CN101542323B - 其上具有微图案的膜的制备方法及由该方法制备的膜 - Google Patents

其上具有微图案的膜的制备方法及由该方法制备的膜 Download PDF

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Abstract

一种有效地制备具有微图案的膜的方法以及用该方法制备的光学膜被用于不同光学用途。所述方法包括在所述膜的一个表面上形成第一微图案；以及采用在所述膜的一个表面上形成的第一微图案作为光掩膜，通过光刻法在所述膜的另一表面上形成第二微图案，其几何形状与第一微图案的几何形状相同。

Description

其上具有微图案的膜的制备方法及由该方法制备的膜 
技术领域
本发明涉及一种其上具有微图案(micropatterns)的膜的制备方法以及由该方法制备的膜，并且更具体而言，涉及一种有效制备能够用于各种光学用途的具有微图案的膜的方法以及用该方法制备的光学膜。 
背景技术
例如，当将膜粘附在显示器件上时，其是由透明材料制成的以便能够使(图像的)发射光到达观看者的眼中。然而，由于各种原因，这种膜不仅仅透射光，而是仅透射满足特定条件的光以改进显示器件的图像质量。 
例如，所述膜用于改进如等离子显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、背投电视(RPTV)或有机发光二极管(OLED)等各种显示器件的对比度。如图1所示，用于改进对比度的膜在其底部和顶部表面具有如条纹图案的微图案。此处，当光从外部入射到显示面板上，并随后被反射并与从面板发射的光(图像)一起到达观看者的视野时，对比度下降。换言之，在膜相对的面上形成透明的条纹图案，以防止以预定角度(阴影角度(shading angle))或更大角度入射到面板上的光通过膜，从而起到减少从外部投射并被反射到外部的光在从显示面板中发射的光中的比例。在存在外部光线的白天条件下的对比度可用下面的公式1表示。因此，当反射光(从外部投射并被反射到外部的光线)的亮度减少时， 由于公式1的项(term)，分母和分子同时减小，尽管白光和黑光的亮度未改变，但是对比度得以提高。 
[公式1] 
在公式1中，WL为白光的缩写，RL为反射光的缩写，以及BL为黑光的缩写。 
另外，当在预定角度以外的位置观察图像时，所述膜可用作起到阻断光作用的安全膜。换言之，图1的膜是从入射角度的视点进行描述的，但是其起到阻断以预定角度以外的倾斜角从显示面板发射的光的作用。 
所述微图案化膜的另一个实例包括用于如自动柜员机(ATM)的装置的触摸板的安全膜。在ATM的情况下，必须防止包含识别数字或其它重要信息的图像在使用者的视野之外的另一个位置被显示。在这种情况下，优选确保除了触摸板前面之外的其它所有角度的安全性。因此优选将触摸板设计成在膜的顶部和底部表面同时形成如图2所示的栅格图案而不是条纹图案。 
此外，所述微图案化膜的另一个实例包括用于交通工具的导航系统的膜。如果可能的话，这种导航系统也要求将图像仅显示给驾驶员。这是因为，如果图像在除了前方以外的另一个倾斜方向显示，则在导航系统上显示的图像可在交通工具的前窗、侧窗或后窗上形成，从而成为妨碍驾驶员视野的因素。 
然而，在各种光学膜中，所有上述光学膜都要求在其顶部和底部表面上具有平行的微图案(即，当从膜的前方观察时，相同的顶部和底部图案完全重叠)。特别是，当从膜的横截面方向观察时，在膜的顶部和底部表面上形成的一对相对应的微图案优选在宽度和位置(除了在厚度方向的位置)上相同。 
当膜的图案具有不同的宽度和位置时，可能引起对比度改善效果、安全效果等的不对称，这能根据观看显示器的角度得知。因此，这可能是使显示器件的图像质量劣化的一个因素。 
然而，到目前为止，还未能提供具有上述微图案的膜。进一步而言，即便有，采用迄今为止已知的在膜的每个面上形成微图案的方法，例如印刷法、光刻法等也很难使图案的位置和宽度对于膜的每个表面保持相等。同样，到目前为止还未提供在膜上形成微图案的技术。 
发明内容
技术问题 
为了解决上述已有技术中的问题而提出本发明，因此，本发明的一个方案是提供一种制备具有微图案的膜的方法以及用该方法制备的膜，所述方法能够控制在膜的前表面和后表面上形成的每一对相对应的微图案的位置和宽度以使其彼此匹配。 
技术方案 
根据本发明的一个方案，提供了一种制备具有微图案的膜的方法，该方法包括以下步骤：在膜的一个表面上形成第一微图案；采用在膜 的一个表面上形成的第一微图案作为光掩膜，用光刻法在膜的另一表面上形成第二微图案，其几何形状与第一微图案的几何形状相同。 
在此，第一微图案可用光刻法形成。 
另外，在将光刻胶材料涂敷于膜上之后，通过曝光、显影、清洗和干燥可进行光刻法。 
此外，当形成与第一微图案的几何形状相同的第二微图案时，所使用的光刻胶材料可为正性光刻胶材料。 
同时，通过选自直接凹印法(direct gravure)、反向凹印法(reversegravure)、微凹印法(micro gravure)、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法(curtain coating)、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法可将光刻胶材料涂敷于膜上。 
另外，所述方法可另外包括在曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。 
在此，第一微图案可通过印刷法或化学镀法来形成。 
另外，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、胶印法、反向胶印法、喷墨法和丝网印刷法中的一种方法可在膜上形成印刷的微图案。 
而且，在将光刻胶材料涂敷于膜上之后，通过曝光、显影、清洗和干燥可进行光刻法。 
此外，所述方法可另外包括在曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。 
另外，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法可将光刻胶材料涂敷于膜上。 
根据本发明的另一个方案，提供了一种制备具有微图案的膜的方法，该方法包括以下步骤：在膜的相对表面上涂敷光刻胶材料；在膜的上面设置光掩膜，对膜的相对表面进行曝光、显影、清洗和干燥，以及获得在其相对表面上具有微图案的膜。 
在此，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法可将光刻胶材料涂敷于膜上。 
同时，所述方法可另外包括在曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。 
根据本发明的再一个方案，提供了一种用上述方法制备的具有微图案的膜，该膜在其前表面和后表面上包括多对相对应的微图案，在每对图案之中，相对应的微图案的宽度之间的差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的20％之内，并且在每对图案之中，在每对相对应的图案的中轴之间的距离差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的10％之内。 
在此，所述膜可在显示器件中用作用于改进对比度的膜、安全膜和用于触摸板的膜。 
有益效果 
根据本发明，在膜的相对表面上形成了相同的微图案，结果能够获得这样一种膜：在其相对表面上形成的图案被控制成具有相同的几何形状。所述膜可用作在其表面上具有微图案的各种光学膜，如用于改进对比度的膜、安全膜和用于触摸板的膜等。 
另外，所述制备微图案化膜的方法能够提供一种膜，与已知方法相比，该膜的制备方式简便并且具有高精度的微图案。 
附图说明
在结合附图阅读以下的详细描述之后，本发明的目的、其它特征和优点将变得更加明显，其中， 
图1为微图案化膜的一个实例的立体图； 
图2为用于在除了前面方向的其它方向上确保安全性的膜的一个实例的示意图； 
图3为根据本发明的制备具有微图案的膜的第一种方法的工艺流程图； 
图4为根据本发明的制备具有微图案的膜的第二种方法的工艺流程图； 
图5为根据本发明的制备具有微图案的膜的第三种方法的工艺流程图； 
图6为解释根据本发明的在相对应图案的中轴线之间的距离的示意图； 
图7为根据本发明的采用卷绕式(roll-to-roll)工艺制备具有微图案的膜的方法的工艺图；以及 
图8为根据本发明的一个实施方式制备的膜的一个实例的横截面图。 
实施方式 
在下文中，参照附图将详细描述本发明的示例性实施方式。 
本发明的发明人发现，当根据相关技术在膜的前表面和后表面上独立地形成微图案时，即使采用精确的印刷技术或相同的光刻胶掩膜也难以消除宽度和位置的偏差。因此，为了克服这个问题，本发明人进行了深入研究并最终实现了本发明。 
简言之，本发明的主要特征在于，当在膜的前表面和后表面上形成多对微图案时，每对相对应的前表面和后表面的微图案利用相同的宽度和位置信息，从而具有相同的宽度和位置。 
有多种方法能使每对微图案利用相同的宽度和位置信息。其中的主要方法将在下面作为实例来描述。首先，在前表面和后表面中的一个表面上形成第一微图案，并随后采用第一微图案作为光刻胶掩膜在相对的表面上形成第二微图案。 
根据该方法，由于将在一个表面上形成的第一微图案用作在另一表面形成第二微图案的掩膜，所以相对表面的微图案能在宽度和位置方面准确地彼此匹配。 
在下文中参照图3将更加详细地描述该方法。首先，在膜10的一个表面上形成第一微图案40。在该步骤中，可以使用光刻法或印刷法。 
为了采用光刻法在膜10上形成微图案，必须将光刻胶材料20涂敷到膜表面上(参见图3(a))。可通过直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法等来涂敷光刻胶材料。 
如图3所示，将其上配置有光掩膜30的涂敷了光刻胶材料20的膜10进行曝光(参见图3(b))，并随后进行显影、清洗和干燥以在其上形成微图案40(参见图3(c))。此时，在曝光之前将涂敷的光刻胶材料预烘焙，以便能够形成坚固的涂层。另外，根据情况，将在显影、清洗和干燥之后剩下的微图案进行后烘焙，以便能够确保其强度。 
此处，施加到膜的一个表面上的微图案40起到阻断光线的作用，并且也用作之后在膜的另一表面上形成另一个微图案的光掩膜。这样，微图案需要将由下列公式2表示的其光学密度(OD)限定为0.5或更大。该图案的OD可取决于所使用材料的厚度和类型，但是其可由本领域的技术人员通过改变详细的条件容易地获得。 
[公式2] 
OD＝-log10(I/Io) 
另外，如在一般光刻法中一样，用于曝光的光源60可采用高压、中压和低压汞灯、金属卤化物灯等。此外，根据光刻胶材料的类型可以适当地选择显影溶液。显影溶液的实例可包括如氢氧化四甲铵(TMAH)或KOH的碱性水溶液。 
同时，在图3中，光到达在光掩膜之后的意欲被留下的图案40。在这种情况下，光刻胶材料20优选为负性的。相反，在光到达意欲被 光掩膜除去的图案的情况下，光刻胶材料优选为正性的。因此，只要光掩膜30适当地选自用于负性光刻胶的光掩膜和用于正性光刻胶的光掩膜中，并不特别限定光刻胶材料是否为负性的或正性的。 
由于本领域中具有普通技术的任何人员采用本发明申请以前已经公知的光刻法能够容易地进行采用以下的光刻法形成微图案的详细方法，所以将做出该方法的详细描述。 
通过上述方法能够获得具有在其一个表面上形成的精细微图案的膜。 
为了获得具有在其一个表面上形成的精细微图案的膜，除了前述光刻法之外，如图4所示，可以采用直接印刷或涂布膜的方法以得到微图案(参见图4(a))。 
所述的印刷方法可采用在膜上形成图案的任何已知方法。对于印刷法，可以使用任何能够形成图案的方法，例如直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、胶印法、反向胶印法、喷墨法、丝网印刷法等。然后干燥其上印刷了图案的膜。从而完成在膜的一个表面上形成图案的步骤。 
同时，除了印刷法之外，可以考虑金属图案材料的化学镀法。在此，化学镀法是指在没有电解的情况下电镀金属的方法。更具体而言，当将涂敷了催化剂的部分浸入其中溶解了将要被电镀的金属离子的电镀液中时，催化剂降低了还原该金属离子所需要的活化能，从而使金属离子沉积在用催化剂涂敷的部分上。在本发明中，为了应用化学镀法在膜的一个表面上形成图案，在膜的一个表面涂敷催化剂材料以便与要形成的图案相同，随后将用催化剂材料涂敷的膜浸入电镀液中。 从而，能够获得以所需图案方式涂敷了金属材料的膜。只要催化剂材料和电镀液能够用于通常的化学镀法，对化学镀法需要的两种物质均没有特殊限定。因而，尽管没有描述图案形成的详细步骤，但是对本领域的普通技术人员来说，他们能够重复进行本发明而没有特别的困难。 
此时，施加到膜的一个表面上的图案起到阻断光线的作用，并且其也用作之后在膜的另一表面上形成图案的光掩膜。因此图案需要将其OD限定为0.5或更高。图案的OD可取决于所使用材料的厚度和类型，但是其可由本领域的技术人员通过改变具体条件容易地获得。 
通过前述方法能够获得具有在其一个表面上形成的第一微图案的膜。之后，必须进行在具有第一微图案的表面的相对表面上形成具有相同几何形状(形状和位置)的第二微图案的步骤。 
如图3(d)～3(f)和图4(b)～4(d)所示，在膜的相对表面上形成第二微图案的方法与采用光刻法在膜的一个表面上形成第一微图案的方法类似。具体而言，将光刻胶材料50涂敷到膜的相对表面上(参见图3(d)和图4(b))，并将其进行曝光(参见图3(e)和图4(c))、显影、清洗和干燥。从而形成微图案(参见图3(f)和图4(d))。在此，可选择性地进行预烘焙或者后烘焙。 
然而，当为了获得所需的图案而将涂敷到膜的相对表面(在其上形成第二图案的表面)上的光刻胶材料50曝光时，没有使用单独的光掩膜。该方法不同于形成第一图案的方法或者通常的光刻法。这是因为本发明的特征在于，第一图案的几何形状与采用第一图案作为第二图案的光掩膜的第二图案的几何形状完全匹配。更具体而言，当涂敷和 曝光用于第二图案70的光刻胶材料时，具有第一图案40的膜的表面朝向光源的方向，随后进行曝光。在这种情况下，由于第一图案40的高OD，第一图案40用作良好的光掩膜。另外，当将第一图案投射到用于第二图案的光刻胶材料50上时，除了具有与第一图案40相同几何形状的区域外，其余的区域都暴露于光线中。 
此时，优选涂敷到膜的相对表面上的光刻胶材料50为正性的。不像第一图案40，其中所使用的光掩膜选自负性光刻胶材料和正性光刻胶材料中的一种，由于第二图案仅采用第一图案40作为正性光掩膜，所以用于第二图案的光刻胶材料50优选为正性的。 
通过前述方法能够获得其中前面和后面的微图案的几何形状彼此高度匹配的膜。概括根据本发明第一方案的制备微图案化膜的方法，该方法包括在膜的一个表面上形成第一微图案的步骤，以及采用在膜的一个表面上形成的第一微图案作为光掩膜通过光刻法在膜的另一表面上形成第二微图案的步骤，所述第二微图案具有与之前形成的第一微图案相同的几何形状。此时，通过光刻法、印刷法或化学镀法可以形成之前形成的第一微图案。 
图5显示了根据本发明的第二方案制备微图案化膜的方法。在下面将详细描述该方法。与本发明的第一方案不同，根据本发明的第二方案，将光刻胶材料20和50同时涂敷到膜10的相对表面上(参见图5(a))。按照上述方法涂敷这些光刻胶20和50。 
之后，将在其上面配置有光掩膜30在其相对表面上涂敷了光刻胶材料的膜10进行曝光(参见图5(b))。因为光刻胶材料20和50被涂敷在膜10的相对表面上，所以光刻胶材料20和50以相同的几何形状感 光。由于光掩膜可选自用于负性光刻胶材料的光掩膜和用于正性光刻胶材料的光掩膜中以用于曝光，所以对光刻胶材料的类型不做特别限定。然而，由于在膜上形成的图案是用于阻断光线的，所以必须限定光刻胶材料以使剩余图案的OD为0.5或更大。另外，如在本发明的第二方案中所述，在将光刻胶材料涂敷到膜的相对表面上并同时曝光的情况下，用于曝光的光必须透过膜前表面上的光刻胶材料以使膜后表面上的光刻胶材料感光。为此，在膜的前表面上形成的图案的OD太高是不可取的。因此，优选将在膜的前表面上形成的图案的OD的上限设定为5。图案的OD可取决于所使用材料的厚度和类型，但是其可由本领域的技术人员通过改变具体的条件容易地获得。 
之后，将曝光后的光刻胶材料显影、清洗和干燥，结果可获得在相对表面上同时形成微图案40和70的膜(图5(c))。此时，在曝光前预烘焙涂敷的光刻胶材料，以便能够形成坚硬的涂层。此外，根据情况，在显影、清洗和干燥之后后烘焙剩余的微图案，以便能够确保其强度。 
简言之，根据本发明的第二方案制备微图案化膜的方法包括：向膜的相对表面上涂敷光刻胶材料的步骤；以及在膜的上面设置光掩膜，对膜的相对表面进行光刻处理(曝光、显影、清洗和干燥)，并获得在其相对表面上具有微图案的膜。 
其它未描述的光刻法与前述描述相同。 
通过前述方法形成的本发明的微图案化膜可用作改善对比度的膜、安全膜和用于触摸板的膜。 
在本发明中，与用在膜的前表面和后表面上分别形成图案的已知方法制备的膜相比，用前述方法制备的膜在图案的宽度和位置的精度方面是非常优异的，并且在每对图案之中，相对应的微图案的宽度之间的差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的20％之内，并且在每对图案之中，如图6所示，相对应图案对的中轴线之间的水平距离γ在在膜的前表面上形成的图案的宽度的10％之内。 
此外，本发明的膜可具有不同的图案。例如，在将所述膜在如等离子显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、背投电视(RPTV)或有机发光二极管(OLED)等显示器件中用作用于改进对比度的膜、安全膜和用于触摸板的膜的情况下，图案优选包括条纹图案或栅格图案。另外，只要顶部和底部图案彼此相同，所述图案可包括蜂窝状图案、特种形状图案等，以及前述图案。通过本发明可以实现所有这些图案。因此，应该指出的是本发明并不限于这样的一种图案。 
用本发明的方法制备的膜具有的另一个优点在于，所述微图案化膜能够通过如图7所示的卷绕式工艺来制备。在此，直至缠绕在辊上的膜展开，然后又缠绕在下一个辊上为止，卷绕式工艺能够形成所需的图案。根据本发明，通过作为一个实例的如图7所示的方法或者其类似的方法能够实现卷绕式工艺。当然，如图7所示，到辊被展开和缠绕为止，卷绕式工艺可以连续进行，但是该工艺可以以这样一种方式间断进行：使该工艺在适当的步骤停止，然后进行至下一步。 
在采用卷绕式工艺将光刻胶材料涂敷到膜上的情况下，优选使用例如直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法等前述涂敷方法的任一种。在将图案直接印刷到膜上的情况下，优选使用如直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、胶印法、反向胶印法、喷墨法等前述印刷方法的任一种。 
此外，除了如图7所示的卷绕式工艺，通过在片状或板状的不连续的膜上分别形成图案的间歇方法能够安全地进行光刻胶材料的涂敷或者图案的印刷。此时，在用间歇方法涂敷光刻胶材料的情况下，优选使用如丝网印刷、旋涂、浸涂等前述涂敷方法中的任一种。在于膜上直接印刷图案的情况下，优选使用如丝网印刷、胶印、反向胶印、喷墨法等前述印刷方法中的任一种。 
另外，只要是透明的薄膜结构，不特别限定用于本发明的微图案化膜的材料，也就是其上形成图案的部分。所述材料的实例可包括辊状、片状或板状的材料，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、三乙酰纤维素(TAC)膜、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)膜、基于玻璃或压克力的膜、基于聚烯烃的膜、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)膜和聚碳酸酯(PC)膜。 
具体实施方式
在下文中，将更加详细地描述本发明的示例性实施方式。然而，应该指出的是，这些本发明的示例性实施方式仅用于举例的目的来进行描述，而并不是意图限定本发明。因此，本发明的范围由所附的权利要求及其等同替代来确定。 
实施例 
按照下面的实施例制备如图8所示的微图案化膜。如图8所示，在每个实施例中意欲制备的膜将要在厚度为100μm(微米)的PET膜上形成宽度为32μm(微米)且间隔为69μm(微米)的多个图案，其中所述图案在PET膜的前表面和后表面上成对形成。 
实施例1 
用旋涂机在厚度为大约10μm(微米)的膜上均匀地涂敷负性光刻胶材料(Tokyo Ohaka Kogyo公司的CK系列材料)。将涂敷的光刻胶材料在90℃(摄氏度)下预烘焙1分钟。此时，可见光范围的OD大约为3.5。之后，采用具有所需形状的光掩膜，曝光光刻胶材料。曝光光源采用高压汞灯。曝光之后，将膜浸入0.04wt％的KOH水溶液中，并随后清洗和干燥。从而制得在其一个表面上具有微图案的PET膜。用旋涂机在所述厚度大约为10μm(微米)的PET膜上涂敷正性光刻胶材料(其中为了调整可透过性，将炭黑材料与购自DONGJIN SEMICHEM的JC-800材料混合)，然后在90℃(摄氏度)下预烘焙1分钟。将之前形成的图案朝向光源之后，按照上述的方法进行曝光、显影、清洗和干燥。然而，使用的显影溶液为2.38wt％的TMAH水溶液。 
实施例2 
采用印刷油墨(法国Encres Dubuit的8511材料)通过凹印法在膜上以69μm(微米)的间隔形成宽度为33μm(微米)的条纹图案。用旋涂机在厚度大约为10μm(微米)的膜的相对表面上涂敷正性光刻胶材料，然后在90℃(摄氏度)下预烘焙1分钟。将之前形成的图案朝向光源之后，按照上述的方法进行曝光、显影、清洗和干燥。 
实施例3 
如实施例1所述，将实施例1的负性光刻胶材料涂敷在PET膜的相对表面上。采用光掩膜，将涂敷在PET膜的相对表面上的光刻胶材料同时曝光。为了容易地同时曝光在相对表面上的膜，采用高压汞灯作为光源。曝光之后，按照上述方法进行显影、清洗和干燥。 
在按照实施例1、2和3形成的具有微图案的膜中，相对应图案的宽度之间的差异最大为1μm(微米)，中心轴线之间的距离最大为0.5μm(微米)。 

Claims (16)

1.一种制备具有微图案的膜的方法，其包括：
在所述膜的一个表面上形成第一微图案；以及
采用在所述膜的一个表面上形成的第一微图案作为光掩膜，通过光刻法在所述膜的另一表面上形成第二微图案，其几何形状与第一微图案的几何形状相同。
2.权利要求1所述的方法，其中，用光刻法形成所述第一微图案。
3.权利要求1或2所述的方法，其中，在将光刻胶材料涂敷于膜上之后，通过曝光、显影、清洗和干燥进行所述光刻法。
4.权利要求3所述的方法，其中，当形成与第一微图案具有相同几何形状的第二微图案时，所使用的光刻胶材料包括正性光刻胶材料。
5.权利要求3所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法将所述光刻胶材料涂敷于膜上。
6.权利要求3所述的方法，其进一步包括在所述曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在所述显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。
7.权利要求1所述的方法，其中，通过印刷法或化学镀法来形成所述第一微图案。
8.权利要求7所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、胶印法、反向胶印法、喷墨法和丝网印刷法中的一种方法在所述膜上形成印刷的微图案。
9.权利要求7所述的方法，其中，在将光刻胶材料涂敷于膜上之后，通过曝光、显影、清洗和干燥进行光刻法。
10.权利要求9所述的方法，其进一步包括在所述曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在所述显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。
11.权利要求9所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法将所述光刻胶材料涂敷于膜上。
12.一种制备具有微图案的膜的方法，其包括：
在所述膜的相对表面上涂敷光刻胶材料；以及
在所述膜上面设置光掩膜，对膜的相对表面进行曝光、显影、清洗和干燥，以及获得在其相对表面上具有微图案的膜。
13.权利要求12所述的方法，其中，通过选自直接凹印法、反向凹印法、微凹印法、刮刀涂布法、狭缝挤压式涂布法、狭缝涂布法、幕帘涂布法、毛细管涂布法、喷涂法、浸涂法、丝网印刷法和旋涂法中的一种方法而将所述光刻胶材料涂敷于膜上。
14.权利要求12所述的方法，其进一步包括在所述曝光之前预烘焙涂敷的光刻胶材料或者在所述显影、清洗和干燥之后后烘焙剩下的微图案的步骤。
15.一种采用权利要求1或12所述的方法制备的具有微图案的膜，该膜在其前表面和后表面上包括多对相对应的微图案，在每对图案之中，相对应的微图案的宽度之间的差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的20％之内，并且在每对图案之中，每对相对应图案的中轴线之间的距离差异在在膜的前表面上形成的图案的宽度的10％之内。
16.权利要求15所述的膜，其中，所述膜在显示器件中用作改进对比度的膜、安全膜和用于触摸板的膜。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101110875B1 (ko) * 2010-04-09 2012-02-15 한국기계연구원 보안 기판 제조방법 및 보안 기판
KR101022015B1 (ko) * 2010-04-09 2011-03-16 한국기계연구원 열형 롤 임프린팅과 블레이드 코팅을 이용하는 필름제품 제조방법, 이를 이용한 보안 필름 및 필름 일체형 전기 소자
JP5703865B2 (ja) * 2011-03-14 2015-04-22 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドの製造方法
CN102323719B (zh) * 2011-06-30 2014-09-03 丹阳博昱科技有限公司 一种连续曝光方法和装置
CN202383394U (zh) * 2011-11-22 2012-08-15 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板
JP2014185424A (ja) * 2013-03-21 2014-10-02 Toshiba Corp ブラインド部材およびブラインド部材を備えた窓材
KR101311644B1 (ko) * 2013-07-23 2013-09-25 부산대학교 산학협력단 터치스크린 패널 및 그 제조 방법
KR20150033437A (ko) * 2013-09-24 2015-04-01 삼성디스플레이 주식회사 백라이트 어셈블리, 이를 포함하는 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR101902133B1 (ko) * 2014-09-22 2018-09-27 후지필름 가부시키가이샤 패턴 형상 피도금층 함유 적층체의 제조 방법, 금속층 함유 적층체의 제조 방법, 터치 패널 센서, 터치 패널, 패턴 형상 피도금층 함유 적층체, 금속층 함유 적층체
KR102346955B1 (ko) 2015-01-30 2022-01-04 삼성디스플레이 주식회사 가요성 윈도우 기판 및 이를 구비한 가요성 표시 장치
KR102305462B1 (ko) 2015-04-30 2021-09-27 삼성디스플레이 주식회사 가요성 윈도우 기판 및 이를 구비한 가요성 표시 장치
KR102346016B1 (ko) * 2020-06-17 2021-12-30 안병학 프라이버시 보호필름

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1469432A (zh) * 2002-06-26 2004-01-21 东京应化工业株式会社 形成细微图案的方法
US6800405B2 (en) * 2001-03-29 2004-10-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing pattern-formed structure and photomask used in the same
CN1802605A (zh) * 2003-10-30 2006-07-12 Hoya株式会社 光掩模及视频器件的制造方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3507592A (en) * 1968-10-28 1970-04-21 Rca Corp Method of fabricating photomasks
JPS56150703A (en) * 1980-04-23 1981-11-21 Dainippon Printing Co Ltd Direction-selective light shielding or reflecting sheet and its production
US4371598A (en) * 1981-07-06 1983-02-01 Motorola, Inc. Method for fabricating aligned patterns on the opposed surfaces of a transparent substrate
US4557995A (en) * 1981-10-16 1985-12-10 International Business Machines Corporation Method of making submicron circuit structures
US4582778A (en) * 1983-10-25 1986-04-15 Sullivan Donald F Multi-function photopolymer for efficiently producing high resolution images on printed wiring boards, and the like
FR2595155B1 (fr) * 1986-02-28 1988-04-29 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation de filtres colores en bandes et d'electrodes en bandes auto-alignes pour une cellule d'affichage polychrome a film liquide et cellule correspondante
US5009972A (en) * 1988-03-29 1991-04-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Blank plates for forming multi-color fluorescent planes and methods for forming multi-color fluorescent planes
GB9203595D0 (en) * 1992-02-20 1992-04-08 Philips Electronics Uk Ltd Methods of fabricating thin film structures and display devices produced thereby
KR100337884B1 (ko) * 1999-11-17 2002-05-23 김순택 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법
JP4201162B2 (ja) 2001-03-29 2008-12-24 大日本印刷株式会社 パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク
KR20030056569A (ko) * 2001-12-28 2003-07-04 한국전자통신연구원 평면형 광도파로 제작 방법
KR100498716B1 (ko) 2002-12-13 2005-07-01 주식회사 하이닉스반도체 미세 패턴 형성방법
KR20040056115A (ko) * 2002-12-23 2004-06-30 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자 제조 방법
KR100914198B1 (ko) * 2002-12-27 2009-08-27 엘지디스플레이 주식회사 레지스트인쇄용 클리체의 제조방법
JP2004292672A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Mikuni Color Ltd カーボンブラック分散液
KR20060131077A (ko) * 2005-06-15 2006-12-20 주식회사 코오롱 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6800405B2 (en) * 2001-03-29 2004-10-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing pattern-formed structure and photomask used in the same
CN1469432A (zh) * 2002-06-26 2004-01-21 东京应化工业株式会社 形成细微图案的方法
CN1802605A (zh) * 2003-10-30 2006-07-12 Hoya株式会社 光掩模及视频器件的制造方法

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