CN101617067A - 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法 - Google Patents
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Abstract
一种从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，通过使用不溶性电极作为阳极、使用氧化物废料作为阴极进行电解，将该阴极的废料以金属或低氧化物形式回收。本发明提供从例如由铟－锡氧化物(ITO)构成的溅射靶或制造时产生的边角料等氧化物废料中高效回收有价值金属的方法。
Description
技术领域
本发明涉及从以使用后的铟-锡氧化物(ITO)溅射靶或制造时产生的ITO边角料等ITO废料为代表例的、含有导电氧化物的废料(本说明书中，以下将它们统称为“含有导电氧化物的废料”)中回收有价值金属的方法。另外，本说明中记载的“回收有价值金属”包括以有价值金属为构成要素的氧化物、含有金属的溶解液、合金、氢氧化物、氧化物、低氧化物和过氧化物。
背景技术
近年来，铟-锡氧化物(In2O3-SnO2，通常称为ITO)溅射靶在液晶显示装置的透明导电薄膜或气体传感器等多数电子部件中广泛使用，多数的情况下，使用利用溅射法的薄膜形成手段而形成。ITO是具有导电性的代表性氧化物。
导电氧化物(导电性氧化物)不限于ITO，还存在IGZO(In-Ga-Zn-O复合氧化物)、ZnO、Zn-SnO2、SnO2等许多导电氧化物。并且，同样制作靶，将其溅射形成薄膜，用于各种电子部件。
该利用溅射法的薄膜形成手段是优良的方法，但是，当使用溅射靶形成例如透明导电薄膜时，该靶并不是均匀地消耗。该靶的一部分消耗剧烈的部分通常称为刻蚀部，该刻蚀部不断消耗，持续进行溅射操作直至支撑靶的背衬板露出。然后，更换为新靶。
因此，使用后的溅射靶中残留许多非刻蚀部、即未使用的靶部分，这些导电氧化物全部成为废料。另外，在制造溅射靶时，由研磨粉、切削粉也产生废料(边角料)。
这些导电氧化物溅射靶材料中，有时含有昂贵的金属，因此通常从这种废料材料中进行金属回收。作为该金属回收方法，目前使用将酸溶解法、离子交换法、溶剂萃取法等湿法精炼进行组合的方法。
例如，在ITO废料的情况下，将该废料清洗并粉碎后溶解于盐酸中，在溶解液中通入硫化氢，将锌、锡、铅、铜等杂质以硫化物形式沉淀除去后，在其中加入氨进行中和，以氢氧化铟形式回收的方法。
但是，通过该方法得到的氢氧化铟过滤性差，操作需要长时间，Si、Al等杂质多，另外，生成的氢氧化铟受其中和条件及熟化条件等的影响粒径和粒度分布产生变动，因此，在之后制造ITO靶时，存在不能稳定维持ITO靶的特性的问题。具有导电性的其它氧化物也存在同样的问题。
以下，以ITO为代表例，对现有技术及其利弊得失进行介绍。
作为现有技术之一，有在电解液中通过电化学反应使基板上被覆的ITO膜还原，进而使该还原后的透明导电膜溶解于电解液中的透明导电膜的蚀刻方法(参照专利文献1)。但是，该方法的目的在于以高精度得到掩模图案，是与回收方法不同的技术。
作为用于从ITO中回收有价值金属的预处理，有在电解液中将用于与背衬板接合的含In钎料中所含的杂质进行分离的技术(参照专利文献2)。但是，该技术并不涉及从ITO中回收有价值金属的直接技术。
公开了以下技术：在从作为锌精炼工序的副产物得到的中间产物或ITO废料中回收铟时，将锡以卤化锡酸盐形式分离后，用盐酸或硝酸水溶液进行还原处理，然后将该水溶液的pH调节至2～5，使铁、锌、铜、铊等金属离子还原成为难以沉淀的物质，从而分离出水溶液中的铟成分(参照专利文献3)。该技术存在精炼工序复杂且精炼效果也不不太值得期待的问题。
另外，作为高纯度铟的回收方法，公开了以下技术：用盐酸溶解ITO，在其中加入碱将pH调节至0.5～4，从而将锡以氢氧化物形式除去，然后通入硫化氢气体将铜、铅等有害物质以硫化物形式除去，然后使用该溶解液通过电解对铟金属进行电解沉积(電解採取)(参照专利文献4)。该技术也存在精炼工序复杂的问题。
有以下方法：用盐酸溶解ITO含铟废料得到氯化铟溶液，在该溶液中添加氢氧化钠水溶液将锡以氢氧化锡形式除去，除去后进一步添加氢氧化钠水溶液得到氢氧化铟，将其过滤，使过滤后的氢氧化铟形成硫酸铟，使用该硫酸铟通过电解沉积得到铟(参照专利文献5)。该方法是精炼效果好且有效的方法，但是存在工序复杂的缺点。
有一种回收铟的方法，包括以下工序：用盐酸溶解ITO含铟废料而得到氯化铟溶液的工序、在该氯化铟溶液中添加氢氧化钠水溶液而将废料中所含的锡以氢氧化锡形式除去的工序、利用锌从该除去氢氧化锡后的溶液中置换、回收铟的工序(参照专利文献6)。该方法也是精炼效果好且有效的方法，但是存在工序复杂的缺点。
公开了以下回收金属铟的方法：取出在熔融金属铟上漂浮的含低氧化物铸造废料并插入气氛炉(雰囲気炉)中，将炉中暂时抽成真空后引入氩气，加热至预定温度而对含低氧化物铸造废料进行还原(参照专利文献7)。
该方法本身是有效的方法，但存在其并非导电氧化物废料的基本回收方法的缺点。
根据上述情况，正在寻求有效且回收工序具有通用性的方法。
专利文献1：日本特开昭62-290900号公报
专利文献2：日本特开平8-41560号公报
专利文献3：日本特开平3-82720号公报
专利文献4：日本特开2000-169991号公报
专利文献5：日本特开2002-69684号公报
专利文献6：日本特开2002-69544号公报
专利文献7：日本特开2002-241865号公报
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供从含有导电氧化物的废料或制造靶时等产生的导电氧化物的边角料等废料中高效地回收有价值金属的方法。
本发明提供一种从ITO废料中回收有价金属的方法，其中，通过使用不溶性电极作为阳极、使用含有导电氧化物的废料作为阴极进行电解，将该阴极的废料还原为金属或低氧化物。“有价值金属的回收”包括以有价值金属为构成要素的金属、含有金属的溶解液、合金、氢氧化物、氧化物、低氧化物和过氧化物。
一般而言，由于例如ITO等废料为氧化物废料，因此本来不能想到用电解法回收有价值金属。但是，该ITO本身尽管是氧化物陶瓷但却具有导电性。本发明着眼于此，尝试通过电解回收有价值金属(例如，ITO的情况下为铟或锡及它们的化合物)，并使其成为了可能。
这是本发明的显著特征之一。以往，通常将作为要回收原材料的金属废料作为阳极，不存在象本发明这样相反构思的技术，另外也不存在启示该方法的任何文献。另外，也不存在利用从阴极产生的氢气的例子。
因此，本发明的从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法为基本发明。
ITO等自身具有导电性是已知的，认为这是由于作为烧结体的氧化物的缺氧而引起的。本发明利用了该氧化物自身的导电性，不过应当知道的是，氧化物自身具备的导电性通过电解能够回收有价值金属的这种见解和判断，必须进一步进行大量的实验才能够实现。
以往对含有ITO等导电氧化物的废料进行回收时，经过将含有导电氧化物的废料粉碎、用强酸溶解、还原、置换、硫化、析出、中和、过滤、溶剂萃取、离子交换、铸造等多个工序适当组合的工序来制造。
这些工序中的问题在于，在含有导电氧化物的废料的粉碎工序中有时混入杂质，在之后的工序中，需要再除去在粉碎工序中混入的杂质，因此工序变得更加繁琐。
因此就可以理解，能够通过电解从含有导电氧化物的废料中直接回收有价值金属具有极大的优点。
另外，本发明提供所述从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法，其中，通过电解时阴极上产生的氢将含有导电氧化物的废料还原为金属或低氧化物；以及所述从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法，其中，用酸溶解阴极上生成的金属或低氧化物，以溶解液形式回收。
另外，本发明提供所述从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法，其中，用酸或碱溶解阴极上生成的金属或低氧化物，并通过电解沉积回收金属；所述从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法，其中，从回收的金属溶解液中以氢氧化物形式回收；以及所述从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法，其中，通过对回收的金属溶解液进行电解，以金属或合金形式回收。
另外，本发明提供所述从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法，其中，对氢氧化物或低氧化物或它们的混合物进行焙烧，以氧化物或复合氧化物或氧化物的混合物的形式回收。
从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属时，将电解液的pH调节至酸性范围进行电解，能够将阴极的含有导电氧化物的废料还原为金属。上述中回收的金属溶解液，可以通过置换法、溶剂萃取法等除去其构成金属的一部分(价值低的金属)，进而利用电解沉积从该溶液中回收有价值金属。
另外，上述中回收的金属溶解液，通过将该溶液的pH调节至生成各金属的氢氧化物的范围，能够以氢氧化物或两种以上氢氧化物的混合物的形式回收。这样回收的氢氧化物和两种以上氢氧化物的混合物，通过进一步焙烧能够以氧化物或两种以上氧化物的混合物的形式回收。
如上所述，本发明的含有导电氧化物的废料中的有价值金属的回收中，如果供给电解的含有导电氧化物的废料自身是由高纯度材料构成的废料，则能够原样维持其纯度，从而能够以以高纯度的有价值金属为构成要素的金属、含有这些金属的溶解液、高纯度的合金、高纯度的氢氧化物或两种以上氢氧化物的混合物、高纯度的氧化物或低氧化物或它们的混合物的形式回收。
这一点当然是本发明的显著优点。本发明具有无需以往的繁杂工序及除去在制造过程中混入的杂质的工序，提高生产效率，并且能够回收高纯度有价值金属的卓越优点。
另外，由于是边角料等废料，因而电流密度等电解条件不能一概而定，电流密度根据该边角料的量及材料的性质适当选择来实施。电解质溶液的液温通常设定在0～100℃的范围，室温(15～30℃)是充分的。
发明效果
本发明使用氧化物溅射靶或该靶制造时产生的边角料等废料，仅仅是将不溶性电极作为阳极并将氧化物废料作为阴极进行电解，因此是能够极其简单地以金属、含有这些金属的溶解液、合金、氢氧化物或两种以上氧化物的混合物、氧化物或低氧化物或它们的混合物的形式高效地进行回收的优良方法。氧化物废料只要能够用从水溶液中产生的氢气还原，就全部能够应用。
另外，本发明的氧化物废料中的有价值金属的回收中，能够原样维持供给电解的废料自身的纯度而回收上述材料。这是本发明的显著优点。本发明具有无需以往的繁杂工序及除去在制造过程中混入的杂质的工序，提高生产效率，并且能够回收高纯度有价值金属的卓越优点。
具体实施方式
本发明能够通过电解简单地将含有有价值金属的氧化物废料以金属、含有这些金属的溶解液、合金、氢氧化物、两种以上氢氧化物的混合物的形式高效地进行回收。通过进一步对得到的氢氧化物或两种以上氢氧化物的混合物进行焙烧，能够以氧化物或两种以上氧化物的混合物的形式高效地进行回收。
焙烧温度设定为100～1000℃。优选设定为100～500℃。如果低于100℃，则水分残留，如果超过1000℃则会烧结，因此设定为上述范围。但是，根据材料不同，当然有时会超出该范围。该范围仅是作为一般的焙烧条件的大致标准而提出的。
如上所述，电解液可以任意选择使用硫酸钠、氯化钠、硝酸钠、硫酸铵、氯化铵、硝酸铵、氯化钾、硝酸钾、硫酸钾等的溶液。另外，阳离子为铵系的情况下，存在氨气的产生、废水处理的氮负荷，因此其处理需要注意。另外，阴离子为氯系的情况下产生氯气，另外，硝酸系的情况下产生NOx气体及废水的氮负荷，因此，其处理需要注意。
硫酸系的情况下几乎不存在这些问题，因此可以说硫酸系是优选的材料。但是，只要能解决上述问题，也不存在拒绝使用其它电解液的理由。
另外，为了提高电流效率，也可以使用通常已知的添加材料。这样，能够同时回收再生的两种以上的氧化物，如果是与再生制品接近的制品，则再生效率提高，这一点应该容易理解。
电解装置无需特别的装置。例如，使用能够用氢气容易地还原的氧化物废料作为阴极，使用由碳、贵金属等构成的不溶性电极作为阳极进行电解即可。由此，能够避免在废料中增加或混入原有水平以上的杂质。
另外，优选将电解液的pH调节至7以下进行电解。这是还原的优选条件，原因在于：该条件使阴极产生氢气从而使氧化物还原为金属。另外，这属于例示的优选pH，根据废料材料的不同可以变化，这一点应该容易理解。
电解条件优选根据原料的种类适当调节。此时调节的要素仅仅是生产效率。一般而言，在大电流、高电压下电解时生产率高。但是，不必限定于这些条件，其选择是任意的。
另外，电解温度也没有特别限制，优选调节至0～100℃进行电解。在室温下能够充分电解。作为边角料的废料分别装入阴极盒(箱)进行电解即可。自身具有预定尺寸(能够作为电极使用的尺寸)的废料可以直接作为电极板使用。
向由不溶性电极构成的阳极及由两种以上氢氧化物废料构成的阴极通电开始电解时，在阳极上产生氧气等。但是，这不是特别的问题。
另一方面，容易由氢气还原的废料阴极上，在通电开始的同时产生氢气，废料被氢还原，成为金属(例如，ITO废料的情况下，ITO+H2→In-Sn金属)。氢的产生是由水的电解导致的(H2O→1/2H2+OH-)。
但是，随着通电时间延长，在废料阴极表面蓄积若干厚度的金属(例如，ITO废料的情况下为In、Sn)，在该金属表层之下，形成海绵状的金属低氧化物，进一步的还原受到抑制，因此电解中止等，优选用酸将生成的金属及该金属的低氧化物溶解，使含有新氧化物的表面露出。由此，现出新生表面，还原继续进行。
上述回收的金属溶解液，可以通过中和法、置换法、偏锡酸法、水解法等除去一部分价值低的金属(例如，ITO废料的情况下为锡)，进而从除去锡后的溶液中通过电解沉积回收更高价值的金属(例如，ITO废料的情况下为铟)。ITO的情况下，在中和法中用氢氧化钠、氢氧化钾、氨等碱性液中和，在pH0.5～3下除去锡。除此之外，例如，可以通过用铟海绵等置换或者添加硝酸以偏锡酸形式除去，或者通过利用空气鼓泡、过氧化氢等氧化剂形成例如Sn(OH)4而除去。
另外，上述回收的金属溶解液，也可以将溶液的pH调节至3～11，以氢氧化物或两种以上氢氧化物的混合物的形式回收。这样回收的氢氧化物可以进一步在100～1000℃焙烧而以氧化物形式回收。
这样得到的氧化物可以直接作为制品的原料使用。另外，根据需要，进一步补充或添加氧化物，改变其成分量，或者添加其它元素或化合物，并进行烧结而得到再生靶，这也是能够容易地做到的。本发明包含所有这些内容。
另一方面，也可以通过将上述回收的金属溶解液电解，以合金形式回收。
无论哪一种情况，都是以使用通过使用不溶性电极作为阳极，在阴极上将能够容易地用氢气还原的废料还原为金属，并进一步用酸溶解该金属而得到的金属溶解液为前提。
从该金属溶解液中，可以进一步以需要的形态即以金属、两种以上金属的合金、金属的溶解液、氢氧化物、氧化物的形式回收。
实施例
以下对实施例进行说明。另外，本实施例用于说明发明的一例，本发明不限于这些实施例。即，本发明包括本发明的技术思想中包含的其它方式及变形。
(实施例1)
将横长20mm×纵长100×厚度6t的ITO(氧化铟-氧化锡)的板状边角料(废料)90g作为原料。该原料中的成分为：氧化锡(SnO2)为9.8重量％、余量为氧化铟(In2O3)。
将该原料作为阴极，阳极使用作为不溶性电极的炭。使用含有硫酸钠70g/L的电解液1L，在pH4.0、电解温度30℃的条件下进行电解。在电压为10V(恒定电压)，电流为2.95A(开始时)至1.2A(结束时)、通电时间60分钟(1小时)的条件下进行电解。
结果，ITO边角料的表面形成In和Sn金属，内部形成海绵状低氧化物。
(实施例2)
将通过电解得到的In、Sn金属及低氧化物用硫酸进行酸浸，得到铟和锡的溶液，调节该溶液至pH2.0，将锡以氢氧化锡形式除去，进而在电解温度30℃、电流密度2A/dm2的条件下对铟进行电解沉积。
通过以上工序，能够从ITO废料中回收约1.5g有价金属In。
(实施例3)
使用实施例1的边角料作为阴极、Pt作为阳极，使用硝酸钠100g/L溶液作为电解液，在pH6.0、电解温度30℃的条件下进行电解。在电压为10V(恒电压)、电流为2.95A(开始时)至1.2A(结束时)、通电时间60分钟(1小时)的条件下进行。
结果，与实施例1同样，ITO边角料的表面为In和Sn金属，内部形成海绵状低氧化物，得到铟、锡及它们的低氧化物。电解的总量以铟和锡的金属换算为约1.4g。
(实施例4)
设定电压恒定为5V，其它条件与实施例1同样进行电解。积分电流量也相同。结果，与实施例1同样，ITO边角料的表面为In和Sn金属，内部形成海绵状低氧化物。得到铟、锡及它们的低氧化物，电解的总量以铟和锡的金属换算为约2.0g。
(实施例5)
设定电压恒定为2V，其它条件与实施例1同样进行电解。积分电流量也相同。结果，与实施例1同样，ITO边角料的表面为In和Sn金属，内部形成海绵状低氧化物。得到铟、锡及它们的低氧化物，电解的总量以铟和锡的金属换算为约2.2g。
(实施例6)
设定电压恒定为20V，其它条件与实施例1同样进行电解。积分电流量也相同。结果，与实施例1同样，ITO边角料的表面为In和Sn金属，内部形成海绵状低氧化物。得到铟、锡及它们的低氧化物，电解的总量以铟和锡的金属换算为约1.7g。
(实施例7)
将横长20mm×纵长100×厚度6t的ITO(氧化铟-氧化锡)的板状边角料(废料)10kg放入阴极盒中作为原料。该原料中的成分为：氧化锡(SnO2)为9.8重量％、余量为氧化铟(In2O3)。
将该原料作为阴极，阳极使用Pt。使用含有氯化钠100g/L的电解液1L，在pH3.0、电解温度30℃的条件下进行电解。在电压为10V(恒电压)、电流为2.95A(开始时)至1.2A(结束时)的条件下进行。电解的积分电流量为10000Ahr。结果，得到铟、锡及它们的低氧化物，电解的总量以铟和锡的金属换算为约6.0kg。该混合物的纯度与实施例1同等程度。
(比较例1)
使用与实施例1相同的ITO(氧化铟-氧化锡)废料2kg作为原料。该原料中的成分为：氧化锡(SnO2)为9.7重量％、余量为氧化铟(In2O3)。将其作为阴极，使用不溶性炭作为阳极。在pH12的电解条件下进行电解。
结果，阴极上没有出现任何变化，不能回收铟、锡及它们的低氧化物。
上述实施例中，均使用氧化锡(SnO2)为9.7重量％、余量为氧化铟(In2O3)的ITO(氧化铟-氧化锡)边角料或废料，但可以根据In2O3和SnO2的成分量任意改变电流密度、pH等电解条件，该原料的成分量当然也不必特别限制。特别是有时ITO中氧化锡(SnO2)的含量在5重量％～30重量％之间变化，即使在这样的情况下，本发明也能够充分应用。
另外，虽然有时ITO中还添加了少量副成分，但是只要基本上ITO为基本成分，则本发明当然也能够对其应用。
已知本发明使用不溶性电极作为阳极，同时使用ITO废料作为阴极，通过对其进行电解，在阴极上形成铟-锡金属，将该金属进一步用硫酸溶解，之后能够以以使用的有价值金属为构成要素的铟或锡金属、含有这些金属的溶解液、高纯度的铟-锡合金、高纯度的氢氧化铟和氢氧化锡或偏锡酸的混合物、高纯度的氧化铟及氧化锡的混合物的形式进行回收，从而能够从ITO废料中高效地回收有价值金属。
以下，对ITO以外的实施例进行说明。
(实施例8)
回收对象废料：IGZO(In-Ga-Zn-O复合氧化物)
阳极使用作为不溶性阳极的炭。将IGZO板状边角料废料作为对电极，使用含有70g/L硫酸钠的电解液1L，在pH9、温度20℃下进行电解。结果，得到In、Ga、Zn的氢氧化物。收率为98％。
之后，可以通过使用通常实施的湿式方法(酸浸→溶剂萃取→电解等)，进行以In、Ga、Zn的金属或氧化物的回收。
如上所述，具有导电性的IGZO(In-Ga-Zn-O复合氧化物)能够高效地回收有价值物(金属)。
(实施例9)
回收对象废料：ZnO
阳极使用作为不溶性阳极的炭。将ZnO的板状边角料废料作为对电极，使用含有50g/L硫酸铵的电解液，在pH10、温度50℃下进行电解。结果，得到Zn的氢氧化物。收率为99.5％。纯度与原始材料(原料的纯度)相同。
使用该氢氧化物，再次进行脱水、烧结，由此能够作为ZnO靶使用。如上所述，具有导电性的氧化物ZnO能够高效地进行回收。
(实施例10)
回收对象废料：ZnO-SnO2
阳极使用作为不溶性阳极的炭。将ZnO-SnO2的边角料废料作为对电极，使用含有100g/L硫酸钠的电解液，在pH9、温度70℃下进行电解。
结果，得到Zn和Sn的氢氧化物。收率为99.0％。如上所述，导电氧化物ZnO-SnO2能够以Zn和Sn的氢氧化物的形式高效地进行回收。
(实施例11)
回收对象废料：SnO2
阳极使用作为不溶性阳极的炭。将SnO2的边角料废料作为对电极，在70g/L硫酸钠溶液中，在pH2、电解温度30℃下进行电解。结果，得到Sn的氢氧化物。收率为99.7％。如上所述，具有导电性的氧化物SnO2能够以Sn的氢氧化物的形式高效地进行回收。
如上述实施例8～11所示，可以看出，使用ITO以及ITO以外的氧化物废料，能够由水溶液中产生的氢气容易地还原，从而能够从氧化物废料中高效地回收有价值金属。
产业实用性
本发明使用氧化物靶或制造时产生的该靶边角料等氧化物废料，仅仅是使用不溶性电极作为阳极、并使用能够由水溶液中产生的氢气容易地还原的废料作为阴极进行电解，因此能够极其简单地以以有价值金属为构成要素的金属、含有这些金属的溶解液、两种以上金属的合金、氢氧化物、氧化物、低氧化物、或者它们的混合物的形式高效地进行回收。
另外，本发明的氧化物废料中的有价值金属的回收中，能够原样维持供给电解的废料自身的纯度。这是本发明的显著优点。本发明具有无需以往的繁杂工序及除去在制造过程中混入的杂质的工序，提高生产效率，并且能够回收高纯度有价值金属的卓越优点，作为从氧化物废料中回收有价值金属的方法极为有用。
Claims (7)
1.一种从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，通过使用不溶性电极作为阳极、使用氧化物废料作为阴极进行电解，将该阴极的废料以金属或低氧化物形式回收。
2.如权利要求1所述的从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，通过电解时阴极上产生的氢将氧化物废料还原为金属或低氧化物。
3.如权利要求1或2所述的从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，用酸溶解阴极上生成的金属或低氧化物，以溶解液形式回收。
4.如权利要求1～3中任一项所述的从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，用酸或碱溶解阴极上生成的金属或低氧化物，从该溶解液中除去构成金属的一部分金属，并通过电解沉积从除去后的溶液中回收有价值金属。
5.如权利要求1～3中任一项所述的从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，从回收的金属或低氧化物的溶解液中以氢氧化物形式回收。
6.如权利要求1～3中任一项所述的从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，通过对回收的多种金属的溶解液进行电解，以合金形式回收。
7.如权利要求5所述的从氧化物废料中回收有价值金属的方法，其特征在于，对氢氧化物或低氧化物进行焙烧，以氧化物形式回收。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI396595B (zh) * | 2010-04-07 | 2013-05-21 | Univ Da Yeh | 含錫廢料資源化之方法 |
| CN111809050A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-10-23 | 先导薄膜材料有限公司 | 一种回收ito废靶的方法 |
| CN113512651A (zh) * | 2021-06-09 | 2021-10-19 | 中山智隆新材料科技有限公司 | 一种从igzo靶材中分别回收铟和镓的方法 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008053616A1 (fr) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito |
| KR20090055652A (ko) * | 2006-10-24 | 2009-06-02 | 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤 | Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법 |
| CA2666129C (en) * | 2006-10-24 | 2012-01-03 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Method for collection of valuable metal from ito scrap |
| US8012336B2 (en) * | 2006-10-24 | 2011-09-06 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method for collection of valuable metal from ITO scrap |
| WO2008053618A1 (fr) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito |
| EP2110463A4 (en) * | 2007-02-16 | 2012-02-22 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | METHODS FOR RECOVERING VALUE METAL FROM FRAGMENTS CONTAINING AN ELECTRICALLY CONDUCTIVE OXIDE |
| CN101611174B (zh) * | 2007-02-16 | 2011-03-02 | 日矿金属株式会社 | 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法 |
| JP4210714B2 (ja) | 2007-03-27 | 2009-01-21 | 日鉱金属株式会社 | 導電性のある酸化物を含有するスクラップからの有価金属の回収方法 |
| US8308933B2 (en) * | 2008-02-12 | 2012-11-13 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from IZO scrap |
| WO2009101864A1 (ja) | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Ｉｚｏスクラップからの有価金属の回収方法 |
| US8308934B2 (en) * | 2008-03-06 | 2012-11-13 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from IZO scrap |
| KR101213604B1 (ko) | 2012-05-29 | 2012-12-18 | (주)티에스엠 | 인듐, 갈륨 및 아연을 포함하고 있는 스크랩으로부터 인듐메탈 회수방법 |
| US9244462B2 (en) * | 2014-05-30 | 2016-01-26 | Nissan North America, Inc. | Vehicle trajectory planning for autonomous vehicles |
| WO2016024452A1 (ja) * | 2014-08-11 | 2016-02-18 | 富士フイルム株式会社 | 水素発生電極、および人工光合成モジュール |
| DE102017107097B4 (de) | 2017-04-03 | 2024-02-08 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur Abtrennung von Indium aus metallhaltigen, wässrigen Lösungen |
| DE102017213956B3 (de) | 2017-08-10 | 2018-12-06 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur Gewinnung von Indium aus wässrigen, metallhaltigen Lösungen |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2915444A (en) * | 1955-12-09 | 1959-12-01 | Enthone | Process for cleaning and plating ferrous metals |
| US4330377A (en) * | 1980-07-10 | 1982-05-18 | Vulcan Materials Company | Electrolytic process for the production of tin and tin products |
| JPS62290900A (ja) | 1986-06-11 | 1987-12-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | 透明導電膜のエツチング方法およびその装置 |
| JPH0382720A (ja) | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Tosoh Corp | インジウムを回収する方法 |
| JPH0641778A (ja) * | 1992-07-23 | 1994-02-15 | Mitsubishi Materials Corp | 金属の電解精錬設備における電着金属の剥離装置 |
| JP2736498B2 (ja) * | 1993-05-26 | 1998-04-02 | 株式会社ジャパンエナジー | 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法 |
| US5417816A (en) * | 1992-12-09 | 1995-05-23 | Nikko Kyodo, Ltd. | Process for preparation of indium oxide-tin oxide powder |
| US5580496A (en) * | 1993-04-05 | 1996-12-03 | Sumitomo Metal Mining Company Limited | Raw material for producing powder of indium-tin oxide aciculae and method of producing the raw material, powder of indium-tin oxide aciculae and method of producing the powder, electroconductive paste and light-transmitting |
| JP3203587B2 (ja) * | 1993-11-22 | 2001-08-27 | 株式会社ジャパンエナジー | インジウムの回収方法 |
| JP3051971B2 (ja) | 1994-07-26 | 2000-06-12 | 同和鉱業株式会社 | 金属ろう材付着ｉｔｏの処理方法 |
| JP4304254B2 (ja) | 1998-12-04 | 2009-07-29 | Ｄｏｗａメタルマイン株式会社 | 高純度インジウムの回収方法 |
| US6896788B2 (en) * | 2000-05-22 | 2005-05-24 | Nikko Materials Company, Limited | Method of producing a higher-purity metal |
| JP4549501B2 (ja) | 2000-08-28 | 2010-09-22 | 日鉱金属株式会社 | インジウムの回収方法 |
| JP4519294B2 (ja) | 2000-08-28 | 2010-08-04 | 日鉱金属株式会社 | インジウムの回収方法 |
| JP4723106B2 (ja) | 2000-12-15 | 2011-07-13 | Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 | 金属インジウムの回収方法 |
| CN1489642A (zh) * | 2001-08-01 | 2004-04-14 | ��ʽ�������տ� | 高纯镍的制造方法、高纯镍、由该高纯镍构成的溅射靶及通过该溅射靶形成的薄膜 |
| JP2003247089A (ja) * | 2002-02-25 | 2003-09-05 | Nikko Materials Co Ltd | インジウムの回収方法 |
| CN1191380C (zh) * | 2002-11-07 | 2005-03-02 | 长沙矿冶研究院 | 从铟锡氧化物废料中提取精铟的方法 |
| JP2005314786A (ja) | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | インジウムの回収方法 |
| CA2666129C (en) * | 2006-10-24 | 2012-01-03 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Method for collection of valuable metal from ito scrap |
| WO2008053618A1 (fr) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito |
| US8012336B2 (en) * | 2006-10-24 | 2011-09-06 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method for collection of valuable metal from ITO scrap |
| KR20090055652A (ko) * | 2006-10-24 | 2009-06-02 | 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤 | Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법 |
| WO2008053616A1 (fr) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito |
| CN101611174B (zh) * | 2007-02-16 | 2011-03-02 | 日矿金属株式会社 | 从含有导电氧化物的废料中回收有价值金属的方法 |
| EP2110463A4 (en) * | 2007-02-16 | 2012-02-22 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | METHODS FOR RECOVERING VALUE METAL FROM FRAGMENTS CONTAINING AN ELECTRICALLY CONDUCTIVE OXIDE |
| JP4210714B2 (ja) | 2007-03-27 | 2009-01-21 | 日鉱金属株式会社 | 導電性のある酸化物を含有するスクラップからの有価金属の回収方法 |
| US8308933B2 (en) * | 2008-02-12 | 2012-11-13 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from IZO scrap |
| WO2009101864A1 (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-20 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Ｉｚｏスクラップからの有価金属の回収方法 |
| US8308934B2 (en) * | 2008-03-06 | 2012-11-13 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from IZO scrap |
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI396595B (zh) * | 2010-04-07 | 2013-05-21 | Univ Da Yeh | 含錫廢料資源化之方法 |
| CN111809050A (zh) * | 2020-05-25 | 2020-10-23 | 先导薄膜材料有限公司 | 一种回收ito废靶的方法 |
| CN113512651A (zh) * | 2021-06-09 | 2021-10-19 | 中山智隆新材料科技有限公司 | 一种从igzo靶材中分别回收铟和镓的方法 |
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