CN101609284B - 曝光影像偏差的校正方法和成像装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种曝光影像偏差的校正方法和成像装置。所述校正方法包括:根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。本发明实施例只需要通过软件补偿的方式即可以对曝光模块的曝光位置偏差进行自动校正,而不需要对曝光模块的机械或硬件电路做任何改动。
Description
技术领域
本发明涉及曝光影像偏差的校正方法和成像装置。
背景技术
在计算机直接制版(CTP,Computer To Plate)系统中,制版设备一般采用计算机控制的激光扫描或阵列式曝光成像。
目前,扫描式曝光技术通常采用激光器作为光源,曝光装置中包括若干个激光成像器件(通常为16个至128个)。由于加工及装配的限制及系统的误差等原因,不能完全保证所有的曝光装置发出的光束达到设计初的理想位置,会出现曝光影像的偏移,这样可能会在成像后的图像中出现条纹状甚至扭曲的缺陷,严重影响成像质量。
美国专利US005717451公开了一种成像方法及图像记录装置,该装置包含了一个位置检测装置和一个位置校正电路,所述位置检测装置同时对所有曝光影像的X及Y方向的位置进行检测,然后通过所述位置校正电路对成像系统进行校正。
发明内容
本发明实施例提供曝光影像偏差的校正方法和成像装置,能够实现对曝光影像偏差的自动校正。
一种曝光影像偏差的校正方法,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。
一种成像装置,包括成像面和用于对所述成像面进行曝光的多个联动的曝光模块;所述成像装置还包括控制模块,用于根据所述多个曝光模块在所述成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光。
在本发明实施例中,根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,并根据该信息控制曝光模块的曝光,本发明实施例只需要通过软件补偿的方式即可以对曝光模块的曝光位置偏差进行自动校正,而不需要对曝光模块的机械或硬件电路做任何改动。
附图说明
图1是本发明成像装置实施例一的结构图;
图2是本发明成像装置实施例二的立体结构结构的示意图;
图3是本发明成像装置实施例二的平面示意图;
图4是本发明实施例中示出的理想情况下没有曝光位置偏差时的曝光影像示意图和具有曝光位置偏差时的曝光影像示意图;
图5、图6是本发明方法实施例二的示意图;
图7、图8是本发明方法实施例三的示意图;
图9、图10是本发明方法实施例四的示意图。
具体实施方式
以下对本发明实施例提供的曝光影像偏差的校正方法和成像装置的推荐实施例进行详细说明。
本发明成像装置实施例一:本实施例给出本发明成像装置的基本结构。参考图1,本实施例的成像装置包括成像面110和用于对成像面110进行曝光的多个联动的曝光模块120。该成像装置还包括控制模块130,用于根据所述多个联动的曝光模块120在成像面110上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块120在成像面110上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块120在成像面110上进行曝光。
其中,所述曝光模块中包含成像器件,所述成像器件的类型可以是激光成像器件、数字光处理(DLP)成像器件、光栅亮度阀(GLV)成像器件或液晶显示(LCD)成像器件。
以下以激光成像器件为例,对本发明成像装置实施例二进行说明。
参考图2和图3,本实施例的成像装置包括:
覆有感光材料的成像面202和承载成像面202移动的第一运动机构(在本实施例中具体是圆柱体成像鼓201),成像面202置于圆柱体成像鼓201外表面上;用于驱动圆柱体成像鼓201带动成像面202沿其轴线203旋转(图中以Y表示)的电机,以及用于获取圆柱体成像鼓201的旋转角度的旋转编码器。
曝光装置211和用于承载曝光装置211沿图中X方向(与圆柱体成像鼓201的轴线203相平行)移动曝光的第二运动机构212;其中,曝光装置211包括作为光源的激光器、光学裂束系统和一组联动的曝光模块215,曝光模块215包括激光成像器件217和成像镜片218,各曝光模块215可以是等间距分布;第二运动机构212包括两根线性滑轨218、滚珠丝杆219、伺服马达220和光栅尺221。
影像检测装置231和第三运动机构232;第三运动机构232用于承载影像检测装置231进行移动,使影像检测装置231分别对各曝光模块215在成像面202上各自的规定位置处的曝光影像进行检测,获得各曝光模块215在各自的规定位置处的实际曝光位置。其中,影像检测装置231包括影像传感器233、反射镜234和透镜235;第三运动机构232包括两根线性滑轨236、滚珠丝杆237、伺服马达238和光栅尺239。其中,影像传感器233的类型可以是CCD、CMOS等。
本实施例的成像装置还包括控制模块,用于根据该组联动的曝光模块215在成像面202上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块215在成像面202上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块215在成像面202上进行曝光。其中,控制模块包括图像处理模块和输出接口;图像处理模块用于根据待成像图像和该组联动的曝光模块215在成像面202上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块215在成像面202上的曝光位置偏差的曝光控制信息,输出接口用于向各激光成像器件217实时输出根据对应的曝光控制信息确定的曝光控制信号。
如图4所示,在实际成像过程中,由于加工装配及系统误差的影响,曝光模块在成像面上形成的实际曝光影像相对于理想曝光影像可能会出现位置上的偏差,在图4中示出具有5个曝光模块的情况,其中a1、a2、a3、a4、a5分别是曝光模块的理想初始曝光位置,而a1′、a2′、a3′、a4′、a5′分别是曝光模块的实际初始曝光位置,可以看出,由于中间两个曝光模块的实际曝光位置偏差,会导致成像后的图像中如图4所示出的空白区域、错位区域、重叠区域等缺陷。为了对成像后的图像中的上述缺陷进行校正,通常需要对曝光模块的实际曝光位置进行检测。在本发明实施例中,为对各曝光模块的实际曝光位置进行检测,可以先规定一个位置(例如可以是曝光模块的初始位置),使各曝光模块在初始位置处分别在成像面上进行一次曝光,成像装置中设置了影像检测装置和第二运动机构,第二运动机构承载影像检测装置沿图中X方向移动,使影像检测装置依次移动到各曝光模块的理想初始位置,对该处的曝光影像进行检测,获得相应曝光模块在该处的实际曝光位置。由于本发明实施例中,可以通过移动影像检测装置,使影像检测装置能够分别对各曝光模块的曝光影像进行检测,与现有技术中采用位置固定的传感器同时检测所有曝光模块的曝光影像相比,可以提高检测的准确性。
参考图2至图4,描述本实施例成像装置的成像原理:图像处理模块根据待成像图像和影像检测装置所检测的各曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息(将在后面本发明方法实施例中详细描述),所生成的曝光控制信息与相应数量的位置上连续的曝光模块一一对应,使各曝光模块分别完成所关联的像素区域的曝光成像,各曝光模块在成像面上形成的曝光影像拼接在一起后,形成所述待成像图像的完整的曝光影像,该影像中消除了图4中所示出的空白区域、错位区域以及重叠区域。在曝光装置中,光学裂束系统将激光器产生的单束原始激光分裂成多束,分裂后的多束激光与各曝光模块一一对应,其中各激光成像器件按照控制模块的输出接口输出的当前待曝光像素的曝光控制信号,对输入到本曝光模块的激光束进行调制,使调制后的激光束的能量/强度与所述待曝光像素的亮暗等特征相符,调制后的激光束再经成像镜片聚焦后沿垂直于圆柱体成像鼓的轴线的方向,照射到成像面上,完成一次曝光。通过圆柱体成像鼓带动成像面沿其轴线的旋转运动(图中Y方向),结合各曝光模块沿X方向的直线运动,完成对各像素区域中所有像素的曝光。
在本发明实施例中,根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,并根据该信息控制曝光模块的曝光,本发明实施例只需要通过软件补偿的方式即可以对曝光模块的曝光位置偏差进行自动校正,而不需要对曝光模块的机械或硬件电路做任何改动。
可以理解的,在本发明实施例中,也可以采用其他方式获得曝光模块的实际曝光位置,例如可以采用固定的影像传感器对各曝光模块的曝光位置进行检测等。
在本发明更多实施例中,也可以用半透射、半反射镜代替影像检测装置中的反射镜,或者,影像检测装置中的反射镜的镜面上可以开有至少一个孔。
在本发明更多实施例中,成像装置也可以采用内鼓型或平面型。
在本发明更多实施例中,成像装置还可以包括显示模块,影像检测装置检测到曝光模块的实际曝光位置后,可以在显示模块上显示该实际曝光位置的信息。
下面对本发明提供的曝光影像偏差的校正方法的实施例进行描述。
本发明曝光影像偏差的校正方法实施例一:本实施例给出本发明曝光影像偏差的校正方法的基本流程,本实施例方法包括:
A1、根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息。
A2、按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光。
本实施例可以是对多个曝光模块的曝光影像偏差进行校正,此时流程为:根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,其中所生成的曝光控制信息与各曝光模块一一对应;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光。
通常情况下,在成像面上的成像可以分为两个方向,以下分别称为成像面的第一成像方向和成像面的第二成像方向,该两个方向一般是相互垂直的,但并不限于此。具体到本发明实施例中,所述成像面的第一成像方向可以是水平方向(图4中示出的X方向,与图2、3中示出的X方向一致),所述成像面的第二成像方向可以是垂直方向(如图4中示出的Z方向,与图2、3示出的Y方向对应),参考图4,可以看出曝光模块在成像面上的实际曝光位置偏差包括X方向和Z方向两个方向的偏差,X方向的偏差通常会产生图中所示的空白区域和重叠区域,而Z方向的偏差通常会产生图中所示的错位区域,以下分别就这两种情况对本发明曝光影像偏差的校正方法的实施例进行更详细的说明。
参考图5和图6,对本发明曝光影像偏差的校正方法实施例二进行说明。本实施例可以对曝光模块在X方向上的曝光位置偏差进行校正,从而消除由于该偏差在最终的成像图像中所产生的空白区域和重叠区域。本实施例方法包括:
B1、根据各联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正各曝光模块在X方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息,其中所生成的曝光控制信息与各曝光模块一一对应。
B2、按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光。
其中,B1具体包括:
B11、根据各曝光模块的实际曝光位置a1′、a2′、a3′、a4′、a5′,获得各曝光模块与X方向上的相邻曝光模块的实际距离dx1、dx2、dx3和dx4,并在所获得的实际距离中确定最大距离D2,其中有D2=dx1=dx4。
B12、根据所获得的各曝光模块与相邻曝光模块在所述水平方向上的实际距离,将待成像图像在X方向上进行分像,使各曝光模块对应的分像子图像(图5中的分区21、分区22、分区23和分区24)在X方向上的尺寸与该曝光模块与相邻曝光模块在X方向上的实际距离相一致。
B13、对各曝光模块对应的分像子图像,分别判断其在X方向上的尺寸是否达到所述最大距离,若是,则以该分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息;若否,则相对于X方向,在该分像子图像的后面填补空白区域,使填补后的分像子图像在X方向上的尺寸与所述最大距离相一致,以该填补后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
参见图5和图6,dx1和dx4均达到最大距离D1,因此可以直接以分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息,而对于dx2和dx3,则需要填补空白区域K2、K3,并以填补后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
图5下半部示出各曝光模块按照图6示出的曝光控制信息进行曝光后的曝光影像,可以看出,已经可以消除图4中示出的空白区域,并且,由于影像区22′和影像区23′间,以及影像区23′和影像区24′间的相交部分事实上是空白像素区域与有效像素区域的重叠,因此也可以消除图4中示出的的重叠区域。
本发明曝光影像偏差的校正方法实施例三:参考图7示出的本实施例用于校正Y方向的曝光位置偏差的曝光控制信息示意图和图8的校正Y方向的偏差后的实际曝光影像示意图进行说明。本实施例可以对曝光模块在Z方向上的曝光位置偏差进行校正,从而消除由于该偏差在最终的成像图像中所产生的错位区域。本实施例方法包括:
C1、根据各曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正各曝光模块在Z方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息,其中所生成的曝光控制信息与各曝光模块一一对应。
C2、按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光。
其中,C1具体包括:
C11、根据各曝光模块的实际曝光位置a1′、a2′、a3′、a4′、a5′,获得各曝光模块在Z方向上,相对于在该方向上实际曝光位置偏移最远(a2′)的曝光模块的实际距离dy12、dy32、dy42,并在所获得的实际距离中确定最大距离D3,其中有D3=dy32。
C12、相对于Y方向,在曝光模块各自在X方向上的分像子图像的前面填补第一空白区域KA11、KA13、KA14,所填补的第一空白区域在Z方向上的尺寸与该曝光模块在Z方向上,相对于在Z方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离相一致。
C13、相对于Z方向,在曝光模块各自经填补第一空白区域后的分像子图像的后面填补第二空白区域KB11、KB12、KB14,使填补后的分像子图像在Z方向上的尺寸,和未经填补第一空白区域前分像子图像在Z方向上的尺寸L与所述最大距离D3之和相一致,以该填补第二空白区域后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
图7示出各曝光模块按照图8示出的曝光控制信息进行曝光后的曝光影像,可以看出,已经可以消除Y方向上的错位区域。
对本发明曝光影像偏差的校正方法实施例四:其中参考图9示出的本实施例用于校正Y方向的曝光位置偏差的曝光控制信息示意图和图10的校正Y方向的偏差后的实际曝光影像示意图进行说明。本实施例可以将本发明方法实施例二和三相结合,以对曝光模块在X方向和Z方向上的曝光位置偏差均进行校正,本实施例方法包括:
D1、根据各联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正各曝光模块在X方向和Z方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息,其中所生成的曝光控制信息与各曝光模块一一对应。
D2、按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光。
其中,D1具体包括:
D11、根据各曝光模块的实际曝光位置a1′、a2′、a3′、a4′、a5′,获得各曝光模块与X方向上的相邻曝光模块的实际距离dx1、dx2、dx3和dx4,在所获得的实际距离中确定最大距离D2,其中有D2=dx1=dx4。以及获得各曝光模块在Z方向上,相对于在该方向上实际曝光位置偏移最远(a2′)的曝光模块的实际距离dy1、dy3、dy4,并在所获得的实际距离中确定最大距离D3,其中有D3=dy3。
D12、根据所获得的各曝光模块与相邻曝光模块在所述水平方向上的实际距离,将待成像图像在X方向上进行分像,使各曝光模块对应的分像子图像(图5中的分区21、分区22、分区23和分区24)在X方向上的尺寸与该曝光模块与相邻曝光模块在X方向上的实际距离相一致。
D13、对各曝光模块对应的分像子图像,分别判断其在X方向上的尺寸是否达到所述最大距离,若是,则以该分像子图像为处理对象,直接执行D14;若否,则相对于X方向,在该分像子图像的后面填补空白区域,使填补后的分像子图像在X方向上的尺寸与所述最大距离相一致,以该填补后的分像子图像为处理对象执行D14。
D14、相对于Y方向,在D13中确定的处理对象前面填补第一空白区域KC11、KC13、KC14,所填补的第一空白区域在Z方向上的尺寸与该曝光模块在Z方向上,相对于在Z方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离相一致。
D15、相对于Z方向,在曝光模块各自经填补第一空白区域后的分像子图像的后面填补第二空白区域KD11、KD12、KD14,使填补后的分像子图像在Z方向上的尺寸,和未经填补第一空白区域前分像子图像在Z方向上的尺寸L与所述最大距离D3之和相一致,以该填补第二空白区域后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
图10示出各曝光模块按照图9示出的曝光控制信息进行曝光后的曝光影像,可以看出,已经可以消除X方向上的空白区域和重叠区域,以及Y方向上的错位区域。
本发明曝光影像偏差的校正方法实施例五:本实施例中提供对曝光模块在Z方向上的曝光位置偏差进行校正的另一实施例,本实施例与本发明方法实施例三类似,区域之处在于,在本实施例中,步骤C1具体包括:
E1、根据各曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块在Z方向上,相对于Z方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离。
E2、将待成像图像在X方向上进行分像,生成与各曝光模块一一对应的分像子图像。
E3、根据所获得的各曝光模块在Z方向上,相对于Z方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离,确定各曝光模块的工作时延;对各曝光模块,分别以其工作时延和分像子图像作为该曝光模块的曝光控制信息;其中,所述工作时延使得相应的曝光模块在接收到启动命令后,延迟该工作时延所指示的时长后才启动。
其中,所述曝光模块的工作时延是通过将曝光模块在Z方向上,相对于在Z方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离与用于承载所述成像面在Z方向上移动的运动机构的线速度相除所得到的。
在本发明曝光影像偏差的校正方法的更多实施例中,可以将本发明方法实施例二与实施例五结合,对曝光模块在X方向和Z方向上的曝光位置偏差均进行校正。
在本发明方法更多实施例中,在生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息之前还可以通过以下方法获得曝光模块的实际曝光位置:多个联动的曝光模块分别在成像面上各自的规定位置(如初始位置)处进行曝光;以及通过移动影像检测装置,使所述影像检测装置分别对所述多个曝光模块在所述成像面上各自的规定位置处的曝光影像进行检测,获得各曝光模块在所述各自的规定位置处的实际曝光位置。
在本发明成像装置中曝光影像的检测方法的实施例中,曝光模块、成像面、影像检测装置等可以具有本发明成像装置的实施例中的特征。
以上对本发明实施例所提供的曝光影像偏差的校正方法和成像装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (15)
1.一种曝光影像偏差的校正方法,其特征在于,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,具体是:根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,所述曝光控制信息与各曝光模块一一对应;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光具体是:按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块与所述成像面的第一成像方向上的相邻曝光模块间的实际距离,并在所获得的实际距离中确定最大距离;
根据所述实际距离,将待成像图像在所述第一成像方向上进行分像,使各曝光模块对应的分像子图像在所述第一成像方向上的尺寸,与该曝光模块和所述第一成像方向上的相邻曝光模块间的实际距离相一致;
对各曝光模块对应的分像子图像,分别判断其在所述第一成像方向上的尺寸是否达到所述最大距离,若是,则以该分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息;若否,则相对于所述第一成像方向,在该分像子图像的后面填补空白区域,使填补后的分像子图像在所述第一成像方向上的尺寸与所述最大距离相一致,以该填补后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
2.一种曝光影像偏差的校正方法,其特征在于,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,具体是:根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,所述曝光控制信息与各曝光模块一一对应;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光具体是:按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面的第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块在所述成像面的第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离,并在所获得的实际距离中确定最大距离;
相对于所述第二成像方向,在曝光模块各自在第一成像方向上的分像子图像的前面填补第一空白区域,所填补的第一空白区域在所述第二成像方向上的尺寸与该曝光模块在所述第二成像方向上,相对于所述偏移最远的曝光模块的实际距离相一致;
相对于所述第二成像方向,在曝光模块各自经填补第一空白区域后的分像子图像的后面填补第二空白区域,使填补后的分像子图像在所述第二成像方向上的尺寸,和未经填补第一空白区域前分像子图像在第二成像方向上的尺寸与所述最大距离之和相一致,以该填补第二空白区域后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
3.一种曝光影像偏差的校正方法,其特征在于,包括:
根据曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,具体是:根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息,所述曝光控制信息与各曝光模块一一对应;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光;
按照所述曝光控制信息,控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光具体是:按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离;
将待成像图像在成像面的第一成像方向上进行分像,生成与所述多个曝光模块一一对应的分像子图像;
根据所获得的各曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离,确定各曝光模块的工作时延,对各曝光模块,分别以其工作时延和分像子图像作为该曝光模块的曝光控制信息;其中,所述工作时延使得相应的曝光模块在接收到启动命令后,延迟该工作时延所指示的时长后才启动;其中,所述曝光模块的工作时延是通过将曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离与用于承载所述成像面在所述第二成像方向上移动的运动机构的线速度相除所得到的。
4.如权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,在根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息之前还包括:
多个联动的曝光模块分别在成像面上各自的规定位置处进行曝光;
通过移动影像检测装置,使所述影像检测装置分别对所述多个曝光模块在所述成像面上各自的规定位置处的曝光影像进行检测,获得各曝光模块在所述各自的规定位置处的实际曝光位置。
5.如权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,所述曝光模块包括成像器件,所述成像器件的类型具体是激光成像器件。
6.一种成像装置,其特征在于,包括成像面和用于对所述成像面进行曝光的多个联动的曝光模块;所述成像装置还包括控制模块,用于根据所述多个曝光模块在所述成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块与相邻曝光模块在所述成像面的第一成像方向上的实际距离,并在所获得的实际距离中确定最大距离;
根据所述实际距离,将待成像图像在所述第一成像方向上进行分像,使各曝光模块对应的分像子图像在所述第一成像方向上的尺寸,与该曝光模块与相邻曝光模块在所述第一成像方向上的实际距离相一致;
对各曝光模块对应的分像子图像,分别判断其在所述第一成像方向上的尺寸是否达到所述最大距离,若是,则以该分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息;若否,则相对于所述第一成像方向,在该分像子图像的后面填补空白区域,使填补后的分像子图像在所述第一成像方向上的尺寸与所述最大距离相一致,以该填补后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
7.如权利要求6所述的成像装置,其特征在于,所述成像装置还包括影像检测装置和第三运动机构,所述第三运动机构承载所述影像检测装置进行移动,使所述影像检测装置分别对所述多个曝光模块在所述成像面上各自的规定位置处的曝光影像进行检测,获得各曝光模块在各自的规定位置处的实际曝光位置。
8.如权利要求6所述的成像装置,其特征在于,所述曝光模块包括成像器件,所述成像器件的类型具体是激光成像器件。
9.一种成像装置,其特征在于,包括成像面和用于对所述成像面进行曝光的多个联动的曝光模块;所述成像装置还包括控制模块,用于根据所述多个曝光模块在所述成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
根据多个联动的曝光模块在成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面的第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块在所述成像面的第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离,并在所获得的实际距离中确定最大距离;
相对于所述第二成像方向,在曝光模块各自在第一成像方向上的分像子图像的前面填补第一空白区域,所填补的第一空白区域在所述第二成像方向上的尺寸与该曝光模块在所述第二成像方向上,相对于所述偏移最远的曝光模块的实际距离相一致;
相对于所述第二成像方向,在曝光模块各自经填补第一空白区域后的分像子图像的后面填补第二空白区域,使填补后的分像子图像在所述第二成像方向上的尺寸,和未经填补第一空白区域前分像子图像在第二成像方向上的尺寸与所述最大距离之和相一致,以该填补第二空白区域后的分像子图像作为相应曝光模块的曝光控制信息。
10.如权利要求9所述的成像装置,其特征在于,所述成像装置还包括影像检测装置和第三运动机构,所述第三运动机构承载所述影像检测装置进行移动,使所述影像检测装置分别对所述多个曝光模块在所述成像面上各自的规定位置处的曝光影像进行检测,获得各曝光模块在各自的规定位置处的实际曝光位置。
11.如权利要求9所述的成像装置,其特征在于,所述曝光模块包括成像器件,所述成像器件的类型具体是激光成像器件。
12.一种成像装置,其特征在于,包括成像面和用于对所述成像面进行曝光的多个联动的曝光模块;所述成像装置还包括控制模块,用于根据所述多个曝光模块在所述成像面上的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息;以及按照所述曝光控制信息,控制相应的曝光模块在所述成像面上进行曝光;
所述生成能够校正曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息包括:生成能够校正曝光模块在所述成像面的第一成像方向或第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息;
所述根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,生成能够校正曝光模块在第二成像方向上的曝光位置偏差的曝光控制信息具体包括:
根据多个联动的曝光模块的实际曝光位置,获得各曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离;
将待成像图像在成像面的第一成像方向上进行分像,生成与所述多个曝光模块一一对应的分像子图像;
根据所获得的各曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离,确定各曝光模块的工作时延,对各曝光模块,分别以其工作时延和分像子图像作为该曝光模块的曝光控制信息;其中,所述工作时延使得相应的曝光模块在接收到启动命令后,延迟该工作时延所指示的时长后才启动;其中,所述曝光模块的工作时延是通过将曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离与用于承载所述成像面在所述第二成像方向上移动的运动机构的线速度相除所得到的。
13.如权利要求12所述的成像装置,其特征在于:
所述成像装置还包括承载所述成像面在所述第二成像方向上移动的第一运动机构;
所述曝光模块的工作时延是通过将曝光模块在所述第二成像方向上,相对于在第二成像方向上实际曝光位置偏移最远的曝光模块的实际距离与用于承载所述成像面在所述第二成像方向上移动的第一运动机构的线速度相除所得到的。
14.如权利要求12所述的成像装置,其特征在于,所述成像装置还包括影像检测装置和第三运动机构,所述第三运动机构承载所述影像检测装置进行移动,使所述影像检测装置分别对所述多个曝光模块在所述成像面上各自的规定位置处的曝光影像进行检测,获得各曝光模块在各自的规定位置处的实际曝光位置。
15.如权利要求12所述的成像装置,其特征在于,所述曝光模块包括成像器件,所述成像器件的类型具体是激光成像器件。
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP6976695B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2021-12-08 | 株式会社東芝 | 発光基板、プリントヘッドおよび画像形成装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6144393A (en) * | 1997-07-18 | 2000-11-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Image forming apparatus having scan position correction |
CN1411412A (zh) * | 2000-11-21 | 2003-04-16 | 埃塔斯技术有限公司 | 图像偏移补偿方法和系统 |
CN1701956A (zh) * | 2004-04-30 | 2005-11-30 | 海德堡印刷机械股份公司 | 用于制版的记录头的校准方法 |
CN1819922A (zh) * | 2003-07-10 | 2006-08-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于将图案准确定位在基片上的方法和设备 |
US7126624B2 (en) * | 2001-07-04 | 2006-10-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording method and image recording apparatus |
-
2008
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6144393A (en) * | 1997-07-18 | 2000-11-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Image forming apparatus having scan position correction |
CN1411412A (zh) * | 2000-11-21 | 2003-04-16 | 埃塔斯技术有限公司 | 图像偏移补偿方法和系统 |
US7126624B2 (en) * | 2001-07-04 | 2006-10-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording method and image recording apparatus |
CN1819922A (zh) * | 2003-07-10 | 2006-08-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于将图案准确定位在基片上的方法和设备 |
CN1701956A (zh) * | 2004-04-30 | 2005-11-30 | 海德堡印刷机械股份公司 | 用于制版的记录头的校准方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014173035A1 (zh) * | 2013-04-27 | 2014-10-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 偏差补正方法和装置 |
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