CN101567287B - 一种场致发射显示器下基板结构的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种场致发射显示器，具体涉及一种场致发射显示器下基板结构的制作方法。先在下基板上制得栅极电极层，再在栅极电极层上印刷整面水溶性绝缘介质层，再在烧结后的水溶性绝缘介质层上印刷整面感光性绝缘介质层，然后在感光性绝缘介质层上印刷整面阴极电极层，再利用菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层和整面感光性绝缘介质层进行一次性曝光显影，使整面阴极电极层和整面感光性绝缘介质层同时形成图形，利用光刻后阴极电极层作为掩膜，对整面水溶性绝缘介质层进行湿法刻蚀，使水溶性绝缘介质层形成与阴极电极层相同图形。本发明有双绝缘介质层，避免了单一介质层无法有效隔离栅极电极层和阴极电极层的困难。

Description

一种场致发射显示器下基板结构的制作方法 

一、技术领域

本发明涉及一种场致发射显示器，具体涉及一种场致发射显示器下基板结构的制作方法。 

二、背景技术

场致发射显示器件作为新型的显示技术，一些技术瓶颈仍不能得到有效的解决。其中高效的器件结构设计与制作是一个典型的问题。简单的二极结构场致发射显示屏，其制作工艺简单，但一方面阳极需要高压才能给电子足够能量轰击荧光粉实现高亮度，另一方面阳极电极又充当调制电极，连接外围驱动电路又需要低电压，因此存在发光亮度和驱动电压之间的不可调和的矛盾，必须在二极结构的基础上引入栅极结构，由栅极进行电压调制，由阳极控制亮度。 

由于控制栅极和阴极之间的距离很近，因此在控制栅极上施加相对比较低的电压，就容易在阴极的顶端形成强大的电场强度。但是这种新型三电极结构又为场致发射显示器的制作带来了新的挑战，为了使控制栅极和阴极电极之间的距离尽可能小的情况下，还要防止两极导通，就对中间的绝缘介质层提出了相当大的要求。在目前的技术下，常见的制作绝缘介质层的方法有丝网印刷法、光刻法和湿刻法。丝网印刷法制作的介质粉层，其厚度等于丝网与衬底之间的间隙，只要保证丝网与衬底的平行度，就能获得比较均匀的粉层，粗糙度在10μm以下，同时，还可以制作图形化的丝网模板，方便地实现绝缘介质的图形化。 光刻法是丝网印刷法搭配掩膜进行曝光显影来实现介质的图形化，其所得图形精度高，线条均匀圆滑，适合大面积介质图形的制作。湿刻法也是丝网印刷法搭配掩膜对绝缘介质进行刻蚀来得到图形化的介质层，不同的是光刻法是利用紫外光进行的，而湿刻法需要一定的药液进行介质层刻蚀，两者同样适合大面积介质图形的制作，精度较高。但是这三种方法制作场发射显示器都存在着弊端：丝网印刷法得到的介质图形精度不高，由于介质浆料流动性较强，经常会造成线条粘结的情况，故不适合大尺寸、高精度面板的制作；光刻法可以实现介质图形和阴极电极图形的一次性曝光显影，但是由于介质浆料的收缩率远大于银浆的收缩率，造成其共同烧结后，阴极电极层向下包住绝缘介质层，与栅极电极层接触形成短路，而且感光介质浆料不耐多次烘烤，不利于多次印刷干燥，其直接后果是介质层过薄而造成高压击穿；湿刻法则由于多做一次掩膜处理，所以存在对位困难及工序复杂的问题，而且阴极电极层在烧结后，脱离绝缘介质层向上卷起，在后续阴极材料处理时容易压断阴极电极的尖端从而造成阴极电极层塌陷短路。现有技术制作的场致发射显示器的绝缘介质层的方法不能满足大型玻璃基板和高清晰面板的制作。 

三、发明内容

本发明提供一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，以克服现有技术中场致发射显示器的绝缘介质层的方法不能满足大型玻璃基板和高清晰面板的制作的缺点。 

为达到上述目的，本发明采用的技术方案为： 

一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，包括以下操作步骤： 

①先在场致发射显示器的下基板1上制得包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层2； 

②再在栅极电极层2上印刷整面水溶性绝缘介质层3后，对水溶性绝缘介质层3进行干燥后高温烧结； 

③在烧结后的水溶性绝缘介质层3上印刷整面感光性绝缘介质层4，烘干； 

④然后在感光性绝缘介质层4上印刷整面阴极电极层5，烘干；所述的阴极电极层5材料为感光性银浆； 

⑤再利用阴极电极层5的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4进行一次性曝光显影，使整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4同时形成由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层5和由多个平行条状感光性绝缘介质组成的感光性绝缘介质层4；所述感光性绝缘介质层4图形与阴极电极层5图形相同，且每个条状阴极电极层5重叠在每个条状感光性绝缘介质层4之上；所述光刻后的阴极电极层5与栅极电极层2垂直交叉； 

⑥利用步骤⑤得到的光刻后阴极电极层5作为掩膜，对整面水溶性绝缘介质层3进行湿法刻蚀，使水溶性绝缘介质层3形成与阴极电极层5相同图形的水溶性绝缘介质层3； 

⑦最后对阴极电极层5和感光性绝缘介质层4进行一次性烧结。 

上述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，所述步骤②中： 

对水溶性绝缘介质层3先在110～130℃，常压下，烘干10～15分钟，再在580℃，常压下，烧结20分钟； 

所述步骤③中： 

烘干是在80～110℃，常压下，烘干10～15分钟； 

所述步骤④中： 

烘干是在80～110℃，常压下，烘干20～30分钟； 

所述步骤⑤中： 

曝光显影的曝光能量为600～800mJ，显影液是浓度为0.3％～0.5％的碳酸钠溶液； 

所述步骤⑥中： 

湿法刻蚀采用的药液为浓度为0.3％～0.5％的稀硝酸溶液，溶液温度为35℃～40℃，刻蚀时间为100秒～130秒； 

所述步骤⑦中： 

将阴极电极层5和感光性绝缘介质层4同时在580℃，常压下，进行20分钟一次性烧结。 

上述步骤①中，在场致发射显示器的下基板1上利用丝网印刷法直接印刷包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层2，然后在80～110℃，常压下，烘干20～30分钟；再在570℃，常压下，烧结20分钟；所述的栅极电极层材料为银浆。 

上述步骤①中，先在场致发射显示器的下基板1上印刷整面栅极电极层2， 然后在80～110℃，常压下，烘干20～30分钟；再利用栅极电极层2的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面栅极电极层2进行曝光显影，使整面栅极电极层2形成包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层2，然后对光刻后的栅极电极层2在570℃，常压下，烧结20分钟；所述的栅极电极层2材料为感光银浆，曝光显影的曝光能量为600～800mJ，显影液是浓度为0.3％～0.5％的碳酸钠溶液。 

上述步骤②中，所述栅极电极层2上印刷有1层或2层整面水溶性绝缘介质层3。 

上述步骤③中，所述烧结后的水溶性绝缘介质层3上印刷有1层或2层整面感光性绝缘介质层4。 

上述的感光性绝缘介质包括以下组分 

重量百分比为2.4％～6％的溶剂， 

重量百分比为12％～25％的树脂， 

重量百分比为2％～5％的光敏单体， 

重量百分比为5％～15％的光引发剂， 

重量百分比为50％～76％的无铅玻璃粉； 

其中 

所述溶剂为2，2，4-三甲基-1.3戊二醇单异丁酸酯； 

所述树脂为丙烯酸酯类、甲基丙烯酸甲酯和偶氮二异丁腈共聚制成的树脂； 

所述光敏单体为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯； 

所述光引发剂为2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮。 

上述的感光性绝缘介质还包括重量百分比为0.3％～0.5％的消泡剂和 0.1％～0.3％的表面活性剂。 

本发明的优点为：本发明利用感光性绝缘介质和水溶性绝缘介质组成的双绝缘介质层，避免了单一介质层无法有效隔离栅极电极层和阴极电极层的困难。由于阴极电极层和感光性绝缘介质层只需一次性曝光得到阴极电极层图形，再利用阴极图形做掩膜，利用湿法刻蚀使水溶性绝缘介质形成与阴极电机层同样的图形，所以只需对水溶性绝缘介质层一次对位，所需对位精度要求不高，适合于大面积面板的制作。利用本发明提供方法制作出来的双绝缘介质层厚度合适，平整度高，在栅极电极层和阴极电极层之间的距离尽可能小的情况下，有效地隔离了栅极电极与阴极电极。尤其该下基板烧结后，由于具有双介质结构，下层的水溶性绝缘介质经过烧结，收缩不大，有效隔绝栅极电极层和阴极电极层，而上层的感光性绝缘介质层和阴极电极层一次性烧结，介质收缩较大，阴极电极层稍微包覆感光性绝缘介质层，这样避免了阴极电极层向外翻卷的不利情况。并且感光性绝缘介质层与阴极电极层一次性曝光显影，再利用阴极电极层做掩膜，湿法刻蚀水溶性绝缘介质层，节省了工艺步骤，节约生产成本，简单容易实施。 

四、附图说明

图1为本发明通过步骤(1)得到的下基板结构示意图； 

图2为本发明通过步骤(2)～(4)得到的下基板结构示意图； 

图3为本发明通过步骤(5)得到的下基板结构示意图； 

图4为本发明通过步骤(6)得到的下基板结构示意图； 

图5为图1的俯视图； 

图6为图4的俯视图； 

1-下基板，2-栅极电极层，3-水溶性绝缘介质层，4-感光性绝缘介质层，5-阴极电极层。 

五.具体实施方式

为进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及实施例，对依据本发明提出的场致发射显示器结构进行详细说明： 

实施例1 

一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，包括以下操作步骤： 

如图1和图5所示：(1)先在经丙酮超声清洗后的场致发射显示器的下基板1上印刷整面栅极电极层2，然后在80℃，常压下，烘干30分钟。再利用栅极电极层2的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面栅极电极层2进行曝光显影，使整面栅极电极层2形成包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层2；然后对光刻后的栅极电极层2在570℃，常压下，烧结20分钟。所述的曝光能量为600mJ，显影液采用的是0.3％的碳酸钠溶液。所述的栅极电极层2的材料为感光银浆。 

如图2所示：(2)再在烧结后的栅极电极层2上印刷整面水溶性绝缘介质层3，先对水溶性绝缘介质层3在110℃，常压下，烘干15分钟，再在580℃，常压下，烧结20分钟； 

(3)在烧结后的水溶性绝缘介质层3上印刷整面感光性绝缘介质层4，然后在80℃，常压下，烘干15分钟； 

(4)然后在感光性绝缘介质层4上印刷整面阴极电极层5，在80℃，常压下，烘干30分钟；所述的阴极电极层5材料为感光银浆。 

如图3所示：(5)再利用阴极电极层5的菲林图形模型做掩膜，通过光刻 法对整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4进行一次性曝光显影，使整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4同时形成由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层5和由多个平行条状感光性绝缘介质组成的感光性绝缘介质层4；感光性绝缘介质层4图形与阴极电极层图形4相同，且每个条状阴极电极层5重叠在每个条状感光性绝缘介质层4之上；所述阴极电极层5与栅极电极2层垂直交叉；其中曝光显影的曝光能量为600mJ，显影液是浓度为0.3％的碳酸钠溶液；在此步骤中用一曝光源(紫外灯)对感光性绝缘介质层4和阴极电极层5进行选择性曝光，使得曝光区中的抗蚀剂发生交联，交联使得抗蚀剂不溶于抗蚀剂显影化合物，所以在显影时曝光区的图案遗留下来，形成我们所需的由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层图形，由于本发明使用的感光性绝缘介质体系为碱溶性体系，所以利用浓度为0.3％的碳酸钠溶液可实现感光性绝缘介质层4和阴极电极层5的图形化。 

如图4和图6所示：(6)利用步骤(5)得到的光刻后阴极电极层5作为掩膜，对水溶性绝缘介质层3进行湿法刻蚀，使水溶性绝缘介质层3形成与阴极电极层5相同图形的介质层；其中湿法刻蚀采用的药液为浓度为0.3％的稀硝酸溶液，溶液温度为40℃，刻蚀时间为100秒～130秒。在此步骤中利用光刻法形成的多个平行条状阴极电极层做掩膜，对烧结后的水溶性绝缘介质层3进行刻蚀，刻蚀液为0.3％的稀硝酸溶液，其中稀硝酸起催化作用，刻蚀时长为100-130s，最终得到栅极电极层2与阴极电极层5垂直交叉的背栅结构。 

(7)最后将阴极电极层5和感光性绝缘介质层4同时在580℃，常压下，进行20分钟一次性烧结。再经过580°的高温烧结后，阴极电极层5略微向下包住感光性绝缘介质层4，但未接触到水溶性绝缘介质层3，器件结构优良，在200V 的高压下未发生绝缘介质击穿现象，适合于大面积、高清晰场发射显示面板的制作。 

上述的水溶性绝缘介质层3指的是该绝缘介质浆料可与水反应，稀硝酸起催化作用，该绝缘介质可在烧结后进行湿法刻蚀的水溶性绝缘介质层。例如大洲电子材料的DGP-607W型或DGP-230R型介质浆料。 

上述的感光性绝缘介质为由以下重量百分比组分组成： 

4％的溶剂，12％的树脂，2％的光敏单体，5.6％的光引发剂，76％的无铅玻璃粉；0.3％的消泡剂，0.1％的表面活性剂。 

其中 

所述溶剂为2，2，4-三甲基-1.3戊二醇单异丁酸酯，也就是Texanol酯醇； 

所述树脂为丙烯酸酯类、甲基丙烯酸甲酯和偶氮二异丁腈(AIBN)共聚制成的树脂； 

所述光敏单体为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯； 

所述光引发剂为2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮，即紫外光引发剂907； 

所述消泡剂为硅酮类物质，如羟基二甲基硅氧烷，以此来控制、防止或消除涂料中的各种泡沫。 

所述表面活性剂分布于该溶剂之中，具有使粉体或微粒均匀分散于溶剂中的特性，本发明采用两种表面活性剂，分别为BYK171和BYK410，其质量比为1∶1，前者有助于浆料的流动性，后者防沉降，共同支撑此感光性绝缘介质粉体系。 

该感光性绝缘介质粉体涂料，其黏度控制在10000到30000cps之间，以适应 丝网印刷的需求。 

实施例2 

一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，包括以下操作步骤： 

如图1和图5所示：(1)先在经丙酮超声清洗后的场致发射显示器的下基板上1利用丝网印刷法直接印刷包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层2，在100℃，常压下，烘干20分钟，然后在570℃，常压下，烧结20分钟；所述的栅极电极层2材料为银浆。 

如图2所示：(2)再在烧结后的栅极电极层2上印刷第一层整面水溶性绝缘介质层3，先对水溶性绝缘介质层3在130℃，常压下，烘干10分钟，再在580℃，常压下，烧结20分钟后；再在第一层水溶性绝缘介质层3上再印刷第二层整面水溶性介质层3，将第二层水溶性绝缘介质层3在130℃，常压下，烘干10分钟，再在580℃，常压下，烧结20分钟； 

(3)在烧结后的水溶性绝缘介质层3上印刷第一层整面感光性绝缘介质层4，然后在100℃，常压下，烘干10分钟；再在第一层感光性绝缘介质层4上印刷第二层感光性绝缘介质层4，并在100℃，常压下，烘干10分钟。 

(4)然后在感光性绝缘介质层4上印刷整面阴极电极层5，在100℃，常压下，烘干30分钟；所述的阴极电极层为感光银浆。 

如图3所示：(5)再利用阴极电极层5的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4进行一次性曝光显影，使整面阴极电极层和整面感光性绝缘介质层同时形成由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层5和由多个平行条状感光性绝缘介质组成的感光性绝缘介质层4；感光性绝缘介质层4图形与阴极电极层5图形相同，且每个条状阴极电极层5重 叠在每个条状感光性绝缘介质层4之上；所述光刻后阴极电极层5与栅极电极层2垂直交叉；其中曝光显影的曝光能量为800mJ，显影液是浓度为0.5％的碳酸钠溶液。在此步骤中用一曝光源(紫外灯)对感光性绝缘介质层4和阴极电极层5进行选择性曝光，使得曝光区中的抗蚀剂发生交联，交联使得抗蚀剂不溶于抗蚀剂显影化合物，所以在显影时曝光区的图案遗留下来，形成我们所需的由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层图形，由于本发明使用的感光性绝缘介质体系为碱溶性体系，所以利用浓度为0.5％的碳酸钠溶液可实现感光性绝缘介质层和阴极电极层的图形化。 

如图4和图6所示，(6)利用步骤(5)得到的光刻后阴极电极层5作为掩膜，对水溶性绝缘介质层3进行湿法刻蚀，使水溶性绝缘介质层3形成与阴极电极层5相同图形的介质层；其中湿法刻蚀采用的药液为浓度为0.5％的稀硝酸溶液，溶液温度为42℃，刻蚀时间为100秒～130秒。在此步骤中利用光刻法形成的多个平行条状阴极电极层5做掩膜，对烧结后的水溶性绝缘介质层3进行刻蚀，刻蚀液为0.5％的稀硝酸溶液，其中稀硝酸起催化作用，刻蚀时长为100-130s，最终得到栅极电极层2与阴极电极层5交叉的背栅结构。 

(7)最后将阴极电极层5和感光性绝缘介质层4同时在580℃，常压下，进行20分钟一次性烧结。再经过580°的高温烧结后，阴极电极层略微向下包住感光性绝缘介质层，但未接触到水溶性绝缘介质层，器件结构优良，在200V的高压下未发生绝缘介质击穿现象，适合于大面积、高清晰场发射显示面板的制作。 

上述的水溶性绝缘介质层3指的是该绝缘介质浆料可与水反应，稀硝酸起催化作用，该绝缘介质可在烧结后进行湿法刻蚀的水溶性绝缘介质层。例如大洲电子材料的DGP-607W型或DGP-230R型介质浆料。 

上述的感光性绝缘介质为由以下重量比组分组成的：6％的溶剂，18％的树脂，5％的光敏单体，10.2％的光引发剂，60％的无铅玻璃粉，0.5％的消泡剂，0.3％的表面活性剂。 

其中 

所述溶剂为2，2，4-三甲基-1.3戊二醇单异丁酸酯，也就是Texanol酯醇； 

所述树脂为丙烯酸酯类、甲基丙烯酸甲酯和偶氮二异丁腈(AIBN)共聚制成的树脂； 

所述光敏单体为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯； 

所述光引发剂为2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮，即紫外光引发剂907； 

所述消泡剂为硅酮类物质，如羟基二甲基硅氧烷，以此来控制、防止或消除涂料中的各种泡沫。 

所述表面活性剂分布于该溶剂之中，具有使粉体或微粒均匀分散于溶剂中的特性，本发明采用两种表面活性剂，分别为BYK171和BYK410，其质量比为1∶1，前者有助于浆料的流动性，后者防沉降，共同支撑此感光性绝缘介质粉体系。 

该感光性绝缘介质粉体涂料，其黏度控制在10000到30000cps之间，以适应丝网印刷的需求。 

实施例3 

一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，包括以下操作步骤： 

如图1和图5所示：(1)先在经丙酮超声清洗后的场致发射显示器的下基板1上印刷整面栅极电极层2，然后在100℃，常压下，烘干20分钟。栅极电极层 的菲林图形模型，通过光刻法对整面栅极电极层2进行曝光显影，使整面栅极电极层2形成包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层2；然后将光刻后的栅极电极层2在570℃，常压下，烧结20分钟。所述的曝光能量为700mJ，显影液采用的是0.4％的碳酸钠溶液。所述的栅极电极层的材料为感光银浆。 

如图2所示：(2)再在烧结后的栅极电极层2上印刷第一层整面水溶性绝缘介质层3，先对水溶性绝缘介质层3在120℃，常压下，烘干12分钟，再在580℃，常压下，烧结20分钟后； 

(3)在烧结后的水溶性绝缘介质层3上印刷第一层整面感光性绝缘介质层4，然后在110℃，常压下，烘干12分钟；再在第一层感光性绝缘介质层4上印刷第二层感光性绝缘介质层4，并在100℃，常压下，烘干12分钟。 

(4)然后在感光性绝缘介质层4上印刷整面阴极电极层5，在110℃，常压下，烘干25分钟；所述的阴极电极层5为感光银浆。 

如图3所示：(5)再利用阴极电极层5的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4进行一次性曝光显影，使整面阴极电极层5和整面感光性绝缘介质层4同时形成由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层5和由多个平行条状感光性绝缘介质组成的感光性绝缘介质层4；感光性绝缘介质层4图形与阴极电极层5图形相同，且每个条状阴极电极层5重叠在每个条状感光性绝缘介质层4之上；所述阴极电极层5与栅极电极层2垂直交叉；其中曝光显影的曝光能量为700mJ，显影液是浓度为0.4％的碳酸钠溶液。在此步骤中用一曝光源(紫外灯)对感光性绝缘介质层4和阴极电极层5进行选择性曝光，使得曝光区中的抗蚀剂发生交联，交联使得抗蚀剂不溶于抗蚀剂显影化合物，所以在显影时曝光区的图案遗留下来，形成我们所需的由多 个平行条状阴极电极组成的阴极电极层图形，由于本发明使用的感光性绝缘介质体系为碱溶性体系，所以利用浓度为0.4％的碳酸钠溶液可实现感光性绝缘介质层4和阴极电极层5的图形化。 

如图4和图6所示：(6)利用步骤(5)得到光刻后阴极电极层5作为掩膜，对水溶性绝缘介质层3进行湿法刻蚀，使水溶性绝缘介质层3形成与阴极电极层5相同图形的介质层；其中湿法刻蚀采用的药液为浓度为0.4％的稀硝酸溶液，溶液温度为35℃，刻蚀时间为100秒～130秒。在此步骤中利用光刻法形成的多个平行条状阴极电极层5做掩膜，对烧结后的水溶性绝缘介质层3进行刻蚀，刻蚀液为0.4％的稀硝酸溶液，其中稀硝酸起催化作用，刻蚀时长为100～130s，最终得到栅极电极层2与阴极电极层5交叉的背栅结构。 

(7)最后将阴极电极层5和感光性绝缘介质层4同时在580℃，常压下，进行20分钟一次性烧结。再经过580°的高温烧结后，阴极电极层5略微向下包住感光性绝缘介质层4，但未接触到水溶性绝缘介质层3，器件结构优良，在200V的高压下未发生绝缘介质击穿现象，适合于大面积、高清晰场发射显示面板的制作。 

上述的水溶性绝缘介质层3指的是该绝缘介质浆料可与水反应，稀硝酸起催化作用，该绝缘介质可在烧结后进行湿法刻蚀的水溶性绝缘介质层。例如大洲电子材料的DGP-607W型或DGP-230R型介质浆料，实施例2里使用的是大洲电子材料的DGP-230R型水溶性绝缘介质浆料。 

上述的感光性绝缘介质为由以下重量比组分组成： 

5％的溶剂，25％的树脂，4.5％的光敏单体，15％的光引发剂，50％的无铅玻璃粉；0.2％的消泡剂，0.3％的表面活性剂。 

其中 

所述溶剂为2，2，4-三甲基-1.3戊二醇单异丁酸酯，也就是Texanol酯醇； 

所述树脂为丙烯酸酯类、甲基丙烯酸甲酯和偶氮二异丁腈(AIBN)共聚制成的树脂； 

所述光敏单体为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯； 

所述光引发剂为2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮，即紫外光引发剂907； 

所述消泡剂为硅酮类物质，如羟基二甲基硅氧烷，以此来控制、防止或消除涂料中的各种泡沫。 

所述表面活性剂分布于该溶剂之中，具有使粉体或微粒均匀分散于溶剂中的特性，本发明采用两种表面活性剂，分别为BYK171和BYK410，其质量比为1∶1，前者有助于浆料的流动性，后者防沉降，共同支撑此感光性绝缘介质粉体系。 

该感光性绝缘介质粉体涂料，其黏度控制在10000到30000cps之间，以适应丝网印刷的需求。 

Claims (8)

1.一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：包括以下操作步骤：

①先在场致发射显示器的下基板(1)上制得包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层(2)；

②再在栅极电极层(2)上印刷整面水溶性绝缘介质层(3)后，对水溶性绝缘介质层(3)进行烘干后高温烧结；

③在烧结后的水溶性绝缘介质层(3)上印刷整面感光性绝缘介质层(4)，烘干；

④然后在感光性绝缘介质层(4)上印刷整面阴极电极层(5)，烘干；所述的阴极电极层(5)材料为感光性银浆；

⑤再利用阴极电极层(5)的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层(5)和整面感光性绝缘介质层(4)进行一次性曝光显影，使整面阴极电极层(5)和整面感光性绝缘介质层(4)同时形成由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层(5)和由多个平行条状感光性绝缘介质组成的感光性绝缘介质层(4)；所述感光性绝缘介质层(4)图形与阴极电极层(5)图形相同，且每个条状阴极电极层(5)重叠在每个条状感光性绝缘介质层(4)之上；所述光刻后的阴极电极层(5)与栅极电极层(2)垂直交叉；

⑥利用步骤⑤得到的光刻后阴极电极层(5)作为掩膜，对整面水溶性绝缘介质层(3)进行湿法刻蚀，使水溶性绝缘介质层(3)形成与阴极电极层(5)相同图形的水溶性绝缘介质层(3)；

⑦最后对阴极电极层(5)和感光性绝缘介质层(4)进行一次性烧结。

2.根据权利要求1所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：所述步骤②中：

对水溶性绝缘介质层(3)先在110～130℃，常压下，烘干10～15分钟，

再在580℃，常压下，烧结20分钟；

所述步骤③中：

烘干是在80～110℃，常压下，烘干10～15分钟；

所述步骤④中：

烘干是在80～110℃，常压下，烘干20～30分钟；

所述步骤⑤中：

曝光显影的曝光能量为600～800mJ，显影液是浓度为0.3％～0.5％的碳酸钠溶液；

所述步骤⑥中：

湿法刻蚀采用的药液为浓度为0.3％～0.5％的稀硝酸溶液，溶液温度为35℃～40℃，刻蚀时间为100秒～130秒；

所述步骤⑦中：

将阴极电极层(5)和感光性绝缘介质层(4)同时在580℃，常压下，进行20分钟一次性烧结。

3.根据权利要求1或2所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：步骤①中，在场致发射显示器的下基板(1)上利用丝网印刷法直接印刷包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层(2)，然后在80～110℃，常压下，烘干20～30分钟；再在570℃，常压下，烧结20分钟；所述的栅极电极层材料为银浆。

4.根据权利要求1或2所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：步骤①中，先在场致发射显示器的下基板(1)上印刷整面栅极电极层(2)，然后在80～110℃，常压下，烘干20～30分钟；再利用栅极电极层(2)的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面栅极电极层(2)进行曝光显影，使整面栅极电极层(2)形成包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层(2)，然后对光刻后的栅极电极层(2)在570℃，常压下，烧结20分钟；所述的栅极电极层(2)材料为感光银浆，曝光显影的曝光能量为600～800mJ，显影液是浓度为0.3％～0.5％的碳酸钠溶液。

5.根据权利要求1或2所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：步骤②中，所述栅极电极层(2)上印刷有1层或2层整面水溶性绝缘介质层(3)。

6.根据权利要求1或2所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：步骤③中，所述烧结后的水溶性绝缘介质层(3)上印刷有1层或2层整面感光性绝缘介质层(4)。

7.根据权利要求1或2所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：所述的感光性绝缘介质包括以下重量百分比组分

2.4％～6％的溶剂，

12％～25％的树脂，

2％～5％的光敏单体，

5％～15％的光引发剂，

50％～76％的无铅玻璃粉；

其中

所述溶剂为2，2，4-三甲基-1.3戊二醇单异丁酸酯；

所述树脂为丙烯酸酯类、甲基丙烯酸甲酯和偶氮二异丁腈共聚制成的树脂；

所述光敏单体为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；

所述光引发剂为2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮。

8.根据权利要求7所述的一种场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：所述的感光性绝缘介质还包括重量百分比为0.3％～0.5％的消泡剂和0.1％～0.3％的表面活性剂。

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