)骤冷后,反应混合物洗涤,用乙酸乙酯(EA)(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶二氯甲烷(MC)=1∶5),得到5-苯基水杨醛(12克,61毫摩尔,61%)。
将这样获得的化合物5-苯基水杨醛(5.0克,25.2毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(3.8克,30.2毫摩尔)溶解于1,4-二噁烷(12毫升,2.1M)中,压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(100毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤,并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-苯基苯酚(4.5克,14.8毫摩尔,59%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-苯基苯酚(2.0克,6.6毫摩尔)、ZnCl2(600毫克,4.4毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(9)(2克,2.5毫摩尔,85%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.53(s,1H),7.48(d,J=7.3Hz,2H),7.32(m,2H),7.27(d,J=7.1Hz,1H),7.27(t,J=6.2Hz,1H),6.85(d,J=7.3Hz,1H)
MS/FAB:1034.05(测得值),1037.89(计算值)
[制备例10]制备化合物(10)
将化合物2-氨基苯硫酚(5.3克,42.4毫摩尔)和5-甲基水杨醛(4.8克,35.3毫摩尔)溶解于1,4-二噁烷(12毫升,2.1M),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(100毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-甲基苯酚(3.1克,13.0毫摩尔,37%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-甲基苯酚(2.0克,8.3毫摩尔)、ZnCl2(750毫克,5.5毫摩尔)、EtOH(130毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(10)(2克,2.35毫摩尔,84%)。
熔点>300℃
1HNMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.11(s,1H),6.75(m,2H),2.35(s,1H)
MS/FAB:848.0(测得值),851.68(计算值)
[制备例11]制备化合物(11)
将化合物2-氨基苯硫酚(7.27克,58.08毫摩尔)和2-羟基-1-萘甲醛(10克,58.08毫摩尔)溶解于1,4-二噁烷(20毫升,2.9M),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到1-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-萘-2-酚(10克,36.1毫摩尔,62%).
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的1-(苯并[d]噻唑-2-基)萘-2-酚(2.0克,7.2毫摩尔)、ZnCl2(654毫克,4.8毫摩尔)、EtOH(120毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(11)(1.5克,1.6毫摩尔,66%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.21-8.12(m,2H),7.60-7.48(m,5H),7.31-7.2(m,2H),7.0(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:956(测得值),959.78(计算值)
[制备例12]制备化合物(12)
在1,4-二噁烷(50毫升,4.0M)中溶解2-氨基苯硫酚(24.8克,198毫摩尔)和5-溴水杨醛(40克,198毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(300毫升)萃取,用水(200毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=2∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(34克,118.4毫摩尔,60%)
在氩气气氛下,将2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(4克,13.1毫摩尔)溶解于THF(50毫升,0.03M),将溶液冷却至-78℃。在该溶液中滴加正BuLi(2.5M己烷溶液,7.9毫升,19.7毫摩尔),搅拌该混合物30分钟。在混合物中缓慢加入溶解于THF(25毫升,0.5M)的三甲基氯甲硅烷(TMSCl)(1.4克,13.1毫摩尔),搅拌反应混合物12小时,同时缓慢升高温度至室温。用水(100毫升)骤冷后,反应混合物用MC(50毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-三甲基甲硅烷基苯酚(3克,10.1毫摩尔,62%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-三甲基甲硅烷基苯酚(2.0克,6.7毫摩尔、ZnCl2(613毫克,4.5毫摩尔)、EtOH(110毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(12)(1.3克,1.3毫摩尔,58%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.22-8.12(m,2H),7.55-7.27(m,4H),6.77(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:1022(测得值),1026.15(计算值)
[制备例13]制备化合物(13)
在1,4-二噁烷(30毫升,2.1M)中溶解2-氨基苯硫酚(8.9克,71.4毫摩尔)和5-氟水杨醛(10克,71.4毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-氟苯酚(7克,50.0毫摩尔,70%).
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-氟苯酚(2.0克,14.3毫摩尔)、ZnCl2(1.3克,9.5毫摩尔)、EtOH(200毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(13)(1.8克,2.1毫摩尔,44%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.02(s,1H),6.77-6.70(m,2H)
MS/FAB:860(测得值),863.58(计算值)
[制备例14]制备化合物(14)
在1,4-二噁烷(50毫升,4.0M)中溶解2-氨基苯硫酚(24.8克,198毫摩尔)和5-溴水杨醛(40克,198毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(300毫升)萃取,用水(200毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=2∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(34克,118.4毫摩尔,60%)。
将这样获得的化合物2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(5克,16.33毫摩尔)和4-溴苯基硼酸(3.94克,19.6毫摩尔)溶解于甲苯(40毫升)、EtOH(27毫升)和H2O(13毫升),并搅拌该溶液。在该溶液中加入PdCl2(PPh3)2(573毫克,0.82毫摩尔)和K2CO3(4.51克,32.66毫摩尔),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶4)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-溴苯基)苯酚(5.5克,14.5毫摩尔,89%)。
将这样获得的化合物2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-溴苯基)苯酚(3克,7.89毫摩尔)和二苯胺(1.47克,8.68毫摩尔)溶解于甲苯(30毫升),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(OAc)2(1.33克,0.006毫摩尔)、t-BuONa(1.14克,11.8毫摩尔)、P(t-BuO)3(4.79毫克,0.024毫摩尔),回流条件下于100℃搅拌该混合物6小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(100毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶2)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-二苯基氨基苯基)苯酚(2.9克,6.2毫摩尔,79%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-二苯基氨基苯基)苯酚(2.0克,4.25毫摩尔)、ZnCl2(386毫克,2.83毫摩尔)、EtOH(200毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升)获得化合物(14)(1.7克,1.1毫摩尔,79%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55-7.02(m,10H),6.85-6.46(m,8H)
MS/FAB:1535.27(测得值),1539.51(计算值)
[制备例15]制备化合物(15)
将化合物5-溴水杨醛(20克,99.5毫摩尔)和2-萘基硼酸(18.8克,109.5毫摩尔)溶解于甲苯(300毫升),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(5.8克,4.98毫摩尔)和2M K2CO3(100毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶5)得到5-(2-萘基)水杨醛(14.4克,58毫摩尔,58.3%).
在1,4-二噁烷(7毫升,2.1M)中溶解5-(2-萘基)水杨醛(3.0克,12.1毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(1.8克,14.5毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(100毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(2-萘基)苯酚(2.8克,7.92毫摩尔,65%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(2-萘基)苯酚(2.0克,5.7毫摩尔)、ZnCl2(518毫克,3.8毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(15)(1.2克,1.01毫摩尔,53%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.9-7.53(m,8H),7.37.2(m,3H),6.85(d,J=5.5Hz,1H)
MS/FAB:1184.1(测得值),1188.07(计算值)
[制备例16]制备化合物(16)
将化合物5溴水杨醛(20克,99.5毫摩尔)和9,9-二甲基-9H-芴-2-基-2-硼酸(26.1克,109.5毫摩尔)溶解于甲苯(300毫升,0.33M),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(5.8克,4.98毫摩尔)和2M K2CO3(100毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶5)得到5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)水杨醛(19.2克,61毫摩尔,61.3%)。
在1,4-二噁烷(7毫升,2.1M)中溶解这样获得的5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)水杨醛(3.8克,12.1毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(1.8克,14.5毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(100毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯酚(2.1克,5.01毫摩尔,41%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用这样获得的2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯酚(2.0克,4.8毫摩尔)、ZnCl2(436毫克,3.2毫摩尔)、EtOH(80毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(16)(1.0克,0.72毫摩尔,45%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.9-7.53(m,8H),7.38-7.0(m,4H),1.67(s,6H)
MS/FAB:1382.24(测得值),1386.37(计算值)
[制备例17]制备化合物(17)
在氩气气氛下,将2-氨基-6-溴苯并噻唑(20克,87.3毫摩尔)和10NKOH(100毫升)加入乙二醇(20毫升)中,回流条件下于125℃搅拌该混合物15小时。冷却至室温后,在该反应混合物中加入12N HCl(30毫升)使该反应猝灭。反应混合物然后用水(100毫升)洗涤并用EA(100毫升)萃取。由MeOH(200毫升)重结晶,获得2-氨基-5-溴苯硫酚(14克,68.6毫摩尔,79%)。
在1,4-二噁烷(35毫升,2.0M)中溶解2-氨基-5-溴苯硫酚(14克,68.6毫摩尔)和水杨醛(7.0克,57.2毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=5∶2)得到2-(6-溴苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(15.5克,50.5毫摩尔,88.3%).
在氩气气氛下,2-(6-溴苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(15.5克,50.5毫摩尔)溶解于THF(160毫升,0.3M),将溶液冷却至-78℃。在该溶液中滴加t-BuLi(1.7M己烷溶液,44.6毫升,75.8毫摩尔),搅拌该混合物30分钟。在混合物中加入溶解于THF(50毫升)的三苯基氯甲硅烷(TPSCl)(22.3克,75.8毫摩尔)。搅拌反应混合物12小时,同时将温度缓慢升高至室温。通过添加水(100毫升)使反应猝灭后,反应混合物用MC(80毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(6-三苯基甲硅烷基苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(20.4克,42毫摩尔,83%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(6-三苯基甲硅烷基苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(2.0克,4.1毫摩尔)、ZnCl2(375毫克,2.7毫摩尔)、EtOH(70毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(17)(1.0克,0.72毫摩尔,45%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.40-8.34(m,2H),7.83-7.55(m,7H),7.35(s,9H),7.31(d,J=5.1Hz,1H),7.0-6.7(m,3H)
MS/FAB:1580.22(测得值),1584.77(计算值)
[制备例18]制备化合物(18)
在1,4-二噁烷(7毫升,2.1M)中溶解2-氨基苯硫酚(1.8克,14.5毫摩尔)和3,5-二甲基水杨醛(1.64克,12.1毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(50毫升)萃取,用水(30毫升)洗涤和减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4,6-二甲基苯酚(2.3克,9.2毫摩尔,76%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4,6-二甲基苯酚(2.0克,7.8毫摩尔)、ZnCl2(709毫克,5.2毫摩尔)、EtOH(120毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(18)(1.3克,1.5毫摩尔,58%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.53(m,2H),6.92(s,1H),6.65(s,1H),4.6(s,1H)
MS/FAB:1580.22(测得值),1584.77(计算值)
[制备例19]制备化合物(19)
将化合物4-溴水杨醛(20克,99.5毫摩尔)和苯基硼酸(26.1克,109.5毫摩尔)溶解于甲苯(300毫升,0.33M),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(5.8克,4.98毫摩尔)和2M K2CO3(100毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶5)得到4-苯基水杨醛(18.2克,60毫摩尔,60%)。
在1,4-二噁烷(7毫升,2.1M)中溶解2-氨基苯硫酚(1.8克,14.5毫摩尔)和4-苯基水杨醛(1.64克,12.1毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(50毫升)萃取,用水(30毫升)洗涤和减压下干燥。通过硅胶至色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-5-苯基苯酚(2.3克,9.2毫摩尔,76%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-5-苯基苯酚(2.0克,7.8毫摩尔)、ZnCl2(709毫克,5.2毫摩尔)、EtOH(120毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(19)(1.3克,1.5毫摩尔,58%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.21-8.10(m,2H),7.55-7.32(m,7H),7.22-7.10(m,2H),7.01(d,J=5.3Hz,1H)
MS/FAB:1034.1(测得值),1037.89(计算值)
[制备例20]制备化合物(20)
将化合物3,5-二溴水杨醛(20克,71.5毫摩尔)和苯基硼酸(13.1克,107.3毫摩尔)溶解于甲苯(250毫升,0.29M),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(2.5克,2.15毫摩尔)和2M K2CO3(83毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶5)得到3,5-二苯基水杨醛(15.9克,58毫摩尔,81%)。
在1,4-二噁烷(28毫升,2.1M)中溶解2-氨基苯硫酚(8.7克,69.6毫摩尔)和3,5-二苯基水杨醛(15.9克,58毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4,6-二苯基苯酚(17.1克,45毫摩尔,78%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4,6-二苯基苯酚(2.0克,5.3毫摩尔)、ZnCl2(477.1毫克,3.5毫摩尔)、EtOH(85毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(20)(1.3克,1.0毫摩尔,57%).
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.11(m,2H),7.55-7.48(m,8H),7.35-7.31(m,3H),7.23-7.2(m,2H)
MS/FAB:1262.14(测得值),1266.18(计算值)
[制备例21]制备化合物(21)
在1,4-二噁烷(28毫升,2.1M)中溶解2-氨基苯硫酚(8.7克,69.6毫摩尔)和1-羟基-2-萘甲醛(10.0克,58毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)萘-1-酚(8.9克,32毫摩尔,55%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)萘-1-酚(2.0克,7.2毫摩尔)、ZnCl2(477.1毫克,4.8毫摩尔)、EtOH(120毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(21)(1.5克,1.6毫摩尔,67%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.1(m,3H),7.7-7.5(m,3H),7.4-7.3(m,4H)
MS/FAB:956(测得值),956.78(计算值)
[制备例22]制备化合物(22)
在1,4-二噁烷(50毫升,4.0M)中溶解2-氨基苯硫酚(24.8克,198毫摩尔)和5-溴水杨醛(40克,198毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(300毫升)萃取,用蒸馏水(200毫升)洗涤和减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=2∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(34克,118.4毫摩尔,60%)。
在氩气气氛下,2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(4克,13.1毫摩尔)溶解于THF(50毫升,0.03M),将溶液冷却至-78℃。在该溶液中滴加正-BuLi(2.5M己烷溶液,7.9毫升,19.7毫摩尔),搅拌该混合物30分钟。在混合物中缓慢加入溶解于THF(25毫升,0.5M)的三苯基氯甲硅烷(TPSCl)(3.9克,13.1毫摩尔)。搅拌反应混合物12小时,同时将温度缓慢升高至室温。通过添加蒸馏水(100毫升)使反应猝灭后,反应混合物用MC(50毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=5∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-三苯基甲硅烷基苯酚(3.9克,8.0毫摩尔,61%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-三苯基甲硅烷基苯酚(2.0克,4.1毫摩尔)、ZnCl2(368毫克,2.7毫摩尔)、EtOH(70毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和蒸馏水(20毫升),获得化合物(22)(1.6克,1.0毫摩尔,75%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.59-7.5(m,9H),7.3-6.8(m,11H)
MS/FAB:1584.22(测得值),1584.77(计算值)
[制备例23]制备化合物(23)
在1,4-二噁烷(50毫升,4.0M)中溶解2-氨基苯硫酚(24.8克,198毫摩尔)和5-溴水杨醛(40克,198毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(300毫升)萃取,用蒸馏水(200毫升)洗涤和减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=2∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)4-溴苯酚(34克,118.4毫摩尔,60%)。
将化合物2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-溴苯酚(5克,16.33毫摩尔)和4-溴苯基硼酸(3.94克,19.6毫摩尔)溶解于甲苯(40毫升)、EtOH(27毫升)和H2O(13毫升),并搅拌该溶液。在该溶液中加入PdCl2(PPh3)2(573毫克,0.82毫摩尔)和K2CO3(4.51克,32.66毫摩尔),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶4)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-溴苯基)苯酚(5.5克,14.5毫摩尔,89%)。
在氩气气氛下,2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-溴苯基)苯酚(4克,13.1毫摩尔)溶解于THF(50毫升,0.03M),将溶液冷却至-78℃。在该溶液中滴加正-BuLi(2.5M己烷溶液,7.9毫升,19.7毫摩尔),搅拌该混合物30分钟。在混合物中缓慢加入溶于THF(25毫升,0.5M)的三苯基氯甲硅烷(TPSCl)(3.9克,13.1毫摩尔)。搅拌反应混合物12小时,同时将温度缓慢升高至室温。在添加蒸馏水(100毫升)使反应猝灭后,反应混合物用MC(50毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=5∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-三苯基甲硅烷基苯基)苯酚(4.8克,8.5毫摩尔,65%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-三苯基甲硅烷基苯基)苯酚(2.0克,3.6毫摩尔)、ZnCl2(327毫克,2.4毫摩尔)、EtOH(60毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和蒸馏水(20毫升),获得化合物(23)(1.8克,1.0毫摩尔,83%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.6-7.5(m,13H),7.4-6.8(m,11H)
MS/FAB:1808.31(测得值),1813.06(计算值)
[制备例24]制备化合物(24)
将化合物5-溴水杨醛(15克,74.6毫摩尔)和4-氟苯基硼酸(11.5克,82.1毫摩尔)溶解于甲苯(250毫升,0.30M),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(2.6克,2.24毫摩尔)和2M K2CO3(83毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取.减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶4)得到5-(4-氟苯基)水杨醛(14.2克,32.8毫摩尔,88%)。
在1,4-二噁烷(18毫升,1.82M)中溶解2-氨基苯硫酚(4.9克,39.4毫摩尔)和5-(4-氟苯基)水杨醛(7.1克,32.8毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-氟苯基)苯酚(8.4克,26毫摩尔,79%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-氟苯基)苯酚(2.0克,6.2毫摩尔)、ZnCl2(558.8毫克,4.1毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(24)(1.3克,1.2毫摩尔,58%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.56-7.27(m,6H),7.03-6.98(m,2H),6.85(d,J=7.3Hz,1H)
MS/FAB:1088(测得值),1091.86(计算值)
[制备例25]制备化合物(25)
在1,4-二噁烷(25毫升,2.6M)中溶解水杨醛(8.0克,65.3毫摩尔)和2-氨基-5-(三氟甲基)苯硫酚(15.0克,65.3毫摩尔)。在其中添加三乙胺(6.6克,65.3毫摩尔)后,压力下于100℃搅拌混合物12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(6-三氟甲基)苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(9.7克,32.9毫摩尔,50%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(6-(三氟甲基)苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(1.1克,3.6毫摩尔)、ZnCl2(327毫克,2.4毫摩尔)、EtOH(61毫升,0.02M)、NH4OH(1.2毫升)和水(12毫升),获得化合物(25)(1.0克,0.98毫摩尔,82%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.42(s,1H),8.05(d,J=6.4Hz,1H),7.69-7.45(m,2H),7.03-6.76(m,3H)
MS/FAB:1009.92(测得值),1013.60(计算值)
[制备例26]制备化合物(26)
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(2-羟基苯基)苯并噻唑(2.0克,8.8毫摩尔)、ZnI2(1.9克,5.9毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.03M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(26)(1.8克,2.2毫摩尔,75%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.22-8.12(m,2H),7.55(m,2H),7.31(d,J=7.7Hz,1H),7.05(t,J=7.2Hz,1H),6.89(t,J=7.6Hz,1H),6.79(d,J=7.2Hz,1H)
MS/FAB:805.96(测得值),809.6(计算值)
[制备例27]制备化合物(27)
在氩气气氛下,将2-氨基-6-溴苯并噻唑(20克,87.3毫摩尔)和10NKOH(100毫升)加入乙二醇(20毫升)中,回流条件下于125℃搅拌该混合物15小时。冷却至室温后,将12N HCl(30毫升)加入反应混合物中以使反应猝灭。然后,反应混合物用水(100毫升)洗涤并用EA(100毫升)萃取。由MeOH(200毫升)重结晶,得到2-氨基-5-溴苯硫酚(14克,68.6毫摩尔,79%)。
在1,4-二噁烷(35毫升,2.0M)中溶解2-氨基-5-溴苯硫酚(14克,68.6毫摩尔)和水杨醛(7.0克,57.2毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=5∶2)得到2-(6-溴苯并[d]噻唑2基)苯酚(15.5克,50.5毫摩尔,88.3%)。
在氩气气氛下,2-(6-溴苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(15.5克,50.5毫摩尔)和苯基硼酸(9.2克,75.8毫摩尔)溶解于DME(200毫升,0.25M)和H2O(66毫升),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(1.8克,1.5毫摩尔)和2MK2CO3(66毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶5)得到2-(6-苯基苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(20.4克,42毫摩尔,83%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(6-苯基苯并[d]噻唑-2-基)苯酚(2.0克,6.6毫摩尔)、ZnCl2(600毫克,4.4毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(27)(2克,2.5毫摩尔,85%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.35-8.27(m,2H),7.77-7.22(m,7H),7.05-6.79(m,1H)
MS/FAB:1034.05(测得值),1037.89(计算值)
[制备例28]制备化合物(28)
将化合物5-溴水杨醛(15克,74.6毫摩尔)和4-叔丁基苯基硼酸(14.6克,82.1毫摩尔)溶解于甲苯(250毫升,0.30M),并搅拌该溶液。在该溶液中加入Pd(PPh3)4(2.6克,2.24毫摩尔)和2M K2CO3(83毫升),回流条件下于90℃搅拌形成的混合物4小时。用水(100毫升)骤冷和洗涤后,反应混合物用EA(200毫升)萃取。减压下干燥并通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=1∶3)得到5-(4-叔丁基苯基)水杨醛(10.6克,41.7毫摩尔,56%)。
在1,4-二噁烷(18毫升,1.82M)中溶解2-氨基苯硫酚(4.9克,39.4毫摩尔)和5-(4-叔丁基苯基)水杨醛(8.3克,32.8毫摩尔),压力下于100℃搅拌该溶液12小时。冷却至室温后,反应混合物用MC(150毫升)萃取,用水(100毫升)洗涤并减压下干燥。通过硅胶柱色谱法纯化(正己烷∶MC=3∶1)得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-叔丁基苯基)苯酚(8.3克,23毫摩尔,70%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-叔丁基苯基)苯酚(2.0克,5.6毫摩尔)、ZnCl2(558.8毫克,4.1毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.02M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(28)(1.81克,1.5毫摩尔,73%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55-7.23(m,8H),6.98-6.85(d,J=5.3Hz,1H),6.85(d,J=7.3Hz,1H)
MS/FAB:1202.24(测得值),1206.21(计算值)
[制备例29]制备化合物(29)
在多磷酸(20克)中溶解2-氨基苯硫酚(4.9克,39.4毫摩尔)和2-巯基苯甲酸(5.1克,32.8毫摩尔),于140℃搅拌溶液12小时。冷却至室温后,通过添加NaOH使反应猝灭。用水洗涤并减压下干燥,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)苯硫酚(6.1克,25毫摩尔,76%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)苯硫酚(2.0克,8.2毫摩尔)、ZnCl2(749.7毫克,5.5毫摩尔)、EtOH(100毫升,0.028M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(29)(1.5克,1.7毫摩尔,62%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55-7.06(m,6H)
MS/FAB:853.89(测得值),857.80(计算值)
[制备例30]制备化合物(30)
在DME(600毫升,0.305M)中溶解5-碘靛红(iodoisatin)(50克,183毫摩尔)和苯基硼酸(24.5克,201.3毫摩尔),并搅拌该溶液。在溶液中加入Pd(PPh3)4(6.34克,5.49毫摩尔)和2M NaHCO3(200毫升)后,回流条件下于100℃搅拌形成的混合物12小时。含5-苯基靛红的反应混合物在低真空下干燥,在残余水溶液中加入5%NaOH(120毫升)。通过用CH2Cl2萃取去除杂质后,将H2O2(120毫升)加入水层,于50℃搅拌形成的混合物30分钟。将混合物冷却至室温后过滤。调节滤液pH为4。将固体化合物过滤,得到2-氨基-5-苯基苯甲酸(24.3克,114毫摩尔,62%)。
将温度保持在5℃的同时,将NaNO2(7.9克,114毫摩尔)溶解于水(30毫升),并在其中缓慢加入2-氨基-5-苯基苯甲酸(24.3克,114毫摩尔)溶于水(60毫升)的溶液,和浓HCl(23毫升)。同时,将Na2S9H2O(28.8克,120毫摩尔)和精制硫(3.85克,120毫摩尔)溶解于水(30毫升),并在其中加入10M NaOH(11毫升)。将混合物冷却至5℃,加入到含2-氨基-5-苯基苯甲酸的溶液中。搅拌形成的混合物,同时将温度缓慢升高至室温。加入浓HCl以产生固体,混合物用NaHCO3(250毫升)洗涤。将产生的固体过滤并干燥,然后与Zn粉(7克,107毫摩尔)一起加入冰乙酸(100毫升)中。回流条件下搅拌混合物48小时。用浓HCl猝灭后,将固体过滤并用EtOH(100毫升)洗涤,获得2-巯基-5-苯基苯甲酸(17.3克,75毫摩尔,66%)。
在多磷酸(40克)中溶解2-巯基-5-苯基苯甲酸(17.3克,75毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(10.3克,82.5毫摩尔),于140℃搅拌溶液12小时。冷却至室温后,通过添加NaOH使反应猝灭。用水洗涤并减压下干燥,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-苯基苯硫酚(12.8克,40毫摩尔,53%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-苯基苯硫酚(2.0克,6.3毫摩尔)、ZnCl2(558.8毫克,4.1毫摩尔)、EtOH(80毫升,0.026M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(30)(1.7克,1.6毫摩尔,76%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.10(m,2H),7.55-7.22(m,12H)
MS/FAB:1081.98(测得值),1086.09(计算值)
[制备例31]制备化合物(31)
在DME(600毫升,0.305M)中溶解5-碘靛红(50克,183毫摩尔)和萘-2-基-2-硼酸(34.6克,201.3毫摩尔),并搅拌该溶液。在其中加入Pd(PPh3)4(6.34克,5.49毫摩尔)和2M NaHCO3(200毫升),回流条件下于100℃搅拌形成的混合物12小时。这样形成的含5-(萘-3-基)靛红的反应混合物低真空下干燥,将5%NaOH(120毫升)加入残余的水溶液。通过用CH2Cl2萃取去除杂质后,将H2O2(120毫升)加入水层,于50℃搅拌形成的混合物30分钟。将混合物冷却至室温后过滤。将滤液的pH调节至4。将固体化合物过滤得到2-氨基-5-(萘-3-基)苯甲酸(32.9克,125毫摩尔,68%)。
将温度保持在5℃的同时,将NaNO2(8.3克,120毫摩尔)溶解于水(40毫升),并且在其中缓慢加入2-氨基-5-(萘-3-基)苯甲酸(32.9克,125毫摩尔)溶于水(70毫升)的溶液和浓HCl(30毫升)。同时,将Na2S9H2O(30.0克,125毫摩尔)和精制硫(4.01克,125毫摩尔)溶解于水(40毫升),加入10M NaOH(15毫升)。将混合物冷却至5℃,将其加入含溶解的2-氨基-5-(萘-3-基)苯甲酸的溶液。搅拌形成的混合物,同时将温度缓慢升高至室温。加入浓HCl产生固体,混合物用NaHCO3(250毫升)洗涤。将产生的固体过滤并干燥,然后与Zn粉(7克,107毫摩尔)一起加入冰乙酸(100毫升)。回流条件下搅拌混合物48小时。用浓HCl猝灭后,将固体过滤并且用EtOH(100毫升)洗涤后获得2-巯基-5-(萘-3-基)苯甲酸(22.4克,80毫摩尔,64%)。
在多磷酸(40克)中溶解2-巯基-5-(萘-3-基)苯甲酸(22.4克,80毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(11.0克,88毫摩尔),于140℃搅拌溶液12小时。冷却至室温后,通过添加NaOH使反应猝灭。用水洗涤并减压下干燥,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(萘-3-基)苯硫酚(15.5克,42毫摩尔,53%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(萘-3-基)苯硫酚(2.0克,5.4毫摩尔)、ZnCl2(490.7毫克,3.6毫摩尔)、EtOH(70毫升,0.026M)、NH4OH(2.0毫升)和水(20毫升),获得化合物(31)(1.4克,1.13毫摩尔,63%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.14(m,2H),7.9-7.3(m,12H)
MS/FAB:1232.03(测得值),1236.27(计算值)
[制备例32]制备化合物(32)
在DME(600毫升,0.305M)中溶解5-碘靛红(50克,183毫摩尔)和9,9-二甲基-9H-芴-2-基-2-硼酸(47.9克,201.3毫摩尔),并搅拌该溶液。在其中加入Pd(PPh3)4(6.34克,5.49毫摩尔)和2M NaHCO3(200毫升)后,回流条件下于100℃搅拌形成的混合物12小时。这样形成的含5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)靛红的反应混合物低真空下干燥,将5%NaOH(120毫升)加入到残余水溶液中。通过用CH2Cl2萃取去除杂质后,将H2O2(120毫升)加入水层,于50℃搅拌形成的混合物30分钟。将混合物冷却至室温后过滤。将滤液的pH调节至4。将固体化合物过滤得到2-氨基-5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯甲酸(24.0克,110毫摩尔,57%)。
将温度保持在5℃的同时,将NaNO2(6.9克,100毫摩尔)溶解于水(40毫升),在其中缓慢加入2-氨基-5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯甲酸(36.2克,110毫摩尔溶于水(70毫升)的溶液和浓HCl(30毫升)。同时,将Na2S9H2O(26.4克,110毫摩尔)和精制硫(3.53克,110毫摩尔)溶解于水(40毫升),在其中加入10M NaOH(15毫升)。将混合物冷却至5℃,将其加入到含溶解的2-氨基-5(9,9二甲基-9H-芴-2-基)苯甲酸的溶液。搅拌形成的混合物,同时将温度缓慢升高至室温。加入浓HCl产生固体,用NaHCO3(250毫升)洗涤混合物。将产生的固体过滤并干燥,然后与Zn粉(7克,107毫摩尔)一起加入冰乙酸(100毫升)。回流条件下搅拌混合物48小时。用浓HCl猝灭后,固体过滤并用EtOH(100毫升)洗涤,获得2-巯基-5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯甲酸(26.0克,75毫摩尔,68%)。
在多磷酸(40克)中溶解2-巯基-5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯甲酸(26.0克,75毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(10.3克,82.5毫摩尔),于140℃搅拌溶液12小时。冷却至室温后,通过添加NaOH使反应猝灭。用水洗涤并减压下干燥,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯硫酚(22.2克,51毫摩尔,68%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)苯硫酚(2.0克,4.6毫摩尔)、ZnCl2(417.1毫克,3.06毫摩尔)、EtOH(60毫升,0.026M)、NH4OH(2.0毫升)和水(2.0毫升),获得化合物(32)(1.1克,0.77毫摩尔,50.3%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.9-7.54(m,8H),1.67(s,6H)
MS/FAB:1432.19(测得值),1436.59(计算值)
[制备例33]制备化合物(33)
在DME(600毫升,0.305M)中溶解5-碘靛红(50克,183毫摩尔)和4-氟苯基硼酸(28.2克,201.3毫摩尔),并搅拌该溶液。在其中加入Pd(PPh3)4(6.34克,5.49毫摩尔)和2M NaHCO3(200毫升)后,回流条件下于100℃搅拌形成的混合物12小时。将这样制得的含5-(4-氟苯基)靛红的反应混合物低真空下干燥,将5%NaOH(120毫升)加入到残余水溶液中。通过用CH2Cl2萃取去除杂质后,在水层加入H2O2(120毫升),于50℃搅拌形成的混合物30分钟。将混合物冷却至室温后过滤。将滤液的pH调节至4。将固体化合物过滤得到2-氨基-5-(4-氟苯基)苯甲酸(24.0克,104毫摩尔,57%)。
将温度保持在5℃的同时,将NaNO2(6.8克,98毫摩尔)溶解于水(40毫升),并在其中缓慢加入2-氨基-5-(4氟苯基)苯甲酸(24.0克,104毫摩尔)溶于水(70毫升)的溶液和浓HCl(30毫升)。同时,将Na2S9H2O(25.0克,104毫摩尔)和精制硫(3.33克,104毫摩尔)溶解于水(40毫升),在其中加入10M NaOH(15毫升)。将混合物冷却至5℃,并且加入到含(33-2)的溶液中。搅拌形成的混合物,同时将温度缓慢升高至室温。加入浓HCl产生固体,混合物用NaHCO3(150毫升)洗涤。将产生的固体过滤并干燥,然后与Zn粉(6.5克,100毫摩尔)一起加入到冰乙酸(80毫升)中。回流条件下搅拌混合物48小时。用浓HCl猝灭后,固体过滤并用EtOH(100毫升)洗涤,获得2-巯基-5-(4-氟苯基)苯甲酸(16.9克,68毫摩尔,65%)。
在多磷酸(30克)中溶解2-巯基-5-(4-氟苯基)苯甲酸(16.9克,68毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(9.4克,74.8毫摩尔),于140℃搅拌溶液12小时。冷却至室温后,通过添加NaOH使反应猝灭。用水洗涤并减压下干燥,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-氟苯基)苯硫酚(13.8克,41毫摩尔,68%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-氟苯基)苯硫酚(2.0克,5.9毫摩尔)、ZnCl2(535.7毫克,3.93毫摩尔)、EtOH(80毫升,0.025M)、NH4OH(2.0毫升)和水(2.0毫升),获得化合物(33)(1.74克,1.53毫摩尔,78%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55-7.2(m,9H)
MS/FAB:1135.95(测得值),1140.06(计算值)
[制备例34]制备化合物(34)
在DME(600毫升,0.305M)中溶解5-碘靛红(50克,183毫摩尔)和4-叔丁基苯基硼酸(35.8克,201.3毫摩尔),并搅拌该溶液。在其中加入Pd(PPh3)4(6.34克,5.49毫摩尔)和2M NaHCO3(200毫升)后,回流条件下于100℃搅拌形成的混合物12小时。将这样制得的含5-(4-叔丁基苯基)靛红的反应混合物低真空下干燥,将5%NaOH(120毫升)加入到残余水溶液中。用CH2Cl2萃取去除杂质后,在水层中加入H2O2(120毫升),于50℃搅拌形成的混合物30分钟。将混合物冷却至室温后过滤。将滤液的pH调节至4。将固体化合物过滤得到2-氨基-5-(4-叔丁基苯基)苯甲酸(29.9克,111毫摩尔,61%)。
将温度保持在5℃的同时,将NaNO2(6.8克,98毫摩尔)溶解于水(40毫升),在其中缓慢加入2-氨基-5-(4-叔丁基苯基)苯甲酸(29.9克,111毫摩尔)溶于水(80毫升)的溶液和浓HCl(40毫升)。同时,将Na2S9H2O(26.7克,111毫摩尔)和精制硫(3.56克,104毫摩尔)溶解于水(40毫升),加入10M NaOH(15毫升)。将混合物冷却至5℃,加入到含溶解的2-氨基-5-(4-叔丁基苯基)苯甲酸的溶液中。搅拌形成的混合物,同时将温度缓慢升高至室温。加入浓HCl产生固体,混合物用NaHCO3(150毫升)洗涤。将产生的固体过滤并干燥,然后与Zn粉(6.9克,105毫摩尔)一起加入到冰乙酸(80毫升)中。回流条件下搅拌混合物48小时。用浓HCl猝灭后,将固体过滤并用EtOH(100毫升)洗涤,获得2-巯基-5-(4-叔丁基苯基)苯甲酸(20.0克,70毫摩尔,63%)。
在多磷酸(30克)中溶解2-巯基-5-(4-叔丁基苯基)苯甲酸(20.0克,70毫摩尔)和2-氨基苯硫酚(9.6克,77毫摩尔),于140℃搅拌溶液12小时。冷却至室温后,通过添加NaOH使反应猝灭。用水洗涤并减压下干燥,得到2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-叔丁基苯基)苯硫酚(19.9克,53毫摩尔,76%)。
重复制备例1所述的相同过程,但使用2-(苯并[d]噻唑-2-基)-4-(4-叔丁基苯基)苯硫酚(2.0克,5.3毫摩尔)、ZnCl2(481.1毫克,3.53毫摩尔)、EtOH(70毫升,0.025M)、NH4OH(2.0毫升)和水(2.0毫升),获得化合物(34)(1.73克,1.38毫摩尔,78%)。
熔点>300℃
1H NMR(300MHz,CDCl3):d=8.23-8.12(m,2H),7.55-7.28(m,9H),1.35(s,9H)
MS/FAB:1250.17(测得值),1254.41(计算值)
[实施例1-34]使用本发明的化合物制造OLED。
使用本发明的化合物作为主体,红色磷光材料作为EL掺杂剂制造OLED器件。OLED器件的截面图示于图1。
首先,用以下物质对在玻璃(1)上涂覆透明电极ITO薄膜(2)制备的基片(由三星康宁(Samsung Corning)生产,15Ω/□)进行超声清洗:三氯乙烯、丙酮、乙醇和蒸馏水;其次,使用之前储存在异丙醇中。
然后,将ITO基片安装在真空气相沉积设备的基片折叠机中,并将4,4’,4”-三(N,N-(2-萘基)-苯基氨基)三苯胺(2-TNATA)放入该真空气相沉积设备的小室内,然后对该小室抽气使室内真空达到10-6乇。在该小室施加电流以蒸发2-TNATA,因而在ITO基片上气相沉积60纳米厚的空穴注入层(3)。
2-TNATA
然后,在该真空气相沉积设备的另一个小室内加入N,N’-二(α-萘基)-N,N’-二苯基-4,4’-二胺(NPB),在该小室上施加电流,以蒸发NPB,因而在空穴注入层上气相沉积形成20纳米厚度的空穴输运层(4)。
NPB
在该真空沉积设备的一个小室中放入作为主体材料的选择的EL化合物(制备例1-34制备的化合物(1)至(34)),该化合物已通过10-6乇真空升华纯化。上述设备的另一个小室分别中分别放入(pip)2Ir(acac)或(pq-Fl)2Ir(acac)。两种物质以不同的速率蒸发,以4-10摩尔%浓度进行掺杂,在空穴输运层上气相沉积30纳米厚度的电致发光层(5)。
(piq)2Ir(acac) (pq-Fl)2Ir(acac)
然后,气相沉积20纳米厚度的三(8-羟基喹啉)铝(III)(Alq)作为电子输运层(6),然后气相沉积1-2纳米厚度的羟基喹啉根合锂(lithium quinolate)(Liq)作为电子注入层(7)。然后,使用另一个真空气相沉积设备,气相沉积150纳米厚度的Al阴极(8),制造OLED。
Alq Liq
[比较例1]
按照与实施例1中所述相同的步骤制造OLED器件,除了在该气相沉积设备的另一个小室内放入二(2-甲基-8-喹啉根)(对苯基苯酚根)合铝(III)(BAlq)代替本发明的EL化合物作为EL主体材料,而在又一个室内分别放入(piq)2Ir(acac)或(pq-Fl)2Ir(acac)作为与实施例1相同的EL掺杂剂材料。通过两种物质以不同的速率蒸发,以BAlq为基准,以4-10摩尔%浓度进行掺杂,在空穴输运层上气相沉积30纳米厚度的EL层。
BAlq
[实施例35]确定OLED性质
在1,000坎/平方米(cd/m2)下测定含本发明的EL化合物(实施例1-34)和常规EL化合物(比较例1)的OLED的电流发光效率以及OLED的功率效率。结果示于表1:
[表1]
实施例编号 | 主体材料 | El材料 | 操作电压(V)在1,000坎/平方米 | 发光效率(坎/安)在1,000坎/平方米 | 功率效率(lm/W)在1,000坎/平方米 | 色坐标(x,y) |
1 | 1 | (piq)2Ir(acac) | 5.55 | 7.65 | 4.3 | (0.671,0.328) |
2 | 2 | (piq)2Ir(acac) | 5.8 | 7.6 | 4.1 | (0.673,0.325) |
3 | 3 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.8 | 7.5 | 4.1 | (0.672,0.327) |
4 | 4 | (piq)2Ir(acac) | 5.4 | 5.1 | 3.0 | (0.673,0.325) |
5 | 5 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.7 | 7.6 | 4.2 | (0.671,0.327) |
6 | 6 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.3 | 6.0 | 3.6 | (0.672,0.325) |
7 | 7 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.0 | 7.0 | 4.4 | (0.672,0.325) |
8 | 8 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.0 | 6.1 | 3.8 | (0.671,0.328) |
9 | 9 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.5 | 7.2 | 4.1 | (0.669,0.329) |
10 | 10 | (pq-Fl)2Ir(acac) | 5.2 | 7.3 | 4.4 | (0.670,0.328) |
11 | 11 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 7.8 | 4.6 | (0.673,0.325) |
12 | 12 | (piq)2Ir(acac) | 5.4 | 8.0 | 4.7 | (0.673,0.325) |
13 | 13 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 7.2 | 4.3 | (0.673,0.325) |
14 | 14 | (piq)2Ir(acac) | 4.9 | 6.8 | 4.4 | (0.673,0.325) |
15 | 15 | (piq)2Ir(acac) | 5.1 | 7.5 | 4.6 | (0.673,0.325) |
16 | 16 | (piq)2Ir(acac) | 5.2 | 7.3 | 4.4 | (0.674,0.324) |
17 | 17 | (piq)2Ir(acac) | 4.8 | 7.5 | 4.9 | (0.673,0.325) |
18 | 18 | (piq)2Ir(acac) | 5.4 | 7.7 | 4.5 | (0.673,0.325) |
19 | 19 | (piq)2Ir(acac) | 5.5 | 7.0 | 4.0 | (0.673,0.325) |
20 | 20 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 7.2 | 4.3 | (0.673,0.325) |
21 | 21 | (piq)2Ir(acac) | 5.0 | 7.0 | 4.4 | (0.673,0.325) |
22 | 22 | (piq)2Ir(acac) | 4.9 | 7.7 | 4.9 | (0.673,0.325) |
23 | 23 | (piq)2Ir(acac) | 5.2 | 7.5 | 4.5 | (0.673,0.325) |
24 | 24 | (piq)2Ir(acac) | 5.4 | 6.8 | 3.9 | (0.673,0.325) |
25 | 25 | (piq)2Ir(acac) | 5.4 | 6.5 | 3.8 | (0.673,0.325) |
26 | 26 | (piq)2Ir(acac) | 5.5 | 7.5 | 4.3 | (0.673,0.325) |
27 | 27 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 7.6 | 4.5 | (0.673,0.325) |
28 | 28 | (piq)2Ir(acac) | 5.1 | 7.1 | 4.4 | (0.673,0.325) |
29 | 29 | (piq)2Ir(acac) | 5.2 | 7.8 | 4.7 | (0.673,0.325) |
30 | 30 | (piq)2Ir(acac) | 5.0 | 7.4 | 4.6 | (0.673,0.325) |
31 | 31 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 6.9 | 4.1 | (0.672,0.326) |
32 | 32 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 6.7 | 4.0 | (0.673,0.325) |
33 | 33 | (piq)2Ir(acac) | 5.0 | 7.6 | 4.8 | (0.673,0.325) |
34 | 34 | (piq)2Ir(acac) | 5.3 | 7.7 | 4.6 | (0.674,0.324) |
比较例1 | BAlq | (piq)2Ir(acac) | 7.5 | 6.2 | 2.6 | (0.675,0.323) |
由表1可知,本发明开发的配合物与常规材料相比显示优良的EL性质。特别是,由表1可知,因操作电压降低对功率消耗的改进不仅是发光效率提高的结果,而且是电流性质改进的结果。
这些是由本发明的主体材料的特定分子结构和金属离子配合物的作用产生的,并且可以说明薄膜性质的改进原因是所述分子的这些结构特征。表1显示,因为包含具有较大原子序数的软元素和作为侧链的芳环,薄膜性质和EL性质得到更显著改进。
可以确定,本发明的主体材料因掺杂剂本身保持EL性质的现象具有优良的能量传输性质,而与主体本身的电致发光波长范围无关。这是主体材料所需的非常重要的性质,从对掺杂剂的掺杂浓度确保工艺极限来看提供了优点。
工业适用性
本发明的电致发光化合物被用作OLED器件的磷光材料的主体材料时,与常规主体材料相比,提供明显降低操作电压,提高电流效率,并因此改进功率效率方面的优点。预期这些EL化合物能显著有助于降低OLED的功率消耗。
Claims (8)
1.一种由化学式(1)表示的电致发光化合物:
[化学式1]
L1L2L3M2Q
式中,配体L1、L2和L3独立地选自由以下化学结构表示的结构;M是二价金属;Q是源自无机酸或有机酸的单价阴离子,
在该配体中,X是O、S或Se;环A是噁唑、噻唑、咪唑、噁二唑、噻二唑、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并咪唑、吡啶或喹啉;R1至R4独立地表示:氢、C1-C5烷基、卤素、甲硅烷基或C6-C20芳基,或者它们通过亚烷基或亚烯基与相邻取代基连接形成稠环;吡啶和喹啉可与R1化学结合形成稠环;环A和R1至R4的芳基可进一步被以下基团取代:C1-C5烷基、卤素、具有卤素取代基的C1-C5烷基,苯基、萘基、甲硅烷基或氨基。
2.如权利要求1所述的电致发光化合物,其特征在于,L1、L2和L3选自以下化学结构之一:
式中,X和R1至R4如权利要求1定义;Y是O、S或NR21,Z是CH或N;R11至R16独立地表示:氢、C1-C5烷基、卤素、具有卤素取代基的C1-C5烷基、苯基、萘基、甲硅烷基或氨基,R11至R14可通过亚烷基或亚烯基与相邻取代基连接形成稠环,R21是C1-C5烷基、取代的或未取代的苯基或萘基。
3.如权利要求1所述的电致发光化合物,其特征在于,M选自Be、Zn、Mg、Cu和Ni。
4.如权利要求2所述的电致发光化合物,其特征在于,配体L1、L2和L3是相同的,选自由以下化学式之一表示的结构:
式中,X是O、S或Se,R2、R3、R12和R13独立地表示:氢、甲基、乙基、正丙基、异丙基、氟、氯、三氟甲基、苯基、萘基、芴基、三甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、二甲胺、二乙胺或二苯胺;苯基、萘基或芴基可进一步被以下基团取代:氟、氯、三甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、二甲胺、二乙胺或二苯胺。
6.如权利要求1所述的电致发光化合物,其特征在于,Q选自下组:Cl-、Br-、I-、CN-、ClO4 -、CF3COO-、CF3SO3 -、p-(CH3)PhSO3 -和BF4-。
7.一种电致发光器件,它包含权利要求1-6中任一项所述的电致发光化合物。
8.如权利要求7所述的电致发光器件,其特征在于,所述化合物用作电致发光层的主体材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070000904 | 2007-01-04 | ||
KR1020070000904A KR100836020B1 (ko) | 2007-01-04 | 2007-01-04 | 전기발광용 유기금속 화합물 및 이를 발광재료로 채용하고있는 표시소자 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101641423A true CN101641423A (zh) | 2010-02-03 |
Family
ID=39588814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200880005299A Pending CN101641423A (zh) | 2007-01-04 | 2008-01-02 | 用于电致发光的有机金属化合物和使用该化合物的有机电致发光器件 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100152455A1 (zh) |
EP (1) | EP2092040A4 (zh) |
JP (1) | JP2010515676A (zh) |
KR (1) | KR100836020B1 (zh) |
CN (1) | CN101641423A (zh) |
TW (1) | TWI369391B (zh) |
WO (1) | WO2008082249A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103221509A (zh) * | 2010-07-07 | 2013-07-24 | 波兰科学院物理化学研究所 | 发光化合物、发光化合物的制备方法和其应用 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100910151B1 (ko) * | 2007-11-22 | 2009-07-30 | (주)그라쎌 | 신규한 유기 발광 화합물 및 이를 발광재료로 채용하고있는 전기발광소자 |
KR101026174B1 (ko) | 2008-07-04 | 2011-04-05 | 덕산하이메탈(주) | 신규한 벤조이미다졸 유도체 및 이를 포함하는 유기전계발광 소자 |
CN102272262B (zh) * | 2008-12-30 | 2014-09-10 | 第一毛织株式会社 | 有机光电装置用新化合物和包括该化合物的有机光电装置 |
JP2015013822A (ja) | 2013-07-04 | 2015-01-22 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | Thiolate架橋多核銅(I)錯体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1045722A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-17 | Sony Corp | 金属複核錯体およびその製造方法、ならびにこの金属複核錯体を用いた光学素子 |
US20040166365A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-08-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07133483A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Shinko Electric Ind Co Ltd | El素子用有機発光材料及びel素子 |
JP2003192691A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | 有機イリジウム錯体及び有機電界発光素子 |
JP4192592B2 (ja) * | 2001-12-26 | 2008-12-10 | 三菱化学株式会社 | 有機イリジウム錯体およびこれを用いた有機電界発光素子 |
JP2005002101A (ja) * | 2003-05-16 | 2005-01-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 有機金属錯体およびそれを用いた発光素子 |
US6998492B2 (en) * | 2003-05-16 | 2006-02-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex and light-emitting element containing the same |
TWI245068B (en) * | 2003-11-18 | 2005-12-11 | Chi Mei Optoelectronics Corp | Iridium complex as light emitting material and organic light emitting diode device |
TWI237524B (en) | 2004-05-17 | 2005-08-01 | Au Optronics Corp | Organometallic compound and organic electroluminescent device including the same |
-
2007
- 2007-01-04 KR KR1020070000904A patent/KR100836020B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-12-19 TW TW096148609A patent/TWI369391B/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-01-02 CN CN200880005299A patent/CN101641423A/zh active Pending
- 2008-01-02 US US12/448,714 patent/US20100152455A1/en not_active Abandoned
- 2008-01-02 JP JP2009544790A patent/JP2010515676A/ja active Pending
- 2008-01-02 WO PCT/KR2008/000008 patent/WO2008082249A1/en active Application Filing
- 2008-01-02 EP EP08704549A patent/EP2092040A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1045722A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-17 | Sony Corp | 金属複核錯体およびその製造方法、ならびにこの金属複核錯体を用いた光学素子 |
US20040166365A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-08-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
YASUNORI KIJIMA ET AL.: ""RGB Luminescence from Passive-Matrix Organic LED’s"", 《IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES》 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103221509A (zh) * | 2010-07-07 | 2013-07-24 | 波兰科学院物理化学研究所 | 发光化合物、发光化合物的制备方法和其应用 |
CN103221509B (zh) * | 2010-07-07 | 2016-08-03 | 波兰科学院物理化学研究所 | 发光化合物、发光化合物的制备方法和其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI369391B (en) | 2012-08-01 |
WO2008082249A1 (en) | 2008-07-10 |
KR100836020B1 (ko) | 2008-06-09 |
TW200840855A (en) | 2008-10-16 |
EP2092040A1 (en) | 2009-08-26 |
JP2010515676A (ja) | 2010-05-13 |
EP2092040A4 (en) | 2010-09-15 |
US20100152455A1 (en) | 2010-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101488562B (zh) | 采用电致发光化合物的电致发光器件 | |
CN105294670B (zh) | 有机电致发光化合物及其有机光电装置 | |
CN110066297B (zh) | 稳定的发射体 | |
CN102574797B (zh) | 苯并[k]荧蒽衍生物和含有其的有机电致发光元件 | |
CN102770427B (zh) | 用于电子器件的材料 | |
KR100850886B1 (ko) | 전기발광용 유기금속 화합물 및 이를 발광재료로 채용하고있는 표시소자 | |
KR101857828B1 (ko) | 유기 전계발광 소자 | |
JP5819289B2 (ja) | 有機エレクトロルミネセンス素子のための材料 | |
CN105418486A (zh) | 有机电致发光化合物及其有机光电装置 | |
US20090105488A1 (en) | Triptycene derivatives and their application | |
US20090085476A1 (en) | Red phosphorescent compound and organic electroluminescent device using the same | |
Longhi et al. | Iridium (III) complexes for OLED application | |
CN101687893A (zh) | 含有吩噻嗪s-氧化物或吩噻嗪s,s-二氧化物基团的硅烷及其在oled中的用途 | |
CN103665048B (zh) | 一类金属配合物及在有机电致发光器件中的应用 | |
Tang et al. | Efficient yellow–green light-emitting cationic iridium complexes based on 1, 10-phenanthroline derivatives containing oxadiazole-triphenylamine unit | |
CN106397301B (zh) | 一种有机化合物,包含该化合物的有机电致发光器件材料及包含该材料的有机电致发光器件 | |
CN106831743A (zh) | 一种有机电致发光材料以及有机光电装置 | |
Huo et al. | Comparative studies on OLED performances of chloro and fluoro substituted Zn (II) 8-hydroxyquinolinates | |
TWI483936B (zh) | 用於有機光電元件之新穎化合物及包括該化合物之有機光電元件 | |
KR100684109B1 (ko) | 전기발광용 유기화합물 및 이를 발광재료로 채용하고 있는표시소자 | |
CN101641423A (zh) | 用于电致发光的有机金属化合物和使用该化合物的有机电致发光器件 | |
CN111303150B (zh) | 高效窄半峰宽的聚集态发光材料 | |
Park et al. | An indenocarbazole-based host material for solution processable green phosphorescent organic light emitting diodes | |
Guo et al. | Novel triazine derivatives with deep LUMO energy levels as the electron-accepting components of exciplexes | |
CN101468973A (zh) | 用于电致发光的有机金属化合物及使用其的有机电致发光器件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20100203 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |